CN103128917A - 模仁及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种模仁，包括基体，该基体包括成型面和与该成型面相对的背面，该模仁还包括保护层，该保护层形成于该背面。本发明还公开一种所述模仁的制备方法。保护层在基体的背面与模具之间起到缓冲作用，避免了背面与模具发生碰撞而产生刮伤、裂痕、点伤等缺陷，使模仁背面与模具之间配合平整，保证模仁的成型面的位置精度，从而保证了成型产品的成型质量。
Description
技术领域
本发明涉及一种模仁，尤其涉及一种具有保护层的模仁及其制备方法。
背景技术
模仁广泛应用于射出成型(Injection Molding)制程，特别是制造光学产品，如棱镜、导光板等，采用射出成型技术生产光学产品，可大大提高生产效率及产量，且产品质量好。
模仁包括成型面和与成型面相对的背面，成型面上加工形成有用于成型光学产品结构的微结构，背面一般用于与模具配合，以将模仁安装在模具中。由于射出成型法对于模仁的化学稳定性、抗热冲击性能、机械强度及表面光滑度等要求非常高，因此，一般会对成型面进行镜面抛光处理或对成型面加上一层类金刚石保护膜，以防止成型面产生缺陷从而转印到成型的光学产品上。同时，由于模仁的背面不用于直接成型光学产品结构，故一般不会对背面进行镜面抛光或加上保护膜，以节约模仁制造成本和时间。然而，射出成型时，有时射出压力较大，该射出压力经常会冲击模仁，使模仁的背面与模具发生碰撞，使背面产生刮伤、裂痕、点伤等缺陷，从而使模仁背面与模具之间配合不平整，造成模仁的成型面的位置产生误差，进而影响到光学产品的成型质量，使光学产品上也出现相应的缺陷。
发明内容
鉴于上述情况，有必要提供一种防止背面产生缺陷且防止背面缺陷转印到成型产品上的模仁及其制备方法。
一种模仁，包括基体，该基体包括成型面和与该成型面相对的背面，该模仁还包括保护层，该保护层形成于该背面。
一种模仁制备方法，其包括：提供一基体，该基体具有一背面；提供一有机高分子液体；以该有机高分子液体为材料在该背面上形成保护层。
上述模仁在背面上形成一层保护层，当模仁用于射出成型制程，在较大的注射压力的冲击下，保护层在基体的背面与模具之间起到缓冲作用，避免了背面与模具发生碰撞而产生刮伤、裂痕、点伤等缺陷，使模仁背面与模具之间配合平整，保证模仁的成型面的位置精度，从而保证了成型产品的成型质量。
附图说明
图1是本发明实施方式的模仁的立体示意图。
图2是本发明实施方式的模仁制备方法的流程图。
主要元件符号说明
| 模仁 | 100 |
| 基体 | 10 |
| 保护层 | 20 |
| 成型面 | 101 |
| 背面 | 103 |
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明实施方式的模仁100包括基体10和保护层20。基体10包括一个成型面101和与成型面101相对的背面103。保护层20形成于背面103。本实施方式中，模仁100应用于射出成型制程，其中成型面101用于直接成型产品结构，背面103用于与模具（图未示）配合，以使模仁100安装于模具中。
基体10为由陶瓷、金属陶瓷或超硬合金等材料制造，包括碳化硅（SiC）、硅（Si）、氮化硅（Si3N4）、氧化锆（ZrO2）、氧化铝（Al2O3）、氮化钛（TiN）、氧化钛（TiO2）、碳化钛（TiC）、碳化硼（B4C）、碳化钨（WC）、钨（W）或钴碳化钨（WC-Co）。本实施方式中，基体10优选为超硬合金材料。
保护层20为具有弹性的有机高分子材料，如树脂或橡胶等有机材料。树脂可以为带羟基直链聚酯树脂或聚氨酯弹性体改性的聚酯树脂，橡胶可以为天然橡胶或合成橡胶，合成橡胶可以为丁苯橡胶、顺丁橡胶或有机硅胶等。其中有机硅胶可以为单组分室温硫化硅橡胶、甲基双苯基硫化硅胶、聚β-腈乙基甲基硅氧烷、二甲基硅氧烷硅胶等。本实施方式中，保护层20优选为有机硅胶，且进一步优选为二甲基硅氧烷硅胶。
本实施方式中，保护层20为通过滚轮涂布法于基体10的背面103上均匀形成。可以理解，保护层20也可以为通过注塑成型方法于背面103上形成。
请参阅图2，模仁100的制造方法包括以下步聚：
S101：提供一基体10，其具有一背面103。基体10为由陶瓷、金属陶瓷或超硬合金等材料制造，包括SiC、Si、Si3N4、ZrO2、Al2O3、TiN、TiO2、TiC、B4C、WC、W或WC-Co。本实施方式中，基体10优选为超硬合金材料。对基体10进行清洗，清洗方式可包括超声波震荡清洗或溅射清洗，以除去背面103的油污、氧化物等。
S102：提供一有机高分子液体。有机高分子材料可选树脂或橡胶等固态时具有弹性的有机高分子材料。树脂可以为带羟基直链聚酯树脂或聚氨酯弹性体改性的聚酯树脂，橡胶可以为天然橡胶或合成橡胶，合成橡胶可以为丁苯橡胶、顺丁橡胶或有机硅胶等，有机硅胶可以为单组分室温硫化硅橡胶、甲基双苯基硫化硅胶、聚β-腈乙基甲基硅氧烷、二甲基硅氧烷硅胶等。本实施方式中，有机高分子液体为二甲基硅氧烷液体有机硅胶。
S103：以上述有机高分子液体为材料在上述背面103上形成一层保护层20。保护层20可通过该有机高分子液体采用滚轮涂布法或喷涂法在背面103上形成。本实施方式中，保护层20优选为通过将所述有机高分子液体采用滚轮涂布法在背面103上形成。将有机高分子液体倾倒于基体10的背面103上，再通过滚轮将所述有机高分子液体在背面103均匀涂布，静置一定时间或放入烘箱烘烤，使有机高分子液体固化，从而在背面103上形成保护层20。本实施方式中，滚轮涂布后，优选将模仁100放入烘箱烘烤使有机高分子液体固化，烘烤温度低于60℃。
可以理解，上述S102中，还可以在有机高分子液体中填加液体固化剂。将液体固化剂摇匀后与有机高分子液体混合，再用搅拌棒搅拌均匀，得到含有固化剂的有机高分子液体，从而缩短S103中涂布后有机高分子液体固化的时间。
本实施方式的模仁100在背面103上形成一层具有弹性的保护层20，当模仁100用于射出成型制程，在较大的注射压力的冲击下，保护层20在基体10的背面103与模具之间起到缓冲作用，避免了背面103与模具发生碰撞而产生刮伤、裂痕、点伤等缺陷，使模仁背面与模具之间配合平整，保证了模仁的成型面的位置精度，从而保证了成型产品的成型质量。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。
Claims (10)
1.一种模仁，包括基体，该基体包括成型面和与该成型面相对的背面，其特征在于：该模仁还包括保护层，该保护层形成于该背面。
2.如权利要求1所述的模仁，其特征在于：该基体由碳化硅、硅、氮化硅、氧化锆、氧化铝、氮化钛、氧化钛、碳化钛、碳化硼、碳化钨、钨或钴碳化钨制成。
3.如权利要求1所述的模仁，其特征在于：该保护层为具有弹性的有机高分子材料。
4.如权利要求3所述的模仁，其特征在于：该保护层为有机硅胶。
5.如权利要求4所述的模仁，其特征在于：该保护层为二甲基硅氧烷硅胶。
6.一种模仁制备方法，其包括：
提供一基体，该基体具有一背面；
提供一有机高分子液体；
以该有机高分子液体为原料在该背面上形成保护层。
7.如权利要求6所述的模仁制备方法，其特征在于：该基体在形成该保护层前经过超声波清洗，去除该背面的油污及氧化物。
8.如权利要求6所述的模仁制备方法，其特征在于：该有机高分子液体中添加有固化剂。
9.如权利要求6所述的模仁制备方法，其特征在于：该有机高分子液体通过滚轮涂布在该背面均匀涂布，在该背面形成该保护层。
10.如权利要求9所述的模仁制备方法，其特征在于：该有机高分子液体在该背面均匀涂布后，将该模仁放入烘箱烘烤，使该有机高分子液体固化，形成该保护层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201110384376 CN103128917A (zh) | 2011-11-28 | 2011-11-28 | 模仁及其制备方法 |
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| CN 201110384376 CN103128917A (zh) | 2011-11-28 | 2011-11-28 | 模仁及其制备方法 |
Publications (1)
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| CN103128917A true CN103128917A (zh) | 2013-06-05 |
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ID=48489682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN 201110384376 Pending CN103128917A (zh) | 2011-11-28 | 2011-11-28 | 模仁及其制备方法 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN103128917A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109533425A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-03-29 | 哈尔滨商业大学 | 基于有机硅胶pdms的航空发动机轴承全封闭包装方法 |
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2011
- 2011-11-28 CN CN 201110384376 patent/CN103128917A/zh active Pending
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130605 |