一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液及制备方法
技术领域
本发明涉及一种电镀镀液,尤其涉及一种能制备光亮AuSn20(金锡共晶焊料)的镀液及制备方法。
背景技术
金锡共晶焊料AuSn20(80-20wt%)处于Au-Sn共晶部位,共晶点为280℃,很小的过热度就可以使合金熔化并浸润。由于其钎焊温度适中,屈服强度高,无需助焊剂,具有良好的浸润性,低粘滞性,高耐腐蚀性,高抗蠕变性能及良好的导热和导电性,因此被广泛应用于通讯,卫星,遥感,雷达,汽车,航空等领域的光电器件的焊接及封装。
传统的金锡合金制备方法包括铸造拉拨轧制法,叠层冷轧复合法,以及物理气相沉积法。铸造拉拨轧制法需要添加第三组元Pd或Pt,影响了金锡合金的纯度,焊接性能也会受到影响;而叠层冷轧复合法难以控制金与锡的反应量,未合金化的金或锡都会对焊料产生不良影响;物理气相沉积法沉积的金锡合金较薄,无法保证电子器件的焊接性能。而且上述方法操作性复杂,生产成本较高。
目前国内尚未见有通过电化学直接电镀制备AuSn20(金锡共晶合金焊料)的电镀液的发明专利,只是笼统的制备Au-Sn(金锡合金),精确的含量无法控制。国外申请的专利主要是含氰化物和无氰化物的镀液两种类型,合金的熔点280℃未见有证实。
美国专利US4634505提供了一种含有氰化物的金锡合金镀液,三价氰化金作为金盐,四价草酸锡作为锡盐,在pH为3以下实施电镀,得到的镀层锡含量低于1%。镀液可操作的电流密度较大,均在1ASD以上,但由于是含氰化物镀液,且应用领域仅在于装饰性电镀和工业抗腐蚀性能的应用材料,推广性不强。
美国专利US20040231999提供了一种含氰化物的金锡合金镀液,用2,2’-二联吡啶作为添加剂拉近金和锡的沉积电位,使用含有铊,铅和砷离子的少量物质作为镀层的晶粒细化剂,增加镀层表面光亮性和平整性。通过不同的电流密度沉积得到了金含量在65%~94%的金锡合金,但是,专利没有提及所制备的金锡合金的焊接性能。
美国专利US6245208提供了一种无氰金锡合金镀液,用氯金(III)酸钾作为金盐,二价锡作为锡盐,在脉冲电镀得到了金锡合金。但是电流密度较小,且可用的电流密度也较窄,在 0.02ASD~0.1ASD之间,且能沉积金锡原子比为80∶20的电流密度区间更小。由于三价金和二价锡在溶液中会互相反应,因此,该专利使用锡的络合剂柠檬酸铵的量高达200g/L,以及用抗坏血酸来稳定镀液,但是稳定周期只有两周时间。
美国专利US20020063063A1提供了一种无氰金锡合金电镀液,使用二烯丙基胺的聚合物的季铵盐作为表面活性剂,用亚硫酸金(I)作为金盐,氯化亚锡和氯化锡作为锡盐,声称得到了金锡比接近80∶20的金锡合金。但镀液使用的pH为9,极大的限制了焊料在需要光刻掩膜的光电器件焊接领域,且专利并未提及制备的金锡合金焊料精确的熔点。
综上的发明专利,含氰化物的镀液可用电流密度较高,但是镀液须在pH小于3的条件下施镀,CN-易于与H+结合,对人体和环境及其有害。而无氰化物镀液可用电流密度较小,镀液不是很稳定,在复杂图形电镀方面很难沉积出光亮的金锡合金。况且,制备的焊料必须保证稳定的熔点。因此,为解决上述问题,我们发明了一种稳定的,可用电流密度较大,可在复杂图形上沉积出光亮的金锡合金焊料的环保型镀液,且制备出的焊料稳定在280℃左右。
发明内容
本发明的目的在于开发出一种能生产光亮AuSn20(金锡合金焊料)的环保镀液,实现直接电镀熔点在280℃左右金锡合金共晶焊料。
为实现本发明目的,本发明提供的技术方案为:
一种电镀金锡合金镀液,包括如下组分:金盐4~10g/L,锡盐3~11g/L,缓冲剂10~50g/L,络合剂30~50gL,光亮剂0.1g/L~1g/L,抗氧化剂0.1g/L~1g/L,调节剂为调节镀液,所述的调节镀液的pH为4.5~6.0,其余为去离子水。
优选地,所述的金盐是柠檬酸金钾,化学式为KAu2N4C12H11O8,所述的锡盐是硫酸亚锡或氯化亚锡。
优选地,所述的调节镀液为硫酸或盐酸。
优选地,所述的缓冲剂是柠檬酸或其盐,草酸或其盐,酒石酸或其盐,葡萄糖酸或其盐,亚胺基二乙酸,甘氨酸中的一种或一种以上的混合物。
优选地,络合剂可以是葡萄糖酸钠、柠檬酸铵、焦磷酸钾或草酸钾中的两种或两种以上的混合物。
优选地,光亮剂为聚乙烯亚胺、二联吡啶、吡啶磺酸中的一种或所述两种以上的混合物。
优选地,抗氧化剂是抗坏血酸、邻苯二酚、对苯二酚、钨酸钠、叔丁基对苯二酚、N,N’ -二仲丁基对苯二胺、1-苯基-3-吡唑酮、茶多酚中的一种或一种以上的混合物。
本发明还提供一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液及制备方法,是将金盐,锡盐,缓冲剂,络合剂,光亮剂和抗氧化剂以及余量去离子水混合得到,加热40度。稳定10min后方可使用。
本发明采用新型环保的柠檬酸金(I)钾取代剧毒的氰化金钾,其中金的析出电位为-0.571V 左右,游离的二价锡的析出电位为-0.136V,两者的电位相差0.435V,无法实现共沉积。我们加入适量二价锡的络合剂,从而使锡的沉积电位负移至-0.435V左右,从而实现了金与锡的共沉积。
本发明提供的一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液对环境无污染,而且可用电流密度在 0.4ASD~1.6ASD之间,镀速达到19μm/h以上,镀层熔点280±2℃。从而实现了本发明的目的。
柠檬酸金钾其稳定性几乎和氰化金钾相媲美,无游离氰,经检测不属于危险化学品,极具环保性能。其分子式是KAu2N4C12H11O8,结构式如下:
柠檬酸金钾溶于水将建立如下平衡:
随着Au+离子不断沉积,游离出的丙二腈在酸性或碱性条件下将发生水解,形成完全无毒、溶于水的物质。
酸性条件下:
碱性条件下:
CH2(CN)2+2H2O→CH2(CONH2)→[CH2(COO)2]2-+NH3↑
本发明所有原料均不含重金属,不使用含氰化物镀液,不会造成环境污染。而且镀液可用电流密度范围较宽,镀液的均镀性能强,镀层不受基体材料的复杂外形的影响,可实现图形电镀,镀层较光亮,镀速在19μm/h以上,镀层金锡组成稳定,熔点280±2℃。且相比较传统制备金锡合金焊料,电化学制备方法操作简单,不需要大型的仪器,同时镀液所有成分均可采用国产原料,使得生产成本大幅度降低。
本发明广泛地适用于通讯,卫星,遥感,雷达,汽车,航空等领域的光电器件的焊接及封装。
附图说明:
图1-实施例10.6ASD条件下金锡合金样品1差热分析测试
图2-实施例2.0.8ASD条件下金锡合金样品2差热分析测试。
图3-实施例31.2ASD条件下金锡合金样品3差热分析测试
具体实施方式
以下实施例是对本发明的进~步说明,不是对本发明的限制。
实施例1:每升溶液中含有如下物质,其余为去离子水。
镀液的温度控温在45℃,阳极为纯金片,阴极为紫铜片,试片经除油和在10%的硫酸溶液中活化后,在0.6ASD的电流密度下电镀0.5小时,表面为白色的光亮镀层,经抛面后用金相显微测量镀层厚度是10μm。日本理学XRD粉末衍射仪分析表明,镀层含有Au5Sn和AuSn两相,经差热分析(NETZSCH DSC 204F1Phoenix)镀层熔点为280.6℃,如图1所示。
实施例2:每升溶液中含有如下物质,其余为去离子水。
镀液的温度控温在40℃,阳极为钛上镀铂片,阴极为陶瓷基片上磁控溅射金的试片,试片经除油和在10%的硫酸溶液中活化后,在0.8ASD的电流密度下电镀0.5小时,表面为白色的光亮镀层,经抛面后用金相显微测量镀层厚度是12μm。日本理学XRD粉末衍射仪分析表明,镀层含有Au5Sn和AuSn两相,经差热分析(NETZSCH DSC 204F1Phoenix)镀层熔点为280.4℃,如图2所示。
实施例3:每升溶液中含有如下物质,其余为去离子水。
镀液的温度控温在50℃,阳极为钛上镀铂片,阴极为紫铜片,试片经曝光显影处理,形成所需的图案,再经除油和在10%的硫酸溶液中活化后,在1.2ASD的电流密度下电镀0.5小时,表面为白色的光亮镀层,经抛面后用金相显微测量镀层厚度是12.5μm。日本理学XRD粉末衍射仪分析表明,镀层含有Au5Sn和AuSn两相,经差热分析(NETZSCH DSC 204F1Phoenix) 镀层熔点为280.4℃,如图3所示。