CN102708877A - 磁盘用基板、磁盘以及磁盘装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及磁盘用基板、磁盘以及磁盘装置，目的是提供即使磁盘高速旋转、也可抑制碰撞障碍、可靠性高、适合于卸载方式启动的停止的硬盘的磁盘用基板以及使用该基板的磁盘。本发明的磁盘用基板的代表性的结构是圆板形的玻璃基板（10），具有大致平坦的主表面（11）、端面（12）、形成在主表面（11）和端面（12）之间的倒角面（13）、以及在主表面（11）内的周边缘处相对于该周边缘以外的平坦面隆起或沉降的背离部，背离部的大小在玻璃基板（10）的整个圆周大致相等。

Description

磁盘用基板、磁盘以及磁盘装置

本申请是申请日为2008年2月19日、申请号为200880002786.3、发明名称为“磁盘用基板、磁盘以及磁盘装置”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用于磁记录介质的磁盘用基板、磁盘以及磁盘装置。

背景技术

近年来，随着信息化技术的高度发展，信息记录技术、尤其是磁记录技术有显著的进步。磁盘是作为装载在作为磁记录介质之一的HDD（硬盘驱动器）等上的磁记录介质。磁盘是在铝镁合金制的金属基板上覆盖NiP（镍磷）等膜，或在玻璃基板、陶瓷基板等基板上依次层积基底层、磁性层、保护层、润滑层地构成。目前，广泛使用铝基板作为磁盘用基板。但是，随着磁盘的小型化、薄板化以及高密度记录化，逐渐向与铝基板相比，基板表面的平坦度和基板强度都高的玻璃基板转换。

并且，为了向便携设备或汽车上装载大容量的磁记录介质，要求提高耐撞击性，在这点上，刚性高的玻璃基板也有优势。为了装载在便携设备上，基板的尺寸有缩小的趋势。因此，从目前的3.5英寸基板逐渐要求2.5英寸、1.8英寸、1英寸甚至更小的基板。基板越小，所允许的尺寸误差也小，要求更精密的形状加工。

并且，随着磁记录介质的高密度化，磁头也从薄膜磁头向磁阻磁头（MR磁头）、大型磁阻磁头（GMR磁头）发展，磁头从基板的浮起量变窄到10mm以下。但具有以下问题，即，这样以极窄的浮起量使磁头在磁盘上浮起飞行的情况下，容易产生飞行摩擦障碍（フライスティクション）。飞行摩擦障碍是指在磁盘上浮起飞行的磁头使浮起姿势和浮起量发生变化，随之产生不规则的再生输出变化。并且，如果产生该飞行摩擦障碍，则有时发生浮起飞行中的磁头与磁盘接触的磁头碰撞障碍。因此，要求玻璃基板表面具有高度的平坦度和平滑度。

并且，为了有效地利用玻璃基板表面的面积，不使用现有的CSS方式（接触起停），而改用装卸（Load Unload）方式。CSS方式是在磁盘停止时使磁头与基板表面接触的方式，需要在基板表面设置CSS用区域（与磁头的接触滑动区域）。而装卸方式是在磁盘停止时使磁头退避到玻璃基板外侧的方式，具有CSS用区域也可以作为记录面使用的优点。并且，在磁盘装置停止时，即使受到强的冲击，由于磁头退避，因此，可将磁盘的损伤抑制在最小限度。在可移动的小型硬盘中，从确保信息记录容量、耐冲击性的角度出发，选择装卸方式的启动再生方式和利用玻璃基板的磁盘的组合。

在装卸方式中，由于磁头通过玻璃基板的端部，因此，尤其是玻璃基板的外边缘部分的形状成为问题。如果在玻璃基板的外边缘部分形状紊乱（隆起或沉降），则打乱磁头的浮起姿势，磁头从玻璃基板的外面进入时或出去时容易发生接触，从而产生碰撞障碍的可能。因此，尤其要求磁盘外边缘部分具有高的平坦度。

并且，磁盘不仅是高密度化，也需要高速化。目前，装载了玻璃基板的磁盘装置用4200rpm等相对低速的旋转速度。但是近年来使用例如7200rpm以上的转速。而且，不久的将来有可能使用10000rpm以上的转速。如果进行这样的高速旋转，尤其是磁盘外边缘附近的线速度增大。例如，在转速为4200rpm的磁盘上，距基板中心的半径32.5mm位置的线速度为14.3m/秒，在5400rpm下，线速度为18.4m/秒，在7200rpm下，线速度为24.5m/秒。这样，尤其在线速度高的磁盘的外边缘部分容易产生上述飞行摩擦障碍和磁头碰撞障碍。因此，在这点上，尤其要求外边缘部分有高平坦度。

并且，近年来也在重新研究接触滑动式记录介质（接触记录式记录介质）。接触滑动式记录介质是在使记录头与磁盘接触滑动的状态下进行读写的记录方式。接触滑动式记录介质其本身是以前就有的记录方式，由于记录头与磁盘的间隔越窄，越可提高记录密度，因此，考虑重新作为今后发展的记录方式。并且，如果降低记录头的浮起量，记录头有时会与磁盘接触。即，降低了记录头的浮起量的结果是记录头有时部分地与磁盘接触滑动。但是，在接触滑动的情况下，具有记录头的磨损大的问题。并且，具有以下问题，即，如果记录头跳动，则信号质量下降，或由于分离接触的碰撞而使得记录头有可能损坏。这些多是由于磁盘表面的凹凸引起的，磁盘的旋转速度（即线速度）越快影响越大。因此，在这点上也特别要求外边缘部分有高平坦度。

另一方面，如以往专利文献1（日本特开2005-141852）所示，在研磨基板主表面时，具有外边缘部分的平坦度不够的问题。即，玻璃基板使用研磨垫夹住正反的主表面地按压，一面供给含有磨料的浆一面相对地移动玻璃基板和研磨垫进行研磨。此时，在主表面的外边缘部分产生称为滑跃的隆起（主表面的外边缘部分比主表面的其他部分突出）或产生称为下降的沉降（主表面的外边缘部分形成比主表面的其他部分相对地多削掉的状态）。滑跃和下降有时产生一种，有时也同时产生。

专利文献1：日本特开2005-141852号公报

发明内容

如上所述，正是由于磁盘的外边缘部分线速度最大，因此凹凸的影响也大，是平坦度要求最高的部位。并且，对于装卸方式中的磁头的通过也要求磁盘的外边缘部分的平坦度。但是，在该外边缘部分产生滑跃或下降，平坦度容易降低。因此，需要进行管理以尽量减少滑跃和下降，或将滑跃和下降减少后的玻璃基板用于磁盘。并且，制造磁盘用基板时也将该端部形状作为判断合格品/不合格品的标准之一。

但是，使用进行了上述管理的磁盘用基板、生产磁盘、制造硬盘的结果是具有磁头碰撞多发的问题。

因此，试着通过使规定上述端部形状的管理值更严格（使基于端部形状的合格品/不合格品的判断标准更严格），减少磁头碰撞。其结果，发生磁头碰撞的比例相对减少，但还是有产生磁头碰撞的问题。

本发明鉴于上述问题而形成，其目的是提供即使磁盘高速旋转、也可抑制产生碰撞障碍、可靠性高、适合于利用装卸方式启动停止的硬盘的基板以及使用该基板的磁盘。

本发明者们就上述问题进行了深刻的研究，其结果是，着眼于即使使上述管理值更严格，有时也发生磁头碰撞的情况，观察了各个基板的端部形状。于是发现判断管理值没有问题的玻璃基板的面内的端部形状存在不均。

本发明的第一方式

而且，本发明者们发现通过抑制玻璃基板面内的端部形状的不均，更具体是使玻璃基板的主表面端部上的隆起（沉降）形状在与该玻璃基板的主表面正交的高度方向大致相同，可提供可防止磁头碰撞的玻璃基板，从而完成了本发明的第一方式。

即，本发明的第一方式的磁盘用基板的代表性的构成是圆板形的基板，具有大致平坦的主表面、端面、形成在主表面和端面之间的倒角面、以及在主表面内的周边缘处相对于该周边缘以外的平坦面隆起或沉降的背离部，背离部的背离大小在基板的整个圆周大致相等。

换句话说，其特征在于，基板的主表面在与倒角部之间具有相对于该主表面隆起或沉降的背离部，在俯视基板的主表面的情况下，背离部以大致相同的高度包围主表面。在此，“大致相同的高度”例如是背离部的高度差优选在5nm以内。

根据上述构成，可提高磁盘用基板的尤其是外边缘部分的平坦度。因此，尤其在磁盘的外边缘部分上，不会打乱磁盘的浮起姿势，即使在使磁盘高速旋转的情况下，磁盘和磁头也没有接触的危险，可提高可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其被磁盘的外边缘部分打乱或与磁盘接触的危险。

即，通过使形成在基板的主表面端部且形成在基板整个圆周上的突起形状（隆起）的高度在基板的圆周方向大致相同，在使用该基板来制造磁盘装置（硬盘驱动器：HDD）的情况下，可使磁头的浮起飞行稳定，因此可防止引起磁头碰撞。

背离的大小优选在任意的半径位置的圆周方向大致相同。由于磁头在磁盘上主要在圆周方向扫描，因此，通过在圆周方向大致相同，可进一步防止磁盘和磁头的接触。

在基板上，将背离部在圆周方向每隔30°测量12个点的情况下，背离大小的变化、即沿着基板的圆周形成的背离部上的与基板的主表面正交的方向的差（变化量）优选为5nm以下。通过在这样的范围，可更确实地得到本发明的第一方式的效果。

背离部上的隆起或沉降为最大的极限部（極部）优选距离基板的中心大致相同的距离。换句话说，该基板在中心具有圆孔，在上述主表面上，由上述背离部上的隆起或沉降为最大的极限部形成的圆的中心优选位于与上述圆孔的中心大致相同的位置。这样，可以使圆周方向的背离的大小大致相同。

在主表面上，由背离部上的隆起或沉降为最大的极优选部形成的圆的圆度优选在600μm以内。更优选在400μm以内。更理想的是在200μm以内。如果圆度降低（值增大），则即使极限部的背离的大小相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使圆度在上述范围，则可以使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

基板在中心具有圆孔，在主表面，由背离部上的隆起或沉降为最大的极限部形成的圆和圆孔的同心度优选在1200μm以内。更优选在1000μm以内。更理想的是在800μm以内。如果同心度降低（值增大），则即使极限部的背离相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使圆度在上述范围，则可以使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

并且，从与上述主表面正交的方向看上述背离部时，考虑到记录头相对于磁盘半径方向的大小，连接该背离部的圆的圆度优选0.02mm+1.00mm（记录头的皮米滑橇的宽度）=1.02mm。换句话说，从玻璃基板的剖面看时，存在上述背离部的位置的变化在基板的半径方向上优选控制在1.02mm以内的范围。

基板也可以是搭载在磁头经过磁盘的外边缘、相对于磁盘的主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘用基板。由于外边缘部分的平坦度高，可形成适合于装卸方式的基板。

基板也可以是用于搭载在使磁盘以至少5400rpm的转速旋转的磁盘装置上的磁盘用基板。由于外边缘部分的平坦度高，因此即使在高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险，可提高可靠性。

本发明的第一方式的磁盘的制造方法的代表性的构成的特征是在通过上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板的表面上至少形成磁性层。这样，可制造主表面的外边缘部分也具有高度平坦度的磁盘。

本发明的第二方式

并且，本发明者们发现通过抑制玻璃基板面内的端部形状的不均，更具体是使玻璃基板的主表面端部上的突起形状在该玻璃基板的半径方向上大致相同，可提供可防止磁头碰撞的玻璃基板，从而完成了本发明的第二方式。

即，为了解决上述问题，本发明的第二方式的磁盘用基板的代表性的构成是圆板形的基板，具有大致平坦的主表面、端面、形成在上述主表面和端面之间的倒角面、以及在上述主表面内的周边缘处相对于该周边缘以外的平坦面形成隆起的背离部，上述背离部沿该基板的整个圆周形成，上述背离部的隆起为最大的极限部距离该基板的中心大致相同的距离。

根据上述构成，在磁盘用基板的尤其是外边缘部分，可提高作为记录头扫描方向的圆周方向的平坦度。因此，尤其在磁盘的外边缘部分上，不会打乱磁盘的浮起姿势，即使在使磁盘高速旋转的情况下，磁盘和磁头也没有接触的危险，可提高可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其在磁盘的外边缘部分被打乱或与磁盘接触的危险。

即，通过使形成在基板的主表面端部且形成在基板整个圆周上的突起形状（隆起）的半径方向的位置在基板的圆周方向大致相同，在使用该基板来制造磁盘装置（硬盘驱动器：HDD）的情况下，可使磁头的浮起飞行稳定，因此，可防止磁头碰撞。

在主表面，优选隆起的背离部上的极限部在该背离部的整个圆周上，在从该基板的中心到外径的半径方向的距离中，处于92.0~97.0%的范围。并且，也可以基板的外周端面为基准，在从端面起1~2.6mm的范围内。这样，可通过测量滑跃、下降或削去（ダブオフ）等了解极限部的位置。

在主表面上，由极限部形成的圆的圆度优选在600μm以内。更优选在400μm以内。更理想的是在200μm以内。如果圆度降低（值增大），则即使极限部的背离的大小相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使圆度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

该基板在中心具有圆孔，在主表面，由极限部形成的圆和圆孔的同心度优选在1200μm以内。更优选在1000μm以内。更理想的是在800μm以内。如果同心度降低（值增大），则即使极限部的背离的大小相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使同心度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

背离部上的背离的大小也可以是在该基板的整个圆周上大致相同。即，基板的主表面在与倒角面之间具有相对于该主表面隆起或沉降的背离部，在俯视基板的主表面的情况下，背离部也可以大致相同的高度包围主表面。背离的大小优选在任意的半径位置的圆周方向大致相同。由于磁头主要在圆周方向在磁盘上扫描，因此，通过在圆周方向大致相同，可进一步防止磁盘与磁头接触。在此，“大致相同”是指考虑圆度在上述范围且记录头相对磁盘半径方向的大小双方，优选是0.02mm+1.00mm（记录头的皮米滑橇的宽度）=1.02mm。

在背离部，背离的大小的变化、即沿着基板的圆周形成的背离部上的与基板的主表面正交的方向的差（变化量）优选在5nm以下。通过在这样的范围，可进一步确实得到本发明的第二方式的效果。

该基板也可以是搭载在磁头经过磁盘的外边缘、相对于磁盘的主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘用基板。由于外边缘部分的平坦度高，可形成适合于装卸方式的基板。

该基板也可以是用于搭载在使磁盘以至少5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的磁盘用基板。由于外边缘部分的平坦度高，因此即使在高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险，可提高可靠性。

本发明的第二方式的磁盘的制造方法的代表性的构成的特征是在通过上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板的表面上至少形成磁性层。这样，可制造主表面的外边缘部分也具有高度平坦度的磁盘。

根据本发明的第一方式，可提高磁盘用基板尤其是外边缘部分的平坦度。因此，尤其在磁盘的外边缘部分，不会打乱磁头的浮起姿势，且即使在使磁盘高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险，可提高可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其在磁盘的外边缘部分被打乱或与磁盘接触的危险。

根据本发明的第二方式，在磁盘用基板的尤其外边缘部分，可提高作为记录头扫描方向的圆周方向的平坦度。因此，尤其在磁盘的外边缘部分上，不会打乱磁盘的浮起姿势，并且，即使在使磁盘高速旋转的情况下，磁盘和磁头也没有接触的危险，可提高可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其在磁盘的外边缘部分被打乱或与磁盘接触的危险。

附图说明

图1（a）是用于说明本发明特征而使用的图，是对磁盘用基板的端部形状是滑跃形状的情况进行说明的图，图1（b）是用于说明本发明特征而使用的图，是对磁盘用基板的端部形状是下降形状的情况进行说明的图。

图2是用于说明本发明特征而使用的图，是对磁盘用基板的端部形状、对距连接任意两点间的直线的最大背离值进行说明的图。

图3是用于说明本发明第一实施方式而使用的图，是表示对磁盘用基板的端部形状、测量距连接任意两点间的直线的最大背离值的结果图。

图4是用于说明本发明第一实施方式而使用的图，是表示在磁盘用基板的端部形状为滑跃形状的情况下、测量极限部的半径位置的结果图。

图5是用于说明本发明第一实施方式而使用的图，是表示对磁盘用基板的端部形状、测量距连接任意两点间的直线的最大背离值的结果图。

图6是用于说明本发明第二实施方式而使用的图，是表示在磁盘用基板的端部形状为滑跃形状的情况下、测量极限部的半径位置的结果图。

图7是用于说明本发明第二实施方式而使用的说明图，是表示对磁盘用基板的端部形状、测量距连接任意两点间的直线的最大背离值的结果图。

具体实施方式

以下就本发明的磁盘用基板以及使用该磁盘用基板的磁盘的实施方式进行说明。另外，以下实施例所示的尺寸、材料以及其他具体的数值等只不过是为了容易理解发明的示例，无事先声明的情况下，不限制本发明。

首先参照图1和图2就用于说明本发明特征而使用的“背离部”和“极限部”等进行说明。

图1是说明作为磁盘用基板的端部形状的一例的滑跃形状和下降形状的侧视图。

上述磁盘用基板10形成圆板形状，在其中心形成圆孔。并且，如图1所示，磁盘用基板10具有作为信息的记录再生区域的主表面11、与该主表面11正交的端面12以及介于该主表面和端面之间的倒角面13。另外，有时由后述的端面研磨工序使端面12和倒角面13的界限模糊，因此，本发明也包括将端面12及其两侧的倒角面13形成一个曲面的情况。

主表面由于是用于对信息进行记录再生的区域，因此，为了记录头的浮起移动，实际上形成平坦的面。但是，在制造上述玻璃基板10时，在上述主表面的周边缘形成例如与玻璃基板的主表面上的中心部分相比、相对该主表面隆起或沉降的背离部14。该背离部14形成在玻璃基板的主表面的内周端部侧和外周端部侧双方。

如图1（a）所示，滑跃形状是主表面11的外边缘部分隆起的形状，如图1（b）所示，下降形状是玻璃基板10的外边缘部分沉降的形状。

图2是利用距连接任意两点间的直线的最大背离值进行测量的示例。即，以连接任意的两点间的直线为基准面，通过测量从该基准面看的作为隆起或沉降的最大点的极限部15的大小（最大背离值）来进行评价。

如图2所示，两点间的最大背离值是连接任意两点R1、R2的直线以及在其范围内的正方向的最大距离。并且，通过以包括作为滑跃形状的顶点的极限部15且使距连接上述两点的直线的最大距离在上述极限部15侧的方式设定两点R1、R2的位置，可测量上述极限部15的状态。

作为上述任意两点R1、R2的设定，具体可进行以下设定，例如在外径尺寸为2.5英寸（外径65mmΦ）的基板的情况下，使距玻璃基板的中心的距离分别为29.9mm（R1）、31.5mm（点R2）。换句话说，当将从基板的中心到基板端面的距离设为100%时，可将从基板中心起92%的位置和97%的位置作为两点地确定上述任意的两点。并且，在该两点间存在有磁盘用基板的背离部（隆起部或沉降部）14。并且，该两点中的离基板中心远的地点是磁头进行浮起移动的区域。

另外，在下述的实施方式中，如上所述，将在主表面内的周边缘，相对该周边缘以外的平坦面形成的隆起或沉降总称为相对主表面的平坦面的“背离”。并且，将形成该背离的部分称为背离部14。另外，参照图1和图2可以看出，呈现最大背离的位置是极限部15。

第一实施方式

首先就本发明的第一实施方式进行说明。

（磁盘用基板）

本发明者们为了提供减少滑跃或下降引起的磁盘主表面的凹凸、即使高速旋转也可抑制产生碰撞障碍的磁盘，进行了深入的研究，其结果发现，即使是相同的基板，在圆周方向不同的位置，滑跃或下降的情况也不同，由此完成了上述本发明的第一方式。

即，目前，玻璃基板在出厂前通过测量周边缘部分的形状来判断玻璃基板是否是合格品。但是，由于玻璃基板价格低且必须大量生产，并且检查后的基板不能作为出厂产品（破坏试验），因此，从批次中抽出几张样品，分别只就一个位置进行测量。并且，即使在使用经测量判断为合格品的玻璃基板制造磁盘的情况下，在滑行试验中或多或少也有判断为不合格品的玻璃基板。

因此，发明者们经过详细检查，了解到如果在圆周方向在多个位置测量端部形状，则由于位置不同，极限部15的位置和大小也不同。因此，即使通过了检查的批次，一旦形成磁盘、组装在磁盘装置上，有时也不能发挥所需要的性能。另一方面，如果将形成在玻璃基板的主表面的周边缘的极限部15的大小、换句话说将形成在主表面的端部的滑跃（隆起）的最大值在圆周方向大致相同的玻璃基板形成磁盘，装入磁盘装置，则不会引起磁头碰撞。

因此，在本实施方式中，将形成了背离的背离部14形成在玻璃基板10的整个圆周上，且使背离部14上的隆起或沉降为最大值的背离的大小在玻璃基板10的整个圆圆上大致相同。换句话说，玻璃基板10的主表面11在与倒角面之间具有相对该主表面隆起或沉降的背离部14，在俯视玻璃基板的主表面的情况下，背离部14以大致相同的高度包围主表面。以下就此进行说明。

以下对用于制造本实施方式的磁盘用基板的制造方法进行说明。

虽然经过各种工序制造磁盘用基板（具体如后所述），但在制造如本实施方式的磁盘用基板（在主表面的周边缘部、在距该玻璃基板的中心大致相同的距离处具有作为背离部（隆起部或沉降部）14的顶点的极限部15的基板）的情况下，尤其是最后研磨工序（第二研磨工序）很重要。另外，主要通过上述最后研磨工序的研磨条件来决定是在主表面的周边缘部形成上述隆起部还是相对上述平坦面形成沉降的沉降部。另外，在以下的说明中，就用于形成隆起部的条件进行说明。

随着存储密度的提高，所要求的上述隆起部的高度明显降低，决定其形状、大小的大部分主要原因依赖于最后研磨工序的研磨条件。

并且，最后研磨工序中的各种研磨条件的大多数对上述隆起部的形状、大小有影响，其中尤其是加工速率（加工速度）和加工压力具有影响。

以下，就使用行星齿轮方式的研磨装置、对玻璃基板的主表面进行研磨的最后研磨工序进行说明。当然，不使用行星齿轮方式的研磨装置也可以进行上述最后研磨工序。例如也可使用片式的研磨装置对上述玻璃基板进行最后研磨工序。

在最后研磨工序中，通过一面利用研磨垫按压该玻璃基板的两个主表面一面使研磨垫和玻璃基板相对移动来研磨上述玻璃基板。此时，单位时间的加工余量是加工速率，按压玻璃基板的压力是加工压力。

并且，为了制造本实施方式的磁玻璃基板，优选使加工速率在0.20μm/分~0.45μm/分的范围内，且使加工压力在8.0Pa~10.5Pa的范围内。由于其他研磨条件的影响比较小，因此不进行限制，例如在2.5英寸磁盘（Φ65mm）的情况下，可使研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）。在除了上述条件以外的条件下进行研磨的情况下，有端部形状变差或玻璃基板破裂的危险。

并且，为了制造本实施方式的磁盘基板，优选的是，在最后研磨工序，在以研磨加工为目的的加工压力（正式加工压力）下研磨基板后，以比该正式加工压力低（例如1Pa以下）的加工压力来研磨基板。尤其是优选用在正式加工压力下研磨基板的研磨时间的大约一半的时间以该低的加工压力进行研磨。通过这样可降低端部形状的圆周方向的不均。

并且，为了制造本实施方式的磁玻璃基板，优选对可进行化学强化处理的玻璃基板进行化学强化处理后，通过对基板主表面进行研磨，可得到磁盘用玻璃基板。在进行化学强化处理（离子交换处理）的情况下，有时端部形状会比研磨后粗糙。因此，在减少端部形状的圆周方向的不均的情况下，在进行了化学强化处理之后进行研磨处理可以高的成品率来生产降低了端部形状的圆周方向的不均的磁盘用玻璃基板。另外，在化学强化处理后进行了主表面研磨处理的玻璃基板，是基板表面的至少一部分表面具有离子交换层的玻璃基板，端面的离子交换层的层厚比主表面厚。

并且，在化学强化处理后进行了主表面研磨处理的玻璃基板在降低主表面的粗糙度方面是优选的。尤其是，近年的垂直磁记录方式所要求的基板的表面粗糙度与现有的相比明显下降。为了满足该要求，优选是在化学强化处理后进行了主表面研磨处理的玻璃基板。

另外，本实施方式的磁盘用基板的利用AFM（电子显微镜）测量的表面粗糙度Ra优选在0.15nm以下。

并且，为了制造本实施方式的磁玻璃基板，在使用行星齿轮方式的研磨装置进行最后研磨的情况下，载体的自转速和在装置内的公转速的关系也非常重要。

在行星齿轮方式中，将多张玻璃基板保持在载体上。并且，该被保持的玻璃基板与载体一起在其上下面压接研磨垫。并且，在该状态下，通过载体一面自转一面公转，研磨上述玻璃基板。即，由于玻璃基板和研磨垫的相对移动方向是任意的，因此是平均的，但与玻璃基板的圆周方向完全没有关系。因此，对于形成在玻璃基板的外边缘部分的滑跃等，其半径方向的位置、大小在圆周方向的位置上发生不均。

因此，为了减少该圆周方向的不均，优选将载体的自转速和公转速的比设定在0.125~8的范围。在以超过该范围的条件进行研磨的情况下，形成在玻璃基板的周边缘的滑跃（隆起部）的形状在圆周方向多是杂乱的。

并且，当从与上述玻璃基板的主表面正交的方向看该玻璃基板时，在上述背离的大小（高度）在圆周方向不均的情况下，磁盘旋转、记录头（磁头）扫描时，产生强烈的上下变化，记录头的浮起飞行不稳定。如果记录头不能追随上述背离的大小的变化，则发生磁头碰撞。

就此进行具体说明，记录头在磁盘上进行浮起飞行的情况下，该记录头即使在背离的大小变化大的情况下，在其变化比例小（平缓的）情况下可进行追随。但是，在微小的飞行距离期间发生大的背离变化的情况下，则引起碰撞。即，本实施方式的磁盘用基板尤其适用于磁头高速浮起飞行的情况。

另一方面，如上述的构成，通过在玻璃基板的整个圆周上大致相同地形成背离部14的背离的大小，即使发生滑跃或下降，在记录头进行扫描时，只要一直通过极限部15的顶部上面，则认为没有产生碰撞障碍程度的高低差。即，本发明着眼于圆周方向上的基板表面的高度变化是重要的。

因此，根据本实施方式的构成，在磁盘用基板的尤其是外边缘部分，可降低圆周方向的粗糙度、起伏，提高平坦度。因此，尽管产生滑跃或下降，也不会打乱磁头的浮起姿势，即使在使磁盘高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险。这样，可飞跃性地提高将磁盘装入磁盘装置时的可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其在磁盘的外边缘部分被打乱或与磁盘接触的危险，因此，记录头可稳定地通过磁盘端部，非常适合。

背离的大小在任意的半径位置的圆周方向优选是大致相同的。磁头在磁盘上主要在圆周方向扫描，因此，通过在圆周方向大致相同，可进一步防止磁盘和磁头的接触。

在此，“在圆周方向大致相同”是考虑到使圆度在上述范围、记录头相对磁盘半径方向的大小，优选是0.02mm+1.00mm（记录头的皮米滑橇的宽度）=1.02mm。

具体是，例如在玻璃基板上，将背离部14在圆周方向每隔30°测量12个点的情况下，背离部大小的变化可在5nm以下。通过在这样的范围，可进一步确实得到本发明的效果。

而且，背离部14上的隆起或沉降为最大的极限部15优选处于距玻璃基板的中心大致相同的距离的位置。这是由于背离的大小即使在整个圆周上是大致相同的，如果与中心的距离不一样，则在圆周方向也不是大致相同的。

具体是，在主表面上，由背离部14上的隆起或沉降为最大的极限部15形成的圆的圆度可以在600μm以内。优选在400μm以内。更理想的是在200μm以内。如果圆度降低（值增大），则即使极限部15的背离的大小相同，但在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。换句话说，在看距玻璃基板的中心规定的半径位置（背离部14存在的位置）上的剖面时，如果使玻璃基板旋转，则背离部14的极限部15的大小（例如隆起部的高度）发生变化。即，记录头在上述规定的半径位置进行浮起飞行的情况下，如果该记录头不能追随上述背离部14的大小的变化，则产生磁头碰撞。但是，通过使圆度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对记录头的大小大致相同。

形成在玻璃基板的中心的圆孔与由背离部14上的隆起或沉降为最大的极限部15形成的圆的同心度可以在1200μm以内。优选在1000μm以内。更理想的是在800μm以内。如果同心度降低（值增大），则即使极限部15的背离的大小相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使同心度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选是作为用于装载在使磁盘以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的玻璃基板使用。装载在以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上当然没有问题，尤其是在使磁盘高速旋转的磁盘装置的情况下，与非本发明的磁盘用基板相比，使用本实施方式的磁盘用基板的效果非常明显。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选作为如下的玻璃基板来使用，该玻璃基板用于装载在磁头以20.0m/秒以上的线速度在存在于该玻璃基板的周边缘的背离部14上移动的磁盘装置上。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选是用于触底高度（TDH）为3~4nm以下的磁盘。如果触底高度低，则在形成在上述玻璃基板上的背离的变化大的情况下，容易引起碰撞。但是，通过使用本实施方式的磁盘用基板，可使背离部14的变化比现有的更小，因此，即使减小磁头（记录头）的浮起量，也可抑制磁头碰撞。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选用于记录密度为200GBit/inch²以上的高记录密度的磁盘，更优选的是用于记录密度为250GBit/inch²以上更好的高记录密度的磁盘。在这样的高记录密度的情况下，虽然需要使记录头的浮起量更小，但通过使用本实施方式的磁盘用基板，可进一步降低记录头的浮起量，因此，可抑制碰撞。另外，用于记录密度小于上述的磁盘的玻璃基板或用于制造触底高度大于上述的磁盘的磁盘用基板当然也可适用本发明的磁盘用基板。

另外，本实施方式的磁盘用基板具有平坦的主表面、端面以及存在于该主表面和端面之间的倒角面，并且在主表面的周边缘部存在向与该周边缘部以外的平坦面正交的方向隆起的隆起部，而且，该磁盘用基板是圆板形的，在俯视玻璃基板的主表面的情况下，上述隆起部包围上述主表面，上述隆起部也可以大致相同的高度包围上述主表面。

并且，在俯视玻璃基板的主表面的情况下，背离部14的最大点也可存在于以该玻璃基板的中心部为基准、相对于到该玻璃基板的外形的距离在92.0~97.0%的范围内。

并且，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，上述隆起部的极限部15圆形地包围上述主表面，由上述极限部15形成的圆的圆度优选在600μm以内。

并且，上述玻璃基板在中心部具有圆孔，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，上述隆起部的极限部15圆形地包围上述主表面，由上述极限部15形成的圆和由上述中心部的圆孔形成的圆的同心度优选在1200μm以内。

并且，是圆板形的玻璃基板，上述玻璃基板具有平坦的主表面、端面以及存在于上述主表面和端面之间的倒角面，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，在上述主表面和倒角面之间具有相对于上述主表面沉降的沉降部，可以使离开上述玻璃基板的中心规定距离的位置上的上述沉降部距主表面的深度大致相同。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选至少对端面进行化学强化，对基板前面（整个表面）进行强化更为优选。换句话说，上述磁盘用基板更优选在其表面形成压缩应力层。尤其是安装在以高速旋转（例如10000rpm）使上述磁盘用基板旋转的磁盘装置上的情况下或安装在作为移动用途进行使用的磁盘装置上的情况下，要求玻璃基板具有耐冲击性，因此，优选在玻璃基板表面形成压缩应力层。另外，这里的化学强化是指通过使玻璃基板与含有化学强化盐的化学强化处理夜接触，将玻璃基板中含有的一部分离子与离子径大于该离子的化学强化处理液中的离子进行置换，从而进行强化玻璃基板的处理。

（磁盘）

可通过在上述磁盘用基板上形成磁性膜来制造本实施方式的磁盘。由于在上述磁盘用基板的上面形成磁性膜，因此，该磁盘的主表面的形状受到该玻璃基板的很大影响。即，为了提高磁盘上的主表面的形状，需要提高上述玻璃基板的主表面的形状。因此，通过使用本实施方式所述的磁盘用基板作为磁盘用基板，可制造提高主表面尤其是周边缘部的形状的磁盘。另外，磁盘的制造方法是众所周知的，在此省略说明。

并且，本实施方式的磁盘也可以是装载在磁头经过其外边缘相对于主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘。由于玻璃基板的外边缘部分的平坦度高，因此可形成适合于装卸方式的磁盘。

并且，本实施方式的磁盘基板也可以是用于装载在使磁盘至少以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的磁盘。也适合用于速度为7200rpm以上、10000rpm以上的速度的磁盘装置。这是因为：由于玻璃基板的外边缘部分的平坦度高，因此即使在高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险，可靠性高。

并且，本实施方式的磁盘也可以是接触滑动式记录介质（接触记录式记录介质）。接触滑动式记录介质由于是在使记录头与磁盘接触滑动的状态下进行读写，因此，如上所述，通过提高磁盘用基板的尤其是外边缘部分的圆周方向的平坦度，可防止记录头跳起。这样，可提高信号质量，防止记录头损坏。

（磁盘装置）

通过装载上述磁盘，可形成磁盘装置（硬盘驱动器）。并且，装载了上述磁盘用基板的磁盘装置尤其适合于通过高速旋转进行信息的记录再生的情况。

另外，虽然以上述磁盘用基板的外周端面为中心进行说明，但内周端面也如上所述地形成背离部14。并且，该背离部14上的隆起为最大的极限部15当然优选是在距该玻璃基板的中心大致相同的距离。

（磁盘用玻璃基板的制造管理方法）

在上述的说明中，说明了通过在玻璃基板上的多个不同位置测量削去或滑跃等来对玻璃基板的整体背离状态进行评价的结构。但是，现状是测量削去或滑跃等所需要的时间长，一个位置需要五分钟左右。因此，如上述的实施例那样，如果测量12个点，一张基板需要一个小时。由于必须低价格地大量生产玻璃基板，因此，优选尽量省略不必的测量。

因此，实际上在制造磁盘用玻璃基板时，可只在存在于基板面内的背离（隆起或沉降）中的极大值在规定值以下的情况下，测量基板面内的上述背离的不均，判断合格品/不合格品。更具体地说，可以将测量背离的大小的测量工序分成测量背离（隆起或沉降）为最大位置的位置测量工序和测量具体的背离大小的值测量工序。对于位置测量工序，例如可考虑利用比值测量工序的解析度低的测量方法迅速且大范围地进行测量。在该位置测量工序中，虽然解析度低，但可以一定程度的精度测量背离的大小。因此，在背离的大小明显超过合格品的范围的情况下，不需要对该基板进行具体的测量。另一方面，当背离的大小在综合了合格品的范围和位置测量工序的误差范围的范围时，作为值测量工序可如上述实施例那样对12个点进行测量。

对于位置测量工序，具体来说，例如使用OptiFlat（Phase ShiftTechnorogy公司生产）作为解析度低的光干涉式表面形状测量装置来扫描整个玻璃基板，可确定背离的最大的位置。对于值测量工序，例如可使用MicroXam（同公司生产）作为解析度高的光干涉式表面形状测量装置来测量具体的背离的大小。

通过上述的构成，可排除明显不必的测量，可削减检查工序所需要的时间。

而且，在位置测量工序中，把握住玻璃基板的背离大小为最大的位置后，作为值测量工序可只就一点、只测量该位置上的背离的大小。

然后，在判断工序中，通过将所测量的最大背离的大小与规定值进行比较，可判断玻璃基板是否是合格品。在背离值使用削去的情况下，背离值为±10nm以下，优选在±7nm以下，更优选为±5nm以下。另外，背离值的测量范围可设定成在从玻璃基板的中心起到端部的距离为100%的情况下、距中心92.0~97.9%的范围。

这样，通过只测量基板中的最大的背离，无需在多个位置进行测量。因此，可迅速地进行判断，可缩短检查工序的时间。

另外，本发明的基板利用玻璃（可使用非晶玻璃或玻璃陶瓷（结晶玻璃）。作为板状玻璃的材料，对硅铝酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等进行了说明。但是，由于本发明是关于磁盘用基板的形状，因此，对磁盘用基板的材质没有限制，例如由铝等其他材料形成的基板也适合使用本发明。但如上所述，尤其是在便携设备中，优选与铝基板相比，基板表面的平坦度以及基板强度好的玻璃基板。

本发明的磁盘用基板也可以是如下构成，即，是具有大致平坦的主表面、端面、形成在上述主表面和端面之间的倒角面的磁盘用基板，在上述主表面的周边缘具有相对该周边缘以外的平坦面隆起或沉降的背离部14，上述背离部14在主表面的圆周方向连续地形成，该背离部14与上述主表面正交的方向的最大高度（最大背离值）在该基板的整个圆周上大致相同地形成。

并且，上述背离部14可形成在内孔形成在中心的圆盘形的磁盘的主表面的外周边缘，也可形成在内周边缘，还可形成在双方。并且，在本发明中，在背离部14形成在内周边缘和外周边缘双方的情况下，至少一方的背离部14是上述形状即可，但优选是记录头的线速度快的外周边缘是上述形状。

并且，通过使用本实施方式的磁盘用基板制造磁盘，可形成触底高度（TDH）在基板的半径方向的不均小的磁盘。这样，通过减少基板的端部形状的不均，可提高磁盘的最外周附近的磁头的浮起特性。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选作为对应DFH（动态飞高）磁头的磁盘的基板使用。使用DFH磁头的情况下，磁盘表面与磁头的最接近部的距离与现有的相比明显降低。但本实施方式的磁盘用基板可使起伏的高度在20μm以下，进而在12μm以下。并且，可使基板主表面的表面粗糙度在0.15nm以下，进而在0.12nm以下。因此，在磁盘使用上述磁盘用基板的情况下，可进一步降低DFH磁头的碰撞。

（实施例）

以下就适用本发明的磁盘用基板和磁盘的制造方法的实施例进行说明。该磁盘用基板和磁盘作为具有3.5英寸磁盘（Φ89mm）、2.5英寸磁盘（Φ65mm）、0.8英寸磁盘（Φ21.6mm）、1.0英寸磁盘（Φ27.4mm）、1.8英寸磁盘（Φ48mm）等规定形状的磁盘进行制造。

（1）形状加工工序和第一抛光工序

在本实施例的磁盘用基板的制造方法中，首先，对板状玻璃的表面进行抛光（磨削）加工形成玻璃母材，切断该玻璃母材而切出玻璃磁盘。板状玻璃可使用各种板状玻璃。该板状玻璃例如以熔融玻璃为材料，可利用模压法或浮法、下拉法、多级拉伸法、熔融法等众所周知的制造方法进行制造。其中，如果使用模压法，可廉价地制造板状玻璃。板状玻璃的材质可使用非晶玻璃、玻璃陶瓷（结晶玻璃）。板状玻璃的材料可使用硅铝酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等。尤其是非晶玻璃，可实施化学强化，并且，可提供给主表面的平坦性和基板强度好的磁盘用基板，在这点上，优选使用硅铝酸盐玻璃。

在本实施例中，采用备有上模、下模、中间模（胴型）的直接压模，把熔融的硅铝酸盐玻璃成型为盘状，得到了非晶的板状玻璃。另外，作为硅铝酸盐玻璃，采用含有以SiO₂：58～75重量%、Al₂O₃：5～23重量%、Li₂O：3～10重量%、Na₂O：4～13重量%为主成分的化学强化玻璃。

接着，对该板状玻璃的两主表面进行抛光加工，成为盘状的玻璃母材。该抛光加工是用具有行星齿轮机构的两面抛光装置，用氧化铝系游离磨粒进行的。具体地说，使抛光平台从上下按压板状玻璃的两面，把含有游离磨粒的磨削液供给到板状玻璃的主表面上，使它们相对地移动，进行抛光加工。经过该抛光加工，得到具有平坦主表面的玻璃母材。

（2）切出工序（去芯、成形加工、倒角）

接着，用金刚石刀将玻璃母材切断，从该玻璃母材上切出圆盘状的玻璃基板。然后，再用圆筒状的金刚石钻，在该玻璃基板的中心部形成内孔，成为圆环状的玻璃基板（去芯）。然后，利用金刚石砂轮磨削内周端面和外周端面，进行规定的倒角加工（成形加工、倒角）。

（3）第二抛光加工

接着，与第一抛光工序同样地，对得到的玻璃基板的两主表面进行第二抛光加工。通过进行该第二抛光加工，可以预先把在前工序即切出工序、端面研磨工序中形成在主表面上的细微凹凸形状除去，使得后续的对主表面的研磨工序可在短时间内完成。

（4）端面研磨工序

接着，用刷研磨方法，对玻璃基板的外周端面和内周端面进行镜面研磨。这时，研磨磨粒是使用含有氧化铈磨粒的浆（游离磨粒）。

然后，用水清洗完成了端面研磨工序的玻璃基板。经过该端面研磨工序，玻璃基板的端面被加工成可防止钠、钾析出的镜面状态。

（5）主表面研磨工序

作为主表面研磨工序，先实施第一研磨工序。该第一研磨工序的主要目的是除去在前述抛光工序中残留在主表面上的伤痕、变形。在该第一研磨工序中，借助具有行星齿轮机构的两面研磨装置，采用硬质树脂研磨具，进行主表面的研磨。研磨剂采用氧化铈磨粒。

把结束了该第一研磨工序的玻璃基板，依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、IPA（异丙醇）的各清洗槽中，进行清洗。

接着，作为主表面研磨工序，实施第二研磨工序。该第二研磨工序的目的是把主表面精加工成镜面状。在该第二研磨工序中，借助具有行星齿轮机构的两面研磨装置，采用软质发泡树脂研磨具，进行主表面的镜面研磨。研磨剂采用比第一研磨工序中使用的氧化铈磨粒更细的氧化铈磨粒。

把结束了该第二研磨工序的玻璃基板，依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、IPA（异丙醇）的各清洗槽内，进行清洗。另外，对各清洗槽施加了超声波。

（6）化学强化工序

然后，对结束了上述抛光工序和研磨工序的玻璃基板进行化学强化。化学强化是准备混合了硝酸钾（60%）和硝酸钠（40%）的化学强化溶液，将该化学强化溶液加热到400℃，并将清洗后的玻璃基板预热到300℃，在化学强化溶液中浸渍大约三个小时。在该浸渍时，为了对玻璃基板的整个表面进行化学强化，以在端面保持多个玻璃基板的方式，在收纳在保持架上的状态进行。

这样，通过在化学强化溶液中进行浸渍处理，玻璃基板表层的锂离子和钠离子被分别置换成化学强化溶液中的钠离子和钾离子，强化了玻璃基板。形成在玻璃基板表层的压缩应力层的厚度大约为100μm至200μm。

将结束了化学强化处理的玻璃基板浸渍在20℃的水槽中进行迅速冷却，保持大约十分钟。然后，将结束了迅速冷却的基板浸渍在加热到大约40℃的浓硫酸中清洗。然后，将进行了硫酸清洗的玻璃基板依次浸渍到纯净水、IPA的各清洗槽中进行清洗。

如上所述，通过实施第一抛光工序、切出工序、第二抛光工序、端面研磨工序、第一和第二研磨工序以及化学强化工序，得到平坦且平滑的高刚性的磁盘用基板。

（7）检查工序

检查所得到的磁盘用基板的外边缘部分的形状。检查工序由测量工序和判断工序构成，在测量工序中，对玻璃基板的圆周方向的多个部位测量背离值和极限部15；在判断工序中，基于所测量的多个背离值和极限部15、判断玻璃基板是否是合格品。

（8）磁盘制造工序

在经过了上述工序得到的玻璃基板的两面，通过在玻璃基板的表面依次进行Cr合金形成的附着层、CoTaZr合金形成的软磁性层、Ru形成的基底层、CoCrPt基合金形成的垂直磁记录层、碳氢化合物形成的保护层、全氟聚醚形成的润滑层的成膜，制造垂直磁记录盘。更具体是，利用在线式喷溅装置在玻璃基板上依次进行CrTi的附着层、CoTaZr/Ru/CoTaZr的软磁性层、Ru的中间层、CoCrPt-SiO₂的微粒磁性层、碳化氢保护膜的成膜，然后，通过浸渍法进行全氟聚醚润滑层的成膜，得到磁盘。

另外，本构成是一例垂直磁盘（PMR：垂直磁记录）的构成，但也可以作为水平磁盘（LMR：水平磁记录）构成磁性层等。这样，可制造主表面的外边缘部分也具有高度平坦度的磁盘。

（9）磁盘装置制造工序

并且，通过将上述磁盘组装到装置中，制造磁盘装置。另外，磁盘装置的构成是众所周知的，因此，在此省略具体说明。

（第一实施例）

将以下所示的研磨条件适用于上述（5）主表面研磨工序的第二研磨工序，制造磁盘用基板、磁盘、磁盘装置。另外，在第一实施例中制造2.5英寸磁盘（Φ65mm）。具体的研磨条件是研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）、加工速率为0.30（μm/分）、加工压力为9（Pa）。更具体是，将最后研磨工序中的加工压力变成两级，用9（Pa）的正式加工压力在规定时间期间进行研磨加工后，用1（Pa）的加工压力在规定时间的一半期间进行研磨加工。并且，此时的正式加工压力和加工速率的积（正式加工压力×加工速率）为2.7。

（第一比较例）

除了将上述第二研磨工序中的研磨条件设为以下的条件以外，利用上述的制造方法制造第一比较例的磁盘用基板、磁盘、磁盘装置。第一比较例的具体的研磨条件是研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）、加工速率为0.60（μm/分）、加工压力为12.0（Pa）。此时的研磨工序是，在正式加工压力为12.0（Pa）的状态下进行研磨加工，之后不降低加工压力地进行研磨加工。并且，此时的正式加工压力和加工速率的积（正式加工压力×加工速率）为7.2。

（第一实施例和第一比较例的比较）

通过以下所示的方法检查存在于如第一实施例和第一比较例所示地制造的磁盘用基板的主表面周边缘的极限部15的形状。

（A）端部形状的影响

首先，就圆周方向的极限部15的高度的影响进行了调查。具体是，为了调查上述两个玻璃基板的圆周方向的高度的变化，测量了两个基板的任意两点间的最大背离值。最大背离值的测量范围（图2的R1、R2）决定了可看到形成在玻璃基板的主表面周边缘且在圆周方向的高度不同的极限部15变化的测量范围。在此，距基板中心的距离分别为29.9mm(R1)、31.5mm的点(R2)，测量设备使用光干涉式表面形状测量装置（（MicroXam(Phase Shift Technology公司生产)）物镜倍率:2.5倍，中间透镜倍率：使用0.62倍，测量波长553.2nm，测量区域3.58×3.88mm，解析度752×480像素）。并且，使玻璃基板在圆周方向每次旋转30°，测量上述顶点的位置共12个点。

即，上述方法测量的最大背离值表示连接上述R1和R2的直线与上述隆起部的顶点（极限部15）的背离的大小。并且，其结果如图3所示。

如图3所示，第一实施例与第一比较例相比，玻璃基板的圆周方向的高度的变化小。具体是，第一实施例的变动差为2.86nm，而第一比较例的变动差为16.10nm。

（B）装卸试验比较

如上所述，分别制造了在第一实施例和第一比较例的磁盘用基板上形成了磁性层的磁盘后，制造磁盘装置，进行装卸试验。具体是，将记录头的浮起量设定为9~10nm，在使磁盘的转速为5400rpm和7200rpm的两种情况下进行试验。

结果，在第一实施例和第一比较例的磁盘的情况下，即使以5400rpm的转速反复100万次装卸，也没有发生碰撞。第一比较例的磁盘在200万次装卸试验中发生碰撞。

然而，将转速设定为7200rpm进行装卸试验后，第一实施例的磁盘即使反复100万次装卸，也没有发生碰撞，而第一比较例的磁盘在反复80万次时发生碰撞。

根据该结果了解到，如本发明所示，存在于玻璃基板的主表面周边缘的背离部14的极限部（隆起部的顶点）15的背离大小大致相同地形成在该玻璃基板的整个圆周上是很重要的。

另外，在本实施例中，背离部14的极限部15使用隆起部的顶点地进行了说明，但本发明也可以是背离部14的极限部15使用沉降部的凹点。即，通过沉降为最大的极限部15的背离的大小大致相同地形成在该玻璃基板的整个圆周上，可得到与上述相同的效果。

（C）表面形状的特定

然后。对磁盘用基板的主表面周边缘的形状（端部形状）进行了调查。调查存在于玻璃基板的主表面周边缘的背离部14的背离的大小受到在该玻璃基板的整个圆周上的大致相同的磁盘用基板（上述第一实施例）的极限部（隆起部的顶点）15的位置的同心度和圆度的影响。并且，作为第二比较例准备了极限部（隆起部的顶点）15的位置的同心度和圆度比上述第一实施例差的另外的磁盘用基板。使最后研磨工序中的加工压力和加工速率与上述第一实施例的情况不同地制造该第二比较例的磁盘用基板。具体是，相对玻璃基板使加工压力为8.0（Pa）、加工速率为0.45（μm/分）地制造第二比较例的磁盘用基板。并且，此时的正式加工压力和加工速率的积（正式加工压力×加工速率）为3.6。

使用光干涉式表面形状测量装置（OptiFlat(Phase ShiftTechnology公司生产)）进行测量。另外，OptiFlat与上述MicroXam相比，虽然解析度低，但测量区域广泛。

其结果，可看出第一实施例、第二比较例的玻璃基板的端部形状是滑跃形状。并且，从该测量结果测量到滑跃形状上的顶点（极限部15）与玻璃基板中心的距离。而且，为了调查上述顶点位置的圆周方向的变位，使玻璃基板在圆周方向每次旋转30°，测量上述顶点的位置共12个点。此时的结果如图4所示。另外，图4表示测量滑跃的极限部（滑跃点）15的半径位置的结果。

其结果如图4所示，从玻璃基板的中心看，形成在第一实施例的磁盘用基板的主表面周边缘的极限部15位于大致相同的位置（距离），具体是，距玻璃基板的中心，以30.6mm为中心，位于±0.2mm的范围内。而在第二比较例的情况下，以30.6mm为中心，位于±1.4mm的范围内。

另外，第一实施例的磁盘用基板的圆度为0.40（mm），同心度为1.07（mm）。而第二比较例的磁盘用基板的圆度为2.60（mm），同心度为5.68（mm）。并且，极限部15的高度（背离值）在第一实施例和第二比较例的构成中大致相同。

并且，在第一实施例和第二比较例中进行转速为10000转的情况下的装卸试验。另外，该试验在安装了磁盘的状态下进行。并且，此时的记录头的浮起量为9~10nm。其结果，在第一实施例的情况下，即使反复100万次也不发生碰撞，而在第二比较例的情况下，在反复60万次装卸后发生碰撞。另外，在第一实施例中，在转速为5400rpm和7200rpm的情况下即使重复100万次都没有发生碰撞。

并且，尽管在第一实施例和第二比较例中磁盘用基板上的背离值的值大致相同，但第二比较例的构成在以高速旋转进行滑行试验时产生碰撞障碍。而第一实施例的构成不产生碰撞障碍。这是由于假使发生大（不小）的滑跃，由于圆度或同心度高（值小），则圆周方向的基板表面的变化（粗糙度、起伏）少。并且，从大量试验结果看出，圆度优选在600μm以内，同心度优选在1200μm以内。

根据该结果，极限部15在玻璃基板的圆周方向的位置在半径方向相同且高度方向的变化少，对使磁盘高速旋转最有利。

（D）调整试验

对从第一实施例和第一比较例得到磁盘进行调整试验。具体是，测量距2.5英寸（外径65mmΦ）的玻璃基板的中心的距离从29.9mm（R1）到31.5mm的点（R2）之间区域上的调整。

具体的测量条件按照以下（1）~（3）的顺序进行。

（1）将磁盘安装在电磁转换特性测量机（グ一シックテクニカルエンタ一プライズ公司制造）上，将磁头（DFH（动态飞高）磁头）装入磁盘上，写入MF方式（硬盘使用的高频的一半的频率）。

（2）将读出信号输入示波器。

（3）然后，求出上述范围内的任意半径位置上的每个区域的调整。

结果，比较第一实施例和第一比较例的结果，第一实施例的调整值良好。

并且，使用具有与第一实施例相同的最大背离值的不均（隆起部的高度在圆周方向相同的基板）、上述圆度/同心圆不同的磁盘基板，进行与上述相同的调整试验。其结果，圆度在1200μm以内、同心度在600μm以内的基板的调整值良好。如果偏离这些值，则调整结果变差。另外，第一实施例和第一比较例在相同条件下制造磁盘。

（第二实施例）

图5是表示对第二实施例和第三比较例、测量距连接任意两点间的直线的最大背离值的结果的图。第二实施例在与上述第一实施例相同的条件下进行加工，第三比较例在与上述第一比较例相同的条件下进行加工。另外，为了进行比较，图5也同时表示第一实施例和第一比较例。并且，与图3所示的结果一样，使玻璃基板在圆周方向每次旋转30°，测量滑跃形状的顶点（极限部15）的位置共12个点。

如图5所示，虽然第二实施例的最大背离值整体地比第一实施例高，但玻璃基板在圆周方向上的高度的变化（最大-最小）比第一实施例小。另一方面，尽管第三比较例比第一比较例的变化小，但从图中可看出不规则地上下移动。总之，第一实施例、第二实施例的变化差小，分别为2.68nm、1.95nm，而第一比较例、第三比较例的变化差大，分别为16.10nm、12.50nm。

另外，上述的实施例、比较例是端部形状为滑跃形状（相对于主表面隆起的形状）的情况。即使在相对于基板主表面沉降形状的下降形状的情况下，如果进行相同试验，也可得到与上述实施例和比较例相同的结果。

以上，参照附图就本发明的适当的第一实施方式进行说明，但本发明当然不局限于该实施方式。如果是本领域的技术人员，则显然能够想到在权利要求内记载的范围内的各种变更例或修正例，这些当然也属于本发明的技术范围。

第二实施方式

以下就本发明的第二实施方式进行说明。

（磁盘用基板）

本发明者们为了提供减少滑跃或下降引起的磁盘主表面的凹凸、即使高速旋转也可抑制产生碰撞障碍的磁盘，进行了深入的研究，其结果发现，即使是相同的基板，在圆周方向不同的位置，滑跃或下降的情况也不同，由此完成了上述本发明的第二方式。

即，目前，玻璃基板在出厂前通过测量周边缘部分的形状来判断玻璃基板是否是合格品。但是，由于玻璃基板价格低且必须大量生产，并且检查后的基板不能作为出厂产品（破坏试验），因此，从批次中抽出几张样品，分别只就一个位置进行测量。并且，即使在使用经测量判断为合格品的玻璃基板制造磁盘的情况下，在滑行试验中或多或少也有判断为不合格品的玻璃基板。

因此，发明者们经过详细检查，了解到如果在圆周方向在多个位置测量端部形状，则由于位置不同，极限部15的位置和大小也不同。因此，即使通过了检查的批次，一旦形成磁盘、组装在磁盘装置上，有时也不能发挥所需要的性能。另一方面，如果将形成在玻璃基板的主表面的周边缘的极限部15的半径位置、换句话说将形成在主表面的端部的滑跃（隆起）的最大值存在的半径位置在圆周方向大致相同的玻璃基板形成磁盘，装入磁盘装置，则不会引起磁头碰撞。

因此，在本实施方式中，将形成了背离的背离部14形成在玻璃基板10的整个圆周上，且使背离部14上的隆起为最大值的极限部15形成在距该玻璃基板的中心大致相同距离。以下就此进行说明。

以下就用于制造本实施方式的磁盘用基板的制造方法进行说明。

虽然经过各种工序制造磁盘用基板（具体如后所述），但在制造如本实施方式的磁盘用基板（在主表面的周边缘部、在距该玻璃基板的中心大致相同的距离处具有作为背离部（隆起部或沉降部）14的顶点的极限部15的基板）的情况下，尤其是最后研磨工序（第二研磨工序）很重要。另外，主要通过上述最后研磨工序的研磨条件来决定是在主表面的周边缘部形成上述隆起部还是相对上述平坦面形成沉降的沉降部。另外，在以下的说明中，就用于形成隆起部的条件进行说明。

随着存储密度的提高，所要求的上述隆起部的高度明显降低，决定其形状、大小的大部分主要原因依赖于最后研磨工序的研磨条件。

并且，最后研磨工序中的各种研磨条件的大多数对上述隆起部的形状、大小有影响，其中尤其是加工速率（加工速度）和加工压力具有影响。

以下，就使用行星齿轮方式的研磨装置、对玻璃基板的主表面进行研磨的最后研磨工序进行说明。当然，不使用行星齿轮方式的研磨装置也可以进行上述最后研磨工序。例如也可使用片式的研磨装置对上述玻璃基板进行最后研磨工序。

在最后研磨工序中，通过一面利用研磨垫按压该玻璃基板的两个主表面一面使研磨垫和玻璃基板相对移动来研磨上述玻璃基板。此时，单位时间的加工余量是加工速率，按压玻璃基板的压力是加工压力。

并且，为了制造本实施方式的磁玻璃基板，优选使加工速率在0.25μm/分~0.5μm/分的范围内，且使加工压力在8.5Pa~11Pa的范围内。由于其他研磨条件的影响比较小，因此不进行限制，例如在2.5英寸磁盘（Φ65mm）的情况下，可使研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）。在除了上述条件以外的条件下进行研磨的情况下，有端部形状变差或玻璃基板破裂的危险。

并且，为了制造本实施方式的磁盘用基板，在使用行星齿轮方式的研磨装置进行最后研磨的情况下，载体的自转速和在装置内的公转速的关系也非常重要。

在行星齿轮方式中，将多张玻璃基板保持在载体上。并且，该被保持的玻璃基板与载体一起在其上下面压接研磨垫。并且，在该状态下，通过载体一面自转一面公转，研磨上述玻璃基板。即，由于玻璃基板和研磨垫的相对移动方向是任意的，因此是平均的，但与玻璃基板的圆周方向完全没有关系。因此，对于形成在玻璃基板的外边缘部分的滑跃等，其半径方向的位置、大小在圆周方向的位置上发生不均。

因此，为了减少该圆周方向的不均，优选将载体的自转速和公转速的比设定在0.125~8的范围内。在以超过该范围的条件进行研磨的情况下，形成在玻璃基板的周边缘的滑跃（隆起部）的形状在圆周方向多是杂乱的。

并且，当从与上述玻璃基板的主表面正交的方向看该玻璃基板时，在形成有上述极限部的半径方向的位置在圆周方向不均的情况下，具体是例如用线连接极限部之间时形成的圆偏心或形成椭圆、形成之字形的情况下，记录头（磁头）进行扫描的圆周方向（轨迹方向）和将极限部相连的轨迹交差时产生剧烈的上下变动。换句话说，记录头在高速旋转的磁盘上扫描时，越过多个极限部，该记录头的浮起飞行不稳定。

并且，随着近年来的记录头的低浮起量化，记录头不能追随该上下变动，有发生碰撞障碍的危险。并且，在接触滑动式硬盘的情况下，有记录头跳起、信号质量变差或导致记录头损坏的危险。

另一方面，如上述的构成，通过使极限部距玻璃基板的中心大致相同的距离，即使发生滑跃或下降，在记录头进行扫描时，只要一直通过极限部15的顶部上面，可认为没有产生碰撞障碍程度的高低差。可是，想到由于圆周方向的位置不同而导致极限部本身具有高低差，但与之字形等产生的极限部升降相比，该高低差明显的小。即，只注重圆周方向上的基板表面的高度变化是重要的。

因此，根据本实施方式的构成，在磁盘用基板的尤其是外边缘部分，可降低圆周方向的粗糙度、起伏，提高平坦度。因此，尽管产生滑跃或下降，也不会打乱磁头的浮起姿势，即使在使磁盘高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险。这样，可飞跃性地提高将磁盘装入磁盘装置时的可靠性。并且，对于装卸方式中的磁头的通过，也没有磁头的浮起姿势尤其在磁盘的外边缘部分被打乱或与磁盘接触的危险，因此，记录头可稳定地通过磁盘端部，非常适合。

具体是，在主表面上，由背离部14上的隆起或沉降为最大的极限部15形成的圆的圆度可以在600μm以内。优选在400μm以内。更理想的是在200μm以内。如果圆度降低（值增大），则即使极限部的背离的大小相同，但在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。换句话说，在看距玻璃基板的中心规定的半径位置（背离部14存在的位置）上的剖面时，如果使玻璃基板旋转，则背离部14的极限部的大小（例如隆起部的高度）发生变化。即，记录头在上述规定的半径位置进行浮起飞行的情况下，如果该记录头不能追随上述背离部14的大小的变化，则产生磁头碰撞。但是，通过使圆度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对记录头的大小大致相同。

形成在玻璃基板的中心的圆孔与由背离部14上的隆起或沉降为最大的极限部15形成的圆的同心度可以在1200μm以内。优选在1000μm以内。更理想的是在800μm以内。如果同心度降低（值增大），则即使极限部15的背离的大小相同，在圆周方向看背离的大小也不是大致相同。但是，通过使同心度在上述范围，则可使圆周方向的背离的大小相对于记录头的大小大致相同。

而且，背离的大小在任意的半径位置的圆周方向优选是大致相同的。通过使圆周方向和极限部形成的轨迹一致，并使极限部的背离的大小大致相同，可进一步防止磁盘与磁头的接触。在此，“大致相同”是指考虑到使圆度在上述范围且记录头相对磁盘半径方向的大小双方，优选是0.02mm+1.00mm（记录头的皮米滑橇的宽度）=1.02mm。

具体是，例如在磁盘用基板上，将背离部14在圆周方向每隔30°测量12个点的情况下，背离部大小的变化可在5nm以下。通过在这样的范围，可进一步确实得到本发明的效果。

并且，如上所述，如果记录头不能追随上述背离的大小的变化，则发生磁头碰撞。就此进行具体说明，记录头在磁盘上进行浮起飞行的情况下，该记录头即使在背离的大小变化大的情况下，在其变化比例小（平缓的）情况下可进行追随。但是，在微小的飞行距离之间发生大的背离变化的情况下，则引起碰撞。即，本实施方式的磁盘用基板尤其适用于磁头高速浮起飞行的情况。更具体是，本实施方式的磁盘用基板优选是作为用于装载在使磁盘以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的玻璃基板使用。装载在以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上当然没有问题，尤其是在使磁盘高速旋转的磁盘装置的情况下，与非本发明的磁盘用基板相比，使用本实施方式的磁盘用基板的效果非常明显。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选作为如下的玻璃基板来使用，该玻璃基板用于装载在磁头以20.0m/秒以上的线速度在存在于该玻璃基板的周边缘的背离部14上移动的磁盘装置上。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选是用于触底高度（TDH）为3~4nm以下的磁盘。如果触底高度低，则在形成在上述玻璃基板上的背离的变化大的情况下，容易引起碰撞。但是，通过使用本实施方式的磁盘用基板，可使背离部14的变化比现有的更小，因此，即使减小磁头（记录头）的浮起量，也可抑制磁头碰撞。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选用于记录密度为200GBit/inch²以上的高记录密度的磁盘，更优选的是用于记录密度为250GBit/inch²以上的高记录密度的磁盘。在这样的高记录密度的情况下，由于记录头的浮起量能够更小，故而通过使用本实施方式的磁盘用基板，可抑制碰撞。另外，用于记录密度小于上述的磁盘的玻璃基板或用于制造触底高度大于上述的磁盘的磁盘用基板当然也可适用本发明的磁盘用基板。

另外，本实施方式的磁盘用基板具有平坦的主表面、端面以及存在于该主表面和端面之间的倒角面，并在主表面的周边缘部存在向与该周边缘部以外的平坦面正交的方向背离的背离部14，而且，该磁盘用基板是圆板形的，在俯视玻璃基板的主表面的情况下，上述背离程度为最大的上述背离部14的最大点（极限部15）也可存在于距该玻璃基板的中心部大致相同距离的位置。

并且，在俯视玻璃基板的主表面的情况下，背离部14的最大点也可存在于以该玻璃基板的中心部为基准、相对于到该玻璃基板的外形的距离在92.0~97.0%的范围内。

并且，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，上述隆起部的极限部15圆形地包围上述主表面，由上述极限部15形成的圆的圆度优选在600μm以内。

并且，上述玻璃基板在中心部具有圆孔，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，上述隆起部的极限部15圆形地包围上述主表面，由上述极限部15形成的圆和由上述中心部的圆孔形成的圆的同心度优选在1200μm以内。

并且，是圆板形的玻璃基板，上述玻璃基板具有平坦的主表面、端面以及存在于上述主表面和端面之间的倒角面，在俯视上述玻璃基板的主表面的情况下，在上述主表面和倒角面之间具有相对于上述主表面沉降的沉降部，可以使离开上述玻璃基板的中心规定距离的位置上的上述沉降部距主表面的深度大致相同。

并且，本实施方式的磁盘用基板优选至少对端面进行化学强化，对基板前面（整个表面）进行强化更为优选。换句话说，上述磁盘用基板更优选在其表面形成压缩应力层。尤其是安装在以高速旋转（例如10000rpm）使上述磁盘用基板旋转的磁盘装置上的情况下或安装在作为移动用途进行使用的磁盘装置上的情况下，要求玻璃基板具有耐冲击性，因此，优选在玻璃基板表面形成压缩应力层。另外，这里的化学强化是指通过使玻璃基板与含有化学强化盐的化学强化处理夜接触，将玻璃基板中含有的一部分离子与离子径大于该离子的化学强化处理液中的离子进行置换，从而进行强化玻璃基板的处理。

（磁盘）

可通过在上述磁盘用基板上形成磁性膜来制造本实施方式的磁盘。由于在上述磁盘用基板的上面形成磁性膜，因此，该磁盘的主表面的形状受到该玻璃基板的很大影响。即，为了提高磁盘上的主表面的形状，需要提高上述玻璃基板的主表面的形状。因此，通过使用本实施方式所述的磁盘用基板作为磁盘用基板，可制造提高主表面尤其是周边缘部的形状的磁盘。另外，磁盘的制造方法是众所周知的，在此省略说明。

并且，本实施方式的磁盘也可以是装载在磁头经过其外边缘相对于主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘。由于玻璃基板的外边缘部分的平坦度高，因此可形成适合于装卸方式的磁盘。

并且，本实施方式的磁盘基板也可以是用于装载在使磁盘至少以5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的磁盘。也适合用于速度为10000rpm以上的速度的磁盘装置。这是因为：由于玻璃基板的外边缘部分的平坦度高，因此即使在高速旋转的情况下，也没有磁盘和磁头接触的危险，可靠性高。

并且，本实施方式的磁盘也可以是接触滑动式记录介质（接触记录式记录介质）。接触滑动式记录介质由于是在使记录头与磁盘接触滑动的状态下进行读写，因此，如上所述，通过提高磁盘用基板的尤其是外边缘部分的圆周方向的平坦度，可防止记录头跳起。这样，可提高信号质量，防止记录头损坏。

（磁盘装置）

通过装载上述磁盘，可形成磁盘装置（硬盘驱动器）。并且，装载了上述磁盘用基板的磁盘装置尤其适合于通过高速旋转进行信息的记录再生的情况。

另外，虽然以上述磁盘用基板的外周端面为中心进行说明，但内周端面也如上所述地形成背离部14。并且，该背离部14上的隆起为最大的极限部15当然优选是在距该玻璃基板的中心大致相同的距离。

（实施例）

以下就适用本发明的磁盘用基板和磁盘的制造方法的实施例进行说明。该磁盘用基板和磁盘作为具有3.5英寸磁盘（Φ89mm）、2.5英寸磁盘（Φ65mm）、1.0英寸磁盘（Φ27.4mm）、0.8英寸磁盘（Φ21.6mm）、1.8英寸磁盘（Φ48mm）等规定形状的磁盘进行制造。

（1）形状加工工序和第一抛光工序

在本实施例的磁盘用基板的制造方法中，首先，对板状玻璃的表面进行抛光（磨削）加工形成玻璃母材，切断该玻璃母材而切出玻璃磁盘。板状玻璃可使用各种板状玻璃。该板状玻璃例如以熔融玻璃为材料，可利用模压法或浮法、下拉法、多级拉伸法、熔融法等众所周知的制造方法进行制造。其中，如果使用模压法，可廉价地制造板状玻璃。板状玻璃的材质可使用非晶玻璃、玻璃陶瓷（结晶玻璃）。板状玻璃的材料可使用硅铝酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等。尤其是非晶玻璃，可实施化学强化，并且，可提供给主表面的平坦性和基板强度好的磁盘用基板，在这点上，优选使用硅铝酸盐玻璃。

在本实施例中，采用备有上模、下模、中间模的直接压模，把熔融的硅铝酸盐玻璃成型为盘状，得到了非晶的板状玻璃。另外，作为硅铝酸盐玻璃，采用含有以SiO₂：58～75重量%、Al₂O₃：5～23重量%、Li₂O：3～10重量%、Na₂O：4～13重量%为主成分的化学强化玻璃。

接着，对该板状玻璃的两主表面进行抛光加工，成为盘状的玻璃母材。该抛光加工是用具有行星齿轮机构的两面抛光装置，用氧化铝系游离磨粒进行的。具体地说，使抛光平台从上下按压板状玻璃的两面，把含有游离磨粒的磨削液供给到板状玻璃的主表面上，使它们相对地移动，进行抛光加工。经过该抛光加工，得到具有平坦主表面的玻璃母材。

（2）切出工序（去芯、成形加工、倒角）

接着，用金刚石刀将玻璃母材切断，从该玻璃母材上切出圆盘状的玻璃基板。然后，再用圆筒状的金刚石钻，在该玻璃基板的中心部形成内孔，成为圆环状的玻璃基板（去芯）。然后，利用金刚石砂轮磨削内周端面和外周端面，进行规定的倒角加工（成形加工、倒角）。

（3）第二抛光加工

接着，与第一抛光工序同样地，对得到的玻璃基板的两主表面进行第二抛光加工。通过进行该第二抛光加工，可以预先把在前工序即切出工序、端面研磨工序中形成在主表面上的细微凹凸形状除去，使得后续的对主表面的研磨工序可在短时间内完成。

（4）端面研磨工序

接着，用刷研磨方法，对玻璃基板的外周端面和内周端面进行镜面研磨。这时，研磨磨粒是使用含有氧化铈磨粒的浆（游离磨粒）。

然后，用水清洗完成了端面研磨工序的玻璃基板。经过该端面研磨工序，玻璃基板的端面被加工成可防止钠、钾析出的镜面状态。

（5）主表面研磨工序

作为主表面研磨工序，先实施第一研磨工序。该第一研磨工序的主要目的是除去在前述抛光工序中残留在主表面上的伤痕、变形。在该第一研磨工序中，借助具有行星齿轮机构的两面研磨装置，采用硬质树脂研磨具，进行主表面的研磨。研磨剂采用氧化铈磨粒。

把结束了该第一研磨工序的玻璃基板，依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、IPA（异丙醇）的各清洗槽中，进行清洗。

接着，作为主表面研磨工序，实施第二研磨工序。该第二研磨工序的目的是把主表面精加工成镜面状。在该第二研磨工序中，借助具有行星齿轮机构的两面研磨装置，采用软质发泡树脂研磨具，进行主表面的镜面研磨。研磨剂采用比第一研磨工序中使用的氧化铈磨粒更细的氧化铈磨粒。

把结束了该第二研磨工序的玻璃基板，依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、IPA（异丙醇）的各清洗槽内，进行清洗。另外，对各清洗槽施加了超声波。

（6）化学强化工序

然后，对结束了上述抛光工序和研磨工序的玻璃基板进行化学强化。化学强化是准备混合了硝酸钾（60%）和硝酸钠（40%）的化学强化溶液，将该化学强化溶液加热到400℃，并将清洗后的玻璃基板预热到300℃，在化学强化溶液中浸渍大约三个小时。在该浸渍时，为了对玻璃基板的整个表面进行化学强化，以在端面保持多个玻璃基板的方式，在收纳在保持架上的状态进行。

这样，通过在化学强化溶液中进行浸渍处理，玻璃基板表层的锂离子和钠离子被分别置换成化学强化溶液中的钠离子和钾离子，强化了玻璃基板。形成在玻璃基板表层的压缩应力层的厚度大约为100μm至200μm。

将结束了化学强化处理的玻璃基板浸渍在20℃的水槽中进行迅速冷却，保持大约十分钟。然后，将结束了迅速冷却的基板浸渍在加热到大约40℃的浓硫酸中清洗。然后，将进行了硫酸清洗的玻璃基板依次浸渍到纯净水、IPA的各清洗槽中进行清洗。

如上所述，通过实施第一抛光工序、切出工序、第二抛光工序、端面研磨工序、第一和第二研磨工序以及化学强化工序，得到平坦且平滑的高刚性的磁盘用基板。

（7）检查工序

检查所得到的磁盘用基板的外边缘部分的形状。检查工序由测量工序和判断工序构成，在测量工序中，对玻璃基板的圆周方向的多个部位测量背离值和极限部15；在判断工序中，基于所测量的多个背离值和极限部15、判断玻璃基板是否是合格品。

（8）磁盘制造工序

在经过了上述工序得到的玻璃基板的两面，通过在玻璃基板的表面依次进行Cr合金形成的附着层、CoTaZr合金形成的软磁性层、Ru形成的基底层、CoCrPt基合金形成的垂直磁记录层、碳氢化合物形成的保护层、全氟聚醚形成的润滑层的成膜，制造垂直磁记录盘。另外，本构成是一例垂直磁盘（PMR：垂直磁记录）的构成，但也可以作为水平磁盘（LMR：水平磁记录）构成磁性层等。这样，可制造主表面的外边缘部分也具有高度平坦度的磁盘。

（9）磁盘装置制造工序

并且，通过将上述磁盘组装到装置中，制造磁盘装置。另外，磁盘装置的构成是众所周知的，因此，在此省略具体说明。

（第三实施例）

将以下所示的研磨条件适用于上述（5）主表面研磨工序的第二研磨工序，制造磁盘用基板、磁盘、磁盘装置。另外，在第三实施例中制造2.5英寸磁盘（Φ65mm）。本第三实施例的具体的研磨条件与上述第一实施例同样地，研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）、加工速率为0.30（μm/分）、加工压力为9（Pa）。（即，本发明的第二实施方式的第三实施例在本发明的第一实施方式中作为第一实施例进行了说明。）

（第四比较例）

除了将上述第二研磨工序中的研磨条件设为以下的条件以外，利用上述的制造方法制造第四比较例的磁盘用基板、磁盘、磁盘装置。第四比较例的具体的研磨条件与第二比较例同样地，加工速率为0.45（μm/分）、加工压力为8.0（Pa）。（即，第四比较例在本发明的第一实施方式中作为第二比较例进行了说明。）

（第三实施例和第四比较例的比较）

通过以下所示的方法检查存在于如第三实施例和第四比较例所示地制造的磁盘用基板的主表面周边缘的极限部15的形状。

（A）表面形状的特定

为了调查磁盘用基板的主表面周边缘的形状（端部形状），使用了光干涉式表面形状测量装置（OptiFlat(Phase Shift Technology公司生产)）。其结果，可看出第三实施例、第四比较例的玻璃基板的端部形状是滑跃形状。并且，从该测量结果测量到滑跃形状上的顶点（极限部15）距玻璃基板中心的距离。而且，为了调查上述顶点位置的圆周方向的变位，使玻璃基板在圆周方向每次旋转30°，测量上述顶点的位置共12个点。此时的结果如图6所示。另外，图6表示测量滑跃的极限部（滑跃点）15的半径位置的结果。

其结果如图6所示，从玻璃基板的中心看，形成在第三实施例的磁盘用基板的主表面周边缘的极限部15位于大致相同的位置（距离），具体是，从玻璃基板的中心起，以30.6mm为中心，位于±0.2mm的范围内。而在第四比较例的情况下，以30.6mm为中心，位于±1.4mm的范围内。

另外，第三实施例的磁盘用基板的圆度为0.40（mm），同心度为1.07（mm）。而第四比较例的磁盘用基板的圆度为2.60（mm），同心度为5.68（mm）。并且，极限部15的高度（背离值）在第三实施例和第四比较例的构成中大致相同。

（B）装卸试验比较

分别制造了在第三实施例和第四比较例的磁盘用基板上形成了磁性层的磁盘后，制造磁盘装置，进行转速为10000转的情况下的装卸试验。此时的记录头的浮起量为9~10nm。其结果，第三实施例反复100万次，也没有发生碰撞，而第四比较例在反复装卸60万次后发生碰撞。另外，在第三实施例中，在转速为5400rpm和7200rpm的情况下，反复装卸100万次也没有发生碰撞。

尽管第三实施例和第四比较例的背离值的值大致相同，但第四比较例的构成在以高速旋转进行滑行试验时产生碰撞障碍。而实施例的构成不产生碰撞障碍。这可能是由于即使发生大（不小）的滑跃，由于圆度或同心度高（值小），则圆周方向的基板表面的变化（粗糙度、起伏）少。并且，从大量试验结果看出，圆度优选在600μm以内，同心度优选在1200μm以内。

根据该结果，如本发明所示，使存在于玻璃基板的主表面周边缘的背离部14的极限部（隆起部的顶点）15的半径位置在圆周方向大致相同是很重要的。

（C）端部形状的影响

就圆周方向的极限部15的高度的影响进行了调查。调查了存在于玻璃基板的主表面周边缘的背离部14的极限部（隆起部的顶点）15的半径位置在圆周方向大致相同的磁盘用基板（上述第三实施例）的圆周方向的顶点的高度变化产生的影响。并且，准备了圆周方向的顶点的高度变化大于上述第三实施例的其他的磁盘用基板作为第五比较例。使最后研磨工序中的加工压力和加工速率与上述第三实施例不同地制造该第五比较例的磁盘用基板。具体是，第五比较例的磁盘用基板与上述第一比较例的情况相同，使研磨垫的硬度为85（askerC硬度）、磨料的粒径为1.0（μm）、加工速率为0.60（μm/分）、加工压力为12（Pa）进行制造。（即，第五比较例在本发明的第一实施方式中作为第一比较例进行了说明。）

并且，为了调查上述两个玻璃基板的圆周方向的高度的变化，测量了两个基板的任意两点间的最大背离值。具体是，最大背离值的测量范围（图2的R1、R2）决定了可看到形成在玻璃基板的主表面周边缘且在圆周方向的高度不同的极限部15变化的测量范围。在此，距基板中心的距离分别为29.9mm(R1)、31.5mm的点(R2)，测量设备使用光干涉式表面形状测量装置（MicroXam(Phase Shift Technology公司生产)）。并且，使玻璃基板在圆周方向每次旋转30°，测量上述顶点的位置共12个点。另外，MicroXam与上述OptiFlat相比，虽然测量区域窄但解析度高。

即，上述方法测量的最大背离值表示连接上述R1和R2的直线与上述隆起部的顶点（极限部15）的背离的大小。并且，其结果如图7所示。

如图7所示，第三实施例与第五比较例相比，玻璃基板的圆周方向的高度的变化小。具体是，第三实施例的变动差为2.86nm，而第五比较例的变动差为16.10nm。

分别制造了在第三实施例和第四比较例的磁盘用基板上形成了磁性层的磁盘后，制造磁盘装置，进行装卸试验。具体是，将记录头的浮起量设定为9~10nm，在使磁盘的转速为5400rpm和7200rpm的两种情况下进行试验。

其结果，在第三实施例和第四比较例的磁盘的情况下，即使以5400rpm的转速反复100万次装卸，也没有发生碰撞。第五比较例的磁盘在200万次装卸试验中发生碰撞。

根据该结果了解到，极限部15在玻璃基板的圆周方向、其位置在半径方向相同且高度方向的变化少对使磁盘高速旋转最有利。

以上，参照附图就本发明的优选第二实施方式进行说明，但本发明当然不局限于该实施方式。如果是本领域的技术人员，则显然能够想到在权利要求内记载的范围内的各种变更例或修正例，这些当然也属于本发明的技术范围。

例如在上述实施例中，本发明的基板可使用玻璃（非晶玻璃或玻璃陶瓷（结晶玻璃）。对板状玻璃的材料可使用硅铝酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等进行了说明。但本发明由于是关于基板的形状的，因此对基板的材质没有限制，即使是例如铝等其他材料形成的基板，也可适当地使用本发明。但如上所述，尤其是在便携设备中，优选与铝基板相比，基板表面的平坦度以及基板强度好的玻璃基板。

本发明的磁盘用基板也可以是如下构成，即，是具有大致平坦的主表面、端面、形成在上述主表面和端面之间的倒角面的磁盘用基板，在上述主表面的周边缘具有相对该周边缘以外的平坦面隆起或沉降的背离部14，上述背离部14在主表面的圆周方向连续地形成，上述背离部14上的隆起为最大的极限部15的位置距该基板的中心大致相同的距离。

并且，上述背离部14可形成在内孔形成在中心的圆盘形的磁盘的主表面的外周边缘，也可形成在内周边缘，还可形成在双方。并且，在本发明中，在背离部14形成在内周边缘和外周边缘双方的情况下，至少一方的背离部14是上述形状即可，但优选是记录头的线速度快的外周边缘是上述形状。

本发明可作为用于磁记录介质的磁盘用基板以及使用该基板的磁盘使用。

Claims (26)

1.一种磁盘用基板，是圆板形的基板，其特征在于，具有主表面、端面、以及形成在所述主表面和端面之间的倒角面，

所述主表面由平坦面和背离部构成，

所述背离部位于所述主表面的周边缘处，形成于所述平坦面与所述倒角面之间，相对于该平坦面隆起或沉降，

在该基板的半径方向的剖面中，将从该圆板形的基板的中心到所述端面的距离设为100%时，相对于连接设定在从所述中心起92.0%的位置和97.0%的位置上的所述主表面上的两点的假想直线，将从该假想直线到与其正交的方向上的所述背离部的最大距离设为最大背离值，

在针对该基板在圆周方向上每隔30°测量12个点的所述最大背离值的情况下，所述最大背离值的变动为5nm以下。

2.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，所述背离值在任意的半径位置的圆周方向上相同。

3.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，所述背离部上的隆起或沉降为最大的极限部距离该基板的中心大致相同的距离。

4.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，在所述主表面上，由所述背离部上的隆起或沉降为最大的极限部形成的圆的圆度在600μm以内。

5.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，

该基板在中心具有圆孔，

在所述主表面，由所述背离部上的隆起或沉降为最大的极限部形成的圆和所述圆孔的同心度在1200μm以内。

6.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板是用于被搭载在磁头经由磁盘的外边缘、相对于磁盘的主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘的基板。

7.如权利要求1所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板是用于搭载在使磁盘以至少5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的磁盘用基板。

8.一种磁盘，其特征在于，在权利要求1至7中任一项所述的基板上至少形成磁性层。

9.如权利要求8所述的磁盘，其特征在于，触底高度在4nm以下。

10.如权利要求8所述的磁盘，其特征在于，记录密度为200GBit/inch²以上。

11.一种磁盘装置，搭载权利要求8至10中任一项所述的磁盘而形成。

12.一种磁盘用基板，是圆板形的基板，具有主表面、端面、以及形成在所述主表面和端面之间的倒角面，

所述主表面由平坦面和背离部构成，

所述背离部位于所述主表面的周边缘处，形成于所述平坦面与所述倒角面之间，相对于该平坦面隆起或沉降，

在该基板的半径方向的剖面中，所述背离部的形状在该基板的整个圆周上相同。

13.一种磁盘用基板，是圆板形的基板，具有主表面、端面以及介于所述主表面和端面之间的倒角面，

所述主表面由平坦面和隆起部构成，

所述隆起部位于所述主表面的周边缘处，形成于所述平坦面与所述倒角面之间，相对于该平坦面隆起，

在俯视所述圆板形的基板的主表面的情况下，所述隆起部包围所述平坦面并且所述隆起部的高度的变动为5nm以下。

14.一种磁盘用基板，是圆板形的基板，具有主表面、端面以及介于所述主表面和端面之间的倒角面，

所述主表面由平坦面和沉降部构成，

所述沉降部位于所述主表面的周边缘处，形成于所述平坦面与所述倒角面之间，是相对于该平坦面沉降的面，

处于离开所述圆板形的基板的中心规定距离的位置上的所述沉降部距所述平坦面的深度，在该基板的圆周方向上，深度的变动为5nm以下。

15.如权利要求1、12、13、14中任一项所述的磁盘用基板，其特征在于，该磁盘用基板是作为对应DFH磁头、即动态飞高磁头的磁盘的基板而使用的基板。

16.如权利要求1、12、13、14中任一项所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板是能进行化学强化处理的玻璃基板，且是在基板表面的至少一部分的表面具有离子交换层的玻璃基板，

离子交换层的层厚在端面比在主表面厚。

17.一种磁盘用基板，是圆板形的基板，具有主表面、端面、以及形成在所述主表面和端面之间的倒角面，

所述主表面由平坦面和背离部构成，

所述背离部位于所述主表面的周边缘处，形成于所述平坦面与所述倒角面之间，相对于该平坦面隆起，

所述背离部形成在该基板的整个圆周上，

将从该圆板形的基板的中心到所述端面的距离设为100%时，所述背离部上的隆起为最大的极限部处于距该中心92.0%～97.0%的范围内，

在所述主表面上，由所述极限部形成的圆的圆度在600μm以内。

18.如权利要求17所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板在中心具有圆孔，

在所述主表面，由所述极限部形成的圆和所述圆孔的同心度在1200μm以内。

19.如权利要求17所述的磁盘用基板，其特征在于，所述背离部包括形成在所述主表面的周边缘的相对于该周边缘以外的平坦面的隆起以及/或沉降，

所述背离部上的背离的大小在该基板的整个圆周上大致相同。

20.如权利要求19所述的磁盘用基板，其特征在于，在所述背离部，所述背离的大小的变动在5nm以下。

21.如权利要求17所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板是用于被搭载在磁头经由磁盘的外边缘、相对于磁盘的主表面装入和卸载的装卸方式的磁盘装置上的磁盘的基板。

22.如权利要求17所述的磁盘用基板，其特征在于，该基板是用于搭载在使磁盘以至少5400rpm以上的转速旋转的磁盘装置上的磁盘用基板。

23.一种磁盘，其特征在于，在权利要求17至22中任一项所述的基板上至少形成磁性层。

24.如权利要求23所述的磁盘，其特征在于，触底高度在4nm以下。

25.如权利要求23所述的磁盘，其特征在于，记录密度为200GBit/inch²以上。

26.一种磁盘装置，搭载权利要求23至25中任一项所述的磁盘而形成。

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