CN103084325A - 坩埚及其涂层方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种坩埚及其涂层方法,公开的涂层方法包括以下步骤:制作涂料,涂料中包括六方氮化硼和纯水;将涂料喷涂在坩埚的内壁;将坩埚风干。坩埚与六方氮化硼反应的可能性很小,硅料不易粘锅,发生泄露的可能性明显降低,硅料生产时的安全可靠性得到提高。同时,涂层与液硅的润湿性很差,在承载液态硅的情况下不易与硅料产生粘连;另外由于六方氮化硼本身具有良好的润滑性,这使得硅锭脱模良好;而且,使用本发明的涂层可以明显使硅锭生长中的热传导更加均匀,改善硅锭的内在品质。因此,该涂层方法既可以减少坩埚与液态硅料的粘连和渗透,充当一个保护层的作用,而且可以起到润滑和脱模的作用,有利提高硅料的生产质量和生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及硅料生产技术领域,特别是涉及一种生产硅料的坩埚。此外,本发明还涉及一种应用在此坩埚上的涂层方法。
背景技术
在光伏太阳能领域和半导体领域,应用最多的一种半导体材料是单晶硅/多晶硅材料。单/多晶硅材料的制备方法是通过投入原硅料至一个坩埚系统中,坩埚一般都使用石英陶瓷坩埚,其主要成分是二氧化硅。原硅料先在坩埚内熔化为液态,然后再定向降温生长出符合要求的单/多晶硅。目前行业的趋势是生产尺寸更大的产品,这样就使生产周期增长,液态硅料需要长时间和坩埚接触,不仅容易引入杂质影响硅块的生产质量,更会对生产安全造成很大的隐患。
以铸造多晶硅锭为例,铸造多晶硅锭需要按照一定配比准备好硅料(硅原料和非原硅料),然后在一个长方体形状的坩埚中装入硅料,最后将其投入铸锭炉中经过加热、熔化、生长、退火、冷却五个阶段,使坩埚中的硅料熔化,然后降温开始定向生长,最终生产出合格的多晶硅锭。现有技术中,铸造一个600kg的硅锭,整个生产周期大概是70个小时,其中有40-50个小时的时间内在坩埚中都是存在这液态硅,液态硅长时间直接与坩埚接触容易与坩埚发生反应,造成粘埚甚至泄露,最终引发安全生产事故。
请参考图1,图1为现有技术中一种典型坩埚涂层方法的工序流程图。
目前的坩埚涂层工艺分为四步:
S11、将氮化硅(Si3N4)粉末与纯水按照质量比约为1/4—1/5进行称量,按照上述配比搅拌均匀待用;
S12、对坩埚内壁进行清洁,确认坩埚内壁洁净后,将坩埚放置在加热器上,使坩埚的温度上升至40℃-120℃;
S13、使用之前准备好的涂料在其上喷涂一层Si3N4,喷涂过程中水分蒸发掉,在坩埚内壁上留下相对致密的氮化硅粉体;
S14、将喷涂后的坩埚放入窑炉中,温度在1000℃以上,整个烧结周期在24个小时左右。
上述坩埚烧结完成后,等待坩埚冷却到室温后在其中装入硅料,使用叉车将其放入铸锭炉中,加热过程中最高温度可以达到1560℃左右,运行大概70个小时左右的时间,产品即生产完毕。
上述的坩埚涂层在应用中存在以下几点不足:
A、现有技术所用的氮化硅在常温下的主要成分α-Si3N4,会在温度1300℃左右发生相变,生成β-Si3N4,上述变化使得涂层内部出现了不稳定性,影响涂层的质量,增加硅料粘埚、甚至是泄露的可能性;
B、氮化硅涂层本身虽然具有一定的耐高温能力,但是其热传导性能较差,而随着技术的进步,使用导热能力更强的硅料承载器具是行业发展的趋势,这样可以明显改善加热的均匀性,所以坩埚和涂层材料的低热传导性不能很好地适应生产需要;
C、氮化硅为密排六方结构,导致它的硬度较大,氮化硅涂层较为致密,所以脱模效果不理想;而且容易与熔硅发生润湿,使得硅料粘结在涂层上,特别是对于铸锭领域来讲,会给多晶硅锭的生长带来很大的影响,容易导致硅锭四周因为与坩埚涂层粘连而产生裂纹;
D、现有技术需要对喷涂完毕的涂层进行一次烘烤,费时费力,使得坩埚的使用效率不高,间接影响了硅块的生产效率。
因此,如何提高坩埚的使用效率、硅块的生产效率和生产质量,是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种坩埚涂层方法,该涂层方法可以有效提高坩埚的涂层效率,减少坩埚与硅料发生反应的可能。本发明的另一目的是提供一种利用上述涂层方法制作的坩埚,利用该坩埚可以有效提高硅块的生产效率和生产质量。
为实现上述发明目的,本发明提供一种坩埚的涂层方法,其特征在于,包括以下步骤:1)制作涂料,所述涂料中包括六方氮化硼和纯水;2)将所述涂料喷涂在所述坩埚的内壁;3)将所述坩埚风干。
优选地,所述涂料中还包括粘合剂。
优选地,所述粘合剂为硅溶胶或聚乙烯醇。
优选地,所述制作所述涂料的步骤包括:11)将六方氮化硼与纯水搅拌5~12分钟;12)加入粘合剂继续搅拌5~12分钟。
优选地,所述六方氮化硼、粘合剂和纯水的质量比为1:1/5~1/3:3~5。
优选地,在所述坩埚风干的步骤中,在所述坩埚的顶部设置盖板。
本发明还提供一种坩埚,其内壁涂有涂层,所述涂层采用如上述任一项所述的涂层方法制作而成。
本发明所提供的坩埚涂层方法,包括以下步骤:1)制作涂料,所述涂料中包括六方氮化硼和纯水;2)将所述涂料喷涂在所述坩埚的内壁;3)将所述坩埚风干。与现有技术不同的是,喷涂在坩埚内壁的涂料中包括六方氮化硼,六方氮化硼的分子式为BN,具有白色石墨之称,具有类似石墨的层状结构,有良好的润滑性、电绝缘性、导热性和耐化学腐蚀性。化学性质稳定对所有熔融金属化学呈惰性,成型制品便于机械加工,有很高的耐湿性。在氮气压力下熔点为3000℃,在大气压下与2500℃升华。其理论密度为2.29克/立方厘米。莫氏硬度2,抗氧温度900℃,耐高温2000℃,在氮和氩中使用熔点为3000℃。在氩气气氛下直至2700℃仍是稳定的。铸锭炉是在氩气气氛下运行的,运行过程中的最高温度可以达到1560℃,氮化硼是化学惰性的材料,在氩气气氛下直至2700℃仍是稳定的。因此,坩埚与氮化硼反应的可能性很小,硅料不易粘锅,发生泄露的可能性明显降低,硅料生产时的安全可靠性得到提高。
同时,六方氮化硼涂层与液硅的润湿性很差,在承载液态硅的情况下不易与硅料产生粘连,另外由于六方氮化硼本身具有良好的润滑性,这使得硅锭脱模良好。
而且,六方氮化硼除了具有良好的热稳定性之外,还具有优良的热传导性,使用本发明的氮化硼涂层可以明显使硅锭生长中的热传导更加均匀,改善硅锭的内在品质。
在一种优选的实施方式中,所述涂料中还包括粘合剂,在涂料中加入粘合剂,可以使涂层结合的更加致密,经实验发现可以省去涂层烧结的过程,仅通过通风干燥就可以使涂料中的水分蒸发,省去了焙烤的过程,干燥要求低,效率高,节约人力物力。
在另一种优选的实施方式中,在所述坩埚风干的步骤中,在所述坩埚的顶部设置盖板。盖板可以有效隔离杂质,避免外界粉尘等杂质污染涂层,有利于保持涂层质量,进而保护硅料生产时的质量。
在提供上述坩埚的涂层方法的基础上,本发明还提供一种包括利用上述涂层方法制作的坩埚;由于涂层方法具有上述技术效果,采用该涂层方法喷涂的坩埚也具有相应的技术效果。
附图说明
图1为现有技术中一种典型坩埚涂层方法的工序流程图;
图2为本发明所提供坩埚涂层方法第一种具体实施方式的工艺流程图;
图3为本发明所提供坩埚涂层方法第三种具体实施方式的工艺流程图。
具体实施方式
本发明的核心是提供一种坩埚涂层方法,该涂层方法可以有效提高坩埚的涂层效率,减少坩埚与硅料发生反应的可能。本发明的另一核心是提供一种利用上述涂层方法制作的坩埚,利用该坩埚可以有效提高硅块的生产效率和生产质量。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
需要说明的是,本发明主要应用于制备单晶硅/多晶硅领域中,下文以铸造多晶硅锭为例来进行介绍。
另外,本说明书中将提到两个术语,为了便于读者理解,对此术语进行解释。
润湿性:固体的润湿性用润湿角表示,当液滴滴在固体表面时,润湿性不同可出现不同形状,润湿性越好表示液体越容易和固体发生粘连,两者之间的相互作用越大。
润湿角:液滴在固液接触边缘的切线与固体平面间的夹角称为润湿角。润湿角最小为0°,最大为180°。润湿角越小,则润湿性越好。
请参考图2,图2为本发明所提供坩埚涂层方法第一种具体实施方式的工艺流程图。
在第一种具体的实施方式中,本发明所提供的坩埚涂层方法,包括以下步骤:
S21、制作涂料,所述涂料中包括六方氮化硼和纯水;
S22、将所述涂料喷涂在所述坩埚的内壁,喷涂过程中坩埚温度控制在50℃-100℃之间;
S23、将所述坩埚风干。
喷涂在坩埚内壁的涂料中包括六方氮化硼,六方氮化硼的分子式为BN,具有白色石墨之称,具有类似石墨的层状结构,有良好的润滑性、电绝缘性、导热性和耐化学腐蚀性。化学性质稳定对所有熔融金属化学呈惰性,成型制品便于机械加工,有很高的耐湿性。在氮气压力下熔点为3000℃,在大气压下与2500℃升华。其理论密度为2.29克/立方厘米。莫氏硬度2,抗氧温度900℃,耐高温2000℃,在氮气和氩气中使用熔点为3000℃。铸锭炉是在氩气气氛下运行的,运行过程中的最高温度可以达到1560℃,氮化硼是化学惰性的材料,在氩气气氛下直至2700℃仍是稳定的。因此,坩埚与氮化硼反应的可能性很小,硅料不易粘锅,发生泄露的可能性明显降低,硅料生产时的安全可靠性得到提高。
同时,六方氮化硼涂层与液硅的润湿性很差,在承载液态硅的情况下不易与硅料产生粘连,另外由于六方氮化硼本身具有良好的润滑性,这使得硅锭脱模良好。
而且,六方氮化硼除了具有良好的热稳定性之外,还具有优良的热传导性,使用本发明的氮化硼涂层可以明显使硅锭生长中的热传导更加均匀,改善硅锭的内在品质。
在第二种具体的实施方式中,上述涂料中还可以包括粘合剂,在涂料中加入粘合剂,可以使涂层结合的更加致密,经实验发现可以省去涂层烧结的过程,仅通过通风干燥就可以使涂料中的水分蒸发,省去了焙烤的过程,干燥要求低,效率高,节约人力物力,提高生产硅料的生产效率。
具体地,上述的粘合剂可以是硅溶胶,也可以是聚乙烯醇;质量比按照1份六方氮化硼粉末,配比3至5份纯水,1/5份1/3份的粘结剂。按照此配比配置的涂料粘稠度适当,既保证了六方氮化硼粉体均匀分散在涂料中,同时避免涂料中水分多导致喷涂时间过长,降低生产效率。要在保证涂层结合致密的前提下尽量减少粘结剂的用量,以避免粘结剂影响涂层的导热性、润湿性以及涂层的纯净度。单个坩埚喷涂视不同坩埚的大小不同,需要使用此涂料2000g至5000g。
进一步地,上述的纯水要求电阻率在13MΩ*cm以上,以避免水中的离子污染涂层;六方氮化硼纯度在99%以上,以便减少杂质引入,粒度要求在200目左右,使涂料颗粒度均匀,大小适中,以提高涂层的致密度,进而提高涂料的质量。
请参考图3,图3为本发明所提供坩埚涂层方法第三种具体实施方式的工艺流程图。
在第三种具体的实施方式中,本发明所提供的涂层方法包括以下步骤:
S31、将六方氮化硼与纯水搅拌5~12分钟,优选为10分钟,进行高速充分搅拌,使六方氮化硼与水充分混合在一起;
S32、加入粘合剂继续搅拌5~12分钟,优选为10分钟,也进行高速充分搅拌,使粘合剂与六方氮化硼和水充分混合在一起,形成可以使用的涂料;
S33、将所述涂料喷涂在所述坩埚的内壁,喷涂过程中坩埚温度控制在50℃-100℃之间;
S34、将所述坩埚风干。此步骤中,可以在所述坩埚的顶部设置盖板。盖板可以有效隔离杂质,避免外界粉尘等杂质污染涂层,有利于保持涂层质量,进而保护硅料生产时的质量。经过风干的坩埚即可以用于装载硅原料,投入生产。
铸锭炉是在氩气气氛下运行的,运行过程中的最高温度可以达到1560℃,氮化硼是化学惰性的材料,在氩气气氛下直至2700℃仍是稳定的。因此,坩埚与氮化硼反应的可能性很小,硅料不易粘锅,发生泄露的可能性明显降低,硅料生产时的安全可靠性得到提高。
同时,六方氮化硼涂层与液硅的润湿性很差,在承载液态硅的情况下不易与硅料产生粘连,另外由于六方氮化硼本身具有良好的润滑性,这使得硅锭脱模良好。
而且,六方氮化硼除了具有良好的热稳定性之外,还具有优良的热传导性,使用本发明的氮化硼涂层可以明显使硅锭生长中的热传导更加均匀,改善硅锭的内在品质。
这样,本发明所提供的涂层方法既可以减少坩埚与液态硅料的粘连和渗透,充当一个保护层的作用,防止液态硅料腐蚀坩埚,而且可以起到润滑和脱模的作用,有利提高硅料的生产质量和生产效率。
在一种优选的实施方式中,在上述坩埚风干的步骤中,可以在所述坩埚的顶部设置盖板。盖板可以有效隔离杂质,避免外界粉尘等杂质污染涂层,有利于保持涂层质量,进而保护硅料生产时的质量。
除了上述涂层方法,本发明还提供一种利用上述涂层方法喷涂的坩埚,该坩埚其他各部分的结构请参考现有技术,本文不再赘述。
以上对本发明所提供的坩埚及其涂层方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (7)
1.一种坩埚的涂层方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)制作涂料,所述涂料中包括六方氮化硼和纯水;
2)将所述涂料喷涂在所述坩埚的内壁;
3)将所述坩埚风干。
2.根据权利要求1所述的坩埚的涂层方法,其特征在于,所述涂料中还包括粘合剂。
3.根据权利要求2所述的坩埚的涂层方法,其特征在于,所述粘合剂为硅溶胶或聚乙烯醇。
4.根据权利要求2或3所述的坩埚的涂层方法,其特征在于,所述制作所述涂料的步骤包括:
11)将六方氮化硼与纯水搅拌5~12分钟;
12)加入粘合剂继续搅拌5~12分钟。
5.根据权利要求2或3所述的坩埚的涂层方法,其特征在于,所述六方氮化硼、粘合剂和纯水的质量比为1:1/5~1/3:3~5。
6.根据权利要求2或3所述的坩埚的涂层方法,其特征在于,在所述坩埚风干的步骤中,在所述坩埚的顶部设置盖板。
7.一种坩埚,其内壁涂有涂层,其特征在于,所述涂层采用如权利要求1-6任一项所述的涂层方法制作而成。
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