CN102745738B - 一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,特征是采用了正硅酸酯类和十八烷基三甲氧基硅烷(C18TMS)在氨水催化下水解制备SiO2纳米球,以SiO2纳米球为模板,镉盐为镉源,硫脲为硫源在0~90℃条件下反应4~24小时,得到SiO2/CdS复合纳米球;高温煅烧后得到介孔SiO2/CdO复合纳米球,经过H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到直径为270~400nm的介孔SiO2/CdS复合纳米球。本发明在制备得到介孔SiO2/CdS复合纳米球的过程中,反应条件比较温和,需要的设备简单,便于扩大规模,适合产业化生产。

Description

一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法
技术领域
本发明涉及纳米材料制备技术领域,特别是一种复合半导体功能纳米材料的制备方法。 
背景技术
由于复合纳米材料是一类重要的纳米结构材料,在药物释放、光催化剂、激光二极管等领域具有很多重要的应用,特别是既有吸附性能又具有光催化性能的SiO2/CdS复合纳米材料在光催化、染料吸附、荧光探针等很多领域都具有很高的应用价值。一方面,CdS是一种具有窄带隙(2.42 eV)的可见光激发的光催化剂,可以用于含N有机染料(如:罗丹明B)的可见光降解。另一方面,由于介孔SiO2具有大的比表面积,可以用于有机染料等污染物的吸附。目前,有关SiO2/CdS复合纳米材料的制备的报道层出不穷,但最终应用于实际的并不多。 
中国发明专利《一种二氧化硅介孔材料-硫化镉复合纳米材料的制备方法》(专利申请号200610049090)是将硫化镉内嵌入介孔二氧化硅材料的孔道内,将会导致二氧化硅的比表面积的减小,从而影响复合材料的吸附性能的降低。同时,由于硫化镉颗粒填充在二氧化硅的介孔里,最终将使得硫化镉的光催化性能的降低。 
美国《材料化学》(Chemistry of Materials, 2002年,第14卷,第2900-2904页)报道了用一种新型的单一的前驱体Cd[S2CNRR′]2制备SiO2/CdS复合纳米材料。其具体的实验步骤如下:在含有前驱体和SiO2的丙酮溶液体系中加入乙二胺,将该混合液在N2氛围中回流,得到在SiO2纳米球表面修饰有CdS纳米颗粒的复合纳米材料。该方法虽然采用单一的前驱体作为镉源和硫源,但该前驱体的制备过程复杂,且制备得到的材料比表面面积比较小。 
美国《应用物理快报》(Applied Physics Letters, 1998年,第72卷,第2514-2516页)报道了利用声化学方法在SiO2表面负载上CdS纳米颗粒,将煅烧过的SiO2、硫酸镉和硫脲的混合溶液在室温下超声波照射反应3小时,所得的产物在150oC 的N2氛围中煅烧1小时,得到结晶性差的SiO2/CdS复合纳米材料。该方法在超声波反应前对SiO2微球在750oC煅烧6小时得到介孔球,先对SiO2微球进行煅烧后进行超声波反应,有可能导致在SiO2介孔球的内部形成CdS纳米颗粒,此过程若不能很好地控制,将使得SiO2/CdS复合纳米材料的吸附和光催化性能的大大降低。 
美国《纳米快报》(Nano Letters, 2002年,第2卷,第409-414页)报道了利用浸渍-沉淀循环法得到CdS镶嵌在SiO2介孔膜上,调节含Cd2+的溶液的pH在9-10之间,将SiO2介孔膜在含Cd2+的溶液中浸渍,使得Cd2+在介孔膜上吸附,洗涤膜上过量的Cd2+,将H2S气体通入薄膜内以沉淀Cd2+得到SiO2介孔膜里修饰CdS 量子点,该过程中当pH大于10时,将使得SiO2介孔膜溶解,当pH值为9时是SiO2介孔膜吸附的最佳条件,因此,该过程中要精确控制pH在9-10之间。 
综上所述,现有的制备SiO2/CdS复合纳米材料的方法,一方面要么存在比表面面积较小;另一方面制备的半导体CdS光催化剂是在介孔硅的孔道中等不足之处。 
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种介孔SiO2/CdS复合纳米球的制备方法,以克服现有技术存在的问题。 
本发明解决其技术问题采用以下的技术方案: 
本发明提供的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,具体是:先将正硅酸酯类和十八烷基三甲氧基硅烷在氨水催化下水解制备SiO2纳米球,以SiO2纳米球为模板,镉盐为镉源,硫脲为硫源在0~90℃条件下反应4~24小时,得到SiO2/CdS复合纳米球;然后将SiO2/CdS复合纳米球在500~900℃条件下煅烧1~4小时,得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;最后将介孔SiO2/CdO复合纳米球经过H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到所述介孔SiO2/CdS复合纳米球。
本发明提供的上述制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤包括: 
(1)在每升醇溶液中加入正硅酸酯类化合物4.46~445.7g,十八烷基三甲氧基硅烷1.7~168g,质量浓度为25%-28%的氨水5~300g;将溶液放入反应容器中,然后密封;将密封的反应容器的温度控制在0~90℃,反应12~48小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)在每升醇溶液中加入上述制备的SiO2纳米球2.5~120g,质量浓度为85%的水合肼50~500g,镉盐0.15~27g,硫脲0.15~15g;将溶液放入反应容器中,在0~90℃条件下反应4~24小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 500~900℃条件下煅烧1~4小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中,通入H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到所述介孔SiO2/CdS复合纳米球,CdS纳米颗粒分布在介孔SiO2纳米球表面。
所述的正硅酸酯类为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸丁酯中的一种以上。 
步骤 (1)中所述的醇溶液中的醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。 
步骤 (2)中所述的醇溶液中的醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。 
所述的镉盐为醋酸镉、氯化镉、硫酸镉、硝酸镉中的一种以上。 
上述步骤 (4)中,CdS纳米颗粒是修饰在介孔二氧化硅的表面,而不是介孔硅的内部。 
本发明所制备的介孔SiO2/CdS复合纳米球,其直径为270~400nm,比表面面积640~740 m2/g,孔径分布为2.6~3.0nm。 
本发明与现有技术相比具有以下的主要优点: 
1.由于采用了正硅酸酯类和十八烷基三甲氧基硅烷(C18TMS)在氨水催化下水解制备SiO2纳米球,以SiO2纳米球为模板,镉盐为镉源,硫脲为硫源在0~90℃条件下反应4~24小时,得到SiO2/CdS复合纳米球;高温煅烧后得到介孔SiO2/CdO复合纳米球,经过H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到直径为270~400nm 的介孔SiO2/CdS复合纳米球,因而避免了CdS纳米颗粒会在介孔SiO2的孔道中形成,堵塞介孔SiO2纳米球的孔道。相比其它的技术,若使用介孔硅作为模板在其表面合成CdS纳米颗粒,会造成CdS纳米颗粒在其内部形成或者堵塞SiO2微球表面的介孔。
2. 在制备得到介孔SiO2/CdS复合纳米球的过程中,反应条件比较温和,需要的设备简单,便于扩大规模,适合产业化生产。 
3. 所制备的介孔SiO2/CdS复合纳米球,是一大类重要的纳米结构材料,在纳米医药、药物释放、光催化等领域具有很多重要的应用。 
附图说明
图1为介孔SiO2/CdS复合纳米球的扫描电镜照片。 
图2为介孔SiO2/CdS复合纳米球的扫描电镜照片。 
图3为介孔SiO2/CdS复合纳米球的扫描电镜照片。 
图4为介孔SiO2/CdS复合纳米球的扫描电镜照片。 
图5为介孔SiO2/CdS复合纳米球的透射电镜照片。 
图6为介孔SiO2/CdS复合纳米球的透射电镜照片。 
图7为介孔SiO2/CdS复合纳米球的透射电镜照片。 
图8为介孔SiO2/CdS复合纳米球的透射电镜照片。 
图9为介孔SiO2/CdS复合纳米球的X-射线衍射花样。 
图10为介孔SiO2/CdS复合纳米球的X-射线衍射花样。 
图11为介孔SiO2/CdS复合纳米球的X-射线衍射花样。 
图12为介孔SiO2/CdS复合纳米球的X-射线衍射花样。 
图13为介孔SiO2/CdS复合纳米球的吸附与脱吸附等温线。 
图14为介孔SiO2/CdS复合纳米球的孔径分布图。 
图15为介孔SiO2/CdS复合纳米球的吸附与脱吸附等温线。 
图16为介孔SiO2/CdS复合纳米球的孔径分布图。 
图17为介孔SiO2/CdS复合纳米球的吸附与脱吸附等温线。 
图18为介孔SiO2/CdS复合纳米球的孔径分布图。 
图19为介孔SiO2/CdS复合纳米球的吸附与脱吸附等温线。 
图20为介孔SiO2/CdS复合纳米球的孔径分布图。 
具体实施方式
本发明提供的介孔SiO2/CdS复合纳米球的制备方法,该方法是:采用了正硅酸酯类和十八烷基三甲氧基硅烷(C18TMS)在氨水催化下水解制备SiO2纳米球,以SiO2纳米球为模板,镉盐为镉源,硫脲为硫源在0~90℃条件下反应4~24小时,得到SiO2/CdS复合纳米球;高温煅烧后得到介孔SiO2/CdO复合纳米球,经过H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到直径为270~400nm 的介孔SiO2/CdS复合纳米球。 
本发明提供的上述制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤包括: 
(1)在每升醇溶液中加入正硅酸酯类化合物4.46~445.7g,十八烷基三甲氧基硅烷1.7~168g,质量浓度为25%-28%的氨水5~300g;将溶液放入反应容器中,然后密封;将密封的反应容器的温度控制在0~90℃,反应12~48小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)在每升醇溶液中加入上述制备的SiO2纳米球2.5~120g,质量浓度为85%的水合肼50~500g,镉盐0.15~27g,硫脲0.15~15g;将溶液放入反应容器中,在0~90℃条件下反应4~24小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 500~900℃条件下煅烧1~4小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中,通入H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到所述介孔SiO2/CdS复合纳米球,CdS纳米颗粒分布在介孔SiO2纳米球表面。
所述的正硅酸酯类为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸丁酯中的一种以上。 
步骤(1)中所述的醇溶液中中醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。 
步骤 (3)中所述的醇溶液中中醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。 
所述的镉盐为醋酸镉、氯化镉、硫酸镉、硝酸镉中的一种以上。 
上述步骤 (4)中,CdS纳米颗粒是修饰在介孔二氧化硅的表面,而不是介孔硅的内部。 
本发明所制备的介孔SiO2/CdS复合纳米球,其直径为270~400nm,比表面面积640~740 m2/g,孔径分布为2.6~3.0nm。 
下面结合实施例及附图对本发明作进一步说明,但并不局限于下面所述内容。 
实施例1 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将44.5g正硅酸乙酯、16.8g十八烷基三甲氧基硅烷、30g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的乙醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状溶液密封,温度控制在90℃,反应12小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球12g,分散在100 ml 乙醇溶液中,加入50g水合肼(质量浓度85%)、2.7g硝酸镉、1.5g硫脲;将溶液在90℃条件下反应24小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 900℃条件下煅烧4小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在200℃反应8小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图1给出的SiO2/CdS介孔复合纳米球的直径为400nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图5给出的透射电镜照片表明,所获得的是SiO2/CdS介孔复合纳米球结构,且CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的,如图9所示。 
对样品进行比表面及孔径分析,结果如图13-图14所示,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.6nm,比表面面积达到740 m2/g。 
实施例2 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将20 g正硅酸丙酯、8.0g十八烷基三甲氧基硅烷、20g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的丙醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状溶液密封,温度控制在30℃,反应6小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球12g,分散在100 ml乙二醇溶液中,加入40g水合肼(质量浓度85%)、1.7g氯化镉、1.0g硫脲;将溶液在50℃条件下反应12小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 700℃条件下煅烧2小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在100℃反应8小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图2给出的SiO2/CdS介孔复合纳米球的直径为380nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图6给出的透射电镜照片表明,本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球直径为380 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的,如图10所示。 
对样品进行比表面及孔径分析,结果如图15-图16所示,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为3.0nm左右,比表面面积达到640 m2/g。 
实施例3 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将10g正硅酸丁酯、5 g十八烷基三甲氧基硅烷、40g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的乙二醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状溶液密封,温度控制在50℃,反应12小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球10g,分散在100 ml 乙醇溶液中,加入10g水合肼(质量浓度85%)、2.7g硫酸镉、1.4g硫脲;将溶液在60℃条件下反应8小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 600℃条件下煅烧4小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在60℃反应6小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图3给出的SiO2/CdS介孔复合纳米球的直径为290nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图7给出的透射电镜照片表明,本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球直径为290 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的,如图11所示。 
对样品进行比表面及孔径分析,结果如图17-图18所示,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.7nm左右,比表面面积达到690 m2/g。。 
实施例4 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将0.446g正硅酸甲酯、0.17g十八烷基三甲氧基硅烷、0.5g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的甲醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状混合液密封,温度控制在0℃,反应12小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球0.25g,分散在100 ml 甲醇溶液中,加入5g水合肼(质量浓度85%)、0.015g醋酸镉、0.015g硫脲;将溶液在0℃条件下反应4小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 500℃条件下煅烧1小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在30℃反应2小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图4给出的SiO2/CdS介孔复合纳米球的直径为270nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察。从图8给出的透射电镜照片表明,本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球直径为270 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的,如图12所示。 
对样品进行比表面及孔径分析,结果如图19-图20所示,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.8nm左右,比表面面积达到660 m2/g。 
实施例5 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将2.0g正硅酸丙酯、0.5g十八烷基三甲氧基硅烷、20g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的甲醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状混合液密封,温度控制在20℃,反应24小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球1.0g,分散在100 ml 甲醇溶液中,加入20g水合肼(质量浓度85%)、0.4g醋酸镉、1.0g硫脲;将溶液在40℃条件下反应6小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 650℃条件下煅烧1小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在100℃反应6小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球的直径为280nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球直径为280 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的。 
对样品进行比表面及孔径分析,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.6nm,比表面面积达到700 m2/g。 
实施例6 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将4.46g正硅酸甲酯、0.17g十八烷基三甲氧基硅烷、0.5g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的乙醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状混合液密封,温度控制在20℃,反应24小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球4.0g,分散在100 ml 丙醇溶液中,加入5.0g水合肼(质量浓度85%)、0.15g氯化镉、1.5g硫脲;将溶液在50℃条件下反应6小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 500℃条件下煅烧1小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在200℃反应2小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球的直径为320nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球直径为320 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的。 
对样品进行比表面及孔径分析,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.6nm,比表面面积达到680 m2/g。 
实施例7 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将4.46g正硅酸乙酯、3.5g十八烷基三甲氧基硅烷、1.0g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的乙二醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状混合液密封,温度控制在40℃,反应12小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球2.2g,分散在100 ml 甲醇溶液中,加入50g水合肼(质量浓度85%)、0.1g硫酸镉、0.08g硫脲;将溶液在40℃条件下反应6小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 700℃条件下煅烧2小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在70℃反应5小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球的直径为350nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球直径为350 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的。 
对样品进行比表面及孔径分析,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.85nm,比表面面积达到676 m2/g。 
实施例8 
一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其步骤是:
(1)将2.5g正硅酸丁酯、0.8g十八烷基三甲氧基硅烷、30g氨水(质量浓度25%-28%)加入100 ml的丙醇中,搅拌得到乳状的混合液,将所得到的乳状混合液密封,温度控制在0℃,反应12小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)取上述SiO2纳米球1.1g,分散在100 ml 乙二醇溶液中,加入21g水合肼(质量浓度85%)、2.7g硝酸镉、1.1g硫脲;将溶液在20℃条件下反应4小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 550℃条件下煅烧1.5小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4)将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中, 通入H2S气体在150℃反应8小时,即得到介孔SiO2/CdS复合纳米球。
分别采用飞利浦X’Pert PRO SUPER X射线衍射仪,场发射扫描电子显微镜、日立H-8010透射电子显微镜、Quantachrome Autosorb-1物理吸附仪对样品进行表征。 
通过场发射扫描电子显微镜对SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球的直径为370nm。 
通过透射电子显微镜对本实施例中得到的SiO2/CdS介孔复合纳米球进行观察,得到的介孔SiO2/CdS纳米球直径为370 nm,CdS纳米颗粒均匀的分散在SiO2微球表面。 
采用X射线衍射仪对最终的产物的研究结果显示,产物中CdS是以六方相存在的。 
对样品进行比表面及孔径分析,由吸附等温线可以看出经段煅烧后样品有介孔结构的存在,由与之相应的孔径分布可以看出介孔的大小为2.7nm,比表面面积达到655 m2/g。 

Claims (8)

1. 一种制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于:先将正硅酸酯类和十八烷基三甲氧基硅烷在氨水催化下水解制备SiO2纳米球,以SiO2纳米球为模板,镉盐为镉源,硫脲为硫源在0~90℃条件下反应4~24小时,得到SiO2/CdS复合纳米球;然后将SiO2/CdS复合纳米球在500~900℃条件下煅烧1~4小时,得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;最后将介孔SiO2/CdO复合纳米球经过H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到所述介孔SiO2/CdS复合纳米球。
2. 如权利要求1所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于采用包括以下步骤的方法:
(1)在每升醇溶液中加入正硅酸酯类化合物4.46~445.7g,十八烷基三甲氧基硅烷1.7~168g,质量浓度为25%-28%的氨水5~300g;将溶液放入反应容器中,然后密封;将密封的反应容器的温度控制在0~90℃,反应12~48小时,经离心分离得到产物,产物用无水乙醇洗涤三次,得到SiO2纳米球;
(2)在每升醇溶液中加入上述制备的SiO2纳米球2.5~120g,质量浓度为85%的水合肼50~500g,镉盐0.15~27g,硫脲0.15~15g;将溶液放入反应容器中,在0~90℃条件下反应4~24小时,经离心分离后得到SiO2/CdS复合纳米球;
(3)将所得的SiO2/CdS复合纳米球在 500~900℃条件下煅烧1~4小时,即得到介孔SiO2/CdO复合纳米球;
(4) 将所得到的介孔SiO2/CdO复合纳米球放入管式炉中,通入H2S气体在30~200℃反应2~8小时,即得到所述介孔SiO2/CdS复合纳米球,CdS纳米颗粒分布在介孔SiO2纳米球表面。
3. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于步骤 (1)中所述的正硅酸酯类为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸丁酯中的一种以上。
4. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于步骤 (1)中所述的醇溶液中醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。
5. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于步骤 (2)中所述的醇溶液中醇为甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇中的一种以上。
6. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于所述的镉盐为醋酸镉、氯化镉、硫酸镉、硝酸镉中的一种以上。
7. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于步骤 (4)中,CdS纳米颗粒是修饰在介孔二氧化硅的表面,而不是介孔硅的内部。
8. 如权利要求2所述的制备介孔SiO2/CdS复合纳米球的方法,其特征在于所制备的介孔SiO2/CdS复合纳米球直径为270~400nm,比表面面积640~740 m2/g,孔径分布为2.6~3.0 nm。
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