CN102777606A - 波纹槽密封环结构 - Google Patents

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刘讯岐
刘豪磊
刘豪策
刘雅
李鹏
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刘讯岐
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Abstract

本发明涉及波纹槽密封环结构,其特征是:在密封环体1上设置密封环摩擦面台阶2、进油孔3、密封环固定孔8、密封环拆卸螺母9、密封环安装台阶10,其密封环摩擦面台阶2上设置有出油孔4、波纹槽5、内摩擦面6、外摩擦面7,进油孔3与出油孔4相连通,通过进油孔3、出油孔4将润滑油脂输送到波纹槽5内,使润滑油脂将波纹槽5、内摩擦面6、外摩擦面7润滑形成一整体润滑油脂密封面12,通过油脂润滑减小了动环面与静环面的摩擦阻力,延长了使用寿命,使液体彻底达到了零泄漏。本发明波纹槽密封环结构设计简单,维修方便,密封效果极佳,可广泛应用于各类泵、釜、减速机、齿轮箱、通风机、鼓风机等领域。

Description

波纹槽密封环结构
技术领域:
本发明涉及密封技术领域,具体涉及一种波纹槽密封环结构。
背景技术:
密封件是泵类的核心零部件,它直接关系着泵类的使用寿命问题,所以一直是流体机械专家们所关注的重要课题,为了防止泵的泄漏问题,专家们一直在机械密封的密封环面上大下功夫,其密封环面加工的是既光滑又明亮,可与镜面相媲美,但由于其结构原因及密封组合部件的弹簧压力不稳定、频繁开停机等多方面复杂因素而造成偏磨,导致液体泄漏,致使密封件的使用寿命大大缩短,远远低于设计水平。
发明内容:
为克服上述技术缺陷,本发明公开了一种波纹槽密封环结构。
为实现上述目的,本发明采用下列技术方案:
一种波纹槽密封环结构,其特征是:在密封环体1上设置密封环摩擦面台阶2、进油孔3、密封环固定孔8、密封环拆卸螺母9、密封环安装台阶10,其密封环摩擦面台阶2上设置有出油孔4、波纹槽5、内摩擦面6、外摩擦面7,进油孔3与出油孔4相连通,通过进油孔3、出油孔4将润滑油脂输送到波纹槽5内,使润滑油脂将波纹槽5、内摩擦面6、外摩擦面7润滑形成一整体润滑油脂密封面12,通过油脂润滑减小了动环面与静环面的摩擦阻力。
所述的波纹槽5可设置为单波纹槽或多波纹槽。
所述的密封环体1可用于密封体动环或静环,也可动、静环同时采用。
所述的密封环摩擦面台阶2可设置在密封环的内侧,也可设置在密封环的外侧,还可设置在密封环的中间。
通过采用上述技术方案,使机械密封的寿命大大延长,彻底达到零泄漏。
图面说明:
附图1为波纹槽密封环正面结构示意图
附图2为波纹槽密封环侧面结构示意图
图中:
1密封环体    2密封环摩擦面台阶    3进油孔      4出油孔
5波纹槽      6内摩擦面            7外摩擦面    8密封环固定孔
9密封环拆卸螺母    10密封环安装台阶    11拆卸螺钉
12润滑油脂密封面
具体实施方式
如图1所示,由密封环体1、密封环摩擦面台阶2及润滑油脂密封面12组成为一密封环组合整体,当动静环旋转摩擦时润滑油脂通过进油孔3进入出油孔4到达波纹槽5内,将内摩擦面6、外摩擦面7、波纹槽5三个小平面组合成一个整体润滑大平面,通过油脂润滑减小了动静环的摩擦阻力,延长了使用寿命使液体彻底达到了零泄漏;其密封环体1上还设置了密封环拆卸螺母9,如需更换密封环体时,只需搬动拆卸螺钉11将密封环体1整体取出,即可更换新件。
本发明波纹槽密封环结构设计简单,维修方便,密封效果极佳,可广泛应用于各类泵、釜、减速机、齿轮箱、通风机、鼓风机等领域。

Claims (4)

1.一种波纹槽密封环结构,其特征是:在密封环体(1)上设置密封环摩擦面台阶(2)、进油孔(3)、密封环固定孔(8)、密封环拆卸螺母(9)、密封环安装台阶(10)、其密封环摩擦面台阶(2)上设置有出油孔(4)、波纹槽(5)、内摩擦面(6)、外摩擦面(7),进油孔(3)与出油孔(4)相连通,通过进油孔(3)、出油孔(4)将润滑油脂输送到波纹槽(5),使润滑油脂将波纹槽(5)、内摩擦面(6)、外摩擦面(7)润滑形成一整体润滑油脂密封面(12)。
2.根据权利要求1所述的波纹槽密封环结构,其特征在于:所述的波纹槽(5)可设置为单波纹槽或多波纹槽。
3.根据权利要求1所述的波纹槽密封环结构,其特征在于:所述的密封环体(1)可用于密封体动环或静环,也可动静环同时采用。
4.根据权利要求1所述的波纹槽密封环结构,其特征在于:所述的密封环摩擦面台阶(2)可设置在密封环的内侧,也可设置在密封环的外侧,还可设置在密封环的中间。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108223799A (zh) * 2017-12-26 2018-06-29 南昌工程学院 一种可双向旋转的流体动压型机械密封结构
CN109185463A (zh) * 2018-11-13 2019-01-11 洛阳中伟环保科技有限公司 双定位磁力机械密封轴承结构

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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