CN103427047A - 掩模支撑框架和具有掩模支撑框架的掩模组件 - Google Patents

Abstract

提供了一种用于支撑掩模的掩模支撑框架，所述框架被配置为固定掩模的两个端部并沿第一方向向所述掩模施加张力。所述框架包括：框架主体，限定用于暴露所述掩模的构图开口区的开口；以及端部张紧器，联接至所述框架主体，并被配置为沿与所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的两个端部之一施加张力。

Description

掩模支撑框架和具有掩模支撑框架的掩模组件

技术领域

本公开主要涉及掩模支撑框架和包括掩模的掩模组件。更具体地，本公开主要涉及用于支撑用于沉积有机发射层的掩模的框架。

背景技术

显示设备被广泛用于在电子设备中显示图像。最近，有机发光二极管（OLED）显示器已经开始流行。

不同于液晶显示器（LCD），OLED具有自发光特性且不需要额外的光源，故而可以减小显示装置的厚度和重量。OLED表现出高质量特性，诸如低功耗、高亮度、以及快速响应速度。

为了制造OLED显示器，形成具有特定图案的电极、有机发射层等，并可采用使用掩模组件的沉积方法。

在更多细节中，有机发光显示器包括以矩阵形式排列的像素。为了形成像素，形成具有阳电极和阴电极的有机发光二极管，其中对于电极之间的每个像素，有机发射层都发出光，诸如红光、绿光或蓝光等。形成有机发射层的有机材料非常容易受到水分、氧气等影响，从而在形成有机发射层的过程中并在形成有机发射层之后将这些有机材料与水分隔离开来。因此，难以通过使用普通光刻处理来形成有机发光材料的图案。因此，通过使用具有允许沉积材料从中穿过的、构图的开口的掩模来形成有机发射层。在使用时，掩模附接至掩模支撑框架并由掩模支撑框架支撑。

背景技术部分公开的上述信息仅用于增强对所述技术的背景的理解，因此，这些内容可能含有不构成在该国对本领域技术人公知的现有技术的信息。

发明内容

一个方面提供了一种掩模支撑框架，其用于避免由沿掩模的长度方向施加的张紧力生成的掩模的宽度方向上的起伏。

一个实施方式提供了一种用于支撑掩模的掩模支撑框架，所述框架被配置为固定掩模的两个端部并沿第一方向向所述掩模施加张力，所述框架包括：框架主体，限定用于暴露所述掩模的构图开口区的开口；以及端部张紧器，联接至所述框架主体，并被配置为沿与所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的两个端部之一施加张力。

所述框架被配置为固定额外的多个掩模，使得所述多个掩模并排设置并沿所述第二方向布置。所述掩模的两个端部中的每一个均包括中央区和两个外围区，所述中央区和所述两个外围区沿所述第二方向布置，使得所述中央区位于所述外围区之间，其中所述中央区被配置为附接至所述框架主体的掩模座，其中所述外围区之一被配置为附接至所述端部张紧器。

所述框架主体包括掩模座和凹处，所述掩模座中的每一个被配置为联接至所述掩模之一的端部，所述凹处设置在两个相邻掩模座之间，以及所述端部张紧器设置在所述凹处中。

所述框架主体包括滑动引导器，所述滑动引导器形成于所述凹处中并沿所述第二方向延伸；以及所述端部张紧器包括滑动器，所述滑动器与所述滑动引导器啮合，所述滑动器被配置为沿所述第二方向滑动，所述滑动器进一步被配置为联接至所述掩模。

所述框架，还包括分离防止轴，所述分离防止轴沿所述第二方向延伸穿过所述滑动器并连接至所述框架主体。

所述框架，还包括张力调节器，所述张力调节器被配置为调节所述第二方向上的张力的量。

所述张力调节器包括：第一齿条，联接至所述框架主体，沿所述第二方向延伸并包括第一齿；第二齿条，联接至所述滑动器，与所述第一齿条相对并包括第二齿；齿轮，与所述第一齿和所述第二齿啮合，并位于所述第一齿与所述第二齿之间；以及旋转轴，固定至所述齿轮并突出所述框架主体之外。

另一个实施方式提供了一种掩模组件，包括：上述掩模支撑框架；以及至少一个掩模，包括通过沿所述第一方向施加的张力由所述框架固定的两个端部。

根据这些实施方式，提供了用于通过沿掩模的长度方向施加的张紧力避免或最小化掩模的宽度方向上生成起伏的掩模支撑框架，并且还提供了包括该掩模支撑框架的掩模组件。

附图说明

图1示出根据第一实施方式的掩膜组件的立体图；

图2示出图1的部分A；

图3示出沿图2的线III-III截取的截面图；

图4示出根据第二实施方式的掩膜组件的一部分；

图5示出沿图4的线V-V截取的截面图。

具体实施方式

下文中将参照附图更加全面地描述实施方式。本领域技术人员应了解，在不背离本发明的精神和范围的情况下，可以通过各种不同方式修改所述实施方式。

相应地，附图和描述被认为在本质上是示意性而非限制性的。在说明书中，相同的参考标号指代相同的元件。

此外，将在各种实施方式中的第一实施方式中典型地描述具有由相同参考标号指代的相同部件的配置，并且将在其它实施方式中描述与第一实施方式不同的其它部件。

此外，为了便于理解和描述，各部件的图中所示的尺寸和厚度被任意地示出，但本发明不限于此。

此外，除非存在明确相反的描述，单词包括（comprise）”和变型诸如“包括（comprises）”和/或“包括（comprising）”将被理解为表示包括所述元件但不排出任何其它元件。此外，在说明书中，“在...上”表示位于目标元件之上或之下并且不表示必须按照重力方向位于顶部。

在实施方式中，掩模组件包括掩模支撑框架，掩模支撑框架包括开口部和多个带形掩模。每个掩模的两个端部都固定至框架。

当张力或张紧力在掩模的长度方向上被施加至掩模时，由框架支撑的掩模会变形，从而具有在掩模的宽度方向上意外生成的起伏。这些起伏可由在长度方向上施加至掩模的张力导致。因此，在实施方式中，宽度方向上的张力可在掩模末端处施加至掩模，以使这种起伏形状的形变最小化。

现在将参照图1至图3描述根据第一实施方式的掩模组件。

图1示出根据第一实施方式的掩模组件的立体图。

如图1所示，根据第一实施方式的掩模组件包括多个掩模100和掩模支撑框架200。

掩模100具有沿第一方向（长度方向）伸长的带形，两个端部100a被附接至框架200并由框架200支撑，并且沿第一方向施加张紧力或张力。在实施方式中，多个掩模100以彼此相邻的方式设置在框架200上，并沿第二方向（掩模100的宽度方向）布置，第二方向与第一方向相交并大致垂直。掩模100的两个端部100a被形成为平坦的，但不限于此。在可选实施方式中，掩模100的两个端部100a可被形成为马蹄形。

掩模100包括多个图案110。

多个图案110沿第一方向设置并布置在掩模100上。每个图案110均可对应于有机发光二极管（OLED）显示器。在实施方式中，用于配置有机发光二极管（OLED）显示器的图案可形成于母基板上，在在母基板上，将使用掩模100通过单一处理过程制造有机发光二极管（OLED）显示器。也就是说，图案110设置在对应于用于配置有机发光二极管（OLED）显示器的图案的沉积区的掩模100上。图案110具有多个开口，沉积材料可穿过该多个开口。因此，配置有机发光二极管（OLED）显示器的图案可通过图案110形成在母基板上。在实施方式中，图案110包括多个条型裂缝。

框架200固定并支撑掩模100的两个端部100a，张紧力沿第一方向施加至该两个端部100a。因此，由于力可沿第一方向（掩模100的伸长方向）施加，故该掩模可由金属材料（诸如具有较大刚性的不锈钢）形成，使得其不会因框架200的掩模100的力而变形。

图2示出图1的一部分A。图3示出图2的相对于线III-III的截面图。

如图2和图3所示，框架200包括框架主体210和端部拉紧器220。

框架主体210具有封闭环的形状并限定用于暴露掩模100的图案110的开口（OA）。掩模100的一端100a包括中间或中央区（CA）和两个外围区（EA），中央区（CA）和外围区（EA）沿第二方向布置，使得中央区（CA）被设置在外围区（EA）之间。中央区（CA）焊接在框架主体210的掩模座210a的表面上。框架主体210包括设置在两个相邻掩模座210a之间的凹处或凹陷部211。

在实施方式中，掩模座210a被形成为升起的脊状结构。在其他实施方式中，凹处211被形成为从框架主体210的结构210a下沉的部分。

端部拉紧器220设置在凹处211中，可移动地联接至框架主体210，并沿与第一方向相交的第二方向向掩模100的端部100a施加张力。掩模100的端部100a的在第二方向上的外围区（EA）焊接至端部拉紧器220。在实施方式中，端部拉紧器220包括滑动器222和张力调节器223，并且框架主体210包括滑动引导器221。

在实施方式中，滑动引导器221以凹槽的形式形成于凹处211的表面上并沿第二方向延伸。

滑动器222安装在滑动引导器211中并沿第二方向滑动，并且掩模100的端部100a的在第二方向上的外围区（EA）焊接在滑动器222的表面222a上。因此，当滑动器222沿第二方向滑动时，第二方向上的张紧力在掩模100的端部100a处生成。

在实施方式中，张力调节器223可调节滑动器222沿第二方向的滑动，并且随后调节第二方向上的张力的量。如此，在掩模100的端部100a处生成的第二方向上的张紧力由张力调节器223调节。张力调节器223包括第一齿条223a、第二齿条223b、齿轮223c、以及旋转轴223d。第一齿条223a交叠在第二齿条223b上。

第一齿条223a安装在框架主体210的掩模座210a的形成凹处211的侧壁210b上，并朝着滑动器222的侧壁222b突起，并且第一齿条223a的第一齿S1形成于其内。在实施方式中，第一齿条223a具有“C”或“

”的形状，并且不限于这两种形状。根据另一个实施方式的第一齿条223a可具有各种形状，诸如“━”、“┬”或“┴”。

第二齿条223b的一部分与第一齿条223a交叠。

第二齿条223b安装在滑动器222的面对框架主体210的侧壁210b的侧壁222b上，并且第二齿条223b朝着框架主体210的侧壁210b突出，使得其可以与第一齿条223a交叠并具有对应于第一齿S1的第二齿S2。在实施方式中，第二齿条223b具有“C”或“

”的形状，并且不限于这两种形状。根据另一个实施方式的第二齿条223b可具有各种形状，诸如“━”、“┬”或“┴”。

齿轮223c和旋转轴223d设置在第二齿条223b与第一齿条223a之间。

齿轮223c与第一齿S1和第二齿S2啮合并设置在第一齿S1和第二齿S2之间。

旋转轴223d与齿轮223c的中心结合并突出至框架主体210外。旋转轴223d可在被框架主体210支撑时旋转。当旋转轴223d旋转时，齿轮223c旋转。由于旋转轴223d突出至框架主体210外，故旋转旋转轴223d，从而可容易地旋转齿轮223c。

相应地，当沿顺时针方向或逆时针方向旋转张力调节器223的旋转轴223d以沿顺时针方向或逆时针方向旋转齿轮223c时，第一齿条223a和第二齿条223b沿着第二方向以彼此相反的方向运动，以调节滑动器222在第二方向上的滑动程度，其中在第一齿条223a处，第一齿S1与齿轮223c结合，在第二齿条223b处，第二齿S2与齿轮223c结合。因此，可以调节沿第二方向施加至掩模100的端部100a的张紧力。

上述滑动器222在第二方向上的滑动程度由张力调节器223控制，并且不限于此，根据另一个实施方式的滑动器在第二方向上的滑动程度可由各种修改的配置控制。

此外，在实施方式中，端部张紧器220包括滑动器222和张力调节器223，并且框架主体210包括滑动引导器221，但不限于此。根据另一个实施方式的端部张紧器和框架主体可包括各种组成元件，使得端部张紧器可沿与第一方向相交的第二方向向掩模的端部施加张力。

如与根据第一实施方式的掩模组件有关的描述，可沿第一方向（掩模100的长度方向）向掩模100的两个端部100a施加张力的框架200可包括用于沿第二方向（掩模100的宽度方向）张紧掩模100的端部100a的端部张紧器220，从而通过沿第一方向施加的张紧力使在掩模100上沿第二方向生成的不期望的起伏最小化。

此外，根据第一实施方式的掩模组件使用张力调节器223来控制端部张紧器220的滑动器222在第二方向上的滑动程度，因此，通过当起伏在掩模100上沿第二方向生成时使用张力调节器223控制滑动器222的滑动程度，该掩模组件能够消除掩模100上生成的起伏，张力调节器223充当解决在使用掩模组件的位置处由不期望问题产生的掩模100的起伏的要素。

现在将参照图4至图5描述根据第二实施方式的掩模组件。

与第一实施方式不同的部分将被描述，不被描述的其它部分参照第一实施方式。为了更好的理解和便于描述，第二实施方式中的相同的组成部件将具有与第一实施方式中相同的参考标号。

图4示出根据第二实施方式的掩模组件的一部分。图5示出沿图4的线V-V截取的截面图。

如图4和图5所示，根据第二实施方式的掩模组件的框架202的端部张紧器220包括滑动器222、张力调节器223、以及分离防止轴224，并且框架主体210包括滑动引导器221。

分离防止轴224沿第二方向连接框架主体210的两个侧壁210b之间的空间。由于分离防止轴224延伸穿过滑动器222并连接框架主体210的两个侧壁210b之间的空间，故在滑动器222沿第二方向滑动时防止滑动器222与滑动引导器221的分离。

相应地，根据第二实施方式的掩模组件包括分离防止轴224，以防止滑动器222与滑动引导器221分离。因此，当滑动器222沿第二方向滑动时，该装置的可靠性得到改善。

虽然已经结合当前被认为是实施方式的内容描述了本公开，但应理解，本发明不限于所公开的实施方式，相反，本发明旨在覆盖被包含在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。

Claims (9)

1.一种用于支撑掩模的掩模支撑框架，所述框架被配置为固定掩模的两个端部并沿第一方向向所述掩模施加张力，所述框架包括：

框架主体，限定用于暴露所述掩模的构图开口区的开口；以及

端部张紧器，联接至所述框架主体，并被配置为沿与所述第一方向相交的第二方向向所述掩模的两个端部之一施加张力。

2.如权利要求1所述的框架，其中所述框架被配置为固定额外的多个掩模，使得所述多个掩模并排设置并沿所述第二方向布置。

3.如权利要求2所述的框架，其中

所述框架主体包括掩模座和凹处，所述掩模座中的每一个被配置为联接至所述掩模之一的端部，所述凹处设置在两个相邻掩模座之间，以及

所述端部张紧器设置在所述凹处中。

4.如权利要求3所述的框架，其中

所述框架主体包括滑动引导器，所述滑动引导器形成于所述凹处中并沿所述第二方向延伸；以及

所述端部张紧器包括滑动器，所述滑动器与所述滑动引导器啮合，所述滑动器被配置为沿所述第二方向滑动，所述滑动器进一步被配置为联接至所述掩模。

5.如权利要求4所述的框架，还包括分离防止轴，所述分离防止轴沿所述第二方向延伸穿过所述滑动器并连接至所述框架主体。

6.如权利要求4所述的框架，还包括张力调节器，所述张力调节器被配置为调节所述第二方向上的张力的量。

7.如权利要求6所述的框架，其中所述张力调节器包括：

第一齿条，联接至所述框架主体，沿所述第二方向延伸并包括第一齿；

第二齿条，联接至所述滑动器，与所述第一齿条相对并包括第二齿；

齿轮，与所述第一齿和所述第二齿啮合，并位于所述第一齿与所述第二齿之间；以及

旋转轴，固定至所述齿轮并突出所述框架主体之外。

8.如权利要求1所述的框架，其中所述掩模的两个端部中的每一个均包括中央区和两个外围区，所述中央区和所述两个外围区沿所述第二方向布置，使得所述中央区位于所述外围区之间，

其中所述中央区被配置为附接至所述框架主体的掩模座，

其中所述外围区之一被配置为附接至所述端部张紧器。

9.一种掩模组件，包括：

权利要求1所述的掩模支撑框架；以及

至少一个掩模，包括通过沿所述第一方向施加的张力由所述框架固定的两个端部。

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