CN103383985A - 一种基于AlSiC复合基板封装的LED - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于AlSiC复合基板封装的LED,包括镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板、两个铜膜电极、LED芯片和金线,所述LED芯片封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上;两个铜膜电极镀于AlN绝缘层上,分别通过金线与LED芯片的正、负极连接。本发明的基于AlSiC复合基板封装的LED,结构简单、散热性能好,使用寿命长。
Description
技术领域
本发明涉及一种板上封装的LED,特别涉及一种基于AlSiC复合基板封装的LED。
背景技术
随着LED的飞速发展,LED的功率越来越大,并在工作时产生不必要的热能,直接影响了LED的正常工作。如果不能通过有效途径把热量导出,将会影响LED的工作效率,最终使LED失效。因此,人们对封装材料提出越来越苛刻的要求。
传统的封装材料包括硅基板,金属基板和陶瓷基板等。硅和陶瓷基板加工困难,成本高,热导率低;金属材料的热膨胀系数与LED芯片衬底材料不匹配,在LED工作循环多次后,容易产生热应力,造成芯片和基板间产生微小裂缝,增大热阻,最终导致脱落。因此,这些传统的封装材料很难满足封装基板的苛刻需求。
国内外新研发的散热基板材料有金属芯印刷电路板(MCPCB)、覆铜陶瓷板(DBC)和金属基低温烧结陶瓷基板(LTCC-M)。其中,金属芯印刷电路板热导率受到绝缘层的限制,热导率低,且不能实现板上封装;覆铜陶瓷板采用直接键合方式将陶瓷和金属键合在一起,提高了热导率,同时使得热膨胀系数控制在一个合适的范围,但金属和陶瓷的反应能力低,润湿性不好,使得键合难度高,界面结合强度低,易脱落;金属基低温烧结陶瓷基板对成型尺寸精度要求高,工艺复杂,也同样存在金属和陶瓷润湿性不好、易脱落的难题。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺点与不足,本发明的目的在于提供一种基于AlSiC复合基板封装的LED,结构简单、散热性能好,使用寿命长。
本发明的目的通过以下技术方案实现:
一种基于AlSiC复合基板封装的LED,包括镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板、两个铜膜电极、LED芯片和金线,所述LED芯片封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上;两个铜膜电极镀于AlN绝缘层上,分别通过金线与LED芯片的正、负极连接。
所述AlN绝缘层的厚度为2.5μm-3μm。
所述LED芯片为单颗粒封装的LED芯片或为多颗粒LED芯片集成的光源模块。
所述LED芯片采用COB封装工艺封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上。
所述AlN绝缘层为采用磁控溅射方法在AlSiC复合散热基板的表面镀的AlN绝缘层。
与现有技术相比,本发明具有以下优点和有益效果:
(1)本发明采用AlSiC复合散热基板,AlSiC复合材料由于原材料价格便宜,能近净成形复杂形状,且具有热导率高、膨胀系数可调、比刚度大、密度小,使封装结构具有功率密度高、芯片寿命长、可靠性高和质量轻等特点,在电子封装领域展现出了良好的应用前景。通过调节AlSiC复合材料的热膨胀系数,使其与LED芯片材料相匹配;采用AlSiC复合散热基板不但有效地解决LED芯片工作时的散热问题,同时解决了散热基板与芯片材料热膨胀不匹配的问题,使板上封装的LED芯片不易脱落,提高了LED的使用寿命,适用于低成本大功率LED的制造。
(2)本发明通过在AlSiC复合散热基板镀上AllN绝缘层,可以防止基板上的铜膜电极与AlSiC复合材料因导通而产生的短路现象。AlN是高导热性和高绝缘性的材料,镀上AlN绝缘层不但可以起到很好的绝缘效果,同时也不会影响基板的导热效果。
附图说明
图1为本发明的实施例1的基于AlSiC复合基板封装的LED示意图。
图2为本发明的实施例2的基于AlSiC复合基板封装的LED示意图。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明作进一步地详细说明,但本发明的实施方式不限于此。
实施例1
如图1所述,本实施例的基于AlSiC复合基板封装的LED,包括镀有AlN绝缘层2的AlSiC复合散热基板1、两个铜膜电极3、LED芯片41、金线5。
所述LED芯片封装采用COB(chip on board,简称COB)封装工艺封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上;两个铜膜电极镀于AlN绝缘层上,分别通过金线与LED芯片的正、负极连接。本实施例的AlN绝缘层的厚度为2.5μm,LED芯片为单颗粒封装的LED芯片。
本实施例的基于AlSiC复合基板封装的LED的制备方法如下:
(1)将未经抛光清洗的AlSiC复合基板抛光至镜面,抛光后,分别用丙酮和无水乙醇浸泡所述的AlSiC复合基板,并将其放入超声波清洗仪中清洗15分钟,以清除基板上附着的油脂等杂物。
(2)在AlSiC复合基板上通过磁控溅射的方法溅射厚度为2.5μm的AlN绝缘层。具体工艺参数按本技术领域人员所熟知或根据现有技术确定。
(3)在AlN绝缘层上镀上铜膜,并采用湿法刻蚀工艺腐蚀出预定的两个铜膜电极。
(4)在铜膜间按照传统的板上封装方法,把LED芯片封装在所述的AlSiC复合基板。
(5)通过金线将两个铜膜电极与LED芯片的正、负极连接,引出正负极。
实施例2
本实施例的基于AlSiC复合基板封装的LED如图2所示。
本实施例以下特征外,其余特征与实施例1同:AlN绝缘层2的厚度为3μm,LED芯片为多颗粒芯片集成的光源模块42。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受所述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种基于AlSiC复合基板封装的LED,其特征在于,包括镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板、两个铜膜电极、LED芯片和金线,所述LED芯片封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上;两个铜膜电极镀于AlN绝缘层上,分别通过金线与LED芯片的正、负极连接。
2.根据权利要求1所述的基于AlSiC复合基板封装的LED,其特征在于,所述AlN绝缘层的厚度为2.5μm-3μm。
3.根据权利要求1所述的基于AlSiC复合基板封装的LED,其特征在于,所述LED芯片为单颗粒封装的LED芯片或为多颗粒LED芯片集成的光源模块。
4.根据权利要求1或3所述的基于AlSiC复合基板封装的LED,其特征在于,所述LED芯片采用COB封装工艺封装在所述镀有AlN绝缘层的AlSiC复合散热基板上。
5.根据权利要求1所述的基于AlSiC复合基板封装的LED,其特征在于,所述AlN绝缘层为采用磁控溅射方法在AlSiC复合散热基板的表面镀的AlN绝缘层。
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- 2013-07-16 CN CN2013103011022A patent/CN103383985A/zh active Pending
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