CN103361690A - Pcb的盲孔清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种PCB的盲孔清洗方法,包括:在制作PCB的过程中,采用包含氧氟自由根、二氧化碳自由根、氟自由根的等离子体清除所述盲孔内的胶渣。通过等离子体去除孔径较小、化学药液难以进入的盲孔内的胶渣,盲孔的后续的电镀过程中,形成均匀的镀层,从而提高了盲孔上电镀的金属层的导通性,避免了废品的产生。

Description

PCB的盲孔清洗方法
技术领域
本发明涉及加工印刷电路板PCB的孔的技术领域,具体而言,涉及PCB的孔加工过程中,PCB的盲孔清洗方法。
背景技术
在高密度互连印制电路板(HDI)的制作过程中,通常采用盲孔或埋孔实现两层的互连。
在电路板制作盲孔的过程中,先在电路板上的盲孔位置处开窗,再通过激光在该位置上加工出的盲孔。加工出盲孔后会在孔壁和孔底上形成胶渣。由于盲孔的孔径较小,通常在150um以下,在激光加工后,盲孔的形状呈凹坑形状。
电路板上的盲孔在激光加工后,会通过化学药液清洗。清洗过后,对电路板的盲孔的孔壁镀金属层,实现电路板的层之间的导通。
在上述的清洗过程中,由于盲孔的孔径较小,化学药液存在张力,很难完全进入到盲孔的孔内,无法浸泡盲孔的孔壁和孔底,存在不能将胶渣完全冲洗干净的问题。
孔壁上没有被冲洗掉的胶渣,会降低后续在孔壁上所镀的金属层导通性,从而产生废品。
发明内容
本发明旨在提供一种PCB的盲孔清洗方法,以解决由于胶渣没有去除,导致镀层的电导通性较差的问题。
在本发明的实施例中,提供了一种PCB的盲孔清洗方法,包括:在制作PCB的过程中,采用包含氧氟自由根、二氧化碳自由根、氟自由根的等离子体清除所述盲孔内的胶渣。
通过等离子体去除孔径较小、化学药液难以进入的盲孔内的胶渣,盲孔的后续的电镀过程中,形成均匀的镀层,从而提高了盲孔上电镀的金属层的导通性,避免了废品的产生。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了实施例的流程图;
图2示出了实施例中开窗后的PCB剖视图;
图3示出了实施例中形成盲孔后的PCB剖视图;
图4示出了实施例中去除盲孔内胶渣的PCB剖视图;
图5示出了实施例中清洗盲孔后的PCB剖视图;
图6示出了实施例中盲孔内的孔壁镀铜后的PCB剖视图。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本发明。
在该实施例中,采用在制作PCB的过程中,采用包含氧氟自由根、氟自由根的等离子体清除所述盲孔内的胶渣。
将PCB放置在包含氧氟自由根、氟自由根的等离子体中,等离子体会和胶渣反应,生成挥发性物质,从而去除盲孔内的胶渣。
本方法的实施例通过等离子体去除孔径较小、化学药液难以进入的盲孔内的胶渣,从而提高了后续在盲孔上电镀的金属层的导通性,避免了次品的产生。
参见图1,优选地,本方法包括以下步骤:
S11:在PCB的外层铜箔的孔位置上开窗;
参见图2所示的PCB的侧面示意图,在PCB的介质层23的一面,具有铜箔层21,在介质层23的另一面,具有铜箔层22。在铜箔层21的位置上开窗,获得窗口24。
S12:采用激光在窗口位置烧蚀介质层;
参见图3,通过激光在窗口24处烧蚀介质层,形成盲孔,在盲孔的孔壁和孔底位置上,形成胶渣25。
S13:将PCB放置在包含氧氟自由根、氟自由根的等离子体的空间内;
在封闭的空间内,采用射频加热氧气和四氟化碳气体混合的气体,生成包含氧氟自由根、二氧化碳自由根、氟自由根的等离子体。
优选地,混合的气体的气流量为3.1-3.5L/min;氧气和四氟化碳气体的体积比为90%-95%:5%-10%,优选体积比为93:7。
优选地,通过在3500W-4500W的射频功率之间加热混合后的气体,形成包含氧氟自由根、氟自由根、二氧化碳自由根的等离子体,具体反应如下:
Figure BSA00000696559400041
优选地,PCB放置的该封闭的空间内16min至20min,该空间的压力为10-3Pa、温度为-2摄氏度至1摄氏度。胶渣的化学式为:
胶渣与等离子体发生化学反应,生成挥发性的水、二氧化碳、氟化氢。
具体反应过程如下:
Figure BSA00000696559400043
S14:采用微蚀液清洗PCB的盲孔;
参见图4,清除盲孔上的胶渣25后,盲孔内还具有沉淀的胶渣,也称为黑膜26,可采用由硫酸钠SPS、硫酸、水按照份数比7∶3∶90组成的溶液进行清洗。
S15:对PCB的盲孔采用酸洗;
采用浓度为2.5%-3%硫酸水溶液清洗所述盲孔。参见图5,酸洗后的盲孔内,孔壁和孔底光洁,没有胶渣和黑膜的残留。
S16:对盲孔的孔壁上镀铜。
参见图6,对清洗后的盲孔的孔壁上镀铜,形成具有铜层的孔壁27。
通过上述的过程,可有效地去除胶渣,通过清洗的步骤可将盲孔清洗干净,形成光滑的孔壁。在后续的镀铜过程中,在孔壁上形成均匀的电连通性良好的镀层。
采用本发明实施例中的步骤,可有效去除盲孔内的胶渣,形成光滑的镀层。即使是孔径小于0.15mm的盲孔,采用本发明实施例中的步骤,也同样可起到有效去除胶渣,形成光滑镀层的效果。
通过采用本发明的步骤,在去除胶渣、并清洗后的盲孔孔壁上形成的镀层,可使介质层的相邻金属层获得良好的电导通性,提高了产品的质量,降低了次品率。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种PCB的盲孔清洗方法,其特征在于,包括:
在制作PCB的过程中,采用包含氧氟自由根、二氧化碳自由根、氟自由根的等离子体清除所述盲孔内的胶渣。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述等离子体由氧气和四氟化碳气体混合的气体按照93∶7的体积比通过射频加热获得。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述混合的气体的气流量为3.1-3.5L/min。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述射频的功率为3500W-4500W。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述PCB在由所述等离子体构成的空间内放置16min至20min;
所述空间的压力为10-3Pa、温度为-2摄氏度至1摄氏度。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述胶渣的化学式为:
Figure FSA00000696559300011
所述清除的过程包括:氧氟自由根、二氧化碳自由根和氟自由根与所述胶渣发生化学反应,生成水、氟化氢、二氧化碳。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述盲孔的孔径小于0.15mm。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:采用微蚀液清洗所述盲孔后,再对所述盲孔酸洗。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述微蚀液由硫代硫酸钠SPS、硫酸、水按照份数比7∶3∶90组成;
所述酸洗是采用硫酸浓度为0.25%-3%的水溶液清洗所述盲孔。
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