CN103376648B - 感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片及液晶显示元件 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 20
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 222
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 96
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 82
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 82
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 60
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 40
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 20
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 claims description 38
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 27
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 22
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 22
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 17
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 14
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 11
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002252 acyl group Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 4
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 24
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical class CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 35
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 28
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 17
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 17
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 17
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 16
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical class [H]O* 0.000 description 13
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 229940116315 oxalic acid Drugs 0.000 description 11
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 10
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 8
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 229940093932 potassium hydroxide Drugs 0.000 description 8
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N propionic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 7
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 7
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MDZOTMJVWQCVSB-UHFFFAOYSA-N N=NC=NN.N=NC=NN.[N] Chemical compound N=NC=NN.N=NC=NN.[N] MDZOTMJVWQCVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical group CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- GYUPBLLGIHQRGT-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;titanium Chemical compound [Ti].CC(=O)CC(C)=O GYUPBLLGIHQRGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NFIDBGJMFKNGGQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropyl)phenol Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC=C1O NFIDBGJMFKNGGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XHHXXUFDXRYMQI-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;titanium Chemical compound [Ti].OCCN(CCO)CCO XHHXXUFDXRYMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940105289 carbon black Drugs 0.000 description 4
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMCDYRGMTRCAPZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-acetyl-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C(C)=O)C(C)=O YMCDYRGMTRCAPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SGNLDVYVSFANHW-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;zirconium Chemical compound [Zr].CC(=O)CC(C)=O SGNLDVYVSFANHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N phenoxysilane Chemical compound [SiH3]OC1=CC=CC=C1 RBCYCMNKVQPXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethanol Chemical compound OCCN=C=O LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N Lactic Acid Natural products CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- AGGHFSOGLHTNDY-UHFFFAOYSA-N [Zr].C(C)(C)OCC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)OC(C)C Chemical compound [Zr].C(C)(C)OCC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)OC(C)C AGGHFSOGLHTNDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N butoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH3] ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N diphenylacetic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- PHIWSOLWDVRUNK-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl) 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(OC(=O)C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 PHIWSOLWDVRUNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ASLNDVUAZOHADR-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-3-methylphenol Chemical compound CCCCC1=C(C)C=CC=C1O ASLNDVUAZOHADR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyacetophenone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNNMDMGPZUOOOE-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 BNNMDMGPZUOOOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940095643 calcium hydroxide Drugs 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- XEJNLUBEFCNORG-UHFFFAOYSA-N ditridecyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCCC XEJNLUBEFCNORG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- WIEGKKSLPGLWRN-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxobutanoate;titanium Chemical compound [Ti].CCOC(=O)CC(C)=O WIEGKKSLPGLWRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRMWCMBQRGFNIZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxobutanoate;zirconium Chemical compound [Zr].CCOC(=O)CC(C)=O YRMWCMBQRGFNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTHCTLCNUREAJV-UHFFFAOYSA-N heptane-2,4,6-trione Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(C)=O CTHCTLCNUREAJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N het anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(Cl)C(Cl)=C(Cl)C2(Cl)C1(Cl)Cl FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 235000012254 magnesium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960000816 magnesium hydroxide Drugs 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940044600 maleic anhydride Drugs 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKINWJBZPLWKCW-UHFFFAOYSA-N methoxy-[methoxy(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)O[Si](C)(C)OC XKINWJBZPLWKCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N phenacyl chloride Chemical compound ClCC(=O)C1=CC=CC=C1 IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 2
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 2
- AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCC=C AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCOKJWUULRTBRS-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxysilane Chemical compound CC(C)O[SiH3] HCOKJWUULRTBRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001124 trientine Drugs 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 229960001939 zinc chloride Drugs 0.000 description 2
- OFZRSOGEOFHZKS-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentabromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br OFZRSOGEOFHZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- BHAMKOUCEKCCKR-YVMONPNESA-N (z)-2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]but-2-enedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C\C(=C\C(O)=O)C(O)=O BHAMKOUCEKCCKR-YVMONPNESA-N 0.000 description 1
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- ALFOANISZPLMRO-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethane-1,2-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ALFOANISZPLMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZJTUOGZUKFLQT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5,7-tetramethylcyclooctane Chemical group CC1CC(C)CC(C)CC(C)C1 BZJTUOGZUKFLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSXOFALHYZPMNH-UHFFFAOYSA-N 1-(3-methylmorpholin-4-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound CC1COCCN1C(=O)C=C NSXOFALHYZPMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUZIBFLYSIIHOY-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclopenten-1-yloxy)cyclopentene;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.C1CCC=C1OC1=CCCC1 NUZIBFLYSIIHOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRAJNWYBUCUFBD-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C YRAJNWYBUCUFBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKDGWNHUETZZCS-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1C(C)(C)C SKDGWNHUETZZCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XISFOXBYRQWDNK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)propan-2-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC=C1C(C)(C)[NH3+] XISFOXBYRQWDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHEUHTOTGGTVOV-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]butanedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CC(CC(O)=O)C(O)=O BHEUHTOTGGTVOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVJJYZAOQLGFOH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CC1(C(O)=O)C=CCCC1C(O)=O OVJJYZAOQLGFOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTJNPDLOIVDEEL-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(C)=O ZTJNPDLOIVDEEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(N)C(S(O)(=O)=O)=C1 LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTIUFVDJFMFSGB-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1.OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 VTIUFVDJFMFSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHEKSKQMOBLXQS-UHFFFAOYSA-N 2-cyclopentylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCC1 JHEKSKQMOBLXQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilane Chemical compound COCCO[SiH3] WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKOOOVKGLHCLTP-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO RKOOOVKGLHCLTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 2-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1O DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVZLHPXEUGJPAH-UHFFFAOYSA-N 2-oxidanylpropanoic acid Chemical class CC(O)C(O)=O.CC(O)C(O)=O KVZLHPXEUGJPAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGXZPQWZJUGEP-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-enylphenol Chemical compound CC=CC1=CC=CC=C1O WHGXZPQWZJUGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)sulfanyl-4-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(SC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1CCC(=O)OC1=O ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJDQDZKWUHRXFL-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]phthalic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O JJDQDZKWUHRXFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSTBEAZQAHFCDB-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(oxetan-2-yl)butoxy]propylsilane Chemical compound O1C(CC1)C(COCCC[SiH3])CC VSTBEAZQAHFCDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYKZEMJHONDAP-UHFFFAOYSA-N 3-acetyl-1,3-di(propan-2-yloxy)pentane-2,4-dione;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)OCC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)OC(C)C JWYKZEMJHONDAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNLGEWDVHYZSFY-UHFFFAOYSA-N 3-acetylpentane-2,4-dione;titanium Chemical compound [Ti].CC(=O)C(C(C)=O)C(C)=O HNLGEWDVHYZSFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLISAXVKNTYIJA-UHFFFAOYSA-N 3-acetylpentane-2,4-dione;zirconium Chemical compound [Zr].CC(=O)C(C(C)=O)C(C)=O GLISAXVKNTYIJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCSBERXVQJZADV-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCOCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VCSBERXVQJZADV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYMVUIBPDVEYKA-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCOCCC[Si](OC)(OC)OC UYMVUIBPDVEYKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATYUFZQNJIZDJQ-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexyl-2-methylphenol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C1CCCCC1 ATYUFZQNJIZDJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanoic acid Chemical compound COCCC(O)=O YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXUIDZOMTRMIOE-UHFFFAOYSA-M 3-oxo-3-phenylpropionate Chemical compound [O-]C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 HXUIDZOMTRMIOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HXUIDZOMTRMIOE-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-3-phenylpropionic acid Chemical class OC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 HXUIDZOMTRMIOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CINADEDFMNGDSW-UHFFFAOYSA-N 3-oxobutanoyl benzoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CINADEDFMNGDSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYDIWCXDGMNRO-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl but-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=CC PBYDIWCXDGMNRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYFSNTFLFWUGGL-UHFFFAOYSA-N 4-(1-trimethoxysilylethyl)phenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C1=CC=C(O)C=C1 UYFSNTFLFWUGGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTJGMNVTTPUVFY-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butanoic acid Chemical class CC(=C)C(=O)OCCCC(O)=O DTJGMNVTTPUVFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXKJURMSOICRCK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-trimethoxysilylethyl)phenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(O)C=C1 XXKJURMSOICRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIXNHONPKYUROG-UHFFFAOYSA-N 4-(9h-fluoren-1-yl)phenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C12 GIXNHONPKYUROG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluoren-9-yl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 NUDSREQIJYWLRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHMLCRRTQSNGLY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate 7-hydroxy-2-methylhept-2-enoic acid Chemical compound OCCCCC=C(C(=O)O)C.C(C(=C)C)(=O)OCCCCO KHMLCRRTQSNGLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPGUVFCQXPTGJW-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate 6-hydroxy-2-methylidenehexanoic acid Chemical compound OCCCCC(C(=O)O)=C.C(C=C)(=O)OCCCCO IPGUVFCQXPTGJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylphenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(O)C=C1 HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C=C)CCC2OC21 DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBERHVIZRVGDFO-UHFFFAOYSA-N Acetoxyacetone Chemical compound CC(=O)COC(C)=O DBERHVIZRVGDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMECGLJGMVDCJZ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)O)C(C)(C)C.C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)O)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)O)C(C)(C)C.C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)O)C(C)(C)C GMECGLJGMVDCJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTFMQNNSNREDPB-UHFFFAOYSA-N C(C)[SiH](OC)C.C1(CCC(=O)O1)=O Chemical compound C(C)[SiH](OC)C.C1(CCC(=O)O1)=O XTFMQNNSNREDPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGOGKMWQLQYUDZ-UHFFFAOYSA-N C(C)[SiH](OC)OC.C1(CCC(=O)O1)=O Chemical compound C(C)[SiH](OC)OC.C1(CCC(=O)O1)=O CGOGKMWQLQYUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSVTVELQWXYNHO-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC.C(C)C(COCCO)O Chemical compound C(C=C)(=O)OC.C(C)C(COCCO)O NSVTVELQWXYNHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGMNTLCQDNNBNT-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC.C(CS)(=O)OCCOC(CS)=O Chemical compound C(C=C)(=O)OC.C(CS)(=O)OCCOC(CS)=O NGMNTLCQDNNBNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXNBXJLRPWITK-UHFFFAOYSA-N C(CC)C1=CC=CC=C1.C1(CCC(=O)O1)=O Chemical compound C(CC)C1=CC=CC=C1.C1(CCC(=O)O1)=O GDXNBXJLRPWITK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWCOXYGNZJLNHY-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OCC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)OCCCC.[Zr] Chemical compound C(CCC)OCC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)OCCCC.[Zr] FWCOXYGNZJLNHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMIVZRSCIHWYCV-UHFFFAOYSA-N CC(C)O[Ti].CC(=O)CC(C)=O Chemical class CC(C)O[Ti].CC(=O)CC(C)=O WMIVZRSCIHWYCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLIRYQDDKDHLT-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC=C1C.CC1=CC=CC=C1C Chemical compound CC1=CC=CC=C1C.CC1=CC=CC=C1C WYLIRYQDDKDHLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUAJWISIHNJWCZ-UHFFFAOYSA-N ClC(Cl)(Cl)C1=NC(=NC(=N1)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl.ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(=NC(=N1)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl.ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 XUAJWISIHNJWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKKZMYDNDDMXSE-UHFFFAOYSA-N Ethyl 3-oxo-3-phenylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 GKKZMYDNDDMXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000004859 Gamochaeta purpurea Species 0.000 description 1
- WVRPFQGZHKZCEB-UHFFFAOYSA-N Isopropyl 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)C WVRPFQGZHKZCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical class CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCQCQUBTKBWERQ-UHFFFAOYSA-N N-methylprop-2-enamide propan-2-one Chemical compound C(C=C)(=O)NC.CC(=O)C BCQCQUBTKBWERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOPIOHIHEQJONA-UHFFFAOYSA-N NCCCO[Si](OC)(C)CCCN.[N] Chemical compound NCCCO[Si](OC)(C)CCCN.[N] OOPIOHIHEQJONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVRAUMUQKZXZRH-UHFFFAOYSA-N O=[PH2]CC1=CC=CC=C1 Chemical class O=[PH2]CC1=CC=CC=C1 AVRAUMUQKZXZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDCGCEAEPGIBTB-UHFFFAOYSA-N OC(C(=O)c1ccccc1)c1ccccc1.OC(=O)C(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound OC(C(=O)c1ccccc1)c1ccccc1.OC(=O)C(c1ccccc1)c1ccccc1 ZDCGCEAEPGIBTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEUYLGFZRJUIDW-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)Br Chemical class OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)Br CEUYLGFZRJUIDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHAICVGMVULEBT-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)Cl Chemical class OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)Cl CHAICVGMVULEBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXQXNGWQRUQRFY-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)F Chemical class OC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)F LXQXNGWQRUQRFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N PYRUVIC-ACID Natural products CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027370 Parathymosin Human genes 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015076 Shorea robusta Nutrition 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URNTXHJZMAQBOV-UHFFFAOYSA-N [N].C(=C)N1C(CCC1)=O Chemical compound [N].C(=C)N1C(CCC1)=O URNTXHJZMAQBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXMGUTQVUIWQEK-UHFFFAOYSA-N [N].CC(=O)N(C)C Chemical compound [N].CC(=O)N(C)C OXMGUTQVUIWQEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUTSCJHLMGPBEJ-UHFFFAOYSA-N [N].CN(C)C=O Chemical compound [N].CN(C)C=O CUTSCJHLMGPBEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O Chemical compound [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVEUJTIZHZIHJM-UHFFFAOYSA-N a828782 Chemical compound CCOC(N)=O.CCOC(N)=O XVEUJTIZHZIHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIOQCYXPSWJYHB-UHFFFAOYSA-N acetylene;phenol Chemical compound C#C.OC1=CC=CC=C1 YIOQCYXPSWJYHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical class CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JCMVOJQGSBLFIQ-UHFFFAOYSA-N butyl 4,4-diethyl-3-oxohexaneperoxoate;zirconium Chemical compound [Zr].CCCCOOC(=O)CC(=O)C(CC)(CC)CC JCMVOJQGSBLFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- PYFRLDVYGBCYLI-UHFFFAOYSA-N decyl dihydrogen phosphite Chemical class CCCCCCCCCCOP(O)O PYFRLDVYGBCYLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011929 di(propylene glycol) methyl ether Substances 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- RGLYKWWBQGJZGM-ISLYRVAYSA-N diethylstilbestrol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(/CC)=C(\CC)C1=CC=C(O)C=C1 RGLYKWWBQGJZGM-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- 229960000452 diethylstilbestrol Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- VELFFNYFZHVFNA-UHFFFAOYSA-N dioctyl phosphono phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(=O)(OP(O)(O)=O)OCCCCCCCC VELFFNYFZHVFNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCUJLLGVOUDECM-UHFFFAOYSA-N dipivefrin Chemical compound CNCC(O)C1=CC=C(OC(=O)C(C)(C)C)C(OC(=O)C(C)(C)C)=C1 OCUJLLGVOUDECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- YXOGSLZKOVPUMH-UHFFFAOYSA-N ethene;phenol Chemical group C=C.OC1=CC=CC=C1 YXOGSLZKOVPUMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWDZMQBFSAGPQS-UHFFFAOYSA-N ethoxy-[ethoxy(diethyl)silyl]oxy-diethylsilane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)OCC VWDZMQBFSAGPQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWVFCEVNXHTDNF-UHFFFAOYSA-N hexane-2,3-dione Chemical group CCCC(=O)C(C)=O MWVFCEVNXHTDNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940024423 isopropyl isobutyrate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZJTLZYDQJHKRMQ-UHFFFAOYSA-N menadiol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(C)=CC(O)=C21 ZJTLZYDQJHKRMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylidenetetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(=C)C(=O)OC UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRGLZAJBHUOPFO-UHFFFAOYSA-N methyl 3-oxo-3-phenylpropanoate Chemical compound COC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 WRGLZAJBHUOPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- ZIPCGUYFMJXFIO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-(2-methylpropoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(C)COCN(C)C(=O)C=C ZIPCGUYFMJXFIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- BCOOSHHVXCBHMC-UHFFFAOYSA-N nonan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC(C)OC(=O)C(C)=C BCOOSHHVXCBHMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N octoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSVAZNPHAQRIM-UHFFFAOYSA-N phenol;prop-1-ene Chemical compound CC=C.OC1=CC=CC=C1 KJSVAZNPHAQRIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 229940107700 pyruvic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001869 rapid Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical class CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229940083608 sodium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical compound O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAJQCIFYLSXSEZ-UHFFFAOYSA-L tridecyl phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP([O-])([O-])=O GAJQCIFYLSXSEZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)OC HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N triphenylstibine Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sb](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N trisodium methoxy(trioxido)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CO[Si]([O-])([O-])[O-] XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract
本发明涉及一种感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片及液晶显示元件。本发明提供一种感光性树脂组成物包含碱可溶性树脂(A)、聚硅氧烷高分子(B)、含乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、溶剂(E)、黑色颜料(F)及金属螯合物(G)。该碱可溶性树脂(A)包括具有不饱和基的树脂(A-1),且该具有不饱和基的树脂(A-1)由一混合物进行聚合反应所制得,而该混合物含有具有至少两个环氧基的环氧化合物(i),以及具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)。该感光性树脂组成物具有较佳的经时稳定性,且由其所形成的黑色矩阵经加热后具有较佳的密着性。
Description
技术领域
本发明涉及一种彩色滤光片用的感光性树脂组成物,特别是涉及一种彩色滤光片中黑色矩阵用的感光性树脂组成物。本发明也提供一种由该感光性树脂组成物所形成的黑色矩阵、彩色滤光片及液晶显示元件。
背景技术
为提高目前液晶显示器的对比度及显示品质,一般采用在彩色滤光片的条纹(stripe)及点(dot)间隙中,放置黑色矩阵,而该黑色矩阵的作用可防止因像素间的光泄漏,所引起的对比度下降及色纯度下降等缺失。然而,以往黑色矩阵所使用的材料皆以含有铬或氧化铬等的蒸镀膜为主,但是以上述蒸镀膜作为黑色矩阵的材料时,存在有制程复杂及材料昂贵等缺点。为解决这些问题,就提出将感光性树脂组成物以光平版印刷(photolithographic)的方式形成黑色矩阵的技术。
TW200525291揭示一种黑色矩阵用的感光性树脂组成物。该感光性树脂组成物包含碱可溶性树脂、含乙烯性不饱和基的化合物、光起始剂、溶剂及黑色颜料。该专利通过使用特定的碱可溶性树脂,且调控组成物的粘度及固含量,以及溶剂的蒸气压,来改善感光性树脂组成物的涂布均匀性及感度,以及提升黑色矩阵的耐热性。
然而,该感光性树脂组成物于存放的过程中,易受外界环境的影响如温度,使其容易变质而不易保存,再者,将其所形成的黑色矩阵应用在可携式显示装置上,因可携式显示装置随着使用者常在户外使用,使得该黑色矩阵易受到阳光长久照射所产生的高温影响,造成有密着性不佳的情况,继而降低可携式显示装置的显示品质。
有鉴于上述,仍有需要发展出一种经加热后具有较佳密着性的黑色矩阵,以及发展一种用以制备该黑色矩阵且具有经时稳定性的感光性树脂组成物。
发明内容
本发明的第一目的是在提供一种具有经时稳定性的感光性树脂组成物。
本发明感光性树脂组成物,包含:
碱可溶性树脂(A),包括具有不饱和基的树脂(A-1),且该具有不饱和基的树脂(A-1)由一混合物进行聚合反应所制得,而该混合物含有具有至少两个环氧基的环氧化合物(i),以及具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii);
聚硅氧烷高分子(B);
含乙烯性不饱和基的化合物(C);
光起始剂(D);
溶剂(E);
黑色颜料(F);及
金属螯合物(G)。
本发明所述感光性树脂组成物,该具有不饱和基的树脂(A-1)与该聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为0.8至10.0。
本发明所述感光性树脂组成物,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(I)所示:
式(I)
于式(I)中,R1、R2、R3及R4分别为相同或不同,且表示氢、卤素、C1至C5的烷基、C1至C5的烷氧基、C6至C12的芳基,或C6至C12的芳烷基。
本发明所述感光性树脂组成物,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(II)所示:
式(II)
于式(II)中,R5至R18分别为相同或不同,且表示氢、卤素、C1至C8的烷基或C6至C15芳香基;n表示0至10的整数。
本发明所述感光性树脂组成物,该聚硅氧烷高分子(B)由硅烷单体、聚硅氧烷,或硅烷单体与聚硅氧烷的组合进行加水分解及部分缩合而制得。
本发明所述感光性树脂组成物,该金属螯合物(G)由式(III)所示:
(R29)pM(OR30)j-p式(III)
于式(III)中,M表示金属;该R29表示螯合基;该R30表示C2至C5的烷基或C6至C20的芳香基;p表示1至j的整数;j表示金属的价数;当R29或R30为多个,每个R29或每个R30为相同或不同。
本发明所述感光性树脂组成物,该金属择自于铝、钛或锆;该螯合基择自于β-二酮类螯合基、β-酮酯类螯合基、胺类螯合基、磺酸类螯合基或磷酸类螯合基。
本发明所述感光性树脂组成物,基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该具有不饱和基的树脂(A-1)的使用量范围为30至100重量份;该聚硅氧烷高分子(B)的使用量范围为5至150重量份;该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量范围为5至220重量份;该溶剂(E)的使用量范围为500至5000重量份;该黑色颜料(F)的使用量范围为50至800重量份;该金属螯合物(G)的使用量范围为1至50重量份。
本发明所述感光性树脂组成物,基于该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量总和为100重量份,该光起始剂(D)的使用量范围为2至120重量份。
本发明的第二目的是在提供一种经加热后具有较佳的密着性的黑色矩阵。
本发明黑色矩阵对由如上所述的感光性树脂组成物依序施予预烤、曝光、显影及后烤处理而制得。
本发明的第三目的是在提供一种彩色滤光片。
本发明彩色滤光片包含如上所述的黑色矩阵。
本发明的第四目的是在提供一种液晶显示元件。
本发明液晶显示元件包含如上所述的彩色滤光片。
本发明的有益效果在于:本发明感光性树脂组成物通过同时使用具有不饱和基的树脂(A-1)、聚硅氧烷高分子(B)及金属螯合物(G),使该感光性树脂组成物具有较佳的经时稳定性,同时,由其所形成的黑色矩阵经加热后具有较佳的密着性。
具体实施方式
本申请中,以(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸,同样地,以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
本发明感光性树脂组成物包含碱可溶性树脂(A)、聚硅氧烷高分子(B)、含乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、溶剂(E)、黑色颜料(F)及金属螯合物(G)。该碱可溶性树脂(A)包括具有不饱和基的树脂(A-1),且该具有不饱和基的树脂(A-1)由一混合物进行聚合反应所制得,而该混合物含有具有至少两个环氧基的环氧化合物(i),以及具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)。
[感光性树脂组成物及其制备]
本发明感光性树脂组成物可采用一般的混合方式(如使用混合机或分散机)将碱可溶性树脂(A)、聚硅氧烷高分子(B)、含乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、溶剂(E)、黑色颜料(F)、金属螯合物(G)及必要时添加的添加剂(H)均匀混合成溶液状态,即可获得本发明感光性树脂组成物。上述的混合方式为本技术领域人员所周知,因此不再多加赘述。
以下将逐一对碱可溶性树脂(A)、聚硅氧烷高分子(B)、含乙烯性不饱和基的化合物(C)、光起始剂(D)、溶剂(E)、黑色颜料(F)、金属螯合物(G)及添加剂(H)进行详细说明。
《碱可溶性树脂(A)》
该碱可溶性树脂(A)包括具有不饱和基的树脂(A-1)。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该具有不饱和基的树脂(A-1)的使用量范围为30重量份~100重量份。较佳地,该具有不饱和基的树脂(A-1)的使用量范围为50重量份至100重量份。更佳地,该具有不饱和基的树脂(A-1)的使用量范围为70重量份至100重量份。选择性地,该碱可溶性树脂(A)还包括其他碱可溶性树脂(A-2)。
当该感光性树脂组成物未使用该具有不饱和基的树脂(A-1)时,由其所形成的黑色矩阵经加热后密着性不佳。
<具有不饱和基的树脂(A-1)>
该具有不饱和基的树脂(A-1)由一混合物进行聚合反应所制得,而该混合物含有具有至少两个环氧基的环氧化合物(i),以及具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)。较佳地,该混合物还包含羧酸酐化合物(iii)及/或含环氧基的化合物(iv)。
较佳地,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(I)所示:
式(I)
于式(I)中,R1、R2、R3及R4为相同或不同,且分别表示氢、卤素、C1至C5的烷基、C1至C5的烷氧基、C6至C12的芳基,或C6至C12的芳烷基。
该式(I)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)包含但不限于含环氧基(epoxy)的双酚芴型化合物(bisphenolfluorene)。该含环氧基的双酚芴型化合物由9,9-双(4-羟基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3-氯苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-chlorophenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3-溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-bromophenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3-氟苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-fluorophenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3-甲氧基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methoxyphenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3,5-二氯苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl)fluorene]、9,9-双(4-羟基-3,5-二溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)fluorene]等化合物与卤化环氧丙烷(epihalohydrin)反应而得。该卤化环氧丙烷包含但不限于3-氯-1,2-环氧丙烷(epichlorohydrin)或3-溴-1,2-环氧丙烷(epibromohydrin)等。该含环氧基的双酚芴型化合物包含但不限于(1)新日铁化学制的商品:ESF-300等;(2)大阪瓦斯制的商品:PG-100、EG-210等;(3)S.M.STechnologyCo.制的商品:SMS-F9PhPG、SMS-F9CrG、SMS-F914PG等。
较佳地,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(II)所示:
式(II)
于式(II)中,R5至R18为相同或不同,且分别表示氢、卤素、C1至C8的烷基或C6至C15芳香基;n表示0至10的整数。
较佳地,该式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)在碱金属氢氧化物存在下,使具有式(II-1)结构的化合物与卤化环氧丙烷进行反应而得。
式(II-1)
于式(II-1)中,R5至R18及n的定义是分别与式(II)中的R5至R18及n的定义相同,所以不再赘述。
较佳地,该式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)在酸催化剂存在下,使用具有式(II-2)结构的化合物与酚(phenol)类进行缩合反应后,形成一具有式(II-1)结构的化合物,接着加入过量的卤化环氧丙烷进行脱卤化氢反应(dehydrohalogenation)而得。
式(II-2)
于式(II-2)中,R19与R20为相同或不同,且分别表示氢、卤素、C1至C8的烷基或C6至C15的芳香基;X1及X2为相同或不同,且分别表示卤素、C1至C6的烷基或C1至C6的烷氧基。该卤素表示氯或溴。该烷基表示甲基(methyl)、乙基(ethyl)或叔丁基(t-butyl)。该烷氧基表示甲氧基(methoxy)或乙氧基(ethoxy)。
该酚类可单独或混合使用,且该酚类包含但不限于酚(phenol)、甲酚(cresol)、乙酚(ethylphenol)、n-丙酚(n-propylphenol)、异丁酚(isobutylphenol)、t-丁酚(t-butylphenol)、辛酚(octylphenol)、壬基苯酚(nonylphenol)、茬酚(xylenol)、甲基丁基苯酚(methylbutylphenol)、二叔丁基酚(di-t-butylphenol)、乙烯苯酚(vinylphenol)、丙烯苯酚(propenylphenol)、乙炔苯酚(ethynylphenol)、环戊苯酚(cyclopentylphenol)、环己基酚(cyclohexylphenol)或环己基甲酚(cyclohexylcresol)等。
较佳地,基于该具有式(II-2)结构的化合物的使用量为1摩尔,该酚类的使用量范围为0.5摩尔至20摩尔;更佳地,该酚类的使用量范围为2摩尔至15摩尔。
该酸催化剂可单独或混合使用,且该酸催化剂包含但不限于盐酸、硫酸、对甲苯磺酸(p-toluenesulfonicacid)、草酸(oxalicacid)、三氟化硼(borontrifluoride)、无水氯化铝(aluminiumchlorideanhydrous)或氯化锌(zincchloride)等。较佳地,该酸催化剂择自于对甲苯磺酸(p-toluenesulfonicacid)、硫酸或盐酸。该酸催化剂的使用量虽无特别的限制,但,较佳地,基于具有式(II-2)结构的化合物的使用量为100wt%,该酸催化剂的使用量范围为0.1wt%至30wt%。
该缩合反应可在无溶剂下,或是有机溶剂的存在下进行。该有机溶剂可单独或混合使用,且该有机溶剂包含但不限于甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)或甲基异丁基酮(methylisobutylketone)等。较佳地,基于具有式(II-2)结构的化合物及酚类的使用量总和为100wt%,该有机溶剂的使用量范围为50wt%至300wt%;更佳地,该有机溶剂的使用量范围为100wt%至250wt%。较佳地,该缩合反应的操作温度范围为40℃至180℃;该缩合反应的操作时间范围为1小时至8小时。
于缩合反应结束后,可进行中和处理或水洗处理。该中和处理是将反应后的溶液的pH值范围调整至3至7,较佳地,调整至5至7。该水洗处理使用中和剂来进行,且该中和剂为碱性物质,其包含但不限于(1)碱金属氢氧化物:氢氧化钠(sodiumhydroxide)、氢氧化钾(potassiumhydroxide);(2)碱土类金属氢氧化物:氢氧化钙(calciumhydroxide)、氢氧化镁(magnesiumhydroxide);(3)有机胺:二亚乙基三胺(diethylenetriamine)、三亚乙基四胺(triethylenetetramine)、苯胺(aniline)、苯二胺(phenylenediamine);(4)氨(ammonia)、磷酸二氢钠(sodiumdihydrogenphosphate)等。该水洗处理可采用以往使用的方法即可,例如,在反应后的溶液中,加入含中和剂的水溶液,反复进行萃取即可。经中和处理或水洗处理后,在减压加热下,将未反应的酚类及溶剂予以馏除,并进行浓缩,即可获得具有式(II-1)结构的化合物。
较佳地,该卤化环氧丙烷择自于3-氯-1,2-环氧丙烷、3-溴-1,2-环氧丙烷,或它们的组合。该脱卤化氢反应进行前可预先添加氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物,或者于反应的过程中添加。较佳地,该脱卤化氢反应的操作温度范围为20℃至120℃。较佳地,该脱卤化氢反应的操作时间范围为1小时至10小时。
在该脱卤化氢反应中所添加的碱金属氢氧化物亦可使用其水溶液,此情况下,连续将该碱金属氢氧化物水溶液添加至脱卤化氢反应系统内的同时,于减压下或常压下连续地将水及卤化环氧丙烷蒸馏出,借以进行分离及除去水,同时将卤化环氧丙烷连续地回流至反应系统内。
该脱卤化氢反应进行前可添加氯化四甲铵(tetramethylammoniumchloride)、溴化四甲铵(tetramethylammoniumbromide)、三甲基苄基氯化铵(trimethylbenzylammoniumchloride)等的季铵盐作为催化剂,并在50℃至150℃下,反应1小时至5小时,再加入碱金属氢氧化物或其水溶液,于20℃至120℃的温度下,反应1小时至10小时,以进行脱卤化氢反应。
基于该具有式(II-1)结构的化合物中的羟基总当量为1当量,该卤化环氧丙烷的使用量范围为1摩尔至20摩尔。较佳地,该卤化环氧丙烷的使用量范围为2摩尔至10摩尔。基于该具有式(II-1)结构的化合物中的羟基总当量为1当量,该脱卤化氢反应中添加的碱金属氢氧化物的使用量范围为0.8摩尔至15摩尔。较佳地,该脱卤化氢反应中添加的碱金属氢氧化物的使用量范围为0.9摩尔至11摩尔。
此外,为了使脱卤化氢反应顺利进行,亦可添加甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)等醇类外,亦可添加二甲砜(dimethylsulfone)、二甲亚砜(dimethylsulfoxide)等非质子性(aprotic)的极性溶剂等来进行反应。在使用醇类的情况下,基于该卤化环氧丙烷的使用量总和为100wt%,该醇类的使用量范围为2wt%至20wt%。较佳地,该醇类的使用量范围为4wt%至15wt%。在使用非质子性的极性溶剂的情况下,基于该卤化环氧丙烷的使用量总和为100wt%,该非质子性的极性溶剂的使用量范围为5wt%至100wt%。较佳地,该非质子性的极性溶剂的使用量范围为10wt%至90wt%。
为了避免存在有未反应的起始原料如卤化环氧丙烷而影响物性,可进一步将脱卤化氢反应后的溶液加入甲苯(toluene)、甲基异丁基酮(methylisobutylketone)等溶剂,并加入氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物水溶液再次进行脱卤化氢反应。较佳地,于脱卤化氢反应中,基于该具有式(II-1)结构的化合物中的羟基总当量为1当量,该碱金属氢氧化物的含量范围为0.01摩尔至0.3摩尔;更佳地,该碱金属氢氧化物的含量范围为0.05摩尔至0.2摩尔。较佳地,该脱卤化氢反应的操作温度范围为50℃至120℃。较佳地,该脱卤化氢反应的操作时间范围为0.5小时至2小时。
于脱卤化氢反应结束后,可选择性地进行过滤处理或水洗处理。接着,借由加热减压的方式,于温度为110℃至250℃且压力为1.3kPa(10mmHg)以下,除去卤化环氧丙烷、醇类及非质子性的极性溶剂等,则可得到该式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)。该式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)包含但不限于日本化药制的商品;NC-3000、NC-3000H、NC-3000S及NC-3000P。
较佳地,该具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)择自于(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯酰氧乙基丁二酸(2-methaacryloyloxyethylbutanedioicacid)、2-甲基丙烯酰氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯酰氧乙基己二酸、2-甲基丙烯酰氧丁基己二酸、2-甲基丙烯酰氧乙基六氢邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧乙基马来酸、2-甲基丙烯酰氧丙基马来酸、2-甲基丙烯酰氧丁基马来酸、2-甲基丙烯酰氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯酰氧丙基己二酸、2-甲基丙烯酰氧丁基己二酸、2-甲基丙烯酰氧丙基四氢邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧丙基邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧丁基邻苯二甲酸,或2-甲基丙烯酰氧丁基氢邻苯二甲酸;(2)由含羟基的(甲基)丙烯酸酯与二元羧酸化合物反应而得的化合物;(3)由含羟基的(甲基)丙烯酸酯与羧酸酐化合物反应而得的半酯化合物。该二元羧酸化合物包含但不限于己二酸、丁二酸、马来酸、邻苯二甲酸。该含羟基的(甲基)丙烯酸酯包含但不限于2-羟基乙基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)acrylate]、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)methacrylate]、2-羟基丙基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)acrylate]、2-羟基丙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)methacrylate]、4-羟基丁基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)acrylate]、4-羟基丁基甲基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)methacrylate],或季戊四醇三甲基丙烯酸酯等。该羧酸酐化合物可与该具有不饱和基的树脂(A-1)中混合物所含的羧酸酐化合物(iii)为相同,所以不再赘述。
较佳地,该羧酸酐化合物(iii)择自于(1)二元羧酸酐化合物:琥珀酸酐(butanedioicanhydride)、顺丁烯二酸酐(maleicanhydride)、衣康酸酐(Itaconicanhydride)、邻苯二甲酸酐(phthalicanhydride)、四氢邻苯二甲酸酐(tetrahydrophthalicanhydride)、六氢邻苯二甲酸酐(hexahydrophthalicanhydride)、甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐(methylendo-methylenetetrahydrophthalicanhydride)、氯茵酸酐(chlorendicanhydride)、戊二酸酐,或偏三苯甲酸酐(1,3-dioxoisobenzofuran-5-carboxylicanhydride);(2)四元羧酸酐化合物:二苯甲酮四甲酸二酐(benzophenonetetracarboxylicdianhydride,简称BTDA)、双苯四甲酸二酐,或双苯醚四甲酸二酐等。
较佳地,该含环氧基的化合物(iv)择自于甲基丙烯酸环氧丙酯、3,4-环氧基环己基甲基丙烯酸酯、含不饱和基的缩水甘油醚化合物、含环氧基的不饱和化合物,或它们的组合。该含不饱和基的缩水甘油醚化合物包含但不限于长濑化成工业株式会社的商品:DenacolEX-111,DenacolEX-121,DenacolEX-141,DenacolEX-145,DenacolEX-146,DenacolEX-171,DenacolEX-192)等。
本发明中,该具有不饱和基的树脂(A-1)可由式(I)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)与具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)进行聚合反应,形成一含羟基的反应产物,接着,再添加该羧酸酐化合物(iii)进行反应所制得。较佳地,基于该含羟基的反应产物上的羟基总当量为1当量,该羧酸酐化合物(iii)上所含有的酸酐基的当量范围为0.4当量至1当量;更佳地,含有的酸酐基的当量范围为0.75当量至1当量。当羧酸酐化合物(iii)使用多个时,于反应时添加的方式可采用依序添加或同时添加的方式。较佳地,该羧酸酐化合物(iii)是使用二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物时,该二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物的摩尔比例范围为1/99至90/10;更佳地,摩尔比例范围为5/95至80/20。较佳地,该反应的操作温度范围为50℃至130℃。
本发明中,该具有不饱和基的树脂(A-1)可由式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)与具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)进行反应,形成一含羟基的反应产物,接着,再添加羧酸酐化合物(iii)及/或含环氧基的化合物(iv)进行聚合反应所制得。较佳地,基于式(II)的具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)上的环氧基总当量为1当量,该具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)的酸价当量范围为0.8当量至1.5当量。更佳地,该具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)的酸价当量范围为0.9当量至1.1当量。基于该含羟基的反应产物上的羟基为100摩尔%,该羧酸酐化合物(iii)的使用量范围为10摩尔%至100摩尔%;较佳地,该羧酸酐化合物(iii)的使用量范围为20摩尔%至100摩尔%;更佳地,该羧酸酐化合物(iii)的使用量范围为30摩尔%至100摩尔%。
在制备该具有不饱和基的树脂(A-1)时,为加速反应,通常会于反应溶液中添加碱性化合物作为反应催化剂。该反应催化剂可单独或混合使用,且该反应催化剂包含但不限于三苯基膦(triphenylphosphine)、三苯基锑(triphenylstibine)、三乙胺(triethylamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、氯化四甲基铵(tetramethylammoniumchloride)、氯化苄基三乙基铵(benzyltriethylammoniumchloride)等。较佳地,基于该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)与具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)的使用量总和为100重量份,该反应催化剂的使用量范围为0.01重量份至10重量份。更佳地,该反应催化剂的使用量范围为0.3重量份至5重量份。
此外,为了控制聚合度,通常还会于反应溶液中添加阻聚剂。该阻聚剂可单独或混合使用,且该阻聚剂包含但不限于甲氧基苯酚(methoxyphenol)、甲基氢醌(methylhydroquinone)、氢醌(hydroquinone)、2,6-二叔丁基对甲酚(2,6-di-t-butyl-p-cresol),或吩噻嗪(phenothiazine)等。较佳地,基于该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)与具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii)的使用量总和为100重量份,该阻聚剂的使用量范围为0.01重量份至10重量份。更佳地,该阻聚剂的使用量范围为0.1重量份至5重量份。
在制备该具有不饱和基的树脂(A-1)时,必要时可使用聚合反应溶剂。该聚合反应溶剂可单独或混合使用,且该聚合反应溶剂包含但不限于(1)醇类化合物:乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、2-丁醇、己醇或乙二醇等;(2)酮类化合物:甲乙酮或环己酮等;(3)芳香族烃类化合物:甲苯或二甲苯等;(4)溶纤剂(cellosolve)类化合物:溶纤剂或丁基溶纤剂(butylcellosolve)等;(5)卡必妥类化合物:卡必妥或丁基卡必妥等;(6)丙二醇烷基醚类化合物:丙二醇单甲醚等;(7)多丙二醇烷基醚[poly(propyleneglycol)alkylether]类化合物:二丙二醇单甲醚[di(propyleneglycol)methylether]等;(8)醋酸酯类化合物:醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇乙醚醋酸酯(ethyleneglycolmonoethyletheracetate)或丙二醇甲醚醋酸酯(propyleneglycolmethyletheracetate)等;(9)乳酸酯(lactate)类化合物:乳酸乙酯(ethyllactate)或乳酸丁酯(butyllactate)等;(10)二烷基二醇醚类。
较佳地,该具有不饱和基的树脂(A-1)的酸价范围为50mgKOH/g至200mgKOH/g;更佳地,酸价范围为60mgKOH/g至150mgKOH/g。
<其他碱可溶性树脂(A-2)>
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,其他碱可溶性树脂(A-2)的使用量范围为0重量份至70重量份。较佳地,该其他碱可溶性树脂(A-2)的使用量范围为0重量份至50重量份。更佳地,该其他碱可溶性树脂(A-2)的使用量范围为0重量份至30重量份。
该其他碱可溶性树脂(A-2)包含但不限于含羧酸基或羟基的树脂,其具体例如:具有不饱和基的树脂(A-1)以外的丙烯酸系树脂、尿烷(urethane)系树脂及酚醛清漆型(novolac)树脂等。
《聚硅氧烷高分子(B)》
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该聚硅氧烷高分子(B)的使用量范围为5重量份至150重量份。较佳地,该聚硅氧烷高分子(B)的使用量范围为10重量份至140重量份。更佳地,该聚硅氧烷高分子(B)的使用量范围为20重量份至120重量份。
当该感光性树脂组成物未使用该聚硅氧烷高分子(B)时,由其所形成的黑色矩阵经加热后密着性不佳。
该聚硅氧烷高分子(B)的构造并无特别地限制,较佳地,该聚硅氧烷高分子(B)由硅烷单体、聚硅氧烷,或硅烷单体与聚硅氧烷的组合进行加水分解及部分缩合而制得。
该硅烷单体包含但不限于由式(IV)所示的硅烷单体:
(R21)mSi(OR22)4-m式(IV)
式(IV)中,R21表示氢、C1至C10的烷基、C2至C10的烯基或C6至C15的芳香基;m表示0至3的整数;该烷基、烯基及芳香基中任一者可选择地含有取代基;当m为2或3时,每个R21为相同或不同。该烷基包含但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、正己基、正癸基、三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-环氧丙氧基、2-(3,4-环氧环己基)乙基、3-氨丙基、3-巯丙基、3-异氰酸丙基、2-环氧丙烷基丁氧基丙基、3-戊二酸酐丙基、3-丁二酸酐丙基,或2-丁二酸酐乙基等。该烯基包含但不限于乙烯基、3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基等。该芳香基包含但不限于苯基、甲苯基(tolyl)、对-羟基苯基、1-(对-羟基苯基)乙基、2-(对-羟基苯基)乙基、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基[4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl]或萘基(naphthyl)等。
R22表示氢、C1至C6的烷基、C1至C6的酰基或C6至C15的芳香基;该烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地含有取代基;当4-m为2、3或4时,每个R22为相同或不同。该烷基包含但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基等。该酰基包含但不限于乙酰基。该芳香基包含但不限于苯基。
式(IV)中,当m=0时表示硅烷单体为四官能性硅烷;当m=1时表示硅烷单体为三官能性硅烷;当m=2时表示硅烷单体为二官能性硅烷;当m=3时则表示硅烷单体为单官能性硅烷。
该硅烷单体可单独或混合使用,且该硅烷单体包含但不限于(1)四官能性硅烷:四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四乙酰氧基硅烷(tetraacetoxysilane)、四苯氧基硅烷等;(2)三官能性硅烷:甲基三甲氧基硅烷(methyltrimethoxysilane,简称MTMS)、甲基三乙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三正丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三正丁氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、正丁基三甲氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、正己基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷(phenyltrimethoxysilane,简称PTMS)、苯基三乙氧基硅烷(phenyltriethoxysilane,简称PTES)、对-羟基苯基三甲氧基硅烷、1-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷、2-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基三甲氧基硅烷、三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三苯氧基硅烷、由东亚合成所制造的市售品(2-环氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基硅烷,商品名TMSOX;2-环氧丙烷基丁氧基丙基三乙氧基硅烷,商品名TESOX)、2-丁二酸酐乙基三甲氧基硅烷、3-丁二酸酐丙基三苯氧基硅烷、由信越化学所制造的市售品(3-丁二酸酐丙基三甲氧基硅烷,商品名X-12-967)、由WACKER公司所制造的市售品(3-丁二酸酐丙基三乙氧基硅烷,商品名GF-20)、3-戊二酸酐丙基三甲氧基硅烷(3-trimethoxysilylpropylglutaricanhydride,简称TMSG)、3-戊二酸酐丙基三乙氧基硅烷,或3-戊二酸酐丙基三苯氧基硅烷等;(3)二官能性硅烷:二甲基二甲氧基硅烷(dimethyldimethoxysilane,简称DMDMS)、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二乙酰氧基硅烷、二正丁基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二异丙氧基-二(2-环氧丙烷基丁氧基丙基)硅烷[diisopropoxy-di(2-oxetanylbutoxypropyl)silane,简称DIDOS]、二(3-环氧丙烷基戊基)二甲氧基硅烷、二丁二酸酐丙基二正丁氧基硅烷{di-[(2-butanedioicanhydride)propyl]di-n-butoxysilane},或二丁二酸酐乙基二甲氧基硅烷{di-[(2-butanedioicanhydride)ethyl]dimethoxysilane};(4)单官能性硅烷:三甲基甲氧基硅烷、三正丁基乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基二甲基甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基二甲基乙氧基硅烷、三丁二酸酐丙基苯氧基硅烷{tri-[(2-butanedioicanhydride)propyl]phenoxysilane},或二丁二酸酐乙基甲基甲氧基硅烷{di-[(2-butanedioicanhydride)ethyl](methyl)methoxysilane}等。
该聚硅氧烷包含但不限于由式(V)所示的聚硅氧烷:
式(V)
式(V)中,R24、R25、R26及R27分别表示氢、C1至C10的烷基、C2至C6的烯基或C6至C15的芳香基,该烷基、烯基及芳香基中任一者可选择地含有取代基;当s为2至1000的整数,每个R24为相同或不同,且每个R25为相同或不同。该烷基包含但不限于甲基、乙基或正丙基等。该烯基包含但不限于乙烯基、丙烯酰氧基丙基或甲基丙烯酰氧基丙基等。该芳香基包含但不限于苯基、甲苯基或萘基等。
R23及R28分别表示氢、C1至C6的烷基、C1至C6的酰基或C6至C15的芳香基;该烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地含有取代基。该烷基包含但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基等。该酰基包含但不限于乙酰基。该芳香基包含但不限于苯基。s表示1至1000的整数;更佳地,s表示5至200的整数。
该聚硅氧烷可单独或混合使用,且该聚硅氧烷包含但不限于1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二硅氧烷、Gelest公司制硅烷醇末端聚硅氧烷的市售品[商品名如DM-S12(分子量400~700)、DMS-S15(分子量1500~2000)、DMS-S21(分子量4200)、DMS-S27(分子量18000)、DMS-S31(分子量26000)、DMS-S32(分子量36000)、DMS-S33(分子量43500)、DMS-S35(分子量49000)、DMS-S38(分子量58000)、DMS-S42(分子量77000)、PDS-9931(分子量1000~1400)等]等。
该硅烷单体与聚硅氧烷混合使用时,其混合比率并无特别限制。较佳地,该硅烷单体与聚硅氧烷的Si原子摩尔数比例范围为100:0.01至50:50。
该聚硅氧烷高分子(B)除了可由上述的硅烷单体及/或聚硅氧烷进行加水分解及部分缩合而制得外,亦可混合二氧化硅(silicondioxide)粒子进行共聚合反应。该二氧化硅粒子的平均粒径并无特别的限制,其平均粒径范围为2nm至250nm。较佳地,其平均粒径范围为5nm至200nm。更佳地,其平均粒径范围为10nm至100nm。
该二氧化硅粒子可单独或混合使用,且该二氧化硅粒子包含但不限于由触媒化成公司所制造的市售品[商品名如OSCAR1132(粒径12nm;分散剂为甲醇)、OSCAR1332(粒径12nm;分散剂为正丙醇)、OSCAR105(粒径60nm;分散剂为γ-丁内酯)、OSCAR106(粒径120nm;分散剂为二丙酮醇)等]、由扶桑化学公司所制造的市售品[商品名如QuartronPL-1-IPA(粒径13nm;分散剂为异丙酮)、QuartronPL-1-TOL(粒径13nm;分散剂为甲苯)、QuartronPL-2L-PGME(粒径18nm;分散剂为丙二醇单甲醚)、QuartronPL-2L-MEK(粒径18nm;分散剂为甲乙酮)等]、由日产化学公司所制造的市售品[商品名如IPA-ST(粒径12nm;分散剂为异丙醇)、EG-ST(粒径12nm;分散剂为乙二醇)、IPA-ST-L(粒径45nm;分散剂为异丙醇)、IPA-ST-ZL(粒径100nm;分散剂为异丙醇)等]。
该二氧化硅粒子与该硅烷单体及/或聚硅氧烷混合时,并无使用量的限制。较佳地,该二氧化硅粒子的Si原子摩尔数与该聚硅氧烷高分子的Si原子摩尔数比值范围为1%至50%。
该加水分解及部分缩合可使用一般的方法。例如,在硅烷单体及/或聚硅氧烷、二氧化硅粒子等混合物中添加溶剂、水,或选择性地可进一步添加催化剂,接着于50°C至150°C下加热搅拌0.5小时至120小时。搅拌中,必要时可借由蒸馏除去副产物(醇类、水等)。
上述溶剂并没有特别限制,可与本发明感光性树脂组成物中所含的溶剂(E)为相同或不同。较佳地,基于硅烷单体及聚硅氧烷的使用量总和为100克,该溶剂的使用量范围为15克至1200克。更佳地,该溶剂的使用量范围为20克至1100克。又更佳地,该溶剂的使用量范围为30克至1000克。
基于混合物中所含的可水解基团为1摩尔,该用于水解的水的使用量范围为0.5摩尔至2摩尔。
该催化剂没有特别的限制,较佳地,该催化剂择自于酸催化剂或碱催化剂。该酸催化剂包含但不限于盐酸、硝酸、硫酸、氟酸、草酸、磷酸、醋酸、三氟醋酸、蚁酸、多元羧酸或其酐,或离子交换树脂等。该碱催化剂包含但不限于二乙胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化钠、氢氧化钾、含有氨基的烷氧基硅烷,或离子交换树脂等。
较佳地,基于硅烷单体及聚硅氧烷的使用量总和为100克,该催化剂的使用量范围为0.005克至15克。更佳地,该催化剂的使用量范围为0.01克至12克。又更佳地,该催化剂的使用量范围为0.05克至10克。
基于稳定性的观点,经加水分解及部分缩合后所制得的聚硅氧烷高分子(B)以不含副产物(如醇类或水)、催化剂为佳,因此所制得的聚硅氧烷高分子(B)可选择性地进行纯化。纯化方法并无特别限制,较佳地,可以疏水性溶剂稀释聚硅氧烷高分子(B),接着以蒸发器浓缩经水洗涤数回的有机层以除去醇类或水。另外,可使用离子交换树脂除去催化剂。
该具有不饱和基的树脂(A-1)与聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为0.8至10.0;较佳地,该具有不饱和基的树脂(A-1)与聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为1.0至9.5;更佳地,该具有不饱和基的树脂(A-1)与聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为1.5至9.0。当具有不饱和基的树脂(A-1)与聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为0.8至10.0,由该感光性树脂组成物所形成的黑色矩阵经加热后具有较佳的密着性。
《含乙烯性不饱和基的化合物(C)》
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量范围为5重量份至220重量份。较佳地,该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量范围为10重量份至200重量份。更佳地,该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量范围为15重量份至180重量份。
较佳地,该含乙烯性不饱和基的化合物(C)择自于具有1个乙烯性不饱和基的化合物(C-1),或具有2个以上(含2个)乙烯性不饱和基的化合物(C-2)。
该具有1个乙烯性不饱和基的化合物(C-1)可单独或混合使用,且具有1个乙烯性不饱和基的化合物包含但不限于丙烯酰胺(acrylamide)、(甲基)丙烯酰吗啉、(甲基)丙烯酸-7-氨基-3,7-二甲基辛酯、异丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸异冰片基氧乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、乙基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、叔辛基(甲基)丙烯酰胺、二丙酮(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、氮,氮-二甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸四氯苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯[tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate]、(甲基)丙烯酸四溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-三氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、2-羟基-(甲基)丙烯酸乙酯、2-羟基-(甲基)丙烯酸丙酯、乙烯基己内酰胺、氮-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五氯苯酯、(甲基)丙烯酸五溴苯酯、聚单(甲基)丙烯酸乙二酯、聚单(甲基)丙烯酸丙二酯、(甲基)丙烯酸冰片酯等。
该具有2个以上(含2个)乙烯性不饱和基的化合物(C-2)可单独或混合使用,且具有2个以上(含2个)乙烯性不饱和基的化合物(C-2)包含但不限于乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰酸二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰酸三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的三(2-羟基乙基)异氰酸三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、环氧乙烷(简称EO)改性的三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、环氧丙烷改性(简称PO)的三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙酯[di(trimethylolpropane)tetra(meth)acrylate]、经环氧乙烷改性的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧丙烷改性的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧乙烷改性的氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧丙烷改性的氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧丙烷改性的甘油三(甲基)丙烯酸酯、经环氧乙烷改性的双酚F二(甲基)丙烯酸酯、酚醛聚缩水甘油醚(甲基)丙烯酸酯等。
更佳地,该含乙烯性不饱和基的化合物(C)择自于三丙烯酸三羟甲基丙酯、经环氧乙烷改性的三丙烯酸三羟甲基丙酯、经环氧丙烷改性的三丙烯酸三羟甲基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六丙烯酸酯、四丙烯酸二三羟甲基丙酯、经环氧丙烷改性的甘油三丙烯酸酯,或这些的一组合。
《光起始剂(D)》
基于该乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量总和为100重量份,该光起始剂(D)的使用量范围为2重量份至120重量份。较佳地,该光起始剂(D)的使用量范围为5重量份至70重量份;更佳地,该光起始剂(D)的使用量范围为10重量份至60重量份。
较佳地,该光起始剂(D)择自于肟(oxime)系化合物(D-1)、苯乙酮系化合物(D-2)、其他光起始剂(D-3),或它们的组合。
该肟系化合物(D-1)可单独或混合使用,且该肟系化合物(D-1)包含但不限于乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9氢-咔唑-3-取代基]-1-(氧-乙酰肟){ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-methylbezoyl)9H-carbozole-3-yl]-1-(o-acetyloxime)}(如CibaSpecialtyChemicals制的OXE02)、乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-氯-4-苯甲磺基苯甲酰基)9氢-咔唑-3-取代基]-1-(氧-乙酰肟){ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-chloro-4-benzylsulfonylbenzoyl)9H-carbozole-3-yl]-1-(o-acetyloxime)}(旭电化公司制)、1-(4-苯基-硫代苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-氧-苯甲酸脂、1-(4-苯基-硫代苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-氧-苯甲酸酯(如CibaSpecialtyChemicals制的OXE01)、1-(4-苯基-硫代苯基)-辛烷-1-酮肟-氧-醋酸酯、1-(4-苯基-硫代苯基)-丁烷-1-酮肟-氧-醋酸酯等。
该苯乙酮系化合物(D-2)可单独或混合使用,且该苯乙酮系化合物(D-2)包含但不限于对-二甲氨苯乙酮、α,α′-二甲氧基偶氮苯乙酮、2,2′-二甲基-2-苯乙酮、对-甲氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代-1-丙酮(2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholino-1-propanone)、2-苄基-2-氮,氮-二甲氨-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮[2-benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone]等。较佳地,该苯乙酮系化合物(D-2)择自于2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代-1-丙酮或2-苄基-2-氮,氮-二甲氨-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮。
该其他光起始剂(D-3)可单独或混合使用,且该其他光起始剂(D-3)包含但不限于(1)二咪唑(biimidazole)系化合物:2,2′-双(邻-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑、2,2′-双(邻-氟苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑、2,2′-双(邻-甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑、2,2′-双(邻-甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑、2,2′-双(对-甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑、2,2′-双(2,2′,4,4′-四甲氧基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑或2,2′-双(2,2′-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基二咪唑等;(2)二苯甲酮系化合物:噻吨酮(thioxantone)、2,4-二乙基噻吨酮、噻吨酮-4-砜、二苯甲酮、4,4′-双(二甲氨)二苯甲酮或4,4′-双(二乙氨)二苯甲酮等;(3)α-二酮(α-diketone)类化合物:苯偶酰(benzil)或乙酰基等;(4)酮醇(acyloin)类化合物:二苯乙醇酮(benzoin)等;(5)酮醇醚(acyloinether)类:二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚或二苯乙醇酮异丙醚等;(6)酰膦氧化物(acylphosphineoxide)类化合物:2,4,6-三甲基苯酰二苯基膦氧化物或双-(2,6-二甲氧基苯酰)-2,4,4-三甲基苄基膦氧化物等;(7)醌类化合物:蒽醌或1,4-萘醌等;(8)卤化物化合物:苯酰甲基氯(phenacylchloride)、三溴甲基苯砜或三(三氯甲基)-s-三嗪(tris(trichloromethyl)-s-triazine)等;(9)过氧化物:二-叔丁基过氧化物等;或(10)上述(1)至(9)的一组合。
《溶剂(E)》
在本案中,该溶剂(E)以可以溶解碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(C)及光起始剂(D),且不与这些成分相互反应,并具有适当挥发性的溶剂为佳。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该溶剂(E)的使用量范围为500重量份至5,000重量份。较佳地,该溶剂(E)的使用量范围为800重量份至4,700重量份。更佳地,该溶剂(E)的使用量范围为1,000重量份至4,500重量份。
该溶剂(E)可单独或混合使用,且该溶剂(E)包含但不限于(1)烷基二醇单烷醚类化合物:乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单正丙醚、二乙二醇单正丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二醇单正丁醚、三丙二醇单甲醚或三丙二醇单乙醚等;(2)烷基二醇单烷醚醋酸酯类化合物:乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯或丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇乙醚醋酸酯等;(3)其他醚类化合物:二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚或四氢呋喃等;(4)酮类化合物:甲乙酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮或二丙酮醇等;(5)乳酸烷酯类化合物:2-羟基丙酸甲酯或2-羟基丙酸乙酯等;(6)其他酯类化合物:2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、醋酸正戊酯、醋酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰醋酸甲酯、乙酰醋酸乙酯或2-氧基丁酸乙酯等;(7)芳香族烃类化合物:甲苯或二甲苯等;(8)羧酸胺类化合物:氮-甲基吡咯烷酮、氮,氮-二甲基甲酰胺或氮,氮-二甲基乙酰胺等;或(9)上述(1)至(8)的一组合。
《黑色颜料(F)》
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该黑色颜料(F)的使用量范围为50重量份至800重量份。较佳地,该黑色颜料(F)的使用量范围为100重量份至750重量份;更佳地,该黑色颜料(F)的使用量范围为150重量份至700重量份。
本申请中所使用的黑色颜料(F)以具有耐热性、耐光性以及耐溶剂性的黑色颜料为较佳。该黑色颜料(F)可单独或混合使用,且该黑色颜料(F)包含但不限于(1)黑色有机颜料:二萘嵌苯黑(peryleneblack)、花青黑(cyanineblack)、苯胺黑(anilineblack)等;(2)由红、蓝、绿、紫、黄色、花青(cyanine)、洋红(magenta)等颜料中,选择两种或两种以上的颜料进行混合,使其成近黑色化的混色有机颜料;(3)遮光材:碳黑(carbonblack)、氧化铬、氧化铁、钛黑(titaniumblack)、石墨等。该碳黑包含但不限于C.I.pigmentblack7等。该碳黑的具体例如三菱化学所制造的市售品(商品名MA100、MA230、MA8、#970、#1000、#2350、#2650)。
《金属螯合物(G)》
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该金属螯合物(G)的使用量范围为1重量份至50重量份。较佳地,该金属螯合物(G)的使用量范围为2重量份至45重量份;更佳地,该金属螯合物(G)的使用量范围为3重量份至40重量份。
当该感光性树脂组成物未使用该金属螯合物(G)时,该该感光性树脂组成物的经时稳定性不佳,且由其所形成的黑色矩阵经加热后密着性不佳。该金属螯合物(G)会与聚硅氧烷高分子(B)反应,使得黑色矩阵具有致密结构,提升该黑色矩阵的耐热性,使得该黑色矩阵经长久日光照射后,仍具有密着性。
该金属螯合物(G)由式(III)所示:
(R29)pM(OR30)j-p式(III)
于式(III)中,M表示金属;该R29表示螯合基;该R30表示C2至C5的烷基或C6至C20的芳香基;p表示1至j的整数;j表示金属的价数;当R29或R30为多个,每个R29或每个R30为相同或不同。
该C2至C5的烷基包含但不限于乙基、丙基、异丙基或丁基。该C6至C20的芳香基包含但不限于苯基。
该金属包含但不限于铝、钛、锆、铍、钙、钴、铜、铁、铪、铱、钯、锰、钼、铌、镍、铂金、锡、钌、钽、钒、钨或锌。较佳地,该M择自于铝、钛或锆。
较佳地,该螯合基(ligand)择自于β-二酮类螯合基、β-酮酯类螯合基、胺类螯合基、磺酸类螯合基或磷酸类螯合基。
该β-二酮类螯合基包含但不限于乙酰丙酮(acetylacetonate)、二苯甲酰甲烷、2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate)、苯甲酰丙酮(benzoylacetonate)、1,3-二苯基-1,3-丙二酮(1,3-diphenyl-1,3-propanedionate)、四甲基庚二酮(tetramethylheptanedionate)、己二酮(hexanedionate),或庚二酮(heptanedionate)等。
该β-酮酯类螯合基包含但不限于乙酰乙酸乙酯(ethylacetoacetate)、乙酰乙酸甲酯(methylacetoacetate)、苯甲酰基乙酰乙酸酯(benzoylacetoacetate)、甲基丙烯酰氧基乙基乙酸酯(methacryloxyethylacetate)、乙酰乙酸烯丙酯(allylacetoacetate)、甲基苯甲酰基乙酸酯(methylbenzoylacetate)、乙基苯甲酰基乙酸酯(ethylbenzoylacetate),或苯甲酰基乙酸酯(benzoylacetate)等。
该胺类螯合基包含但不限于三乙醇胺或氮-氨基乙基氨基乙基(N-aminoethylaminoethyl)等。
该磺酸类螯合基包含但不限于十二烷基苯磺酰酸(dodecylbenzenesulfonicacid)等。
该磷酸类螯合基包含但不限于二辛基焦磷酸酯(dioctylpyrophosphate)、二辛基亚磷酸酯(dioctylphosphate),或三癸基亚磷酸酯(tridecylphosphate)等。
该金属螯合物(G)可单独或混合使用,且该金属螯合物(G)包含但不限于(1)铝金属螯合物(aluminumchelatecompound):三(乙酰丙酮)铝[tris(acetylacetonato)aluminum]、三(乙酰乙酸乙酯)铝[tris(ethylacetoacetato)aluminum]、(二异丙氧基)单乙酰丙酮铝[(di-i-propoxy)monoacetylacetonatoaluminum]、(二异丙氧基)单乙酰乙酸甲酯铝[(di-i-propoxy)monomethylacetoacetatoaluminum]、(二异丙氧基)单乙酰乙酸乙酯铝[(di-i-propoxy)monoethylacetoacetatealuminum]、二(乙酰乙酸乙酯)单乙酰丙酮铝[bis(ethylacetoacetato)monoacetylacetonatoaluminum];(2)钛金属螯合物(titaniumchelatecompound):三乙氧基单乙酰丙酮钛(triethoxymonoacetylacetonatotitanium)、三丙氧基单乙酰丙酮钛(tri-n-propoxymonoacetylacetonatotitanium)、三异丙氧基乙酰丙酮钛(tri-i-propoxymonoacetylacetonatotitanium)、二异丙氧基二乙酰丙酮钛(di-i-propoxybisacetylacetonatetitanium)、二异丙氧基二(乙酰乙酸乙酯)钛[di-i-propoxybis(ethylacetoacetato)titanium]、三丁氧基单乙酰丙酮钛(tri-n-butoxymonoacetylacetonatotitanium)、三(仲丁氧基)单乙酰丙酮钛(tri-sec-butoxymonoacetylacetonatotitanium)、三(叔丁氧基)单乙酰丙酮钛(tri-t-butoxymonoacetylacetonatotitanium)、二乙氧基二乙酰丙酮钛(diethoxybisacetylacetonatotitanium)、二丙氧基二乙酰丙酮钛(di-n-propoxybisacetylacetonatotitanium)、二异丙氧基二乙酰丙酮钛(di-i-propoxybisacetylacetonatotitanium)、二丁氧基二乙酰丙酮钛(di-n-butoxybisacetylacetonatotitanium)、二(仲丁氧基)二乙酰丙酮钛(di-sec-butoxybisacetylacetonatotitanium)、二(叔丁氧基)二乙酰丙酮钛(di-t-butoxybisacetylacetonatotitanium)、单乙氧基三乙酰丙酮钛(monoethoxytrisacetylacetonatotitanium)、单丙氧基三乙酰丙酮钛(mono-n-propoxytrisacetylacetonatotitanium)、单异丙氧基三乙酰丙酮钛(mono-i-propoxytrisacetylacetonatotitanium)、单丁氧基三乙酰丙酮钛(mono-n-butoxytrisacetylacetonatotitanium)、单仲丁氧基三乙酰丙酮钛(mono-sec-butoxytrisacetylacetonatotitanium)、单叔丁氧基三乙酰丙酮钛(mono-t-butoxytrisacetylacetonatotitanium)、四乙酰丙酮钛[tetrakis(acetylacetonato)titanium]、三乙氧基单乙酰乙酸乙酯钛(triethoxymonoethylacetoacetatotitanium)、三丙氧基单乙酰乙酸乙酯钛(tri-n-propoxymonoethylacetoacetatotitanium)、三异丙氧基单乙酰乙酸乙酯钛(tri-i-propoxymonoethylacetoacetatotitanium)、三丁氧基单乙酰乙酸乙酯钛(tri-n-butoxymonoethylacetoacetatotitanium)、三仲丁氧基单乙酰乙酸乙酯钛(tri-sec-butoxymonoethylacetoacetatotitanium)、三叔丁氧基单乙酰乙酸乙酯钛(tri-t-butoxymonoethylacetoacetatotitanium)、二乙氧基二乙酰乙酸乙酯钛(diethoxybisethylacetoacetatotitanium)、二丙氧基二乙酰乙酸乙酯钛(di-n-propoxybisethylacetoacetatotitanium)、二异丙氧基二乙酰乙酸乙酯钛(di-i-propoxybisethylacetoacetatotitanium)、二丁氧基二乙酰乙酸乙酯钛(di-n-butoxybisethylacetoacetatotitanium)、二(仲丁氧基)二乙酰乙酸乙酯钛(di-sec-butoxybisethylacetoacetatotitanium)、二(叔丁氧基)二乙酰乙酸乙酯钛(di-t-butoxybisethylacetoacetatotitanium)、单乙氧基三乙酰乙酸乙酯钛(monoethoxytrisethylacetoacetatotitanium)、单丙氧基三乙酰乙酸乙酯钛(mono-n-propoxytrisethylacetoacetatotitanium)、单异丙氧基三乙酰乙酸乙酯钛(mono-i-propoxytrisethylacetoacetatotitanium)、单丁氧基三乙酰乙酸乙酯钛(mono-n-butoxytrisethylacetoacetatotitanium)、单仲丁氧基三乙酰乙酸乙酯钛(mono-sec-butoxytrisethylacetoacetatotitanium)、单叔丁氧基三乙酰乙酸乙酯钛(mono-t-butoxytrisethylacetoacetatotitanium)、四乙酰乙酸乙酯钛(tetrakisethylacetoacetatotitanium)、单乙酰丙酮三乙酰乙酸乙酯钛(monoacetylacetonatotrisethylacetoacetatetitanium)、二乙酰丙酮二乙酰乙酸乙酯钛(bisacetylacetonatebisethylacetoacetatotitanium)、三乙酰丙酮单乙酰乙酸乙酯钛(trisacetylacetonatomonoethylacetoacetatetitanium)、二丙氧基二(三乙醇胺)钛[di-n-propoxybis(triethanolamine)titanium]、二丁氧基二(三乙醇胺)钛[di-n-butoxybis(triethanolamine)titanium]、异丙基三(十二烷基苯磺酰基)钛酸酯(isopropyltris(dodecylbenzenesulfonyl)titanate)、异丙基三(二辛基焦磷酸酰氧基)钛酸酯[isopropyltris(dioctylpyrophosphate)titanate]、四异丙基二(二辛基亚磷酸酰氧基)钛酸酯[tetraisopropylbis(dioctylphosphate)titanate]、四辛基二(二-三癸基亚磷酸酰氧基)钛酸酯[tetraoctylbis(di-tridecylphosphate)titanate]、四(2,2-二烯丙氧基甲基-1-丁基)二(二-三癸基亚磷酸酰氧基)钛酸酯[tetra(2,2-diallyloxymethyl-1-butyl)bis(di-tridecylphosphate)titanate]、二(二辛基焦磷酸酰氧基)钛酸乙酸酯([bis(dioctylpyrophosphate)oxyacetatetitanate]、二(二辛基焦磷酸酰氧基)钛酸乙二酯[bis(di-octylpyrophosphate)ethylenetitanate]、异丙基三(二辛基亚磷酸酰氧基)钛酸酯[isopropyltri(dioctylphosphate)titanate]、异丙基三(氮-氨基乙基氨基乙基)钛酸酯[isopropyltri(N-aminoethylaminoethyl)titanate];(3)锆金属螯合物(zirconiumchelatecompound):三乙氧基单乙酰丙酮锆(triethoxymonoacetylacetonatozirconium)、三丙氧基单乙酰丙酮锆(tri-n-propoxymonoacetylacetonatozirconium)、三异丙氧基单乙酰丙酮锆(tri-i-propoxymonoacetylacetonatozirconium)、三丁氧基单乙酰丙酮锆(tri-n-butoxymonoacetylacetonatozirconium)、三(仲丁氧基)单乙酰丙酮锆(tri-sec-butoxymonoacetylacetonatozirconium)、三(叔丁氧基)单乙酰丙酮锆(tri-t-butoxymonoacetylacetonatozirconium)、二乙氧基二乙酰丙酮锆(diethoxybisacetylacetonatozirconium)、二丙氧基二乙酰丙酮锆(di-n-propoxybisacetylacetonatozirconium)、二异丙氧基二乙酰丙酮锆(di-i-propoxybisacetylacetonatozirconium)、二丁氧基二乙酰丙酮锆(di-n-butoxybisacetylacetonatozirconium)、二(仲丁氧基)二乙酰丙酮锆(di-sec-butoxybisacetylacetonatozirconium)、二(叔丁氧基)二乙酰丙酮锆(di-t-butoxybisacetylacetonatozirconium)、乙氧基三乙酰丙酮锆(monoethoxytrisacetylacetonatozirconium)、丙氧基三乙酰丙酮锆(mono-n-propoxytrisacetylacetonatozirconium)、异丙氧基三乙酰丙酮锆(mono-i-propoxytrisacetylacetonatozirconium)、丁氧基三乙酰丙酮锆(mono-n-butoxytrisacetylacetonatozirconium)、仲丁氧基三乙酰丙酮锆(mono-sec-butoxytrisacetylacetonatozirconium)、叔丁氧基三乙酰丙酮锆(mono-t-butoxytrisacetylacetonatozirconium)、四乙酰丙酮锆(tetrakisacetylacetonatozirconium)、三乙氧基单乙酰乙酸乙酯锆(triethoxymonoethylacetoacetatozirconium)、三丙氧基单乙酰乙酸乙酯锆(tri-n-propoxymonoethylacetoacetatozirconium)、三异丙氧基单乙酰乙酸乙酯锆(tri-i-propoxymonoethylacetoacetatozirconium)、三丁氧基单乙酰乙酸乙酯锆(tri-n-butoxymonoethylacetoacetatozirconium)、三(仲丁氧基)单乙酰乙酸乙酯锆(tri-sec-butoxymonoethylacetoacetatozirconium)、三(叔丁氧基)单乙酰乙酸乙酯锆(tri-t-butoxymonoethylacetoacetatozirconium)、二乙氧基二乙酰乙酸乙酯锆(diethoxybisethylacetoacetatozirconium)、二丙氧基二乙酰乙酸乙酯锆(di-n-propoxybisethylacetoacetatozirconium)、二异丙氧基二乙酰乙酸乙酯锆(di-i-propoxybisethylacetoacetatozirconium)、二丁氧基二乙酰乙酸乙酯锆(di-n-butoxybisethylacetoacetatozirconium)、二(仲丁氧基)二乙酰乙酸乙酯锆(di-sec-butoxybisethylacetoacetatozirconium)、二(叔丁氧基)二乙酰乙酸乙酯锆(di-t-butoxy-bisethylacetoacetatozirconium)、乙氧基三乙酰乙酸乙酯锆(monoethoxytrisethylacetoacetatozirconium)、单丙氧基三乙酰乙酸乙酯锆(mono-n-propoxytrisethylacetoacetatozirconium)、单异丙氧基三乙酰乙酸乙酯锆(mono-i-propoxytrisethylacetoacetatozirconium)、单丁氧基三乙酰乙酸乙酯锆(mono-n-butoxytrisethylacetoacetatozirconium)、单仲丁氧基三乙酰乙酸乙酯锆(mono-sec-butoxytrisethylacetoacetatozirconium)、单叔丁氧基三乙酰乙酸乙酯锆(mono-t-butoxy-trisethylacetoacetatozirconium)、四乙酰乙酸乙酯锆(tetrakisethylacetoacetatozirconium)、单乙酰丙酮三乙酰乙酸乙酯锆(monoacetylacetonatetrisethylacetoacetatozirconium)、二乙酰丙酮二乙酰乙酸乙酯锆(bisacetylacetonatebisethylacetoacetatozirconium)、三乙酰丙酮单乙酰乙酸乙酯锆(trisacetylacetonatomonoethylacetoacetatezirconium)。
《添加剂(H)》
在不影响本发明的功效,该感光性树脂组成物选择性地可进一步添加添加剂(H),其包含但不限于界面活性剂、填充剂、密着促进剂、架桥剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防凝集剂,或碱可溶性树脂(A)以外的其他能增加各种性质(如机械性质)的聚合物等。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该添加剂(H)中的填充剂、密着促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防凝集剂或碱可溶性树脂(A)以外的聚合物的使用量范围为10重量份以下。更佳地,该添加剂(H)中的填充剂、密着促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防凝集剂或碱可溶性树脂(A)以外的聚合物的使用量范围为6重量份以下。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该添加剂(H)中的界面活性剂的使用量范围为6重量份以下。更佳地,该添加剂(H)中的界面活性剂的使用量范围为4重量份以下。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该添加剂(H)中的架桥剂的使用量范围为100重量份以下。更佳地,该添加剂(H)中的架桥剂的使用量范围为80重量份以下。
较佳地,该界面活性剂择自于阳离子系、阴离子系、非离子系、两性、聚硅氧烷系、氟素系,或它们的组合。该界面活性剂可单独或混合使用,且该界面活性剂包含但不限于(1)聚乙氧基烷基醚类:聚乙氧基十二烷基醚、聚乙氧基硬酯酰醚或聚乙氧基油醚等;(2)聚乙氧基烷基苯基醚类:聚乙氧基辛基苯基醚或聚乙氧基壬基苯基醚等;(3)聚乙二醇二酯类:聚乙二醇二月桂酸酯或聚乙二醇二硬酸酯等;(4)山梨糖醇酐脂肪酸酯类;(5)脂肪酸改性的聚酯类及;(6)三级胺改性的聚氨基甲酸酯类。
该界面活性剂包含但不限于市售商品如KP(信越化学工业制)、SF-8427(TorayDowCorningSilicon制)、Polyflow(共荣社油脂化学工业制)、F-Top(TochemProductCo.,Ltd.制)、Megafac(大日本INK化学工业制)、Fluorade(住友3M制)、AsahiGuard、Surflon(旭硝子制)或SINOPOLE8008(中日合成化学制)等。该填充剂包含但不限于玻璃或铝等。该密着促进剂包含但不限于乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基二甲基甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷或3-巯丙基三甲氧基硅烷等。该抗氧化剂包含但不限于2,2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)或2,6-二-叔丁基苯酚等。该紫外线吸收剂包含但不限于2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯并三唑[2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole]或烷氧基二苯甲酮等。该防凝集剂包含但不限于聚丙烯酸钠等。该架桥剂包含但不限于日本环氧树脂公司制的1031S、157S-70等的环氧系化合物或树脂等。
[黑色矩阵及其制备]
本发明黑色矩阵由对如上所述的感光性树脂组成物依序施予预烤、曝光、显影及后烤处理而制得。
本发明黑色矩阵的制作,可以借由旋转涂布或流延涂布等涂布方法将该感光性树脂组成物涂布在基板上,并以减压干燥及预烤处理将溶剂去除,进而在该基板上形成一预烤涂膜。减压干燥及预烤的条件,依各成分的种类、配合比率而异,通常,减压干燥是在一小于200mmHg的压力下进行1秒至20秒,而预烤处理则是在70℃至110℃温度下进行1分钟至15分钟。预烤后,将该涂膜于指定的掩膜下曝光,然后于23±2℃的温度下浸渍于一显影剂中,历时15秒至5分钟,以将不要的部分除去而形成特定的图案。曝光所使用的光线,以g线、h线或i线等的紫外线为佳,而紫外线照射装置可为(超)高压水银灯及金属卤素灯。
本发明黑色矩阵的制作所使用的显影剂包含但不限于氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾、硅酸钠、甲基硅酸钠、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氢氧化四甲胺、氢氧化四乙胺、胆碱、吡咯、哌啶或1,8-二氮杂二环-〔5,4,0〕-7-十一烯等的碱性化合物等。较佳地,该显影剂的浓度范围为0.001wt%至10wt%;更佳地,为0.005wt%至5wt%;又更佳地,为0.01wt%至1wt%。
使用这些碱性化合物所构成的显影剂时,通常于显影后以水洗净,再以压缩空气或压缩氮气风干。接着,使用热板或烘箱等加热装置进行后烤处理,而加热温度通常为150℃至250℃。使用热板的加热时间为1分钟至60分钟,使用烘箱的加热时间为5分钟至90分钟。经过以上的处理步骤后即可形成一黑色矩阵。
本发明黑色矩阵的制作所使用的玻璃基板可以是应用于液晶显示器中的无碱玻璃、钠钙玻璃、强化玻璃(Pyrex玻璃)、石英玻璃或表面上已附着透明导电膜的玻璃等。亦可使用用于固体摄影元件等的光电变换元件基板(如:硅基板)等。
[彩色滤光片及其制备]
本发明彩色滤光片包含如上所述的黑色矩阵。
本发明彩色滤光片可依照一般制备的方式制得,例如:可先于一基板上形成上述的黑色矩阵,再将各色(主要包含红、绿及蓝三色)以相同的形成方式形成于该基板上,进而得到一彩色滤光片的像素着色层。其次,在220℃至250℃的真空下,于该像素着色层上形成一氧化铟锡(简称ITO)蒸镀膜,必要时,对ITO蒸镀膜施行蚀刻暨布线,接着,再涂布液晶配向膜用聚酰亚胺,即可制得一供液晶显示器用的彩色滤光片。
[液晶显示元件及其制备]
本发明液晶显示元件包含如上所述的彩色滤光片。
本发明液晶显示元件可依照一般制备的方式制得,例如:先将上述的彩色滤光片以及一设置有薄膜晶体管(ThinFilmTransistor;简称TFT)的驱动基板彼此相对,在二片基板间介入晶胞间隙(cellgap)作对向配置,并用封止剂将该二片基板的周围部位贴合,仅留下一液晶注入孔,接着,在这些基板表面及封止剂所区分出的间隙内充填注入液晶,再封住该液晶注入孔而构成液晶晶胞(cell)。然后,在液晶晶胞的外表面,也就是说构成液晶晶胞的基板的其他侧面上,贴合偏光板,即可得到一液晶显示元件。
<实施例>
[具有不饱和基的树脂(A-1)的制备]。
<合成例1>
将100重量份的芴环氧化合物(型号ESF-300,新日铁化学制;环氧当量231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基铵、0.1重量份的2,6-二叔丁基对甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯以连续式添加方式加入至500毫升的四口烧瓶中,且入料速度控制在25重量份/分钟,该反应过程的温度维持在100℃至110℃,反应15小时,即可获得一固成分浓度为50wt%的淡黄色透明混合液。
接着,将100重量份的上述所得的淡黄色透明混合液溶于25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中,并同时添加6重量份的四氢邻苯二甲酸酐及13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐,并加热至110℃至115℃,反应2小时,即可得一酸价为98.0mgKOH/g的具有不饱和基的树脂(以下简称为A-1-1)。
<合成例2>
将100重量份的芴环氧化合物(型号ESF-300,新日铁化学制;环氧当量231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基铵、0.1重量份的2,6-二叔丁基对甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯以连续式添加方式加入至500毫升的四口烧瓶中,且入料速度控制在25重量份/分钟,该反应过程的温度维持在100℃至110℃,反应15小时,即可获得一固成分浓度为50wt%的淡黄色透明混合液。
接着,将100重量份的上述所得的淡黄色透明混合液溶于25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中,并添加13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐,在90℃至95℃下反应2小时,接着,添加6重量份的四氢邻苯二甲酸酐,并于90℃至95℃下反应4小时,即可得一酸价为99.0mgKOH/g的具有不饱和基的树脂(以下简称为A-1-2)。
<合成例3>
将400重量份的环氧化合物[型号NC-3000,日本化药(株)制;环氧当量288]、102重量份的丙烯酸、0.3重量份的对甲氧基苯酚(p-methoxyphenol)、5重量份的三苯基膦及264重量份的丙二醇甲醚醋酸酯置于反应瓶中,该反应过程的温度维持在95℃,反应9小时,即可获得一酸价为2.2mgKOH/g的中间产物。接着,加入151重量份的四氢邻苯二甲酸酐(tetrahydrophthalicanhydride),在95℃下反应4小时,即可得一酸价为102mgKOH/g,且重量平均分子量为3,200的具有不饱和基的树脂(以下简称为A-1-3)。
[其他碱可溶性树脂(A-2)的制备]
<合成例4>
将1重量份的2,2’-偶氮二异丁腈、240重量份的丙二醇甲醚醋酸酯、20重量份的甲基丙烯酸、15重量份的苯乙烯、35重量份的甲基丙烯酸苯甲酯、10重量份的甘油单甲基丙烯酸脂及20重量份的氮-苯基马来酰亚胺置于一装有搅拌器及冷凝器的圆底烧瓶中,并使该烧瓶内部充满氮气,接着,缓慢搅伴并升温至80℃,使各反应物均匀混合并进行聚合反应4小时。接着,再将其升温至100℃,并添加0.5重量份的2,2’-偶氮二异丁腈进行1小时聚合后,即可得一其他碱可溶性树脂(以下简称为A-2-1)。
<合成例5>
将2重量份的2,2’-偶氮二异丁腈、300重量份的二丙二醇单甲醚、15重量份的甲基丙烯酸、15重量份的2-羟基丙烯酸乙酯及70重量份的甲基丙烯酸苯甲酯置于一装有搅拌器及冷凝器的圆底烧瓶中,并使该烧瓶内部充满氮气,接着,缓慢搅伴并升温至80℃,使各反应物均匀混合并进行聚合反应3小时。接着,再将其升温至100℃,并添加0.5重量份的2,2’-偶氮二异丁腈进行1小时聚合后,即可得一其他碱可溶性树脂(以下简称为A-2-2)。
[聚硅氧烷高分子(B)的制备]
<合成例6>
在一容积500毫升的三颈烧瓶中,加入丙二醇单乙醚100克,并于室温下,以一边搅拌,一边以连续添加的方式,同时加入硅烷单体的组合溶液及草酸水溶液;硅烷单体的组合溶液是将二甲基二甲氧基硅烷84克(0.7mol)及苯基三甲氧基硅烷59.4克(0.3mol)溶于80克的丙二醇单乙醚,而草酸水溶液是将0.15克草酸溶于30克水中。接着,将烧瓶浸渍于30°C的油浴中并搅拌30分钟,然后于30分钟内将油浴升温至120°C,待溶液的内温达到105°C时,持续加热搅拌进行聚缩合2小时后,可得聚硅氧烷高分子(B-1)。反应中甲醇及水等副产物分别被馏出73克及16克。
<合成例7>
在一容积500毫升的三颈烧瓶中,加入二甲基二甲氧基硅烷78.0克(0.65mol)、苯基三甲氧基硅烷63.4克(0.32mol)、3-丁二酸酐丙基三乙氧基硅烷(商品名为“GF-20”)9.1克(0.03mol)及丙二醇单乙醚200克,并于室温下一边搅拌一边于30分钟内添加草酸水溶液(0.25克草酸/75克H2O)。接着,将烧瓶浸渍于30°C的油浴中并搅拌30分钟,然后于30分钟内将油浴升温至120°C,待溶液的内温达到100°C时,持续加热搅拌进行聚缩合5小时。将溶液降至室温后,加入丙酮2000克并持续搅拌30分钟,经由过滤方式将沉淀物取出后,再利用蒸馏方式将溶剂移除,可得聚硅氧烷高分子(B-2)。
<合成例8>
在一容积500毫升的三颈烧瓶中,加入丙二醇单乙醚100克,并于室温下,以一边搅拌,一边以连续添加的方式,同时加入硅烷单体的组合溶液及草酸水溶液;硅烷单体的组合溶液是将甲基三甲氧基硅烷81.6克(0.6mol)及苯基三甲氧基硅烷79.2克(0.4mol)溶于80克的丙二醇单乙醚,而草酸水溶液是将0.10克草酸溶于30克水中。接着,将烧瓶浸渍于30°C的油浴中并搅拌30分钟,然后于30分钟内将油浴升温至120°C,待溶液的内温达到105°C时,持续加热搅拌进行聚缩合2小时后,可得聚硅氧烷高分子(B-3)。反应中甲醇及水等副产物分别被馏出96克及24克。
[感光性树脂组成物的制备]
<实施例1>
将100重量份的合成例1的具有不饱和基的树脂(A-1-1)、125重量份的合成例6的聚硅氧烷高分子(以下简称B-1)、150重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(以下简称C-1)、30重量份的乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9氢-咔唑-3-取代基]-1-(氧-乙酰肟)(以下简称D-1)、20重量份的2-苄基-2-氮,氮-二甲氨-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮(以下简称D-2)、600重量份的C.I.pigmentblack7(三菱化学制,商品名MA100)的黑色颜料(F-1)、50重量份的三(乙酰乙酸乙酯)铝(G-1)、2000重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(以下简称E-1),及500重量份的3-乙氧基丙酸乙酯(以下简称E-2),以摇动式搅拌器形成均匀溶液状态,即可制得一本发明感光性树脂组成物。
<实施例2至11及比较例1至7>
实施例2至11及比较例1至7以与实施例1相同的步骤来制备该感光性树脂组成物,不同的地方在于:改变原料的种类及其使用量,该原料的种类及其使用量如表1及表2所示。这些感光性树脂组成物以下记各检测项目进行评价,所得结果如表1及表2所示。
[黑色矩阵的制备]
<应用例1>
将实施例1的感光性树脂组成物置入一涂布机(购自于新光贸易;型号为MS-A150),以旋转涂布的方式涂布在一100mm×100mm的玻璃基板上,再以100mmHg进行减压干燥,历时5秒钟,然后于烘箱中,以85℃下预烤3分钟,以形成一膜厚约为2.2μm的预烤涂膜。
接着,将上述预烤涂膜于指定的掩膜下,以紫外光(曝光机型号为AG500-4N;M&RNanoTechnology制)200mJ/cm2照射,接着浸渍于23℃的显影剂(0.04%氢氧化钾)2分钟,并以纯水洗净后,再于烘箱中,以200℃后烤40分钟,即可形成一膜厚为2.0μm的黑色矩阵。
<应用例2至11及应用比较例1至7>
应用例2至11及应用比较例1至7以与应用例1相同的步骤来制备黑色矩阵,不同的地方在于:改变感光性树脂组成物的种类及其使用量如表1及表2所示。
【评价项目】
1.经时稳定性测量:
将实施例1至11及比较例1至7的感光性树脂组成物置于25℃环境下,测量其初始粘度值(μ0),于一个月后再测量这些组成物的粘度值(μ1),并依下列公式计算。
粘度变化率=∣μ0-μ1∣/μ0×100%
μ0:初始粘度值;
μ1:放置一个月后粘度值;
○:变化≦5%;
△:5%<变化≦8%;及
X:变化>8%。
2.经加热后的密着性测量:
将实施例1至11及比较例1至7的感光性树脂组成物置入一涂布机(型号为MS-A150;购自于新光贸易),以旋转涂布的方式涂布在一100mm×100mm的玻璃基板上,再以100mmHg进行减压干燥,历时5秒钟,然后于烘箱中,以100℃下预烤2分钟,以形成一膜厚约为1.2μm的预烤涂膜。
接着,以紫外光(曝光机型号为AG500-4N;M&RNanoTechnology制)100mJ/cm2照射,接着浸渍于23℃的显影剂(0.04%氢氧化钾)30秒至120秒,并以纯水洗净后,再于烘箱中,以240℃后烤30分钟,即可形成一膜厚为1.0μm的黑色矩阵,再于烘箱中以300℃烘烤60分钟。
接着,根据JIS.5400(1900)8.5密着性试验法中的8.5.2的基盘目法测定,将上述黑色矩阵,以小刀割成100个基盘目,再以胶带沾粘后撕下,观察基盘目残留的情形,以下述基准作为评价:
◎:5B;
○:4B;
△:3B至2B;及
X:1B至0B;
5B,无任何基盘目脱落;
4B,0%<脱落的基盘目数量≦5%;
3B,5%<脱落的基盘目数量≦15%;
2B,15%<脱落的基盘目数量≦35%;1B,35%<脱落的基盘目数量≦65%;0B,65%<脱落的基盘目数量≦100%。
表1
C-1:二季戊四醇六丙烯酸酯;C-2:二季戊四醇四丙烯酸酯;D-1:乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9氢-咔唑-3-取代基]-1-(氧-乙酰肟);D-2:2-苄基-2-氮,氮-二甲氨-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮;E-1:丙二醇甲醚醋酸酯;E-2:3-乙氧基丙酸乙酯;F-1:商品名MA100(三菱化学制);F-2:商品名MA230(三菱化学制);G-1:三(乙酰乙酸乙酯)铝;G-2:二异丙氧基二乙酰丙酮锆;G-3:二丁氧基二(三乙醇胺)钛;G-4:异丙基三(十二烷基苯磺酰基)钛酸酯;G-5:四异丙基二(二辛基亚磷酸酰氧基)钛酸酯。
表2
C-1:二季戊四醇六丙烯酸酯;C-2:二季戊四醇四丙烯酸酯;D-1:乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9氢-咔唑-3-取代基]-1-(氧-乙酰肟);D-2:2-苄基-2-氮,氮-二甲氨-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮;E-1:丙二醇甲醚醋酸酯;E-2:3-乙氧基丙酸乙酯;F-1:商品名MA100(三菱化学制);F-2:商品名MA230(三菱化学制);G-1:三(乙酰乙酸乙酯)铝;G-2:二异丙氧基二乙酰丙酮锆;G-3:二丁氧基二(三乙醇胺)钛;G-4:异丙基三(十二烷基苯磺酰基)钛酸酯;G-5:四异丙基二(二辛基亚磷酸酰氧基)钛酸酯。
由表1的结果可知,实施例1至11的感光性树脂组成物通过同时使用具有不饱和基的树脂(A-1)、聚硅氧烷高分子(B)及金属螯合物(G),使该感光性树脂组成物具有较佳的经时稳定性,同时,由其所形成的黑色矩阵经加热后具有较佳的密着性。
比较例1的感光性树脂组成物未使用聚硅氧烷高分子(B),因此,由该感光性树脂组成物所形成的黑色矩阵经加热后不具有较佳的密着性。
比较例2的感光性树脂组成物未使用具有不饱和基的树脂(A-1),因此,由该感光性树脂组成物所形成的黑色矩阵经加热后不具有较佳的密着性。
比较例3的感光性树脂组成物未使用金属螯合物(G),因此,该感光性树脂组成物不具有较佳的经时稳定性,同时,由其所形成的黑色矩阵经加热后不具有较佳的密着性。
比较例4至5及比较例7的感光性树脂组成物未同时使用具有不饱和基的树脂(A-1)、聚硅氧烷高分子(B)及金属螯合物(G),因此,该感光性树脂组成物不具有较佳的经时稳定性,同时,由其所形成的黑色矩阵经加热后不具有较佳的密着性。
比较例6的感光性树脂组成物未使用具有不饱和基的树脂(A-1)及聚硅氧烷高分子(B),虽该感光性树脂组成物具有较佳的经时稳定性,但由其所形成的黑色矩阵经加热后不具有较佳的密着性。
综上所述,本发明感光性树脂组成物通过同时使用具有不饱和基的树脂(A-1)、聚硅氧烷高分子(B)及金属螯合物(G),使该感光性树脂组成物具有较佳的经时稳定性,同时,由其所形成的黑色矩阵经加热后具有较佳的密着性,所以确实能达成本发明的目的。
Claims (11)
1.一种感光性树脂组成物,其特征在于包含:
碱可溶性树脂(A),包括具有不饱和基的树脂(A-1),且该具有不饱和基的树脂(A-1)由一混合物进行聚合反应所制得,而该混合物含有具有至少两个环氧基的环氧化合物(i),以及具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(ii);
聚硅氧烷高分子(B);
含乙烯性不饱和基的化合物(C);
光起始剂(D);
溶剂(E);
黑色颜料(F);及
金属螯合物(G),
且该聚硅氧烷高分子(B)由硅烷单体或硅烷单体与聚硅氧烷的组合进行加水分解及部分缩合而制得,其中该硅烷单体包含由式(IV)所示的硅烷单体:
(R21)mSi(OR22)4-m式(IV)
m表示1至3的整数;
每个R21表示氢、C1至C10的烷基、C2至C10的烯基或C6至C15的芳香基;该烷基、烯基及芳香基中任一者可选择地含有取代基,每个R21为相同或不同;其中至少一个R21是3-戊二酸酐丙基、3-丁二酸酐丙基,或2-丁二酸酐乙基;
R22表示氢、C1至C6的烷基、C1至C6的酰基或C6至C15的芳香基;该烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地含有取代基,每个R22为相同或不同。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,该具有不饱和基的树脂(A-1)与该聚硅氧烷高分子(B)的重量比值范围为0.8至10.0。
3.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(I)所示:
于式(I)中,R1、R2、R3及R4分别为相同或不同,且表示氢、卤素、C1至C5的烷基、C1至C5的烷氧基、C6至C12的芳基,或C6至C12的芳烷基。
4.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,该具有至少两个环氧基的环氧化合物(i)由式(II)所示:
于式(II)中,R5至R18分别为相同或不同,且表示氢、卤素、C1至C8的烷基或C6至C15芳香基;n表示0至10的整数。
5.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,该金属螯合物(G)由式(III)所示:
(R29)pM(OR30)j-p式(III)
于式(III)中,M表示金属;该R29表示螯合基;该R30表示C2至C5的烷基或C6至C20的芳香基;p表示1至j的整数;j表示金属的价数;当R29或R30为多个,每个R29或每个R30为相同或不同。
6.根据权利要求5所述的感光性树脂组成物,其特征在于,该金属择自于铝、钛或锆;该螯合基择自于β-二酮类螯合基、β-酮酯类螯合基、胺类螯合基、磺酸类螯合基或磷酸类螯合基。
7.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,基于该碱可溶性树脂(A)的使用量总和为100重量份,该具有不饱和基的树脂(A-1)的使用量范围为30至100重量份;该聚硅氧烷高分子(B)的使用量范围为5至150重量份;该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量范围为5至220重量份;该溶剂(E)的使用量范围为500至5000重量份;该黑色颜料(F)的使用量范围为50至800重量份;该金属螯合物(G)的使用量范围为1至50重量份。
8.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,基于该含乙烯性不饱和基的化合物(C)的使用量总和为100重量份,该光起始剂(D)的使用量范围为2至120重量份。
9.一种黑色矩阵,其特征在于,对由根据权利要求1至8中任一项所述的感光性树脂组成物依序施予预烤、曝光、显影及后烤处理而制得。
10.一种彩色滤光片,其特征在于,包含根据权利要求9所述的黑色矩阵。
11.一种液晶显示元件,其特征在于,包含根据权利要求10所述的彩色滤光片。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW101114141A TWI446111B (zh) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及其液晶顯示元件 |
TW101114141 | 2012-04-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103376648A CN103376648A (zh) | 2013-10-30 |
CN103376648B true CN103376648B (zh) | 2016-03-30 |
Family
ID=49379247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310119560.4A Active CN103376648B (zh) | 2012-04-20 | 2013-04-08 | 感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片及液晶显示元件 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9223206B2 (zh) |
CN (1) | CN103376648B (zh) |
TW (1) | TWI446111B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI459137B (zh) * | 2012-05-10 | 2014-11-01 | Chi Mei Corp | 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用 |
TWI484296B (zh) * | 2013-12-03 | 2015-05-11 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置 |
JP6196897B2 (ja) | 2013-12-05 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び錯体 |
TWI514073B (zh) * | 2014-06-11 | 2015-12-21 | Chi Mei Corp | Photosensitive resin composition and its application |
WO2016014536A1 (en) | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Sabic Global Technologies B.V. | High heat monomers and methods of use thereof |
TWI559078B (zh) * | 2014-08-07 | 2016-11-21 | 奇美實業股份有限公司 | 感光性樹脂組成物及其應用 |
KR102329586B1 (ko) * | 2014-11-21 | 2021-11-22 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101082771A (zh) * | 2006-05-30 | 2007-12-05 | 奇美实业股份有限公司 | 彩色滤光片用感光性树脂组成物 |
CN101583489A (zh) * | 2007-01-16 | 2009-11-18 | 住友电木株式会社 | 绝缘树脂片层叠体、层叠该绝缘树脂片层叠体而成的多层印刷布线板 |
US7629086B2 (en) * | 2001-02-09 | 2009-12-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording and photosensitive medium for volume hologram recording |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI279644B (en) | 2004-01-19 | 2007-04-21 | Chi Mei Corp | Photo-sensitive resin composite for black matrix |
US20080220372A1 (en) * | 2006-03-23 | 2008-09-11 | Chun-Hsien Lee | Photosensitive resin composition for black matrix |
JP4853228B2 (ja) * | 2006-10-25 | 2012-01-11 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法 |
JP4680867B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2011-05-11 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
TWI428698B (zh) * | 2011-11-25 | 2014-03-01 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及其液晶顯示元件 |
-
2012
- 2012-04-20 TW TW101114141A patent/TWI446111B/zh active
-
2013
- 2013-03-13 US US13/798,541 patent/US9223206B2/en active Active
- 2013-04-08 CN CN201310119560.4A patent/CN103376648B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7629086B2 (en) * | 2001-02-09 | 2009-12-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording and photosensitive medium for volume hologram recording |
CN101082771A (zh) * | 2006-05-30 | 2007-12-05 | 奇美实业股份有限公司 | 彩色滤光片用感光性树脂组成物 |
CN101583489A (zh) * | 2007-01-16 | 2009-11-18 | 住友电木株式会社 | 绝缘树脂片层叠体、层叠该绝缘树脂片层叠体而成的多层印刷布线板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103376648A (zh) | 2013-10-30 |
TWI446111B (zh) | 2014-07-21 |
US9223206B2 (en) | 2015-12-29 |
TW201344357A (zh) | 2013-11-01 |
US20130277627A1 (en) | 2013-10-24 |
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