CN103279216A - 显示装置、电子设备和显示装置制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示装置、电子设备和显示装置制造方法。提供了一种低成本的显示装置，其可以精确地检测出手指所触摸的位置。显示装置通过具有在可导电的第一基板和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件来显示图像，并通过具有第二基板侧上形成的导电阻抗表面来检测接触体所触摸的接触位置。该显示装置包括：线性化图案部分，所述线性化图案部分形成在第一基板上，包括能够检测导电阻抗表面上的电流的多个电极；以及导电构件，所述导电构件将线性化图案部分与第二基板上的导电阻抗表面电连接。

Description

显示装置、电子设备和显示装置制造方法

本申请是中国发明专利申请的分案申请，原案的发明名称是“显示装置、液晶显示装置、电子设备和显示装置制造方法”，原案的申请号是200910134809.2，原案的申请日是2009年4月9日。

相关申请的交叉引用

该申请基于并要求于2008年4月9日提交的日本专利申请第2008-101967号的权益和优选权，通过引用，其公开被完全合并于此。

技术领域

本发明涉及一种显示装置、液晶显示装置、电子设备以及显示装置制造方法。更具体来说，本发明涉及一种设置有能够检测出手指或笔触摸的位置的触摸传感器的显示装置等。

背景技术

触摸传感器是一种用于检测出手指或笔触摸的位置的装置，它通常与诸如液晶显示装置（LCD）、等离子体显示装置（PDP）等的显示装置结合使用。

触摸传感器用于诸如计算机的键盘和鼠标等的人-机接口中的一个。通过用诸如人的手指或笔的接触体来直接触摸诸如显示装置的屏幕上的按钮图像的指定的位置，将触摸传感器的输出信号产生到计算机，并且输出信号控制设备或控制显示装置的显示内容。当前将具有触摸传感器的显示器（下文中被称作触摸面板）实际使用到便携式信息终端、售票机、自动取款机、汽车导航系统、复印机等中。

模拟电容耦合型、电阻膜型、红外型、超声波型和电磁感应型为公知的触摸传感器的类型。在这些类型之中，模拟电容耦合型被进一步分类为投影电容型和表面电容型。

表面电容型触摸传感器被构造为具有透明基板、形成在其上的均匀的透明导电膜、以及形成在均匀的透明导电膜上的薄绝缘膜。

当驱动触摸传感器时，从透明导电膜的四个角施加AC电压。当用手指触摸触摸传感器时，因为在所触摸的表面和手指之间形成了电容，所以在手指中有小电流流动。电流从膜的每个角流向所触摸的点。

随后，控制器获得来自每个角的电流的比率，并计算出所触摸位置的坐标。关于表面电容型触摸传感器的技术，日本未审专利公开第56-500230号（专利文件1）中公开了一种基本构思的装置。

然而，当只将AC电压从四个角施加到透明导电膜时，透明导电膜上分布的电场线变得弯曲且非线性。因此，不能精确地检测出手指或笔所触摸的位置。在专利文件1和日本专利第3121592号（专利文件2）中公开了克服这样问题的技术。

这些文件提及透明导电膜的外周上设置的线性化图案。电场从设置在外周的每边中的线性化图案向着相对边延伸，并且电场强度在与外周的相应边垂直的方向上变得恒定。即，关于透明导电膜上的电势分布，形成了与外周的每边平行的等势线，并且等势线的节距(pitch)变得均匀且线性。因此，透明导电膜上的电势分布和对应的手指所触摸的位置之间的关系可以被简化。

专利文件1公开了一种通过丝网印刷（silk screening printing）技术将导电部分添加在电阻性表面（下文中被称作导电阻抗表面）上的结构（专利文件1的第5页左下部的第7行至第12行，以及专利文件1的图5）。

另外，还公开了一个示例，该示例将导电部分布置成几何图案，并重复地校正示出了部分之间的电阻网络的等时线等式（isochroneequation）的系统，以得到最佳的几何形状（专利文件1的第5页左下部的第13行至第18行，以及专利文件1的图6）。

采用以上的方法，在导电阻抗表面上，平面上的任意点的电流密度和其方向变得均匀，由此提供了产生线性电场的电阻性表面。

另外，专利文件2公开了一个示例，该示例提供了沿着对向基板侧的位置检测导电膜（下文中被称作位置检测摸）的边缘的线性化图案，用于使电场线均匀（专利文件2的第0017段，以及专利文件2的图5）。此外，在专利文件2的示例中，位置检测膜的层形成在对向基板上，并且线性化图案的层进一步形成在位置检测膜的层上（专利文件2的图7）。

同时，在CMC publishing有限公司2004年12月1日出版的由YujiMITANI指导的“Technologies and Development of Touch Panels”的第54页至第64页（非专利文件1）中公开了关于模拟电容耦合型的最新技术趋势。对于相关技术的模拟电容耦合型触摸传感器，形成在透明基板上的表面导电型触摸传感器附着在将使用的显示装置上。

然而，这样的结构使触摸传感器还设置在显示屏幕上，使得导致存在一些要克服的问题，例如，由于将触摸传感器放置在显示器上导致的装置自身的厚度增加、成本提高和显示品质的劣化。在日本未审专利公开第2003-99192号（专利文件3）和日本未审专利公开第2003-66417号（专利文件4）中公开了用于克服这样问题的技术。

专利文件3公开了一种装置，该装置通过将电流检测器设置在对向电极表面的四个角上，基于这四个角的电流来计算出所触摸位置的位置坐标，其中，对向电极表面向液晶施加电压。

专利文件4公开了一种装置，该装置包括：液晶显示（LCD）电路，其用于向透明导电膜提供显示电压或电流；位置检测电路，其用于检测从透明导电膜的多个点流出的电流；以及切换电路，其用于使对向电极和这些电路中的一个电导通。

另外，专利文件4公开了一个示例，该示例使用了对向电极表面来用作位置检测导电膜（透明导电膜）（专利文件4的第0030段），并且用于检测所施加的电压的位置的位置检测电极被形成在位置检测导电膜的四个角上。除此之外，专利文件4公开了沿着对向电极表面的周边形成多个位置检测电极的示例。

采用专利文件3和4的技术，用于LCD驱动电路的透明导电膜或公共（COM）电极用作表面电容型触摸传感器的透明导电膜，使得不需要向显示装置另外提供表面电容型触摸传感器。结果，可以克服诸如装置自身的厚度增加、成本提高和显示品质劣化的问题。

然而，专利文件3和4中公开的显示装置仍然保留着如下的问题。

即，虽然专利文件3和4被描述为利用对向电极表面作为检测位置的透明导电膜，以克服诸如装置自身的厚度增加和成本提高的问题，但是对用于形成线性化图案的方法和特定结构没有叙述。

因此，专利文件3和4中公开的显示装置适于减小重量、尺寸和厚度，而不能正确地检测出手指或笔所触摸的位置。

同时，如在专利文件2中叙述的，根据相关技术的用于形成线性化图案的方法是导电膏的丝网印刷等。对于这样的方法，必须增加用于形成线性化图案的步骤，并且需要提供诸如丝网印刷装置的特定的制造装置。

另外，用于线性化图案的导电膏通常由诸如银的贵金属的精细粉末制成，从而需要这样昂贵的材料。

结果，如果简单地组合专利文件3和4的技术以及专利文件2的技术，以在对向电极上形成线性化图案，则制造显示装置的成本提高。

发明内容

本发明被设计成克服上述技术的问题。因此，本发明的示例性目的是提供可以正确地检测出所触摸位置，并可以以低成本并且以小且薄型形成的显示装置等。

为了实现前述示例性目的，根据本发明的示例性方面的显示装置是通过能够执行在第一基板和第二基板之间密封的液晶的电光响应的多个显示驱动元件来显示图像的显示装置。所述显示装置包括：

第一基板，在所述第一基板上形成线性化图案部分、显示驱动元件的控制部分、和它们的布线；

第二基板，所述第二基板具有形成在其上的导电阻抗表面，检测在多个点和接触体所触摸的点之间流动的电流值，并检测接触位置；所述第一基板与所述第二基板上的所述导电阻抗表面相对，其中，在所述第一基板上形成线性化图案部分、显示驱动元件的控制部分、和它们的布线；

导电构件，所述导电构件电连接所述线性化图案部分和所述导电阻抗表面。

根据本发明的另一示例性方面的显示装置制造方法是一种能够通过具有在第一基板和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件（像素）来显示图像的显示装置的制造方法，所述制造方法包括：

第一步骤，执行所述第一步骤来在所述第一基板上的像素矩阵部分的周边区域中形成包括多个线性化图案部分的电极的线性化图案部分，并且所述第一步骤与用于在所述第一基板上形成多个像素电极的步骤或者用于在所述第一基板上形成布线的步骤同时地执行；

第二步骤，所述第二步骤在所述第二基板上形成用作所述导电阻抗表面的对向电极；以及

第三步骤，所述第三步骤在所述线性化图案部分和所述对向电极之间形成导电构件，所述线性化图案部分和所述对向电极能够执行所述导电阻抗表面的电场的线性化，并能够检测所述导电阻抗表面上的电流。

附图说明

图1是示出了根据本发明的第一示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的透视图；

图2是示出了说明根据本发明的第一示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例；

图3是示出了图2的I-I'部分的不完整的剖视图；

图4是示出了根据本发明的第一示例性实施例的可以向透明导电膜的外周的四边提供均匀电压的线性化图案部分的示例的平面模型图例；

图5是示意性示出了根据本发明的第一示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的剖视图；

图6是示意性示出了根据本发明的第一示例性实施例的显示装置的主电极的电压的状态的时序图；

图7是示出了说明根据本发明的第二示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例；

图8是示出了说明根据本发明的第三示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例；

图9是示出了图8的II-II'部分的不完整的剖视图；

图10是示出了说明根据本发明的第四示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例；

图11是示出了图10的III-III'部分的不完整的剖视图；

图12是示出了根据本发明的第五示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的平面模型图例；

图13是示出了图12所示的显示装置的对向电极（counterelectrode）的电势分布的透视图；

图14是示出了根据本发明的第六示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的平面模型图例；

图15是示意性示出了图14所示的显示装置的电极的电压状态的时序图；

图16是示出了说明根据本发明的第七示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例；

图17是示出了图16的IV-IV'部分的不完整的剖视图；

图18是示出了被提供有根据相关技术的线性化图案部分的触摸面板的示例的平面模型图例；

图19是示出了图18的V-V'部分的不完整的剖视图。

具体实施方式

下文中，将参照附图，以具体的方式来描述本发明的示例性实施例的示例。

第一示例性实施例

（显示装置的整体结构）

首先，将以从整体结构到每个部分的详细结构的顺序来描述根据该示例性实施例的显示装置的特定结构。图1是示出了整体示意性结构的示例的透视图，该图示意性说明了根据本发明的第一示例性实施例的具有内置的触摸传感器的显示装置。

如图1所示，该示例性实施例的显示装置1是包括触摸传感器的液晶显示装置（LCD），该触摸传感器能够检测显示屏幕上手指或笔的触摸和其的位置坐标。

除了液晶显示装置以外，显示装置1还可以是诸如等离子体显示装置（PDP）、有机EL显示装置等的显示装置。

显示装置1被构造为包括显示装置基板10、对向基板19和偏振板（未示出）。

显示装置基板10是在其上形成有电极（与图1中的信号线（信号电极）4、扫描线（扫描电极）6、存储电容线（存储电容电极）8相对应）的基板，用于向作为显示区域中的显示元件的示例的液晶2提供电信号。在与对向基板19侧相对的显示装置基板10的表面上的显示区域中，形成像素矩阵部分。像素矩阵部分被构造具有多个信号线（图1中的参考标号4）、与信号线交叉的多个扫描线（图1中的参考标号6）、设置在扫描线之间的存储电容线（图1中的参考标号8）、以及对应于每个交叉点布置的像素电路。

像素电路具有像素开关TFT（薄膜晶体管）、存储电容和像素电极。在像素开关TFT（开关元件）中，用于控制TFT导通/截止的扫描线6连接到栅电极，用于向像素电极提供信号的信号线4连接到TFT的漏电极或源电极，并且存储电容和像素电极连接到剩余的一个（漏电极或源电极）。存储电容连接到对应的存储电容线8。

图1示意性示出了具有扫描线6和信号线4这两个的情况。然而，可以任意地设计像素电路。

在显示装置基板10中的显示区域的外周部分中，设置用于驱动像素矩阵部的扫描线驱动电路14、信号线驱动电路15和存储电容线驱动电路（未示出）。扫描线驱动电路14是用于驱动扫描线6的电路。

信号线驱动电路15是用于驱动信号线4的电路。存储电容线驱动电路是用于向存储电容线8提供电压信号的电路，并且它连接到COM电极。

这里注意的是，“显示元件控制部”可以利用像素电路、扫描线驱动电路14、信号线驱动电路15和存储电容线驱动电路等来构造。另外，信号线4、扫描线6、存储电容线8等可以被简称为“布线”（驱动布线）。除此之外，驱动布线与下面描述的触摸位置检测布线一起可以被称作“布线”，或者该布线的任一个也可以被称作“布线”。

在显示装置基板10的显示区域的外周部分的周边区域中，设置线性化图案部分30。

将在此定义线性化图案部分的参考标号。在图1中，着黑色的全部图案通常被称作线性图案部分30。在此之中，设置在与构成布线部分的布线32（触摸位置检测布线）连接的四个角（角区域）附近的四个线性化图案部分被定义为30a（第一图案部分），并且设置在外周的四边（边区域）上的其它线性化图案部分被定义为30b（第二图案部分）。

如图2所示，线性化图案部分30b（第二图案部分）还包括外周边上较长的外周边图案30b-1和内周边上较短的内周边图案30b-2。

除此之外，线性化图案部分30a（第一图案部分）不限于形成在四个角，而是可以形成在至少两个或更多个角处。

设置在显示装置基板10的四个角附近的线性化图案部分30a中的每个，通过与其连接的布线32连接到FPC（柔性印刷电路）的压接接触件（crimp contact）（未示出）。

FPC的压接接触件通过FPC38连接到外部基板20（能够负载控制电路等的控制电路基板），并且其电连接到外部基板20的单极双掷型开关21。

开关21具有通过电流检测电路13电连接到其连接中的一个的AC电压源22，并具有通过COM端（未示出）电连接到其它连接的存储电容线电路。

在位置检测时间段内，电流检测电路13检测透明导电膜12中流动的电流。与电流检测电路13检测的电流有关的信号被朝着位置检测电路（未示出）输出。位置检测电路基于来自电流检测电路13的输出信号来确定玻璃基板23上由手指（接触装置）24触摸的触摸位置。

AC电压源22通过对应的电流检测电路和线性化图案30a向透明导电膜12提供AC电压。

图2是示出了根据本发明的第一示例性实施例的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的平面模型图例。图3是沿着图2的I-I'线截取的不完整的剖视图。在所有的图中，假设平面模型图例是从对向基板（显示装置的正面）侧来观察的。

然而，注意的是，图2的平面模型图例不包含对向基板，图3的不完整的剖视图包含对向基板。在图2和此后的图中，为了通过特别将重点放在线性化图案部分30和显示装置之间的关系以及示例性实施例的特征上来提供解释，除非有任何特殊的通知，否则除了线性图案部分30以外的结构被适当地省略。

参照图2的平面模型图例和图3的不完整的剖视图，作为导电构件的示例的各向异性导体34形成在显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12之间。该各向异性导体34将显示装置基板10上的线性化图案部分30与透明导电膜12电连接（构成导电阻抗表面）。各向异性导体34的图案形成为框架形，以覆盖显示装置基板10的外周区域内设置的全部线性化图案部分30。

各向异性导体34是其中分散有通过向塑料涂覆诸如比如镍或金的金属而获得的精细颗粒或者诸如镍的金属颗粒的绝缘粘合剂（adhesive）。当各向异性导体34插入在两个基板的电极之间，并且向其施加热/压力时，各向异性导体34的金属颗粒电连接电极中的每个。这样使得可以将顶部和底部上的电极电连接，可以使相邻的像素绝缘，并可以粘附性地耦合顶部电极和底部电极。

如随后将参照图5所描述的，用与像素电极5相同的层来形成线性化图案部分30。如图5所示，像素电极5包括层压层“ITO40/Al42”，该层压层“ITO40/Al42”由例如Al（铝）42和堆叠在Al（铝）42上的ITO（氧化铟锡：透明导电膜）40形成。

类似地，如图3所示，线性化图案部分30包括层压层“ITO40/Al42”，该层压层“ITO40/Al42”由例如Al（铝）42和堆叠在Al（铝）42上的ITO（透明导电膜）40形成。

现在，将描述通过线性化图案部分30实现的透明导电膜中的局部电阻减小的效应。

通常，与构成阻抗表面的透明导电膜的电阻相比，具有线性化图案部分30的区域的电阻更低（图3所示的低电阻部分）。

具有线性化图案部分的区域的电阻可以被当作在其中透明导电膜的电阻和线性化图案部分的电阻并联连接的合成电阻。因此，不管线性化图案部分的电阻有多大，此电阻变得低于透明导电膜的电阻。

同时，对向基板19具有对向基板19的玻璃基板23、形成在液晶2侧的表面上的滤色器（未示出）、和形成在液晶2侧的滤色器的表面上的透明导电膜12。透明导电膜12是由ITO（氧化铟锡）形成的对向电极，其包括导电阻抗表面。

另外，在玻璃基板23的外表面上设置偏振板（未示出）。液晶2是在显示装置基板10和对向基板19之间提供的能够执行电光响应的显示元件（像素）的示例。液晶2由诸如作为密封件的示例的密封剂36的密封装置来密封。

线性化图案部分30（30a、30b）可以使阻抗表面上的电场线的分布均匀。已经将线性化图案部分30设计为各种类型，图2示出了其示例。在可以实现理想线性的电场线的分布中，直的等势线可以以相等的间隔来分布。

现在，将图2所示的第一示例性实施例的结构与设置有专利文件2等中叙述的相关技术的线性化图案部分的触摸面板的结构相比较。

图18是具有设置有相关技术的线性化图案部分的触摸传感器的触摸面板的平面模型图例。图19是沿着图18的V-V'线的不完整的剖视图。

参照图18和图19，作为对向基板的石英基板80被透明导电膜81覆盖。用银膏等形成的线性化图案部分82形成在透明导电膜81上的外周。

同时，采用图2所示的第一示例性实施例，在没有显示装置基板形成工艺中的附加步骤的情况下，在显示装置基板10上形成线性化图案部分30。

通过电连接显示装置基板上的线性化图案部分和对向基板的导电阻抗表面，来使与导电阻抗表面相对的局部区域对应于线性图案部分的图案，使得导电构件可以减小与导电阻抗表面相对的局部区域的电阻。可以认为就好像是形成在显示装置基板上的线性化图案部分投影到对向基板上的导电阻抗表面上。

由于线性化图案部分30也用作对向基板的透明导电膜12上的线性化图案部分（图18中的参考标号82），因此以上的布置不需要形成这些部分。

因此，在没有在对向基板侧形成线性化图案部分的情况下，可以实现对向基板的导电阻抗表面上的线性化图案部分的相同功能。

另外，可以通过对应于线性化图案的形状来减小阻抗表面的局部区域的电阻。可以认为就好像是形成在显示装置基板上的线性化图案部分被投影到导电阻抗表面上。

除此之外，特别用于在对向基板侧形成线性化图案部分的区域变得不必要。

图2示出了线性化图案部分30的简化示例。虽然图4所示的显示装置100的线性化图案部分30a、30b比图2所示的图案更复杂，但是可以通过透明导电膜12的外周的四边提供更均匀的电压。

具体来说，图4所示的线性化图案部分30b（第二图案部分）包括内周侧上的第一短内周侧图案30b-4、比第一内周侧图案30b-4长的第二内周侧图案30b-3、比第二内周侧图案30b-3长的第三内周边图案30b-2、和沿着从内周侧朝着外周侧的每个图案的一个末端侧延伸的特定几何形状的几何形图案30b-1。线性图案部分30a（第一图案部分）通过朝着中间长长地延伸来形成。

在下面，除了图4所示的结构之外，将参照如图2中的线性化图案部分30的简化结构来提供关于操作的说明。

（操作）

现在，通过参照图1和图6来描述根据第一示例性实施例的显示装置的操作。图6是示意性示出了根据本发明的第一示例性实施例的显示装置的主电极的电压状态的时序图。

在图6中，Vc是透明导电膜（图1的参考标号12）的电压，Vg是扫描线（图1的参考标号6）的电压，并且SW是确定开关（图1的参考标号21）的状态的控制信号的电压。虽然图6示意性示出了具有两个信号线的情况，但是可以任意地设计信号线的数量。

关于驱动显示装置，显示装置具有显示驱动时间段和位置检测时间段这两个时间段。这两个时间段根据时基（time base）来划分。显示驱动时间段是写入用于使像素实现显示图像的电压的时间段。位置检测时间段是电流检测电路（图1的参考标号13）检测电流以确定手指或笔的位置和检测是否存在指点动作的时间段。

垂直消隐时间段是用于位置检测时间段。垂直消隐时间段是没有执行利用扫描线（图1的参考标号6）的扫描操作的时间段（参考图1来说明）。另外，在显示驱动时间段内，开关21将布线32连接到COM布线。同时，在位置检测时间段内，使开关21与包括电流检测电路13的AC电压源22侧导电。这种状态可以通过将图6的SW信号设置为B，即，通过将SW信号设置为高电平来实现。

在这种开关状态中（即，在图1所示的开关21的状态中），AC电压源22产生的同相位同电势的AC电压通过布线32被施加到线性化图案部分30a。在此注意的是，线性化图案部分30通过各向异性导体34电连接到透明导电膜12。

AC电压源22产生的AC电压通过电连接的线性化图案部分30a被施加到透明导电膜12的四个角附近的区域。在图6的位置检测时间段内，透明导电膜12的电压被表示为Vc。

如所描述的，从透明导电膜12的四个角附近均匀地提供AC电压。当通过作为接触装置的示例的手指24触摸LCD的表面时，在与所触摸部分对应的区域中，在手指24和透明导电膜12之间形成电容25。此时，用户的电势通过手指24接地，使得在手指24和AC电压源22之间产生电势差。由此，电流穿过电容25从所触摸的位置通过透明导电膜12流向四个角的附近。

同时，虽然线性化图案部分30b中的每个孤立地在显示装置基板10上，但是它们中的每个与各向异性导体34接触并通过各向异性导体34电连接到透明导电膜12。

线性化图案部分30b减小了透明导电膜12的对应区域内的电阻。因此，即使在与所触摸位置对应的区域内的透明导电膜12的电势由于手指24触摸LCD表面时造成的电容耦合而变低，透明导电膜12的外周区域也可以保持为相同的电势。

在透明导电膜12的四个角附近，相对于AC电压源22在外周区域内产生压降。然而，通过线性化图案部分30b等，调节从透明导电膜12的四个角附近到外周区域的任意点的电阻，以使外周区域的任意点处的压降均匀。

通过将设置有线性化图案部分30b的低电阻区域和没有设置线性化图案部分30b的高电阻区域组合，调节从四个角附近的区域到相邻边上的任意点的电阻。

此时，计算与四个电流检测电路13检测到的电流Ia、Ib、Ic和Id对应的信号，以检测手指触摸的存在和触摸的位置坐标（x,y）。

计算的示例可以被表示为下面的表达式1和表达式2。

x=(Ic+Id)/(Ia+Ib+Ic+Id)k₁+k₂-----------表达式1

y=(Ib+Ic)/(Ia+Ib+Ic+Id)k₁+k₂-----------表达式2

这里注意的是，“x”是所触摸位置的X坐标，“y”是所触摸位置的Y坐标。另外，“k₁”和“k₂”是恒量，Ia、Ib、Ic和Id是四个电流检测电路13检测到的电流。

如上所述，在位置检测时间段内，透明导电膜12用作静态电容触摸传感器的透明导电膜。

（制造方法）

接着，将参照图5来描述作为具有上述结构的显示装置的制造方法（显示装置制造方法）的各种处理流程。图5是示意性示出了用于描述根据本发明的第一示例性实施例的显示装置制造方法的显示装置的示例的剖视图。虽然在图5中示出了黑矩阵(black matrix)58和保护层（overcoat layer）54，但是在其它图中省略了黑矩阵58和保护层54。

根据该示例性实施例的显示装置制造方法指示一种结构，该结构可以通过具有形成在可导电的第一基板和第二基板之间、能够执行电光响应的显示元件来执行显示，并且可以通过具有形成在第二基板侧的导电阻抗表面来检测接触体所触摸的接触位置。

作为基本结构，显示装置制造方法可包括：第一步骤，该步骤在第一基板上形成包括多个电极的线性化图案部分，其中，所述多个电极能够执行导电阻抗表面上的电场的线性化，并能够检测导电阻抗上的电流；第二步骤，该步骤在第二基板上形成用作导电阻抗表面的对向基板；以及第三步骤，该步骤在线性化图案部分和对向电极之间形成导电构件。

这里注意的是，当电压从四个角的附近施加到透明导电膜时，导电阻抗表面是其中电场曲线分布（电势分布）形成在透明导电膜上的表面。

此外，以使等势线之间的间隔变均匀（以保持电场的线性和正交）的方式，电场的线性化将形成与外周的每边平行的等势线。

因此，通过利用线性图案部分，变得可以执行导电阻抗表面的电场的线性化。

另外，可以与在第一基板上形成像素电极的步骤或者在第一基板上形成布线的步骤同时地执行第一步骤。

除此之外，第一步骤可以包括用于形成导电膜、执行PR和执行蚀刻的一系列步骤。

更具体来说，将参照低温多晶硅TFT的情况来描述显示装置基板10（第一基板）的制造方法（第一步骤）。即，可以用TFT基板来形成显示装置基板10（第一基板）。

作为TFT的基本结构，采用的是将栅电极形成为高于沟道多晶硅的共面型，并且导电类型是利用电子作为沟道电流的载流子的n沟道型。

参照图5，显示装置基板10的玻璃23（透明基板）被硅氧化物膜46a覆盖，多晶硅膜48以岛状的形式形成在硅氧化物膜46a上。

这里，诸如磷的V族元素被掺杂到多晶硅膜的区域中，以成为漏区域49a和源区域49b。

另外，即使没有示出，也可以在沟道区域和源/漏区域之间设置LDD（轻掺杂漏），其中，比源/漏区域的磷更少量的磷被引入到LDD。

采用LDD结构的TFT，通过在沟道和漏之间的边界中提供低浓度杂质区域，产生从沟道到漏渐进的杂质浓度的梯度，可以减轻漏的边界上的电场的强度。由此，可以实现漏电流抑制效应。

岛状的多晶硅膜48被硅氧化物膜46b覆盖，并且栅电极52形成在氧化硅膜46b上。这里注意的是，夹在多晶硅膜48和栅电极52之间的区域中的硅氧化物膜46b用作栅绝缘膜。

另外，可以通过硅氧化物膜46b来形成存储电容（未示出）。硅氧化物膜46c覆盖栅电极52。通过在硅氧化物膜46c中形成接触孔，使得栅电极52、漏区域49b和源区域49b被开口。

Al（铝）42被溅射到硅氧化物膜46c上，抗蚀剂掩模残留在将作为信号线（电极）、像素电极5和线性化图案部分30（未示出）的区域中。此后，将Al（铝）42干蚀刻以进行图案化。

在Al（铝）42上形成层间绝缘膜41。用氮化硅膜和压克力膜（acrylfilm）的堆叠的层来构造该层间绝缘膜41。通过在层间绝缘膜41中形成接触孔，使得信号线（电极）、像素电极5和线性化图案部分30被开口。最后，在溅射了ITO（透明导电膜）40之后，蚀刻除了构造源电极的ITO（透明导电膜）40和构造线性化图案部分30的ITO（透明导电膜）40之外的ITO（透明导电膜）40，以完成显示装置基板。用“ITO40/Al42”的堆叠层来构造线性化图案部分30。

如所描述的，通过作为与构成第一基板（显示装置基板）上的像素或周边电路的多层导电膜或者单层导电膜相同的层的导电膜，来形成线性化图案部分30（30a、30b）。

以上已经描述了n型沟道的情况。在p沟道型的情况下，可以简单地切换“p”和“n”。另外，也可以同时使用n沟道型和p沟道型。

通过利用n型TFT和p型TFT，可以形成扫描线驱动电路14和信号线驱动电路15。

另外，虽然在第一示例性实施例中通过低温多晶硅TFT工艺来形成显示装置基板，但是也可以通过非晶硅TFT工艺来形成显示装置基板10。

除此之外，也可以通过诸如微晶硅TFT工艺、氧化物TFT工艺、有机TFT工艺或者在将硅薄膜转印到支撑基板上之后形成TFT的工艺的其它TFT工艺，来形成显示装置基板10。

另外，在通过利用多晶硅TFT工艺、非晶硅TFT工艺、体硅工艺、SOI工艺等形成电路之后，电路可以被转印到另一基板以形成显示装置基板10。

接着，将描述形成对向基板19的方法（第二步骤）。

作为像素部分，滤色器以矩阵（未示出）的形式设置在对向基板19的玻璃23（透明基板）上。由于布线和布线间的间隙以及黑矩阵58等，像素部分的有效孔径部分（aperture part）受到限制。用压克力等形成的保护层54覆盖滤色器和黑矩阵58，并且在保护层54上形成透明导电膜12。另外，在透明导电膜12上，印刷用聚酰亚胺等形成的校准膜（alignment film）（未示出）。

接着，将描述第三步骤。在该步骤中，通过组合上述显示装置基板10和对向基板19来形成TFT-LCD面板。此外，在像素TFT侧，即图5的右侧，在显示装置基板10和对向基板19之间填充液晶。

同时，在线性化图案部分30侧，即图5的右侧，各向异性导体34与显示装置基板10的ITO（透明导电膜）40和对向基板上的透明导电膜12接触。

虽然已经参照透射型LCD的情况进行了描述，但是该实施例也可以应用到反射型LCD中，其中，透射型LCD通过用LCD调节来自背侧的表面背光来显示图像，反射型LCD通过将金属电极形成为上述显示装置基板10上的反射板来利用周边的光进行显示。另外，通过在反射板上以网络形式形成微小点状孔，该实施例还可应用到用作透射型和反射型的透反射型LCD。

虽然第一示例性实施例利用玻璃作为玻璃基板23和显示装置基板10的基础材料，但是也可以利用柔性材料。在那种情况下，用于检测位置的透明导电膜12以统一的方式形成在对向基板19中。由此，不容易产生由弯曲应力造成的机械变形，并且位置检测性能没有由于弯曲而劣化。

（效果）

如上所述，采用第一示例性实施例可以提供具有内置触摸传感器的显示装置，该触摸传感器适于减小重量、尺寸和厚度，也能够精确地检测出手指所触摸的位置。

另外，第一示例性实施例不需要用于在对向基板19上形成线性化图案部分30的附加步骤，也不需要用于该附加步骤的特定制造装置和资源。结果，可以降低显示装置的制造成本。

即，当在用于在显示装置基板上形成电极或布线的任意步骤的同时形成线性化图案部分30时，不需要增加新的步骤。另外，当利用用于形成导电膜、执行PR（光刻）、以及执行蚀刻的一系列步骤（下文中称作PR步骤）来构造用于形成电极或布线和线性化图案的步骤时，可以利用用于形成显示像素等的相同步骤来实现该一系列步骤。因此，不需要特别地增加用于形成线性化图案部分的步骤。线性化图案部分可以被简单地增加到光掩模等的布局中。

另外，采用第一示例性实施例，与诸如丝网印刷的其它方法的情况相比，可以通过PR步骤以高度精确的方式来形成图案。即，通过PR步骤，通过在显示装置基板上形成线性化图案部分，可以以用于精确定位的高度精确的图案，来制成线性化图案部分。结果，变得容易采用更薄的线，使得可以改进对手指或笔所触摸的位置的检测精确度。同时，可以减少线性化图案部分30占用的面积，从而使得可以提供窄框架的LCD。

除此之外，采用第一示例性实施例，通过将低薄膜电阻的材料用于线性化图案部分30，可以进一步减小线性化图案部分30的电阻。具体来说，优选地利用Al（铝）或Al（铝）合金来替代银。

另外，通过利用与像素电极5的层相同的层来形成线性化图案部分30，可以减小线性化图案部分30和各向异性导体34之间的接触电阻。这是因为ITO（透明导电膜）40接触在与像素电极5的信号线（电极）4的层相同的层和各向异性导体34之间，并且ITO（透明导电膜）40表现出对信号线（电极）4和各向异性导体34的优良的接触特性，从而具有低电阻。

具体来说，利用与像素电极5的层相同的层来形成线性化图案部分30，并且用于形成线性化图案部分30的ITO（透明导电膜）40的图案的每个区域被设计为1mm²。在该情况下，通过各向异性导体34的透明导电膜12和ITO（透明导电膜）40之间的电阻为1Ω这么小。

如上所述，各向异性导体34和显示装置基板10上的线性化图案部分30之间的接触电阻减小，这样可以提供将透明导电膜12的特定区域中的电阻大大减小的效果。

另外，通过电连接显示装置基板上的线性化图案部分和导电阻抗表面，使与导电阻抗表面相对的局部区域对应于线性化图案部分的图案，各向异性导体（导电构件）可以减小与导电阻抗表面相对的局部区域中的电阻。可以认为就好像将形成在显示装置基板上的线性化图案部分投影到对向基板上的导电阻抗表面上。

现在，将描述本发明的结构和示例性实施例的结构元件之间的对应关系。本发明的显示装置能够：通过具有在可导电的第一和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件（例如，图1所示的参考标号2），来执行显示；并且通过在多个点检测第二基板（例如，图1所示的参考标号10等）上形成的导电阻抗表面上流动的电流值，来检测由接触体所触摸的接触位置。该显示装置包括形成在第一基板（例如，图1所示的参考标号1）侧的线性化图案部分30（例如，图1所示的参考标号30a、30b所构造的结构），以及将线性化图案部分和导电阻抗表面电连接的导电构件（例如，图1所示的参考标号34）。

另外，通过形成能够通过利用密封装置执行第一基板和第二基板之间的电光响应的显示元件，显示装置可以显示图像。通过使导电阻抗表面形成在第二基板上，并且在多个点检测在由接触体所触摸的接触点流动的电流值，第二基板可以检测出所触摸的位置。第一基板与导电阻抗表面相对，并且线性化图案、显示元件的控制部分和布线可以形成在第一基板上。

如根据本发明的示例性优点，通过在第一基板侧形成线性化图案部分，变得不需要在第二基板上形成线性化图案部分。由此，不需要特定的制造装置和资源。因此，可以以减小的重量、尺寸和厚度，提供具有小占用面积的线性化图案部分的显示装置等，该显示装置可以精确地检测出接触体所触摸的位置，同时降低了显示装置的制造成本。

第二示例性实施例

接着，将参照图7来描述本发明的第二示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际上相同的结构元件，并且将只描述不同点。图7是示出了根据本发明的第二示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的平面模型图例。

在上述的第一示例性实施例中，各向异性导体和密封剂是不同的结构元件。然而，第二示例性实施例采用了各向异性导体也用作密封剂的结构。即，是导电构件插入到第一基板和第二基板之间以用作密封显示元件的密封剂的情况。

具体来说，如图7所示，在根据第二示例性实施例的显示装置20中，如在第一示例性实施例的情况（图2）一样，显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12通过各向异性导体34电连接。与图2不同之处在于，为了电连接显示装置基板10和对向基板19，并且同时密封液晶2，显示装置基地10和对向基板19通过相同的各向异性导体34的图案粘附性地层压。

作为各向异性导体34，优选地利用在其中混合了导电颗粒的密封剂。环氧树脂用作密封剂，金球等用作导电颗粒。另外，作为通过密封件层压基板的方法，将密封剂施加到基板中的一个的密封部分，以当基板被层压时，将基板彼此粘附性地粘贴。此后，将基板烧结，以执行密封剂的热硬化。

现在描述的是电连接线性图案30和透明导电膜12，并且同时密封液晶2的各向异性导体34的效果。

第一示例性实施例（图2）具有电连接显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12的各向异性导体34，并具有作为分离的图案用于密封液晶2的密封剂36。采用该结构，各向异性导体34的图案和密封剂36的图案占用大的面积。这导致出现新问题，比如扩大了LCD的框架面积。

同时，采用图7的结构，通过电连接显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜（未示出），并通过在利用同样具有密封剂功能的各向异性导体34的图案的同时密封液晶2，可以省略密封剂36的图案（图2的参考标号36）。由此，可以减小否则会由密封剂36占用的面积。结果，LCD的框架可以变窄。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。另外，也可以将用于通过上述的每个步骤、每个部分（电路）的构造元件和其的每个的功能来制造的方法的制造装置的处理内容编写为程序，以使这些程序通过计算机执行。

第三示例性实施例

接着，将参照图8和图9来描述本发明的第三示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际相同的结构元件，并且将只描述不同点。图8是示出了说明根据本发明的第三示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例。图9是示出了图8的II-II'部分的不完整的剖视图。

在该示例性实施例中，作为导电构件的示例的导体的布局图案被形成为与线性化图案部分的布局图案对应。即，其是导电构件被形成为具有多个被划分部分的图案，并且导电构件图案具有与线性化图案部分的布局图案相同的布局图案的情况。

具体来说，如图8所示，在该示例性实施例的显示装置300中，将显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12电连接的导体47的图案的布局被形成为与线性化图案部分30的布局对应。导体47可以是各向同性型或各向异性型。

更具体来说，由于导体47的图案（导体图案）的布局被形成为与显示装置基板10上的线性化图案部分30的布局相同，因此导体47的图案变成具有一组多个被划分的导体47，且相邻的导体47没有电连接。这里，通过密封剂36来密封液晶2。

另外，导体47的图案是与线性化图案部分30的布局相同的布局，使得在图8所示的平面模型图例中，参考标号47与参考标号30（30a、30b）重叠。图9的不完整的剖视图示出了由参考标号30（30a、30b）表示示出的部分和由参考标号47表示的部分的层压结构。

优选地，例如用柱状（圆柱形）垫隔物（spacer）等来形成导体47。通常，垫隔物是具有均匀颗粒直径的球体或者具有均匀直径的圆柱体。在显示部分中，垫隔物用于在对向基板19的黑矩阵上保持显示装置基板10和对向基板19之间的厚度（单元间隙）。

通常，柱状垫隔物是利用玻璃或塑料作为材料的绝缘体。然而，在该情况下，可以使用导电材料来将显示装置基板10和对向基板19电连接。

接着，将描述被设计成与线性化图案部分30对应的导体47的图案的效果。

显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12可以通过导体47电连接。然而，透明导电膜12的电阻降低的区域取决于导体47的图案。

因此，当如在第一示例性实施例（图2）的情况中一样，将导体47的图案形成为覆盖显示装置基板10上的所有线性化图案部分30的单个图案时，如果导体47电各向同性，则导体47电连接到与膜表面平行的表面。因此，电阻降低的透明导电膜12的区域取决于图2所示的参考标号34的图案。

因此，导体47的图案被形成为与线性化图案部分30对应，使得相邻的导体47没有彼此电连接。在该情况下，导体47不必要电各向异性，而是也可以是各向同性。

如上所述，采用该示例性实施例，可以实现即使利用电各向同性的电各向同性导体47，也可以减小透明导电膜12的期望区域内的电阻的效果，同时实现了与第一示例性实施例的操作效果相同的操作效果。由于导体不必要是电各向异性，因此可以扩大关于导体材料的选择范围。因此，可以选择低价的材料。

另外，通过利用导体47作为柱状垫隔物，变得可以通过相同步骤来形成导体47，该步骤为了保持基板平面内的显示装置基板10和对向基板19之间的间隙均匀而被执行，用于形成柱状体。结果，变得不必要增加新的步骤，从而使得可以降低制造显示装置的成本。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。另外，也可以将用于通过上述的每个步骤、每个部分（电路）的构造元件和其的每个功能来制造的方法的制造装置的处理内容编写为程序，以使这些程序通过计算机执行。

第四示例性实施例

接着，将参照图10和图11来描述本发明的第四示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际相同的结构元件，并且将只描述不同点。图10是示出了说明根据本发明的第四示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例。图11是示出了图10的III-III'部分的不完整的剖视图。

该示例性实施例采用了在其中将分离地设置在显示装置基板的四个角附近的线性化图案部分形成为较长的结构。即，该情况为：线性化图案部分形成在第一基板的角中，并且线性化图案部分包括第一图案部分（30a）和第二图案部分（30b），其中，第一图案部分（30a）连接到提供有位置检测电压的布线部分，第二图案部分（30b）形成在第一基板的边区域，并不连接到布线部分。第一图案部分从角向着边区域延伸。

具体来说，如图10所示，在根据第四示例性实施例的显示装置400中，显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜12通过各向异性导体34电连接，并且如第二示例性实施例（图7）的情况中一样，用相同的各向异性导体图案34来密封液晶2。然而，与第二示例性实施例（图7）不同之处在于线性化图案部分30的布局。

更具体来说，分离地设置在显示装置基板10的四个角附近的线性化图案部分30a被形成为向着其相邻的边的中间延伸。即，线性化图案部分30a（第一图案部分）被形成为从角向着边的部分延伸，延伸范围为从角到边的中间附近。

布线32连接到线性化图案部分30a。该布线32连接到AC电压源22（未示出）。

此外，如图10所示，通过绝缘层41与Al（铝）电极42绝缘的冗余图案（dummy pattern）39可以设置在显示装置基板10的外周区域的四边，以取代设置在显示装置基板10上被划分成多个部分的线性化图案部分。

线性化图案部分30与各向异性导体34接触，并通过各向异性导体34电连接到透明导电膜12。然而，冗余图案39被绝缘层41覆盖，并没有与各向异性导体34接触，使得冗余图案39没有电连接到透明导电膜12。

优选地，通过利用与线性化图案部分30的层相同的层，来形成冗余图案39。

如图10所示，线性化图案部分30a从显示装置基板10的四个角附近向着相邻边的中间延伸，并且存在没有设置线性化图案部分30a的边的中间附近的区域。

因此，与设置有线性化图案部分30a的区域相比，因为线性化图案部分30a的厚度，所以在没有线性化图案部分30a的区域中的显示装置基板10上产生凹进的区域。这导致了在显示装置基板10和对向基板19之间产生了局部的大间隙。

因此，在没有线性化图案部分30a的区域中设置冗余图案39，这样提供了改善的LCD的间隙的均匀性的效果。

具体来说，使用了像素电极（图5中的参考标号5）等。如图11所示，用Al（铝）42、绝缘层41（层间绝缘膜）和ITO（透明导电膜）40的层来构造冗余图案39。即，作为第二图案部分的示例的冗余图案39可以具有构成显示装置基板10上形成的像素和外围电路的多层导电膜，以及在多个导电膜之间的层间绝缘膜。将氮化硅、压克力等用于覆盖冗余图案39的绝缘层41。另外，在与冗余图案39对应的绝缘层41的区域中没有形成接触孔。

除此之外，也可以省略第二图案部分。

接着，描述的是通过向着相邻边的中间延伸而设置在显示装置基板10的四个角附近的线性化图案部分30a的操作。

在用于检测手指或笔所触摸位置的位置检测时间段内，通过各向异性导体34和线性化图案部分30a，由外部基板（图1中的参考标号20）上的电流检测电路（图1中的参考标号13）来检测透明导电膜12中流动的电流。

同时，在显示驱动时间段内，公共电压通过各向异性导体34施加到线性化图案部分30a，以将透明导电膜12保持为公共电势。然后，从显示装置基板10侧施加信号线（电极：图4中的参考标号4）的电压，并且将公共电压从对向基板施加到液晶2，以改变液晶2的透光率。

将线性化图案部分30a向着各个相邻的边的中间延伸，可以提供减小透明导电膜12的外周的四边上的电阻的效果。

降低的电阻的区域取决于线性化图案部分30a从四个角附近向着相邻边的中间的延伸范围。只要其没有到达其它的线性化图案部分30a，线性化图案部分30a可以延伸到边的中间附近。

如上所述，采用该示例性实施例，可以实现与通过在显示装置基板10的外周的四边上设置多个划分开的线性化图案部分30a得到的效果相同的效果，同时实现了与上述的示例性实施例的操作效果相同的操作效果。

另外，虽然线性化图案部分（图7中的参考标号30b）形成为双重结构，但是第四示例性实施例的结构中的线性化图案部分30a形成为单结构。因此，可以减小占用面积。

结果，可以实现将LCD的框架变窄的效果。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。另外，也可以将用于通过上述的每个步骤、每个部分（电路）的构造元件和其的每个功能而制造的方法的制造装置的处理内容编写为程序，以使这些程序通过计算机执行。

第五示例性实施例

接着，将参照图12和图13来描述本发明的第五示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际相同的结构元件，并且将只描述不同点。图12是示出了说明根据本发明的第五示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的平面模型图例。图13是示出了透明导电膜的电势分布的透视图。

该示例性实施例采用了为位置x（方向）和位置y（方向）划分触摸位置检测时间段的结构。

具体来说，如图12所示，在根据第五示例性实施例的显示装置500中，显示装置基板10上的线性化图案部分30和透明导电膜（对向电极）通过各向异性导体34电连接，如在第四示例性实施例的情况中一样（图10）。然而，与第四示例性实施例不同之处在于，在手指触摸位置26的检测时间段内，第五示例性实施例执行为位置x（方向）和位置y（方向）划分检测时间段的控制。

图12所示的电路部分示出了用于手指的x方向的位置检测时间段内的切换状态。

更具体来说，在手指触摸位置26的检测时间段内，显示装置500通过电流检测方向换向开关521将设置在显示装置基板10的四个角附近之间的线性化图案部分30a连接到电流检测电路13。

在用于检测位置x（x方向是第一方向）的时间段内，显示装置500将线性化图案部分30a（左下部分：第一电极，左上部分：第二电极）连接到电流检测电路13a（第一电流检测电路），并将线性化图案部分30a（右上部分：第四电极，右下部分：第三电极）连接到电流检测电路13b（第二电流检测电路）。

同时，在用于检测位置y（作为第二方向的y方向）的时间段内，显示装置500将线性化图案部分30a（左下部分、右下部分）连接到电流检测电路13a，并将线性化图案部分30a（左上部分、右上部分）连接到电流检测电路13b。

通过由电流检测切换控制电路（未示出）控制电流检测方向换向开关521，来切换连接。在该情况下，可以用电流检测方向换向开关521、电流检测切换控制电路（未示出）、电流检测电路13a（第一电流检测电路）和电流检测电路13b（第二电流检测电路）来构造“检测时间段切换控制装置”。

通过将检测时间段划分成第一位置检测时间段和第二位置检测时间段，该“检测时间段切换控制装置”能够执行用于检测接触位置的检测时间段的切换控制，其中，第一位置检测时间段用于检测在导电阻抗表面上的第一方向上的位置，第二位置检测时间段用于检测在与第一方向交叉的第二方向上的位置。

另外，如在第四示例性实施例中的情况一样，图12示出了线性化图案部分30a从四个角的附近向着在显示装置基板10的外周的四边上的对应的相邻边的中间延伸的情况。然而，如在第一示例性实施例的情况中一样，也可以在显示装置基板10的外周的四边上设置多个被划分的线性化图案部分30b。

此外，虽然图12示出了其中设置了将显示装置基板10上的线性化图案部分30电连接到透明导电膜（对向电极），并且同时密封液晶2的各向异性导体34的情况，但是也可以为每个功能分离地形成各向异性导体34。

接着，将参照检测沿x方向中的（手指所触摸）位置x的情况，来描述第五示例性实施例（图12）的效果。

当手指触摸LCD的表面时，与触摸部分26对应的透明导电膜（对向电极）的电势下降。然而，通过将设置在显示装置基板10的四个角附近的线性化图案部分30（左下、左上）连接到相同的电流检测电路13a，产生了与线性化图案部分30a（左下、左上）连接的边保持均匀电势的效果。

以相同的方式，可以使与线性化图案部分30a（右上，右下）连接的边保持均匀电势。结果，通过使与触摸位置26对应的透明导电膜（对向电极）的面积最小，使得在x方向上产生电势梯度。然而，电势在y方向上变得均匀，并且可以形成与y方向平行的等势线。

如上所述，采用该示例性实施例，电势分布变成一维的，使得在用于检测x位置的时间段内可以消除与位置y有关的信息。因此，可以实现提高关于位置x的检测精度的效果，同时实现与第一示例性实施例的操作效果相同的操作效果。

另外，对于检测手指所触摸的位置y的情况，同样是成立的。

除此之外，在第一示例性实施例（图1）中需要的四个电流检测电路13可以减少为两个电路。因此，在电流检测电路13减少为两个电路的图12的情况下，电流检测电路13的制造成本可以降低到一半。

此外，也可以如下形成上述第五示例性实施例的显示装置。即，线性化图案部分的第一图案部分（30a）包括布置在第一基板的四个角的第一电极至第四电极（左下、左上、右上、右下）。在该情况下，检测时间段切换控制装置可以包括：第一电流检测电路（13a），其使第一方向的一个末端的边上的第二方向上的电势均匀，并在第一位置检测时间段内检测第一电极和第二电极中的每个的电流，并且使第二方向的一个末端的边上的第一方向上的电势均匀，并在第二位置检测时间段内检测第一电极和第三电极中的每个的电流；第二电流检测电路（13b），其使第一方向的另一末端的边上的第二方向上的电势均匀，并在第一位置检测时间段内检测第三电极和第四电极中的每个的电流，并且使第二方向的另一末端的边上的第一方向上的电势均匀，并在第二位置检测时间段内检测第二电极和第四电极中的每个的电流；以及电流检测切换控制电路（未示出），其执行与第一至第四电极中的每个与第一和第二电路检测电路中的每个之间的连接关系有关的切换控制。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。另外，也可以将用于通过上述的每个步骤、每个部分（电路）的构造元件和其的每个功能而制造的方法的制造装置的处理内容编写为程序，以使这些程序通过计算机执行。

第六示例性实施例

接着，将参照图14来描述本发明的第六示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际相同的结构元件，并且将只描述不同点。图14是示出了根据本发明的第六示例性实施例的显示装置的示意性结构的示例的平面模型图例。

该示例性实施例采用了将切换元件设置在用于将电信号从显示区域外部传输到显示区域内部的布线上的结构。

具体来说，如图14所示，与第五示例性实施例（图12）的情况不同，该示例性实施例的显示装置600设置有高阻抗开关部分16（第一高阻抗开关）、高阻抗开关部分17（第二高阻抗开关）和高阻抗开关部分18（第三高阻抗开关），上述开关部分形成在用于将电信号从显示区域外部的第二电路部分传输到显示区域内的第一电路部分的布线部分上。

这里注意的是，显示区域外部的第二电路部分可以形成在与显示区域内的第一电路部分的基板相同的基板上，或者可以形成在外部基板上。

在显示区域外部部分的第二电路部分可以形成在与显示区域内的第一电路部分的基板相同的基板上的情况下，优选地，在将显示区域外部部分与外部基板连接的布线部分上，设置高阻抗开关部分16、17和18。

具体来说，在其上设置有高阻抗开关部分16、17和18的布线部分优选地为信号线4、扫描线6、电容线8和电源线（未示出）中的至少一个。

另外，优选地具有用于控制高阻抗开关部分的高阻抗切换控制电路，并且优选地，在电流检测电路13检测电流的时间段内，高阻抗切换控制电路将用于将电信号从显示区域外部部分传输到显示区域内部部分的至少一个电极控制为高阻抗状态。

这里注意的是，可以用高阻抗开关部分16、17和18以及高阻抗切换控制电路来构造“阻抗控制装置”。该“阻抗控制装置”可以形成在显示装置基板上，或者可以形成在分离的控制电路基板上。

在用于检测接触位置的检测时间段内，该“阻抗控制装置”可以将第一基板的显示区域内的第一电路部分控制成具有比显示区域外部的第二电路部分的电学上的阻抗更高的阻抗。另外，“阻抗控制装置”可以将第一电路部分和第二电路部分控制成处于非导电状态。除此之外，“阻抗控制装置”可包括：高阻抗开关部分，其形成在连接第一电路和第二电路的布线部分上；以及高阻抗控制电路，其执行高阻抗开关部分的接通/断开的控制。

接着，将描述高阻抗开关部分的操作。

为了使得可以将像素矩阵部分内的电路和显示区域的外周部分中的电路控制成在电学上为高的阻抗，在显示区域的外周部分中，向扫描线6的每个信号通路设置高阻抗开关部分16，向信号线4的每个信号通路设置高阻抗开关部分17，向存储电容线8的每个信号通路设置高阻抗开关部分18。

通过未示出的高阻抗切换控制电路来控制高阻抗开关部分16、17和18的切换。这使得可以将用于将电信号从显示区域外部传输到显示区域内部的信号线4和扫描线6控制成处于高阻抗状态。

垂直消隐时间段被用于位置检测时间段。在位置检测时间段内，高阻抗开关部分16、高阻抗开关部分17和高阻抗开关部分18都如图14被设置为断开状态，并且扫描线4、扫描线6和存储电容线8被设置成相对于显示区域外边上的（连接到扫描线驱动电路14、信号线驱动电路15和COM端的）布线处于更高的阻抗。

另外，在位置检测时间段内，电流检测开关521与包括电流检测电路13的AC电压源22侧处于导电状态。在图14所示的状态下，AC电压源22产生的同相位的AC电压被施加到显示装置基板10的四个角附近设置的线性化图案部分30a。

形成在显示装置基板10的四个角附近的线性化图案部分30a通过各向异性导体34电连接到透明导电膜。由此，将AC电压施加到透明导电膜的四个角的附近。

另外，图14示出了其中，线性化图案部分30a从四个角的附近向着在显示装置基板10的外周的四边上的对应的相邻边的中间延伸的情况。然而，也可以在显示装置基板10的外周的四边上设置多个被划分的线性化图案部分30b。

图15是示出了根据第六示例性实施例的显示装置的电极的电压的时序图。透明导电膜的电压示出为如图15中的Vc。

参照图15所示的电压的时序图，每个扫描线6处于高阻抗状态，并且其电容与透明导电膜耦合。因此，扫描线6的电压Vg以与透明导电膜的电压幅度相同的幅度波动。

如上所述，采用第六示例性实施例，在位置检测时间段内，具有像素矩阵部分的电路被设置成处于比外部的电路更高的阻抗状态。因此，当AC电压施加到透明导电膜时，可以实现将从透明导电膜12侧看去的寄生电容保持得非常小的效果，同时实现了与第一示例性实施例的操作效果相同的操作效果。具体来说，虽然例如相关技术的寄生电容是15nF，但是利用第六示例性实施例，寄生电容可以减小到100pF这么小。

结果，利用第六示例性实施例，从电路检测电路13输出的信号的S/N比可以增加到150倍（例如，6×10^-2），而相关技术中的例如为4×10^-4。

另外，晶体管的栅极电压和源极电压都以与透明导电膜的电压幅度相同的幅度来改变。由此，可以使栅极电压和源极电压的相对差变得均匀，使得晶体管的Vgs没有波动。这导致实现了这样特殊的效果，即可以将施加到图像品质上的位置检测时间段中的驱动的影响最小化。

该示例性实施例为高阻抗开关部分16、17和18使用了n型TFT，用于使显示区域的内部和外部电学上高阻抗。然而，高阻抗开关部分可以是p型TFT或者可以是由n型和p型的组合形成的传输门。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。另外，也可以将用于通过上述的每个步骤、每个部分（电路）的构造元件和其的每个功能而制造的方法的制造装置的处理内容编写为程序，以使这些程序通过计算机执行。

第七示例性实施例

接着，将参照图16和图17来描述本发明的第七示例性实施例。下文中，省略了与第一示例性实施例的结构元件实际相同的结构元件，并且将只描述不同点。图16是示出了说明根据本发明的第七示例性实施例的显示装置的各向异性导体和线性化图案部分之间的关系的示意性结构的示例的平面模型图例。图17是示出了图16的IV-IV'部分的不完整的剖视图。

虽然第一示例性实施例示出了液晶显示装置的结构示例，但是第七示例性实施例示出了采用微胶囊（micro-capsule）型电泳元件的电泳显示装置的结构示例。

具体来说，如图16和图17所示，根据该示例性实施例的显示装置700是利用微胶囊型电泳元件的电泳显示装置（下文中被称作EPD），并且它是单色EPD有源矩阵显示器。该显示装置700具有对向基板19、EPD膜102和显示装置基板10。

对向基板19具有对向电极12，其由形成在透明塑料基板23的内表面侧的透明导电膜制成，其中，用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯等形成透明塑料基板23。可以利用玻璃基板替代塑料基板23来形成对向基板19。

如图17所示，EPD膜12是膜型电泳显示装置，它由微胶囊113和粘合剂构成。微胶囊113填充在EPD膜102内，并且其尺寸为大约40μm。由异丙醇（IPA）等制成的溶剂115插入到微胶囊113内，在微胶囊113中，纳米级尺寸的白颗粒116（氧化钛基的白颜料）和纳米级尺寸的黑颗粒117（碳基黑颜料）被分散为悬浮在溶剂115中。白颗粒116具有负（-）带电极性，黑颗粒117具有正（+）带电极性。粘合剂由填充在微胶囊113之间的聚合物形成，用于将微胶囊113彼此连接。

显示装置基板10具有在其中TFT形成在玻璃基板23上的结构。TFT是逆叠积型（inverted staggered type）的，在其中，栅G相对于源A和漏D布置在玻璃基板23侧。

关于TFT，栅G形成在玻璃基板23上，将成为栅绝缘膜的绝缘膜27形成在栅G上，沟道材料73形成在绝缘膜72上，源S和漏D形成在沟道材料73的两个外侧，绝缘膜74形成在包括沟道材料73、源S和漏D的绝缘膜72上，像素电极5形成在绝缘膜74上，像素电极5被通孔连接到源S。

在图16中，每个TFT的栅G电连接到对应的扫描线（未示出），并且每个TFT的漏D电连接到对应的信号线（未示出）。

当电压施加到栅G时，施加到漏D的+电压通过沟道材料73和源S提供到像素电极5。当+电压提供到像素电极5时，在对应的微胶囊113中的白颗粒16被拉向像素电极5侧，微胶囊113中的黑颗粒117相对地被拉向对向电极12。

同时，当-电压提供到像素电极5时，对应的微胶囊113中的黑颗粒117被拉向像素电极5侧，微胶囊113中的白颗粒116被相对地拉向对向电极12。以此方式，采用图16所示的显示装置，通过向像素电极5提供+电压或-电压，可以在对向电极12上显示白图像和黑图像。

在第七示例性实施例中，形成在显示装置基板10上的线性化图案部分30也被各向异性导体34覆盖，并且各向异性导体34还与透明导电膜12接触。通过将显示装置基板10上的线性化图案部分30与透明导电膜12通过各向异性导体34电连接，使显示装置基板10和透明导电膜12导电，并且使透明导电膜12的特定区域内的电阻减小。

另外，图16示出了线性化图案部分30a从四个角附近向着在显示装置基板10的外周的四边上的对应的相邻边的中间延伸的情况。然而，也可以在显示装置基板10的外周的四边上提供多个被划分的线性化图案部分30b。

另外，单极双掷型开关连接到显示装置基板10的电极。电流检测电路和AC电压源串联连接到开关的连接中的一个，并且与对向电极驱动电路连接的COM端子连接到另一个连接（未示出）。

如在第六示例性实施例（图14）的情况中一样，可以以如下方式来构造第七示例性实施例：在显示区域的外侧设置用于驱动信号线的信号线驱动电路和用于驱动扫描线的扫描线驱动电路；在扫描线之间的信号通路以及信号线和信号驱动电路之间的信号通路上设置开关；以及用于将电信号从显示区域外部传输到内部的布线被设置为高阻抗状态。

另外，如在第一示例性实施例中的情况一样，关于其驱动，根据第七示例性实施例的显示装置也具有诸如显示驱动时间段和位置检测时间段的两个时间段。显示驱动时间段是用于写入电压来实现像素显示的时间段。位置检测时间段是电流检测电路检测电流以检测手指位置的坐标和是否存在指点动作的时间段。这两个时间段根据时间来划分。

如上所述，第七示例性实施例的EPD能够表现出在为了显示而写入电压之后可以保持长时间的显示的特性，同时实现了与上述的示例性实施例的操作效果相同的操作效果。由此，与LCD的情况相比，较大的比例可以用于位置检测时间段。

此外，通过将显示装置基板10变薄或者将像素电路转印到柔性基板，可以实现具有柔性特性和触摸传感器功能的显示装置。

该示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果与上述示例性实施例的其它结构、步骤、功能和操作效果相同。

（其它各种更改示例）

虽然参照一些特定的示例性实施例已经描述了根据本发明的装置和方法，但是在不脱离本发明的技术精神和范围的情况下，可以将各种更改应用到本发明的内容中所描述的示例性实施例。

例如，虽然参照液晶显示装置或者电泳显示装置的情况描述了上述示例性实施例中的每个，但是这些示例性实施例无疑可以应用到例如利用带电颗粒、电致变色材料、电致发光材料（EL材料）、气体、半导体、半导体和磷光体的其它类型的显示装置。

此外，上述结构的数量、位置和形状等不限于示例性实施例中所描述的数量、位置和形状，而是可以被设置为用于实施本发明的优选的数量、位置和形状。即，虽然已经参照在线性化图案部分之中具有6×4个冗余图案的情况描述了示例性实施例，但是本发明不限于这个数量。

另外，线性化图案部分不限于形成为如附图中的几何形状。例如，线性化图案部分可以形成为更复杂和精细的形式，以提高检测精度。

根据上述示例性实施例中的每个的液晶显示装置可以用作各种电子设备的显示单元。电子设备的示例可以包括各种电子产品，比如：诸如上述示例性实施例的广播接收装置的电视机、计算机等的各种信息处理器；各种设备的遥控器；家用电器、游戏机、和加载有各种信息通信功能的便携式音乐播放器；各种记录装置；汽车导航装置；寻呼机；电子记事本；袖珍计算器；文字处理器；POS终端；各种移动终端；诸如PDA、便携式电话、可穿戴的信息终端、PND和PMP的便携式装置；以及加载在比如弹球盘机的游戏机上的显示装置。

此外，用作构造显示装置的第一基板的显示装置基板可以被当作本发明的对象。

在该情况下，根据本发明的显示装置基板可以用作构造显示装置的第一基板，其中，该显示装置通过具有在可导电的第一和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件来显示图像，并能够通过具有在第二基板侧上形成的导电阻抗表面来检测接触体所触摸的接触位置。

显示装置基板可包括：像素矩阵部分，在其中，多个像素形成为矩阵；以及线性化图案部分，其包括形成在像素矩阵部分的外周区域中的多个电极，其能够执行导电阻抗表面的电场的线性化，并能够检测导电阻抗表面上的电流。

另外，诸如用于构造显示装置的外部基板的控制电路可以被当作本发明的对象。

在该情况下，本发明的显示装置的控制电路可以电连接到显示装置，该显示装置通过具有在可导电的第一和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示装置来显示图像，以通过具有在第二基板侧上的导电阻抗表面来执行控制以检测接触体所触摸的接触位置。

该显示装置的控制电路可包括：检测装置（电流检测电路等），该检测装置用于检测导电阻抗表面上的多个点处流动的电流；以及检测时间段切换控制装置，该检测时间段切换控制装置通过将用于检测接触位置的检测时间段划分为第一位置检测时间段和第二位置检测时间段来执行切换控制，其中，第一位置检测时间段用于检测在导电阻抗表面上的第一方向上的位置，第二位置检测时间段用于检测在与第一方向交叉的第二方向上的位置。

另外，该显示装置的控制电路还可包括阻抗控制装置，在用于检测接触位置的检测时间段内，阻抗控制装置可以将第一基板的显示区域内的第一电路控制成与显示区域外部的第二电路部分相比，在电学上处于更高的阻抗。

除此之外，用于构造显示装置的显示装置基板的制造方法（显示装置基板制造方法）也可以当作是本发明的对象。

在该情况下，显示装置基板制造方法可以制造出可以用作构造显示装置的第一基板的显示装置基板，该显示装置通过具有在可导电的第一和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件来显示图像；并且能够通过具有形成在第二基板侧的导电阻抗表面来检测接触体所触摸的接触位置。

该显示装置基板制造方法可包括：第一步骤，其在第一基板上形成包括在像素矩阵部分的周边区域中形成的多个电极的线性化图案部分，其中，该线性化图案部分能够执行导电阻抗表面的电场的线性化，并能够检测导电阻抗表面上的电流。

第一步骤可以与在第一基板上形成像素电极的步骤或者在第一基板上形成布线的步骤同时地执行。

另外，图中所示的每个块的部分或者未示出的控制电路（用于控制开关的电路、高阻抗切换控制电路、电流检测切换控制电路等）、构造用于计算位置的位置计算部分的电路等可以是软件模块结构，其中，通过各种程序，通过计算执行存储在合适存储器中的该种程序来将软件模块结构功能化。

即，即使物理结构是单个或多个的CPU（或者单个或多个CPU和单个或多个的存储器）等，每个部分（电路、装置）的软件结构可以被当作以下的形式，在该形式中利用程序的控制，通过CPU执行的多个功能被表示为多个部分（装置）中的每个的特征元件。

当通过程序来执行CPU的动态状态（构造程序的每个步骤正被执行）被功能化表示时，可以表示为，每个部分（装置）内建在CPU中。

在程序没有正在执行的静态状态下，用于实现每个装置的结构的整个程序（或包括在每个装置的结构内的每个程序部分）被存储在存储器等的存储区域内。

以上提供的每个部分（装置）的说明可以被当作通过程序以及程序的功能而被功能化的计算机的说明，或者可以被当作通过合适的硬件，利用永久性功能化的多个电子电路块而构造的装置。因此，可以以各种形式例如仅利用硬件、仅利用软件或者两者的组合来实现这些功能块，并且不限于这些形式中的任意一个。

除此之外，本发明的范围不限于图中所示的示例。

此外，示例性实施例中的每个包括各种阶段，以及通过正确地组合在其中公开的多个特征元件，可以从中衍生出各种发明。即，本发明包括上述示例性实施例中的每个的组合或者示例性实施例中的任意一个和其更改示例中的任意一个的组合。在该情况下，即使在示例性实施例中没有特别提出，但是从示例性实施例及其更改示例中的每个中公开的每个结构中显而易见的操作效果可以自然地被包括作为示例性实施例的操作效果。相反地，可以提供示例性实施例中叙述的所有操作效果的结构不必须是本发明的基本特征部分的必要特征元件。除此之外，本发明可以包括从上述示例性实施例的整个特征元件中省略了一些特征元件的其它示例性实施例的结构，以及基于此的结构的技术范围。

关于包括示例性实施例的更改示例的示例性实施例中的每个的描述仅仅被表示为本发明的各种实施例的示例（即，用于实施本发明的具体情况的示例），用于实现对本发明的容易理解。将要理解的是，这些示例性实施例和其更改示例是例证式的示例，并且不意在用此设置任何限制。本发明可以合适地进行更改和/或变化。另外，本发明可以基于其主要特征或技术精神来以各种形式来实施，并且本发明的技术范围将不受示例性实施例和更改示例的限制。

因此，上述的每个元件将包括落入本发明的技术范围内的所有可能的设计变化及其等价物。

本发明通常可以应用到显示装置。更具体来说，作为应用示例的方式，本发明可以应用到用于游戏机、便携式信息终端、售票机、自动取款机（ATM）、汽车导航系统、飞机或汽车的乘客座位处设置的TV游戏机、工厂自动化（FA）设备、打印机和传真机等的显示装置。

Claims (15)

1.一种显示装置，所述显示装置显示图像，所述显示装置被构造为在薄膜半导体基板和对向基板之间包括电光材料，薄膜半导体形成在所述薄膜半导体基板上，其中：

对向电极形成在所述对向基板上，

像素区域和导电膜部分形成在所述薄膜半导体基板上，在所述像素区域中，多个像素电极用于将电信号提供到所述电光材料，所述导电膜部分在所述像素区域的周边区域中，

导体在所述薄膜半导体基板和所述对向基板之间被布置在所述像素区域的所述周边区域的至少一部分处，

所述导体电连接所述导电膜部分和所述对向电极，并且

位置检测电路根据由接触体的触摸造成的静态电容改变来检测接触位置。

2.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述导体插入在所述薄膜半导体基板和所述对向基板之间，以便于还用作密封所述电光材料的密封剂。

3.如权利要求1或2所述的显示装置，其中，所述导体通过被划分成多个片来形成。

4.如权利要求1至3中的任意一项所述的显示装置，其中，所述导体是各向异性导体。

5.如权利要求1至4中的任意一项所述的显示装置，其中，所述导电膜部分包括在所述薄膜半导体基板上的彼此堆叠的多个导电层。

6.如权利要求1至5中的任意一项所述的显示装置，具有用于显示所述图像的显示驱动时间段和用于检测所述接触位置的位置检测时间段。

7.如权利要求6所述的显示装置，包括切换控制装置，所述切换控制装置执行切换控制，使得在所述位置检测时间段内通过电压源偏置所述导电膜区域。

8.如权利要求7所述的显示装置，其中所述电压源包括COM、GND和AC电压源中的一种。

9.如权利要求7或8所述的显示装置，包括检测电路，所述检测电路检测在所述电压源中流动的电流。

10.如权利要求1至9中的任何一项所述的显示装置，还包括阻抗控制装置，在用于检测所述接触位置的检测时间段内，所述阻抗控制装置能够将第一电路部分控制成与第二电路部分的阻抗相比，在电学上处于更高的阻抗；并能够将所述第一电路部分和所述第二电路部分控制成处于非导电状态，其中，所述第一电路部分在所述薄膜半导体基板的显示区域内，所述第二电路部分在所述显示区域的外部。

11.如权利要求10所述的显示装置，其中，所述阻抗控制装置包括：

开关部分，所述开关部分形成在将所述第一电路部分和所述第二电路部分连接的布线上；以及

控制电路，所述控制电路执行所述开关部分的接通/断开的控制。

12.一种显示装置，所述显示装置通过利用密封装置密封在第一基板和第二基板之间形成的能够执行电光响应的显示元件来显示图像，所述显示装置包括：

所述第二基板具有形成在其上的对向电极，测量在多个点和接触体所触摸的点之间流动的电流值，并检测接触位置；

所述第一基板面对所述对向电极，在所述第一基板中形成导电膜部分、所述显示元件的控制部分、和布线；以及

导电构件，所述导电构件电连接在所述导电膜部分和所述对向电极之间。

13.一种电子设备，包括加载在其上的在权利要求1至12中的任意一项中要求的所述显示装置。

14.一种显示装置的制造方法，所述显示装置显示图像，所述显示装置被构造为在薄膜半导体基板和对向基板之间包括电光材料，薄膜半导体形成在所述薄膜半导体基板上，所述方法包括：

第一步骤，所述第一步骤在所述薄膜半导体基板上形成像素区域，并且同时地形成导电膜部分，在所述像素区域中布置将电信号提供到所述电光材料的多个像素电极；

第二步骤，所述第二步骤在所述对向基板上形成对向电极；以及

第三步骤，所述第三步骤在所述薄膜半导体基板和所述对向基板之间在所述像素区域的周边区域的至少一部分处布置各向异性导体。

15.如权利要求14所述的制造方法，其中所述第一步骤包括光刻或蚀刻。

Images