CN103060762A - 钼铌合金靶材的生产工艺 - Google Patents

钼铌合金靶材的生产工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN103060762A
CN103060762A CN2013100103963A CN201310010396A CN103060762A CN 103060762 A CN103060762 A CN 103060762A CN 2013100103963 A CN2013100103963 A CN 2013100103963A CN 201310010396 A CN201310010396 A CN 201310010396A CN 103060762 A CN103060762 A CN 103060762A
Authority
CN
China
Prior art keywords
powder
molybdenum
target
niobium alloy
production process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2013100103963A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103060762B (zh
Inventor
吴文斌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JIANGXI KETAI NEW MATERIALS CO Ltd
Original Assignee
JIANGXI KETAI NEW MATERIALS CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JIANGXI KETAI NEW MATERIALS CO Ltd filed Critical JIANGXI KETAI NEW MATERIALS CO Ltd
Priority to CN201310010396.3A priority Critical patent/CN103060762B/zh
Publication of CN103060762A publication Critical patent/CN103060762A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103060762B publication Critical patent/CN103060762B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

一种钼铌合金靶材的生产工艺，其特征在于：把高纯的钼粉和铌粉在混料机内混合均匀，铌粉和钼粉按照1：8-9的重量比置于混料机中，在1400～1900℃高温真空煅烧炉内煅烧成钼铌合金，把烧结块用油压机破碎成小块后在玛瑙球磨机中，在氦气保护下研磨。磨球配比为1/3，以公转600的微粉，在真空加压烧结装置中压制成型，压力12～25兆帕，在1450～2020℃压30～90分钟，得到靶坯。在磨床上修整得到成品靶材。本发明的方法工艺流程简单，易于实现工业化生产。无污染，制备过程不会产生任何废料、废酸等污染物。

Description

钼铌合金靶材的生产工艺
技术领域
  本发明属于钼铌合金制备技术领域，具体涉及钼铌合金靶材的生产工艺。
背景技术
钼铌（Mo-Nb）合金具有熔点高，高温强度高，耐腐蚀等优异性能，是重要的高温结构材料。钼铌合金在航天，航空，核工业，武器，电子，医学等高科技领域有广阔的应用前景。钼铌合金靶材是把钼铌合金通过离子溅射镀覆到基材上的基本原料。由于钼铌合金均属于置换固溶体合金，烧结致密难。采用普通等静压制后由于最大压制压力限制压坯密度较低，由于压坯孔隙度高，导致烧结后板材密度较低，故采用传统的等静压制和烧结方法生产的钼铌合金难以满足溅射靶材用钼铌合金板材的生产要求。
发明内容
   本发明的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种工艺流程简单的钼铌合金靶材的生产工艺
本发明采用的技术方案是：一种钼铌合金靶材的生产工艺采用粉末冶金原理，设计了适合加工这种材料的生产工艺。具体工艺流程为：混料→钼铌合金粉末煅烧→球磨机制粉→压制成型→用磨床精加工成靶材→清洗→真空包装→质检→进库。这是粉末冶金的基本流程，其中创新点在煅烧、制粉和压制三个工序。
具体加工过程是，把高纯的钼粉和铌粉在混料机内混合均匀，铌粉和钼粉按照1：8-9的重量比置于混料机中，在1400～1900℃高温真空煅烧炉内煅烧成钼铌合金。把烧结块用油压机破碎成小块后在玛瑙球磨机中，在氦气保护下研磨。磨球配比为1/3，以公转600的微粉。在真空加压烧结装置中压制成型，压力12～25兆帕，在1450～2020℃压30～90分钟，得到靶坯。在磨床上修整得到成品靶材。
本发明煅烧时。钼铌合金是高纯材料，不能用普通的熔炼炉在空气中熔炼，必须采用真空煅烧炉煅烧。为了保证高纯，不被氧化和污染，不能用普通的球磨机在空气中研磨。采用玛瑙球磨机，在氦气保护下研磨。研磨速度要适中不能温度过高。也因为是高纯材料，而且要得到致密度高，均匀的靶材，不能用普通冷压烧结，必须采用真空加压烧结成型。
本发明钼铌合金靶材产品的性能和规格如下
性能：纯度：99.95% ～99.995%；晶粒度：5～120μm；相对密度：＞95%。
规格：圆形靶  直径25～900mm，厚1～50mm。
      矩形靶  长1～900mm，宽1～450mm，厚1～50mm。
本发明与现有技术相比具有以下优点：
本发明的方法工艺流程简单，易于实现工业化生产。无污染，制备过程不会产生任何废料、废酸等污染物。
具体实施方式
实施例l
一种钼铌合金靶材的生产工艺，把高纯的钼粉和铌粉在混料机内混合均匀，铌粉和钼粉按照1：8-9的重量比置于混料机中，在1400～1900℃高温真空煅烧炉内煅烧成钼铌合金。把烧结块用油压机破碎成小块后在玛瑙球磨机中，在氦气保护下研磨。磨球配比为1/3，以公转600的微粉。在真空加压烧结装置中压制成型，压力12～25兆帕，在1450～2020℃压30～90分钟，得到靶坯。在磨床上修整得到成品靶材。

Claims (1)

1.一种钼铌合金靶材的生产工艺，其特征在于：把高纯的钼粉和铌粉在混料机内混合均匀，铌粉和钼粉按照1：8-9的重量比置于混料机中，在1400～1900℃高温真空煅烧炉内煅烧成钼铌合金，把烧结块用油压机破碎成小块后在玛瑙球磨机中，在氦气保护下研磨,磨球配比为1/3，以公转600的微粉，在真空加压烧结装置中压制成型，压力12～25兆帕，在1450～2020℃压30～90分钟，得到靶坯,在磨床上修整得到成品靶材。
CN201310010396.3A 2013-01-11 2013-01-11 钼铌合金靶材的生产工艺 Active CN103060762B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310010396.3A CN103060762B (zh) 2013-01-11 2013-01-11 钼铌合金靶材的生产工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310010396.3A CN103060762B (zh) 2013-01-11 2013-01-11 钼铌合金靶材的生产工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103060762A true CN103060762A (zh) 2013-04-24
CN103060762B CN103060762B (zh) 2018-02-23

Family

ID=48103649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310010396.3A Active CN103060762B (zh) 2013-01-11 2013-01-11 钼铌合金靶材的生产工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103060762B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105887027A (zh) * 2016-05-11 2016-08-24 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种钼铌合金溅射靶材的制备工艺
CN106001584A (zh) * 2016-07-26 2016-10-12 大连理工大学 一种铸造法安全生产硅锆均匀混合金粉末工艺
CN107470625A (zh) * 2017-08-15 2017-12-15 唐山国丰钢铁有限公司 一种制备高纯材料的粉末冶金方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6487769A (en) * 1987-09-29 1989-03-31 Mitsubishi Metal Corp Manufacture of sputtering target material for forming ta-si-o thin resistance film
JPH04191366A (ja) * 1990-11-22 1992-07-09 Mitsubishi Materials Corp シリサイドターゲットおよびその製造方法
CN1660526A (zh) * 2004-02-27 2005-08-31 日立金属株式会社 制备Mo合金制靶材料的方法
CN101198716A (zh) * 2005-06-15 2008-06-11 日矿金属株式会社 溅射靶用氧化铬粉末及溅射靶
CN102251162A (zh) * 2011-07-07 2011-11-23 西安交通大学 一种高性能纳米氧化镧掺杂钼-硅-硼合金的制备方法
CN102337418A (zh) * 2011-10-29 2012-02-01 西安瑞福莱钨钼有限公司 一种溅射靶材用钼铌合金板的制备方法
CN102363215A (zh) * 2011-11-04 2012-02-29 中南大学 铬铝合金靶材的粉末真空热压烧结制备方法
CN102756126A (zh) * 2011-04-28 2012-10-31 日立金属株式会社 MoCr 靶材的制造方法及MoCr 靶材

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6487769A (en) * 1987-09-29 1989-03-31 Mitsubishi Metal Corp Manufacture of sputtering target material for forming ta-si-o thin resistance film
JPH04191366A (ja) * 1990-11-22 1992-07-09 Mitsubishi Materials Corp シリサイドターゲットおよびその製造方法
CN1660526A (zh) * 2004-02-27 2005-08-31 日立金属株式会社 制备Mo合金制靶材料的方法
CN101198716A (zh) * 2005-06-15 2008-06-11 日矿金属株式会社 溅射靶用氧化铬粉末及溅射靶
CN102756126A (zh) * 2011-04-28 2012-10-31 日立金属株式会社 MoCr 靶材的制造方法及MoCr 靶材
CN102251162A (zh) * 2011-07-07 2011-11-23 西安交通大学 一种高性能纳米氧化镧掺杂钼-硅-硼合金的制备方法
CN102337418A (zh) * 2011-10-29 2012-02-01 西安瑞福莱钨钼有限公司 一种溅射靶材用钼铌合金板的制备方法
CN102363215A (zh) * 2011-11-04 2012-02-29 中南大学 铬铝合金靶材的粉末真空热压烧结制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
中国机械工程学会塑性工程学会: "《锻压手册 锻造 第3版》", 31 January 2008, 机械工业出版社 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105887027A (zh) * 2016-05-11 2016-08-24 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种钼铌合金溅射靶材的制备工艺
CN105887027B (zh) * 2016-05-11 2018-06-29 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种钼铌合金溅射靶材的制备工艺
CN106001584A (zh) * 2016-07-26 2016-10-12 大连理工大学 一种铸造法安全生产硅锆均匀混合金粉末工艺
CN107470625A (zh) * 2017-08-15 2017-12-15 唐山国丰钢铁有限公司 一种制备高纯材料的粉末冶金方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103060762B (zh) 2018-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106518089B (zh) 一种高性能大尺寸氮化硅陶瓷材料的制备方法
CN104291827B (zh) 酚醛树脂为碳源固相烧结制备复杂形状碳化硅陶瓷工艺
CN102311268B (zh) 一种高致密碳化硅陶瓷球及其制备方法
CN103601473B (zh) 一种高纯度、高致密度氧化镁陶瓷
CN105272261A (zh) 一种无压烧结碳化硼陶瓷制备方法
CN107399988B (zh) 一种利用铝硅系工业废渣制备氧化铝-碳化硅复合多孔陶瓷的方法
CN105272269A (zh) 一种氮化硅/六方氮化硼纳米复相陶瓷的制备方法
CN102442819A (zh) 一种低成本制备高性能大型氧化铝制品的方法
CN102002605A (zh) 溅射靶材用钨钛合金板的制备方法
CN101648814A (zh) 一步固相反应法制备高性能陶瓷的方法
CN102807207A (zh) 一种细结构的高密度、高强度石墨制品的生产方法
CN104841938A (zh) 一种高性能异形铁钴系软磁合金零件的制备方法
CN103060762A (zh) 钼铌合金靶材的生产工艺
CN103787650A (zh) 一种制备ito靶材的方法
CN101983806B (zh) 一种钨基高比重合金薄板的制备方法
CN105478745B (zh) 一种低温烧结制备钨板坯的方法
KR102276073B1 (ko) 펠릿화된 핵 세라믹 연료의 제조 방법
CN102162044B (zh) 一种碳化钨/钴系多孔材料的制备方法
CN103602927B (zh) 一种无铅轴承钢及其制备方法
CN110668820A (zh) 一种高性能极细结构炭素石墨制品的制备方法
CN104894448B (zh) 一种钒硅合金靶材及其制备方法
CN105913888A (zh) 一种高温气冷堆控制棒用核级碳化硼芯块制备方法
CN108975877A (zh) 一种重金属矿渣制造建材用砖的方法
CN107778011A (zh) 一种石墨烯复合SiC木质陶瓷材料的制备方法
CN103992109B (zh) 一种氧化锆和氧化钇混合物陶瓷靶材的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant