CN103029029A - 玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够降低玻璃板的损坏发生率的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。实施方式的监控系统始终监控玻璃板（G）相对于吸附片（22）的异常吸附状态，在判定为异常时，不实施该玻璃板的研磨，停止研磨部（18）或使警报装置发出警告声，向操作员报告异常。实施方式的监控系统在具有甘油涂敷部（12）、板吸附部（14）及研磨部的普通设备的玻璃板研磨装置（10）中，在板吸附部和研磨部之间包括具有拍摄部（16）的判定部（20）。拍摄部通过光源（38）对从板吸附部向研磨部移动的吸附片进行照明，通过相机（40）对该反射光进行拍摄。而且，判定部（20）基于由相机拍摄的图像来判定玻璃板是否正常地吸附于吸附片。

Description

玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统

技术领域

本发明涉及玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。

背景技术

液晶显示器、等离子显示器等所使用的FPD（Flat Panel Display：平板显示器）用的玻璃板如下加工而成，将熔融玻璃成形为板状，然后，在通过切断装置切成规定的矩形尺寸的玻璃板后，通过倒角装置的倒角用砂轮对该端面进行倒角加工。然后，所述玻璃板通过利用研磨装置研磨去除表面的微小凹凸或波纹，被制造为满足FPD用玻璃板所要求的平面度的薄板状的玻璃板。作为所述玻璃板的尺寸，以纵横尺寸超过1000mm为主流，其厚度为0.7mm以下。

专利文献1中所公开的研磨装置包括：板贴附台，向张设于膜框的吸附片贴附玻璃板；膜框安装台，将膜框安装于支架；及研磨台，使安装有膜框的支架和研磨加工台相对地靠近，将贴附于所述吸附片的玻璃板的研磨面推向研磨加工台的研磨垫而进行研磨。

所述吸附片由具有自身吸附性的多孔质部件构成，为了防止吸附于吸附片的玻璃板的非研磨面的干燥或提高吸附片的自身吸附力，玻璃板经由液体而吸附于吸附片。在专利文献2所公开的晶片的研磨方法中，通过使甘油等液体介于晶片的非研磨面和晶片载置用板之间，可以提高晶片的非研磨面和所述载置用板的吸附力。另外，在规定的涂敷量范围内随着甘油的涂敷量增多吸附片的吸附力增强，但当甘油的涂敷量超过规定的涂敷量时吸附力有降低的趋势。

而且，在将玻璃板载置于吸附片之前，通过相机等拍摄单元或传感器等检测单元来检查在吸附片的吸附面是否附着有玻璃片、吸附片碎片、研磨工具片及研磨剂等异物。

专利文献1：日本特开2004-122351号公报

专利文献2：日本特开6-61203号公报

发明内容

在研磨装置中，希望监控玻璃板是否正常吸附于吸附片，但在设备复杂的研磨装置中，难以用目测监控。特别是在如专利文献1所示的研磨装置那样，使玻璃板的非研磨面吸附于吸附片的下表面而进行研磨的装置中，设备复杂且必须从支架的下方仰视吸附片，因此进行目测监控非常困难。

本发明鉴于以上情况而被作出的，其目的在于提供一种能够监控玻璃板相对吸附片的吸附状态的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。

首先，对玻璃板相对吸附片的吸附状态的异常形态进行说明。

第一异常形态是由于对吸附片的甘油的涂敷量过多及涂敷量过少而使吸附片的吸附力降低的形态。

第二异常形态是两片以上的玻璃板吸附于吸附片的形态。该形态包含在残留于吸附片的玻璃片吸附新的玻璃板的形态。

第三异常形态是吸附片未吸附有玻璃板的形态。

第四异常形态是相对于框体玻璃板偏离正规的位置而吸附于吸附片的形态。

本发明着眼于上述第一~第四异常形态而作出。以下，对本发明进行说明。

本发明为了完成所述目的，提供一种玻璃板研磨装置的监控方法，包括：液体涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；拍摄工序，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；判定工序，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

而且，本发明为了完成所述目的，提供一种玻璃板研磨装置的监控系统，包括：液体涂敷单元，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；吸附单元，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；拍摄单元，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；判定单元，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨单元，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

根据本发明，在具有液体涂敷工序、吸附工序及研磨工序的玻璃板研磨装置中，在所述吸附工序和所述研磨工序之间包括拍摄工序和判定工序。所述拍摄工序对从所述吸附工序向所述研磨工序移动的吸附片进行照明，通过拍摄单元对该反射光进行拍摄。所述判定工序基于由所述拍摄单元拍摄的图像来判定玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片。

因此，本发明能够监控玻璃板相对吸附片的吸附形态。另外，在研磨装置配置所述拍摄单元，因而不需要目测监控，而且，在设备复杂的研磨装置中也能够进行所述判定。

优选地，在本发明的所述判定工序中，算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

优选地，所述判定单元算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

本发明对所述的第一异常形态进行判定。

在相对于吸附片的液体的涂敷量比最佳值多的状态下玻璃板吸附于吸附片时，拍摄单元感受来自吸附片的反射光的光量比来自玻璃板的反射光的光量多。因此，拍摄单元对吸附片的颜色（例如亮度比玻璃板的亮度低的黑色）进行拍摄，由于该平均亮度未超过最佳亮度的范围的下限值，因此判定单元判定为由于涂敷量过多玻璃板未能正常地吸附于吸附片。

另外，在相对于吸附片的液体的涂敷量比最佳值少的状态下玻璃板吸附于吸附片时，拍摄单元感受来自玻璃板的反射光的光量比来自吸附片的反射光的光量多。因此，拍摄单元对玻璃板的颜色（例如亮度高的白色）进行拍摄，由于该平均亮度超过最佳亮度的范围的上限值，因此判定单元判定为由于涂敷量过少玻璃板未能正常地吸附于吸附片。

另一方面，当相对于吸附片的液体的涂敷量是最佳值时，拍摄单元感受来自吸附片的反射光和与该反射光大致相同光量的来自玻璃板的反射光。因此，拍摄单元对玻璃板的颜色（例如白色）和吸附片的颜色（例如黑色）混合后的灰色进行拍摄，该平均亮度处于最佳亮度的范围内，因此判定单元判定玻璃板正常地吸附于吸附片。

优选地，在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的白色部分的面积（白色面积），并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。

优选地，本发明的所述判定单元算出所述图像中所包含的白色部分的面积（白色面积），并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。

本发明对所述的第二异常形态进行判定。

当至少两片玻璃板吸附于吸附片时，由于从至少两片玻璃板反射来照明光，因而该部分的图像将成为白色。判定单元算出所述白色部分的面积（白色面积），通过比较算出的白色面积和基准白色面积来判定所述第二异常形态。另外，为了识别来自吸附片的反射光和来自玻璃板的反射光，吸附片的颜色优选为例如黑色等比玻璃板的亮度低的颜色。

优选地，在本发明的所述判定工序中，算出所述图像中所包含的黑色部分的面积（黑色面积），并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积不足所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积为所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附于所述吸附片。

优选地，本发明的所述判定单元算出所述图像中所包含的黑色部分的面积（黑色面积），并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积不足所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积为所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附于所述吸附片。

本发明对所述的第三异常形态进行判定。

当玻璃板未吸附于吸附片时，拍摄单元拍摄例如来自黑色的吸附片的发射光，因此图像将成为黑色。判定单元算出所述黑色部分的面积（黑色面积），通过比较算出的黑色面积和基准黑色面积来判定所述第三异常形态。

优选地，在本发明的所述吸附片吸附有框体，所述框体配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周围，并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具，在所述判定工序中，基于所述图像算出所述玻璃板和所述框体的间隔，比较算出的间隔和预先存储的基准间隔，当所述算出的间隔在所述基准间隔以下或在所述基准间隔以上时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。。

优选地，在本发明的所述吸附片吸附有框体，所述框体配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周围，并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具，所述判定单元基于所述图像算出所述玻璃板和所述框体的间隔，比较算出的间隔和预先存储的基准间隔，当所述算出的间隔在所述基准间隔以下时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

本发明对所述的第四异常形态进行判定。

拍摄单元对例如白色的框体和例如白色的玻璃板进行拍摄，同时拍摄单元对框体和玻璃板之间存在的例如黑色的吸附片进行拍摄。判定单元基于所述吸附片的黑色图像（像素数）算出玻璃板和框体的间隔，在算出的间隔为基准间隔以下或基准间隔以上时，判定为玻璃板未正常吸附于吸附片。

优选地，在本发明的所述吸附工序中，所述玻璃板以所述非研磨面为上表面而吸附于所述吸附片，在所述拍摄工序中，所述吸附片被从该吸附片的下方照射所述照明光。

优选地，在本发明的所述吸附单元中，所述玻璃板以所述非研磨面为上表面而吸附于所述吸附片，在所述拍摄单元中，所述吸附片被从该吸附片的下方照射所述照明光。

根据本发明，将具有拍摄单元的本申请发明适用于使玻璃板的非研磨面吸附于吸附片的下表面进行研磨的装置即目测监控非常困难的研磨装置特别有效。

发明效果

根据本发明的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统，能够监控玻璃板相对吸附片的吸附状态。

附图说明

图1是设置有实施方式的玻璃板研磨装置的监控系统的玻璃板研磨装置的侧视图。

图2是表示实施方式的拍摄部的结构的立体图。

图3是表示实施方式的判定部的结构的框图。

图4是表示相对于吸附片的甘油的涂敷量过多状态的说明图。

图5是表示相对于吸附片的甘油的涂敷量过少状态的说明图。

图6是表示相对于吸附片的甘油的涂敷量最佳状态的说明图。

图7是表示至少两片的玻璃板吸附于吸附片的图像的说明图。

图8是表示玻璃板未吸附于吸附片的图像的说明图。

图9是表示玻璃板和框体之间的间隔的说明图。

图10是表示在玻璃板的各个角部有两点的监控点的说明图。

图11是表示入射到玻璃板的光和由玻璃板的研磨面及非研磨面反射的光的关系的说明图。

图12是表示入射到两片玻璃板的光和由玻璃板的研磨面及非研磨面反射的光的关系的说明图。

标记说明

G 玻璃板

10 研磨装置

12 甘油涂敷部

14 板吸附部

16 拍摄部

18 研磨部

20 判定部

22 吸附片

24 研磨头

26 支架

28 膜框

30 喷嘴

32 甘油

34 工作台

36 辊

38 光源

40 相机

42 研磨垫

44 旋转轴

46 框体

48 反射器

50 放大器

52 图像信号处理部

54 显示器

56 CPU

58 报警器

60 机械手

具体实施方式

以下，根据附图对本发明的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统的优选实施方式进行说明。

图1是设置有实施方式的玻璃板研磨装置的监控系统的玻璃板研磨装置10的侧视图。

如该图所示的研磨装置10从玻璃板G的加工工序的上游侧朝向下游侧依次配置有甘油涂敷部（液体涂敷工序）12、板吸附部（吸附工序）14、拍摄部（拍摄工序）16、研磨部（研磨工序）18及拆卸部（未图示）。而且，在拍摄部16连接有判定部（判定工序）20，由拍摄部16拍摄的图像信号向判定部20输出。判定部20通过对所述图像信号进行信号处理来判定玻璃板G是否正常地吸附于吸附片22。

研磨装置10是将大型的玻璃板G（例如一边超过1800mm，厚度为0.2mm~0.7mm）的研磨面研磨成液晶显示器用玻璃板需要的平面度的研磨装置。

在甘油涂敷部12，膜框28安装于研磨头24的支架26的下部，所述吸附片22张设于该膜框28。在吸附保持玻璃板G的面即吸附片22的下表面的整个表面，从喷嘴（液体涂敷单元）30涂敷甘油（液体）32。另外，举例甘油32作为液体，但也可以是水，也可以是聚乙二醇。但是，甘油32与水相比不易干燥，因此优选甘油32。而且，甘油32作为防止由在研磨部18使用的研磨液造成玻璃板G的缘部污染的防污染液也是适合的。

涂敷有甘油32的吸附片22通过研磨头24沿箭头A所示的移动向板吸附部14搬运，在此玻璃板G的非研磨面经由甘油32吸附保持于吸附片22的下表面。吸附方法如下：首先，通过机械手60将玻璃板G载置于工作台34上。其次，朝向所述玻璃板G使支架26下降移动，由吸附片22吸附玻璃板G的非研磨面。接着，在使支架26上升移动到原来的位置后，使在支架26的侧方配置的辊（吸附单元）36在玻璃板G的研磨面上行驶，使玻璃板G的非研磨面推压并紧贴于吸附片22。另外，所述吸附方法是一个例子。

吸附保持于吸附片22的玻璃板G通过研磨头24沿箭头B所示的移动即从吸附部14向研磨部18的移动而通过拍摄部16的上方。此时，玻璃板G及吸附片22由拍摄部16的光源38照明，并且，该反射光由相机（拍摄单元）40的感光元件感光，从而拍摄玻璃板G及吸附片22。来自相机40的图像信号如前面所述输出到判定部20。

通过拍摄部16的上方的玻璃板G继续通过研磨头24沿箭头B所示的移动向研磨部18搬运。在此，玻璃板G的研磨面被推向研磨垫42而被研磨。研磨方法如下：向支架26和吸附片22之间供给压力流体，通过将该压力流体的压力经由吸附片22向玻璃板G传递，将玻璃板G的研磨面推向研磨垫42。而且，使支架26通过旋转轴44而旋转（包含自转、公转），并且，使研磨垫42旋转从而研磨玻璃板G的研磨面。另外，该研磨方法也是一个例子。

推压抵接于研磨垫42的框体46和玻璃板G一同吸附于吸附片22。该框体46被称为隔板，包围玻璃板G的周围，防止研磨压力集中于玻璃板G的研磨面的边缘部。框体46由不会因研磨垫42进行的研磨而磨损的材料构成，能够列举不锈钢、铁、铝、聚乙烯、聚氨酯。

研磨面被研磨部18研磨的玻璃板G通过研磨头24沿箭头C所示的移动向拆卸部（未图示）搬运，在此处从吸附片上拆卸后，向下一工序（例如清洗工序）搬运。

接着，对拍摄部16及判定部20进行说明。

图2是表示拍摄部16的结构的立体图，是从下方仰视按箭头B（参照图1）移动的支架26的立体图。

拍摄部16由光源38即棒状的荧光灯和相机40即行传感器构成。光源38配置于相对于箭头B所示的移动方向的正交方向上。而且，在光源38的下方，安装有将来自光源38的照明光集中于玻璃板G及吸附片22的反射器48。

所述行传感器的感光元件排列于相对于箭头B所示的移动方向的正交方向上，感受由玻璃板G、吸附片22及框体46反射的、来自光源38的照明光。而且，所述行传感器为输出玻璃板G、吸附片22、框体46的所述正交方向上的每一行的图像信息，通过箭头B所示的支架26的移动对玻璃板G、吸附片22、框体46的全部行进行扫描，能够取得表示玻璃板G、吸附片22、框体46的全部行的图像信号。另外，也可以取代行传感器而使用面传感器。

图3是表示实施方式的判定部20的结构的框图。

来自相机40的图像信号由放大器50放大，向判定部20的图像信号处理部52输出。图像信号处理部52基于由相机40拍摄的图像来判定玻璃板G是否正常地吸附于吸附片22，并且，在显示器54中显示所述图像。

而且，所述判定的结果向集中控制研磨装置10的CPU56输出。CPU56基于所述结果，使研磨装置10的研磨部18的动作停止，使报警装置58发出警告声，控制机械手60而使图1所示的相对于工作台34的玻璃板G的载置位置改变。

接着，对由图像信号处理部52进行的判定方法及由CPU56进行的控制动作进行说明。

首先，本申请发明人对玻璃板G相对吸附片22的吸附状态的异常形态进行讨论及实验，结果发现了下面的形态。

第一异常形态是由于相对于吸附片22的甘油32的涂敷量过多及涂敷量过少而使吸附片22的吸附力降低的形态。此时，在研磨部18的玻璃板G的研磨过程中，玻璃板G相对于吸附片22偏离，而且，在支架26进行的玻璃板G的搬运过程中，玻璃板G从吸附片22落下。

第二异常形态是两片以上的玻璃板G吸附于吸附片22的形态。该形态包含在残留于吸附片22的玻璃片上吸附新的玻璃板G的形态。

第三异常形态是玻璃板G完全未吸附于吸附片22的形态。

第四异常形态是相对于框体46玻璃板G偏离正规的位置而吸附于吸附片22的形态。

在实施方式的监控系统中，始终监控上述第一~第四异常形态，在判定为异常时，不实施该玻璃板G的研磨，使研磨部18停止，使报警装置58发出警告声，向操作员报告异常。

即，实施方式的监控系统在具有甘油涂敷部12、板吸附部14、研磨部18的普通设备的玻璃板研磨装置10中，在板吸附部14和研磨部18之间包括具有拍摄部16的判定部20。

拍摄部16由光源38对从板吸附部14向研磨部18移动的玻璃板G及吸附片22进行照明，通过相机40对该反射光进行拍摄。而且，判定部20基于由相机40拍摄的图像来判定玻璃板G是否正常地吸附于吸附片22。

因此，实施方式的监控系统能够始终监控玻璃板G相对吸附片22的吸附状态。而且，在研磨装置10中配置有拍摄部16，不需要目测监控，而且，能够在设备复杂的研磨装置10中进行所述判定。

接着，对判定所述的第一异常形态的方法进行说明。

判定部20的图像信号处理部52算出所述图像的亮度的平均值，并且，比较该平均值和预先存储的甘油32的涂敷量是最佳值时的最佳亮度的范围。而且，图像信号处理部52在所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为玻璃板G正常地吸附于吸附片22，另一方面，在所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为玻璃板G未正常地吸附于吸附片22。

图4是表示相对于吸附片22的甘油32的涂敷量过多状态的说明图。在相对于吸附片22的甘油32的涂敷量比最佳值的范围的上限值多的状态下玻璃板G吸附于吸附片时，相机40感受来自吸附片22的反射光比来自玻璃板G的研磨面Ga的反射光多。

图11是表示入射到玻璃板G的光和由玻璃板G的研磨面Ga及非研磨面Gb反射的光的关系的说明图。玻璃板G的折射率（绝对折射率：以下的折射率也同样）大致为1.5。图11表示在折射率大致为1.0的空气中存在的玻璃板G的例子。从光源38射出而照射到玻璃板G的光由玻璃板G的研磨面G a反射一部分的光，而剩余的光进入玻璃板G的内部，由玻璃板G的非研磨面Gb反射。而且，玻璃板G的非研磨面Gb的反射光从玻璃板G的研磨面Ga射出。另外，由厚度为0.7mm以下的浮法所制造的玻璃板的可见光波长为0.38~0.78μm的反射率为不足10%，透射率为90%以上。

但是，如图4所示，在玻璃板G的非研磨面Gb较多地涂敷有折射率大致为1.45的甘油32时，进入玻璃板G的内部的光在玻璃板G的非研磨面Gb几乎不反射，从玻璃板G的非研磨面Gb入射到甘油32，进入到甘油32的内部，由吸附片22反射，吸附片22的反射光从玻璃板G的研磨面Ga射出。

在图4中，由相机40感受的光量，从玻璃板G的研磨面Ga射出的来自吸附片22的反射光比来自研磨面Ga的反射光多。

因此，相机40对吸附片22的颜色（例如亮度比玻璃板的亮度低的黑色）进行拍摄，该平均亮度将为不足最佳亮度的范围的下限值的亮度。因此，图像信号处理部52判定为由于甘油32的涂敷量过多，玻璃板G未正常地吸附于吸附片22。

图5是表示相对于吸附片22的甘油32的涂敷量过少状态的说明图。详细说明相对于吸附片22的甘油32的涂敷量比最佳量少的状态，以在玻璃板G和吸附片22之间甘油32和气泡33混在一起的状态下玻璃板G吸附于吸附片22时，相机40感受来自玻璃板G的研磨面Ga的反射光及从玻璃板G的研磨面Ga射出的来自非研磨面Gb的反射光比来自吸附片22的反射光多。

即，图5所示的甘油32的涂敷量过少状态与图11所示的在空气中存在的玻璃板G的状态类似。因此，从光源38射出而照射到玻璃板G的光由玻璃板G的研磨面Ga反射一部分光，而剩余的光进入玻璃板G的内部，由玻璃板G的非研磨面Gb反射，玻璃板G的非研磨面Gb的反射光从玻璃板G的研磨面Ga射出。相机40也感受未由玻璃板G的非研磨面Gb反射而来自吸附片22的反射光，但较多地感受来自玻璃板G的研磨面Ga的反射光及从玻璃板G的研磨面Ga射出的来自非研磨面Gb的反射光。因此，相机40对玻璃板G的颜色（例如辉度高的白色）进行拍摄，由于该平均亮度成为超过最佳亮度的范围的上限值的亮度，因而图像信号处理部52判定为由于甘油32的涂敷量过少，玻璃板G未正常地吸附于吸附片22。

图6是表示相对于吸附片22的甘油32的涂敷量最佳状态的说明图。当相对于吸附片22的甘油32的涂敷量是最佳值时，相机40感受来自吸附片22的反射光的光量和与该反射光大致相同量的来自玻璃板G的反射光（来自研磨面Ga的反射光和来自非研磨面Gb的反射光的和）。因此，相机40对玻璃板G的颜色（例如白色）和吸附片22的颜色（例如黑色）混合的灰色进行拍摄，由于该平均亮度处于最佳亮度的范围内，因而图像信号处理部52判定为玻璃板G正常地吸附于吸附片22。

在使用每像素256级灰度（8bit）的相机40时，例如规定0~50级灰度为黑色，规定51~200级灰度为灰色，规定201~256级灰度为白色，从而能够判定所述第一异常形态。另外，在所述相机40中，规定最佳亮度的范围为51~200级灰度，但优选为80~120级灰度。另外，所述灰度是一个例子，该灰度的等级被适当地设定。而且，最佳亮度的范围为从实验值获得的范围。此外，能够通过照明的亮度、相机40的光圈、软件上的增益来调整由相机40感光的亮度。

接着，对判定所述的第二异常形态的方法进行说明。

图3所示的图形信号处理部52算出图像中所包含的白色部分的面积（以下，称为白色面积。），并且，当该白色面积不足规定的面积（以下，称为基准白色面积）时，判定为一片玻璃板G正常地吸附于吸附片22，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板G吸附于吸附片22。

图7是表示至少两片玻璃板吸附于吸附片的图像的说明图。图7所示的图像是在图3所示的显示器54中显示的图像，示出有黑色区域B、灰色区域Gr、框状的白色区域W1及不规则形状的白色区域W2。

黑色区域B表示甘油32的涂敷量过多区域和位于玻璃板G的四边与框体46之间的吸附片22，灰色区域Gr表示甘油32的涂敷量是最佳的区域。而且，白色区域W1表示框体46。而且，白色区域W2表示甘油32的涂敷量过少区域或吸附有至少两片玻璃板G的区域。

图12是表示入射到两片玻璃板G1、G2的光和分别由玻璃板的研磨面及非研磨面反射的光的关系的说明图。玻璃板G1是相机40及光源38侧的玻璃板，玻璃板G2是吸附片侧的玻璃板。玻璃板G1的非研磨面G1b和玻璃板G2的研磨面G2a紧贴。另外，在层叠玻璃板时在层叠面以玻璃板表面彼此结合的程度的结合力紧贴是公知的，该结合力被认为要根据在两玻璃表面存在的硅烷醇基（Si-OH）之间的氢结合或由部分的脱水缩合形成的化学结合的生成、两玻璃板表面间的范德华力等而定。

从光源38射出而照射到玻璃板G1的光由玻璃板G1的研磨面G1a反射一部分光，而剩余的光进入玻璃板G1的内部，进入到内部的光的一部分由玻璃板G1的非研磨面G1b反射。未由玻璃板G1的非研磨面G1b反射的剩余的光的一部分由玻璃板G2的研磨面G2a反射。而且，未由玻璃板G2的研磨面G2a反射的剩余的光由玻璃板G2的非研磨面G2b反射。非研磨面G1b、研磨面G2a及非研磨面G2b的各反射光从玻璃板G1的研磨面G1a射出。

即，当至少两片玻璃板G吸附于吸附片22时，由于从至少两片玻璃板G反射来照明光，因而该部分的图像如所述白色区域W2那样成为白色。图像信号处理部52为了区别至少两片玻璃板G吸附于吸附片22的形态和甘油32的涂敷量过少的形态，算出白色区域W2的面积，比较算出的白色面积和判断为吸附有至少两片玻璃板G的基准白色面积，来判定是否为所述第二异常形态。另外，基准白色面积是预先存储于图像信号处理部并通过实验得到的面积，也能够作为相对于玻璃板G的非研磨面的面积的面积比来表示。在作为面积比表示时，例如，在使用每像素256级灰度（8bit）的相机40时，将相对于玻璃板G的非研磨面的面积的、180级灰度以上的面积为10%以上判定为至少两片玻璃板G吸附于吸附片22。

接着，对判定所述的第三异常形态的方法进行说明。

图3所示的图像信号处理部52算出图像中所包含的黑色部分的面积（以下，称为黑色面积。），并且，当该黑色面积不足规定的面积（以下，称为基准黑色面积）时，判定为玻璃板G正常地吸附于吸附片22，当所述黑色面积在所述基准黑色面积以上时，判定为玻璃板G未吸附于吸附片22。

图8是表示玻璃板未吸附于吸附片的图像的说明图。图8所示的图像是在图3所示的显示器54中显示的图像，示出有黑色区域B及白色区域W1。

黑色区域B表示甘油32的涂敷量过多区域或玻璃板G未吸附于吸附片22的状态和位于玻璃板G的四边与框体46之间的吸附片22，白色区域W1表示框体46。

即，当玻璃板G未吸附于吸附片22时，由于从吸附片22反射来照明光，因而该部分的图像如所述黑色区域B那样成为黑色。图像信号处理部52为了区别如图8所示的玻璃板G未吸附于吸附片22的形态和如图7所示的甘油32的涂敷量过多的形态，算出黑色区域B的面积，比较算出的黑色面积和判断为玻璃板未吸附于吸附片22的基准黑色面积，来判定所述第三异常形态。另外，基准黑色面积是预先存储于图像信号处理部并通过实验得到的面积，也能够作为相对于玻璃板G的非研磨面的面积的面积比来表示。在作为面积比表示时，例如，在使用每像素256级灰度（8bit）的相机40时，将相对于玻璃板G的非研磨面的面积的、40级灰度以下的面积为50%以上判定为玻璃板G未吸附于吸附片22的状态。

接着，对判定所述的第四异常形态的方法进行说明。

图像信号处理部52基于图像算出玻璃板G和框体46的间隔，在算出的间隔为基准间隔以下或为基准间隔以上时，判定为玻璃板G未正常地吸附于吸附片22。

图9是表示玻璃板和框体之间的间隔的说明图。图9所示的图像是在图3所示的显示器54中显示的图像，是将玻璃板G的角部附近放大了的图像，示出有灰色区域Gr、白色区域W1及黑色区域B。

灰色区域Gr是甘油32的涂敷量最佳的区域，白色区域W1表示框体46。而且，黑色区域B表示位于玻璃板G的四边和框体46之间的吸附片22。

图3所示的图像信号处理部52基于玻璃板G的一边M1和与该一边M1相向的框体46的一边N1的间隔P的像素数，及与所述一边M1相邻的一边M2和与该一边M2相向的框体46的一边N2的间隔Q的像素数，算出玻璃板G和框体46的间隔，在算出的间隔小于基准间隔或大于基准间隔时，判定为玻璃板G未正常地吸附于吸附片22。此时的判定在图10所示的玻璃板G的角部上各两点共计八点（a~h点）处进行实施。

在所述间隔为基准间隔以下（例如3mm以下）或为基准间隔以上（例如15mm）时，图3所示的CPU56控制机械手60的动作，使得玻璃板G相对于工作台34的载置位置成为最佳的位置。

如上所述，根据实施方式的监控系统，能够监控第一~第四异常形态。

在实施方式中，举例说明了使玻璃板G的非研磨面吸附于吸附片22的下表面进行研磨的研磨装置10。根据该研磨装置10，由于通过目测监控玻璃板G相对于吸附片22的吸附形态非常困难，因而特别有效。另外，实施方式的监控系统也可以适用于使玻璃板G的非研磨面吸附于吸附片的上表面进行研磨的研磨装置。

另外，基于由实施方式的相机40拍摄的玻璃板G的图像信息，能够检测沿玻璃板G的四边的缺口及角部的缺口。即，比较沿玻璃板G的四边的图像信息及角部信息和无缺口的基准形状信息，根据差分的像素数算出与缺口相当的面积。而且例如，在使用每像素256级灰度（8bit）的相机40时，将40级灰度以下的面积为12.5cm²以上判定为缺口量多的玻璃板G。

参照特定的方式对本发明进行了详细的说明，但在不脱离本发明的精神和范围的情况下能够进行各种变更和修正，这对技术人员来说是显而易见的。

Claims (12)

1.一种玻璃板研磨装置的监控方法，其特征在于，包括：

液体涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；

吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；

拍摄工序，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；

判定工序，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及

研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

2.根据权利要求1所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中，

在所述判定工序中，算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中，

在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的白色部分的面积，并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中，

在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的黑色部分的面积，并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积未达到所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积在所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附于所述吸附片。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中，

在所述吸附片吸附有框体，所述框体配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周围，并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具，

在所述判定工序中，基于所述图像算出所述玻璃板和所述框体的间隔，比较算出的间隔和预先存储的基准间隔，当所述算出的间隔在所述基准间隔以下或在所述基准间隔以上时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中，

在所述吸附工序中，所述玻璃板以所述非研磨面为上表面而吸附于所述吸附片，

在所述拍摄工序中，所述吸附片被从该吸附片的下方照射所述照明光。

7.一种玻璃板研磨装置的监控系统，其特征在于，包括：

液体涂敷单元，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；

吸附单元，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；

拍摄单元，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；

判定单元，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及

研磨单元，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

8.根据权利要求7所述的玻璃板研磨装置的监控系统，其中，

所述判定单元算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

9.根据权利要求7或8所述的玻璃板研磨装置的监控系统，其中，

所述判定单元算出所述图像中所包含的白色部分的面积，并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。

10.根据权利要求7~9中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控系统，其中，

所述判定单元算出所述图像中所包含的黑色部分的面积，并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积未达到所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积在所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附于所述吸附片。

11.根据权利要求7~10中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控系统，其中，

在所述吸附片吸附有框体，所述框体配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周围，并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具，

所述判定单元基于所述图像算出所述玻璃板和所述框体的间隔，比较算出的间隔和预先存储的基准间隔，当所述算出的间隔在所述基准间隔以下时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。

12.根据权利要求7~11中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控系统，其中，

在所述吸附单元中，所述玻璃板以所述非研磨面为上表面而吸附于所述吸附片，

在所述拍摄单元中，所述吸附片被从该吸附片的下方照射所述照明光。

Images