CN105483779A - Au-Sn合金电镀液及其电镀方法 - Google Patents

Au-Sn合金电镀液及其电镀方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105483779A
CN105483779A CN201510865812.7A CN201510865812A CN105483779A CN 105483779 A CN105483779 A CN 105483779A CN 201510865812 A CN201510865812 A CN 201510865812A CN 105483779 A CN105483779 A CN 105483779A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
alloy
alloy plating
plating liquid
salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510865812.7A
Other languages
English (en)
Inventor
帅和平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SHENZHEN RUN SUN CHEMICAL TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
SHENZHEN RUN SUN CHEMICAL TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHENZHEN RUN SUN CHEMICAL TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical SHENZHEN RUN SUN CHEMICAL TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201510865812.7A priority Critical patent/CN105483779A/zh
Publication of CN105483779A publication Critical patent/CN105483779A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/62Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

本发明提出了一种Au-Sn合金电镀液及其电镀方法,电镀液包括如下组分:8.5-11.5g/L水溶性金盐,10.5-12.5g/L水溶性锡盐,40-120g/L锡离子络合剂,0.2-5.0ml/L?Au-Sn合金稳定剂,2.0-8.0ml/L镀液稳定剂,0.3-5.0g/L?pH缓冲剂,其余为去离子水。电镀方法为换向脉冲或变幅脉冲电镀,电镀过程中合金电镀液的温度为38-42℃,电流密度为0.5-1.0A/dm2。该电镀液稳定性好以及合金Au80Sn20的成分控制好。

Description

Au-Sn合金电镀液及其电镀方法
技术领域
本发明属于合金电镀液技术领域,具体涉及一种溶液稳定性好、且合金成分比例可控的Au-Sn合金电镀液及其电镀方法,尤其涉及一种Au80Sn20的电镀液及其电镀方法。
背景技术
Au-Sn焊料正在广泛应用于光电子器件和微电子器件封装中。金锡共晶焊料AuSn20(80-20wt%)处于Au-Sn共晶部位,共晶点为280℃,很小的过热度就可以使合金熔化并浸润。由于其钎焊温度适中,屈服强度高,无需助焊剂,具有良好的浸润性,低粘滞性,高耐腐蚀性,高抗蠕变性能及良好的导热和导电性,因此被广泛应用于通讯,卫星,遥感,雷达,汽车,航空等领域的光电器件的焊接及封装。
电镀共沉积Au-Sn合金过程简单、厚度和位置可精确控制,适合批量生产,因此电镀共沉积Au-Sn合金有着很好的发展前景。国内外无氰电镀Au-Sn工艺发展缓慢,目前国内已有这方面的报道,但还不成熟。目前发展的无氰镀液稳定性低,镀速低,需要较长的电镀时间才能获得适用的镀层厚度,电镀过程中由于电流密度的变化,引起合金镀层组成的波动度大。
美国专利US6245208中提出了一种弱碱性的无氰Au-Sn共沉积镀液,该镀液的金主盐为三价的氯金酸钾(KAuCl4)、锡主盐为氯化亚锡(SnCl2)、金离子络合剂为亚硫酸钠(Na2SO3)和柠檬酸铵、镀液稳定剂为L-抗坏血酸、晶粒细化剂为氯化镍(NiCl2),镀液的pH值为6.0。该镀液的稳定性较差,在室温下存放15天后镀液不稳定,工作状态下维持3天后。并且现有Au-Sn共沉积镀液很难保证电镀出来的合金其成分比例维持在80%Au与20wt%Sn20,大大限制了Au-Sn合金电镀液的应用。
发明内容
为解决现有Au-Sn合金电镀液稳定性差与合金成分比例控制差,本发明提出一种Au-Sn合金电镀液,其稳定性好以及合金Au80Sn20的成分控制好。
本发明的技术方案是这样实现的:
一种Au-Sn合金电镀液,包括如下组分:
8.5-11.5g/L水溶性金盐,10.5-12.5g/L水溶性锡盐,40-120g/L锡离子络合剂,0.2-5.0ml/LAu-Sn合金稳定剂,2.0-8.0ml/L镀液稳定剂,0.3-5.0g/LpH缓冲剂,其余为去离子水。
进一步,所述电镀液的pH值为3.9-4.1。
进一步,所述水溶性金盐选自KAu(CN)2、NaAu(CN)2、NH4Au(CN)2、KAu(CN)4、NaAu(CN)4、NH4Au(CN)2与NH4Au(CN)4中的一种或多种;所述水溶性锡盐为甲基磺酸亚锡、氯化亚锡、硫酸亚锡与柠檬酸亚锡中的一种或多种。
进一步,所述锡离子络合剂选自草酸、柠檬酸、抗坏血酸、葡萄糖、丙二酸与亚氨基二乙酸中的一种或多种。
进一步,所述Au-Sn合金稳定剂选自氨、乙二胺、柠檬酸盐、酒石酸盐、磷酸盐、碳酸盐与硼酸盐中的一种或多种。
进一步,所述镀液稳定剂选自吡啶苯并咪唑、氨基咪唑、鸟嘌呤、6-氨基嘌呤、噻唑与苯并塞唑中的一种或多种。
进一步,所述pH调节剂选自甲酸、乙酸、丙酸,硼酸、磷酸、草酸、乳酸、酒石酸与柠檬酸中的一种或多种。
进一步,还包括0.2-2.5g/L光亮剂,所述光亮剂选自2,3-二(2-吡啶基)吡嗪、3-(3-吡啶基)-丙烯酸、3-(4-咪唑基)-丙烯酸、3-吡啶基羧甲基磺酸、2-(吡啶基)-4-乙烷磺酸、1-(3-磺丙基)-吡啶甜菜碱与1-(3-磺丙基)-异喹啉甜菜碱中的一种或多种。
进一步,还包括1.5-8.5g/L导电盐,所述导电盐选自钠、钾、氨、胺盐,硫酸、盐酸、磷酸、氨基磺酸、磺酸与氢氧化钠中的一种或多种,所述Au-Sn合金电镀液的比重为10.0-11.0。
本发明另一个目的是提供一种Au-Sn合金电镀液的电镀方法,以本发明的Au-Sn合金电镀液作为电镀液,为换向脉冲或变幅脉冲电镀,电镀过程中合金电镀液的温度为38-42℃,电流密度为0.5-1.0A/dm2
本发明Au-Sn合金电镀液,按下述方法制备:
a.取去离子水置于烧杯中,向烧杯中依次加入水溶性锡盐与锡离子络合剂,得溶液I;
b.向溶液I中加入水溶性金盐,再加入Au-Sn合金稳定剂与镀液稳定剂,然后根据产品是否需要决定加入导电盐与光亮剂,最后加入pH缓冲剂。
在非强碱性条件下,镀液中必须含有Sn2+才能实现合金的共沉积,Sn4+不能单独使用。Sn2+在溶液中存在被氧化成Sn4+而导致的锡不能沉积的问题。现在一般的做法是在溶液中添加锡抗氧化剂,如羟基苯化合物。本发明中发明人通过添加草酸、柠檬酸、抗坏血酸、葡萄糖、丙二酸与亚氨基二乙酸等锡络合剂减少游离的亚锡离子浓度,从而降低氧化程度。本发明的电镀液在不进行电镀试验时,进行冷冻保存,温度控制在5-8℃。
因为金锡合金Au80Sn20的成分控制要求很严格,金含量过高或者过低均会严重影响合金片的熔点,无法满足工业应用要求,为了控制合金成分析出比例,除需严格控制PH、温度、锡盐、金离子浓度及电流密度,在实际生产应用中采取如下方式检测及控制合金比例:
1、因是在金面上电镀金锡合金,底层金会对合金成分测试有很大干扰,常规的镀层分析或者元素分析,合金比例分析不准。故本发明采用以下方法电镀一段时间后,断电,在进行电镀一段时间后镀层会成粉末状,测试粉末的合金比例即可得知电镀出来的合金比例。
2、每次做板之前需要分析测试确定合金比例之后,方可进行大面积的生产,确保生产过程中,电镀出来的是Au80Sn20这个比例成分,也就能在工业上进行应用。
具体实施方式
实施例1
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:10.0g/LKAu(CN)2,10.5g/L氯化亚锡,40g/L草酸,0.2ml/L柠檬酸钠,5.0ml/L吡啶苯并咪唑,2.0g/L1-(3-磺丙基)-异喹啉甜菜碱,1.5g/L氨基磺酸,1.5g/L乙酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为4.0,比重为10.0。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为40℃,电流密度为0.6A/dm2
实施例2
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:8.5g/LNaAu(CN)2,11.0g/L甲基磺酸亚锡,120g/L柠檬酸,5.0ml/L酒石酸钠,2.0ml/L6-氨基嘌呤,3.5g/L酒石酸钠,0.2g/L3-吡啶基羧甲基磺酸,6.0g/L磺酸,0.5g/L草酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为3.9,比重为11.0。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为38℃,电流密度为0.5A/dm2
实施例3
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:11.5g/LKAu(CN)4,12.5g/L甲基磺酸亚锡,80g/L抗坏血酸,2.5ml/L磷酸钠,7.0ml/L苯并塞唑,2.5g/L2,3-二(2-吡啶基)吡嗪,8.5g/L磷酸,3.5g/L乳酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为4.1,比重为11.0。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为42℃,电流密度为1.0A/dm2
实施例4
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:9.5g/LNH4Au(CN)2,11.5g/L草酸亚锡,90g/L丙二酸,3.5ml/L硼酸钠,8.0ml/L鸟嘌呤,0.5g/L2-(吡啶基)-4-乙烷磺酸,6.5g/L氨基磺酸,2.0g/L酒石酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为4.0,比重为10.5。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为40℃,电流密度为0.7A/dm2
实施例5
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:10.5g/LNaAu(CN)4,11.0g/L柠檬酸亚锡浓度为,70g/L葡萄糖,4.5ml/L乙二胺,5.0ml/L苯并咪唑,2.0g/L1-(3-磺丙基)-吡啶甜菜碱,8.5g/L盐酸,1.0g/L柠檬酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为3.9,比重为10。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为38℃,电流密度为0.5A/dm2
实施例6
Au-Sn合金电镀液包括以下组分:11.0g/LNH4Au(CN)2,12.0g/L氯化亚锡,90g/L亚氨基二乙酸,3.5ml/L柠檬酸钾,3.0ml/L2,6-二甲基吡啶,1.0g/L吡啶基羧甲基磺酸,1.5g/L磺酸,1.5g/L磷酸,其余为去离子水,电镀液的pH值为3.9,比重为11.0。
电镀方法为:电镀过程中合金电镀液的温度为40℃,电流密度为0.8A/dm2
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种Au-Sn合金电镀液,其特征在于,包括如下组分:
8.5-11.5g/L水溶性金盐,10.5-12.5g/L水溶性锡盐,40-120g/L锡离子络合剂,0.2-5.0ml/LAu-Sn合金稳定剂,2.0-8.0ml/L镀液稳定剂,0.3-5.0g/LpH缓冲剂,其余为去离子水。
2.根据权利要求1所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述电镀液的pH值为3.9-4.1。
3.根据权利要求2所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述水溶性金盐选自KAu(CN)2、NaAu(CN)2、NH4Au(CN)2、KAu(CN)4、NaAu(CN)4、NH4Au(CN)2与NH4Au(CN)4中的一种或多种;所述水溶性锡盐为甲基磺酸亚锡、氯化亚锡、硫酸亚锡与柠檬酸亚锡中的一种或多种。
4.根据权利要求1或3所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述锡离子络合剂选自草酸、柠檬酸、抗坏血酸、葡萄糖、丙二酸与亚氨基二乙酸中的一种或多种。
5.根据权利要求1或3所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述Au-Sn合金稳定剂选自氨、乙二胺、柠檬酸盐、酒石酸盐、磷酸盐、碳酸盐与硼酸盐中的一种或多种。
6.根据权利要求1或3所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述镀液稳定剂选自吡啶苯并咪唑、氨基咪唑、鸟嘌呤、6-氨基嘌呤、噻唑与苯并塞唑中的一种或多种。
7.根据权利要求1或3所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,所述pH调节剂选自甲酸、乙酸、丙酸,硼酸、磷酸、草酸、乳酸、酒石酸与柠檬酸中的一种或多种。
8.根据权利要求1或2所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,还包括0.2-2.5g/L光亮剂,所述光亮剂选自2,3-二(2-吡啶基)吡嗪、3-(3-吡啶基)-丙烯酸、3-(4-咪唑基)-丙烯酸、3-吡啶基羧甲基磺酸、2-(吡啶基)-4-乙烷磺酸、1-(3-磺丙基)-吡啶甜菜碱与1-(3-磺丙基)-异喹啉甜菜碱中的一种或多种。
9.根据权利要求1或2所述的Au-Sn合金电镀液,其特征在于,还包括1.5-8.5g/L导电盐,所述导电盐选自钠、钾、氨、胺盐,硫酸、盐酸、磷酸、氨基磺酸、磺酸与氢氧化钠中的一种或多种,所述Au-Sn合金电镀液的比重为10.0-11.0。
10.一种Au-Sn合金电镀液的电镀方法,其特征在于,为换向脉冲或变幅脉冲电镀,电镀液采用如权利要求1至9任意一项所述的Au-Sn合金电镀液,电镀过程中合金电镀液的温度为38-42℃,电流密度为0.5-1.0A/dm2
CN201510865812.7A 2015-12-01 2015-12-01 Au-Sn合金电镀液及其电镀方法 Pending CN105483779A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510865812.7A CN105483779A (zh) 2015-12-01 2015-12-01 Au-Sn合金电镀液及其电镀方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510865812.7A CN105483779A (zh) 2015-12-01 2015-12-01 Au-Sn合金电镀液及其电镀方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105483779A true CN105483779A (zh) 2016-04-13

Family

ID=55671036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510865812.7A Pending CN105483779A (zh) 2015-12-01 2015-12-01 Au-Sn合金电镀液及其电镀方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105483779A (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105780071A (zh) * 2016-05-19 2016-07-20 大连理工大学 一种无氰Au-Sn合金镀液及其制备方法和应用
CN108802140A (zh) * 2018-08-13 2018-11-13 广州钰芯传感科技有限公司 一种多孔金修饰的叉指电极及其制备方法和应用
CN109916977A (zh) * 2019-03-04 2019-06-21 广州钰芯传感科技有限公司 一种voc检测用负载四氧化三钴的多孔金电极的制备方法及其应用
CN113308718A (zh) * 2021-05-08 2021-08-27 河北博威集成电路有限公司 一种GaN微波大功率芯片背面的金锡合金电镀方法
CN115636695A (zh) * 2022-12-21 2023-01-24 四川科尔威光电科技有限公司 一种半导体氮化铝陶瓷预置金锡焊料热沉的制备方法
CN117758327A (zh) * 2024-02-22 2024-03-26 深圳创智芯联科技股份有限公司 一种用于共晶焊接的电镀金锡溶液

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS579893A (en) * 1980-06-19 1982-01-19 Seiko Epson Corp Gold alloy plating bath
US6245208B1 (en) * 1999-04-13 2001-06-12 Governors Of The University Of Alberta Codepositing of gold-tin alloys
JP2001192886A (ja) * 2000-01-06 2001-07-17 Ne Chemcat Corp 金−錫合金電気めっき浴
WO2005118917A1 (en) * 2004-06-01 2005-12-15 Technic, Inc. Electroplating solution for alloys of gold with tin
CN101151401A (zh) * 2004-05-11 2008-03-26 技术公司 用于金-锡共晶合金的电镀液
CN102011158A (zh) * 2009-09-08 2011-04-13 大连理工大学 一种无氰Au-Sn合金电镀液的共沉积电镀方法
CN102433576A (zh) * 2011-12-19 2012-05-02 张家港舒马克电梯安装维修服务有限公司镀锌分公司 Au-Sn合金电镀液
CN102732918A (zh) * 2012-04-17 2012-10-17 广州天极电子科技有限公司 一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液及制备方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS579893A (en) * 1980-06-19 1982-01-19 Seiko Epson Corp Gold alloy plating bath
US6245208B1 (en) * 1999-04-13 2001-06-12 Governors Of The University Of Alberta Codepositing of gold-tin alloys
JP2001192886A (ja) * 2000-01-06 2001-07-17 Ne Chemcat Corp 金−錫合金電気めっき浴
CN101151401A (zh) * 2004-05-11 2008-03-26 技术公司 用于金-锡共晶合金的电镀液
WO2005118917A1 (en) * 2004-06-01 2005-12-15 Technic, Inc. Electroplating solution for alloys of gold with tin
CN102011158A (zh) * 2009-09-08 2011-04-13 大连理工大学 一种无氰Au-Sn合金电镀液的共沉积电镀方法
CN102433576A (zh) * 2011-12-19 2012-05-02 张家港舒马克电梯安装维修服务有限公司镀锌分公司 Au-Sn合金电镀液
CN102732918A (zh) * 2012-04-17 2012-10-17 广州天极电子科技有限公司 一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液及制备方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张福顺: "Au-Sn共沉积无氰电镀的研究", 《大连理工大学硕士学位论文》 *
张静 等: "电镀Au-Sn合金的研究", 《半导体技术》 *
王丽丽: "Au-Sn合金电镀", 《半导体技术》 *
王丽丽: "金-锡合金电镀", 《电镀与精饰》 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105780071A (zh) * 2016-05-19 2016-07-20 大连理工大学 一种无氰Au-Sn合金镀液及其制备方法和应用
CN105780071B (zh) * 2016-05-19 2018-05-04 大连理工大学 一种无氰Au-Sn合金镀液及其制备方法和应用
CN108802140A (zh) * 2018-08-13 2018-11-13 广州钰芯传感科技有限公司 一种多孔金修饰的叉指电极及其制备方法和应用
CN109916977A (zh) * 2019-03-04 2019-06-21 广州钰芯传感科技有限公司 一种voc检测用负载四氧化三钴的多孔金电极的制备方法及其应用
CN113308718A (zh) * 2021-05-08 2021-08-27 河北博威集成电路有限公司 一种GaN微波大功率芯片背面的金锡合金电镀方法
CN115636695A (zh) * 2022-12-21 2023-01-24 四川科尔威光电科技有限公司 一种半导体氮化铝陶瓷预置金锡焊料热沉的制备方法
CN117758327A (zh) * 2024-02-22 2024-03-26 深圳创智芯联科技股份有限公司 一种用于共晶焊接的电镀金锡溶液
CN117758327B (zh) * 2024-02-22 2024-06-07 珠海市创智成功科技有限公司 一种用于共晶焊接的电镀金锡溶液

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105483779A (zh) Au-Sn合金电镀液及其电镀方法
US6706418B2 (en) Metal alloy compositions and plating methods related thereto
TWI467066B (zh) 電鍍浴及方法
EP1716949B1 (en) Immersion method
US7431817B2 (en) Electroplating solution for gold-tin eutectic alloy
EP2329062B1 (en) Cyanide free electrolyte composition for the galvanic deposition of a copper layer
CN105112953A (zh) 无氰镀金液
US20040251143A1 (en) Electrolytic tin-plating solution and method for plating
CN105349972A (zh) 还原型复合配位非氰化学镀金液及方法
CN103469264B (zh) 电镀沉积制备纳米晶结构金锡合金镀层的方法
WO1999041433A1 (en) Electrolyte and tin-silver electroplating process
CN104805480A (zh) 一种碱性锌镍电镀液、制备方法及电镀方法
US5391402A (en) Immersion plating of tin-bismuth solder
CN102732918B (zh) 一种金锡共晶焊料(AuSn20)电镀液及制备方法
CN113529145A (zh) 一种用于光通信芯片的无氰金锡电镀液及其制备方法
CN105780071B (zh) 一种无氰Au-Sn合金镀液及其制备方法和应用
JP2001200387A (ja) 錫−インジウム合金電気めっき浴
IL42867A (en) Method and compositions for zinc electroplating
GB2089374A (en) Electrodeposition of palladium and palladium alloys
US4615774A (en) Gold alloy plating bath and process
JP5268883B2 (ja) 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜
CN104911653A (zh) 一种合金电镀液
US5185076A (en) Bath and method for electrodepositing tin, lead and tin-lead alloy
Vrublevskaya A review of developments in Au-Sn eutectic alloy electrodeposition
EP0384679A1 (en) Electrolytic deposition of gold-containing alloys

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160413