CN102707470B - 一种液晶面板、液晶显示器及制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶面板、液晶显示器及制造方法，涉及液晶显示器领域，以解决现有技术中存在的，触摸与显示面板功能非一体化的问题，在液晶面板的彩膜基板和压电材料隔垫物之间设置有一条信号线，压电材料隔垫物与阵列基板之间设置有另一信号线，两条信号线分别与压电材料隔垫物彩膜基板侧表面和阵列基板侧表面接触，彩膜基板侧的信号线在压电材料隔垫物阵列基板侧表面的投影，和阵列基板侧的信号线相交，两条信号线相互绝缘，由于液晶面板采用压电材料作为隔垫物，并配合交叉的信号线实现触摸功能，使得触摸与显示面板功能一体化。

Description

一种液晶面板、液晶显示器及制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示屏的制备工艺领域，特别涉及一种液晶面板、液晶显示器及制造方法。
背景技术
作为以薄膜晶体管为控制元件，液晶为介质的集大规模半导体集成电路和平板光源技术于一体的光电子产品——薄膜晶体管液晶显示器以其低功耗，方便携带，使用范围广，高品质等优点成为新一代的主流显示器。
在显示装置中，为了让使用者在观看画面的同时能进行相关操作而采用触摸式面板。触摸显示屏是将输入与输出终端一体化的重要载体之一；通过测量触摸点在显示屏上的坐标位置，则可根据显示屏幕上对应坐标点的显示内容或图形得知触摸者的意图，从而进行相关操作。目前，主要利用电阻式、电容式、红外线式、表面声波式等技术来实现对触摸点位置的确认；然后将使用这些技术方案的触摸屏独立制备出来，再贴合到显示屏上，实现对显示屏的触控作用。这种将触控屏与显示屏分开制备所形成的触控显示屏一般成本较高，厚度、重量较大，不利于显示屏轻薄化要求；由于贴合过程中的重叠偏离量较大，触控位置不能精确定位；在显示屏表面贴合触控屏会降低显示器的光透过率，在相同显示亮度条件下需要更高功率的背光源。现有触摸显示屏技术中，触控屏与显示屏是分别制备出来，再经过贴合方式组装在一起。
由此可见现有技术中存在如下问题：触摸与显示面板功能非一体化的问题。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中存在的，触摸与显示面板功能非一体化的问题，提供一种液晶面板、液晶显示器及制造方法。
本发明实施例提供一种液晶面板，在液晶面板的彩膜基板和压电材料隔垫物之间设置有一条信号线，压电材料隔垫物与阵列基板之间设置有另一信号线，两条信号线分别与压电材料隔垫物彩膜基板侧表面和阵列基板侧表面接触，彩膜基板侧的信号线在压电材料隔垫物阵列基板侧表面的投影，和阵列基板侧的信号线相交，两条信号线相互绝缘。
进一步，彩膜基板侧的信号线和阵列基板之间以及阵列基板侧的信号和线彩膜基板之间，设置有绝缘层。
进一步，隔垫物的压电材料为压电晶体、压电陶瓷、压电聚合物、以及电压陶瓷和压电聚合物复合材料之一。
进一步，压电材料隔垫物放置在阵列基板的硅岛、数据信号线或栅极信号线所在区域，与彩膜基板黑矩阵所在区域之间。
进一步，压电材料隔垫物放置在数据信号线和栅极信号线交叠区域，与彩膜基板黑矩阵所在区域之间。
进一步，在多个像素区域的一个黑矩阵下方放置压电材料隔垫物，一个像素区域包括多个子像素，以及设置在多个子像素之间的黑矩阵。
进一步，阵列基板侧的信号线和阵列基板之间设有液晶分子导向层。
进一步，彩膜基板上的黑矩阵和彩色像素层为导电材料，彩膜基板侧的信号线和彩膜基板之间设有绝缘层。
进一步，彩膜基板侧的信号线和彩膜基板之间设有液晶分子导向层。
进一步，阵列基板侧的信号线和阵列基板之间设有绝缘层。
本发明实施例还提供一种液晶显示器，液晶显示器的本体上设置有前述的液晶面板，以及和两条信号线相连接的，用于检测两条信号线上有无电信号产生的检测电路。
本发明实施例还提供一种液晶面板制造方法，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线；
在第一信号线上形成压电材料隔垫物，压电材料隔垫物的第一基板侧表面与第一信号线接触；
在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线，第二基板侧表面与第二信号线接触，第一信号线在压电材料隔垫物第二基板侧表面的投影，和第二信号线相交，两条信号线相互绝缘；
将第一基板和第二基板对盒，第一基板为彩膜基板和阵列基板中的一个，第二基板为彩膜基板和阵列基板中的另一个。
进一步，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线包括：
在液晶面板的第一基板上形成绝缘层；
在绝缘层上形成第一信号线。
进一步，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线包括：
在第一基板上沉积第一导电层；
通过构图工艺形成第一信号线；
在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线包括：
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积第二导电层；
通过构图工艺在隔垫物凸起处形成第二信号线。
进一步，在第一信号线上形成压电材料隔垫物包括：
在形成第一信号线后的第一基板上先沉积绝缘层；
通过构图工艺在第一信号线所在区域形成过孔；
形成过孔后沉积压电材料形成压电材料层；
通过构图工艺在过孔位置形成压电材料隔垫物凸起。
进一步，在第一信号线上形成压电材料隔垫物包括：
在形成第一信号线后的第一基板上直接沉积压电材料形成压电材料层；
通过构图工艺在第一信号线所在区域形成压电材料隔垫物凸起；
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积第二导电层包括：
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积绝缘层；
通过构图工艺在隔垫物凸起处形成过孔；
在形成过孔后沉积第二导电层。
进一步，在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线步骤，和将第一基板和第二基板对盒步骤之间还包括：
在形成第二信号线后的第一基板上涂上液晶分子导向层。
由于液晶面板采用压电材料作为隔垫物，并配合交叉的信号线实现触摸功能，使得触摸与显示面板功能一体化。
附图说明
图1表示本发明实施例提供的触控层制备于彩膜基板上的方法流程图；
图2-1表示本发明实施例提供的薄膜晶体管显示器彩膜基板截面结构示意图；
图2-2表示本发明实施例提供的薄膜晶体管显示器彩膜基板平面结构示意图；
图3表示本发明实施例提供的沉积绝缘层后彩膜基板结构示意图；
图4-1表示本发明实施例提供的形成第一导电信号线后彩膜基板截面结构示意图；
图4-2表示本发明实施例提供的形成第一导电信号线后彩膜基板平面结构示意图；
图5-1表示本发明实施例提供的形成压电材料柱状隔垫物凸起后彩膜基板截面结构示意图；
图5-2表示本发明实施例提供的形成压电材料柱状隔垫物凸起后彩膜基板平面结构示意图；
图6-1表示本发明实施例提供的沉积绝缘层后彩膜基板结构示意图；
图6-2表示本发明实施例提供的对绝缘层进行光刻处理后彩膜基板结构示意图；
图7-1表示本发明实施例提供的形成第二导电信号线后彩膜基板截面结构示意图；
图7-2表示本发明实施例提供的形成第二导电信号线后彩膜基板平面结构示意图；
图8表示本发明实施例提供的沉积积绝缘层与公共电极层后彩膜基板结构示意图；
图9表示本发明实施例提供的沉积液晶分子取向层后彩膜基板结构示意图；
图10表示本发明实施例提供的彩膜基板与阵列基板对盒后的结构示意图；
图11表示本发明实施例提供的触控层制备于阵列基板上的方法流程图；
图12-1表示本发明实施例提供的薄膜晶体管显示器阵列基板截面结构示意图；
图12-2表示本发明实施例提供的薄膜晶体管显示器阵列基板平面结构示意图；
图13表示本发明实施例提供的沉积绝缘层后阵列基板结构示意图；
图14-1表示本发明实施例提供的形成第一导电信号线后阵列基板截面结构示意图；
图14-2表示本发明实施例提供的形成第一导电信号线后阵列基板平面结构示意图；
图15-1表示本发明实施例提供的形成压电材料柱状隔垫物凸起后阵列基板截面结构示意图；
图15-2表示本发明实施例提供的形成压电材料柱状隔垫物凸起后阵列基板平面结构示意图；
图16-1表示本发明实施例提供的沉积绝缘层后阵列基板结构示意图；
图16-2表示本发明实施例提供的对绝缘层进行光刻处理后阵列基板结构示意图；
图17-1表示本发明实施例提供的形成第二导电信号线后阵列基板截面结构示意图；
图17-2表示本发明实施例提供的形成第二导电信号线后阵列基板平面结构示意图；
图18表示本发明实施例提供的沉积液晶分子取向层后阵列基板结构示意图；
图19表示本发明实施例提供的阵列基板与彩膜基板对盒后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明进行说明，为了解决现有技术中的触摸与显示面板功能非一体化的问题，本发明实施例提供一种液晶面板，彩膜基板和阵列基板之间设置有压电材料隔垫物及两条信号线，具体而言在液晶面板的彩膜基板和压电材料隔垫物之间设置有一条信号线，压电材料隔垫物与阵列基板之间设置有另一信号线，两条信号线分别与压电材料隔垫物彩膜基板侧表面和阵列基板侧表面接触，彩膜基板侧的信号线在压电材料隔垫物阵列基板侧表面的投影，和阵列基板侧的信号线相交，两条信号线相互绝缘。其中，本实施例中的彩膜基板包括一玻璃基板以及在玻璃基板上形成的黑矩阵、彩色像素，阵列基板包括另一玻璃基板以及在玻璃基板上形成的栅极信号线与数据信号线。
本发明实施例还提供一种液晶显示器，液晶显示器的本体上设置有前述的液晶面板，以及和两条信号线相连接的，用于检测两条信号线上有无电信号产生的检测电路。本发明优选实施例中，液晶显示器为薄膜晶体管液晶显示器，后续文档中以薄膜晶体管液晶显示器为例，对液晶面板以及液晶显示器进行示例性说明。
下面对本实施例的技术方案的原理进行详细说明，薄膜晶体管液晶显示器通过对阵列基板和彩膜基板上的电极施加电压形成电场来控制液晶盒中液晶的取向，利用液晶分子的光学各向异性、双折射性等光学特性控制穿过液晶盒的光通量，从而获得所需图形。由阵列基板和彩膜基板所形成的液晶盒的厚度直接影响穿过液晶盒的光通量，因此保持控制液晶盒的厚度对提高液晶显示器显示的均匀性，优化显示性能有着极为重要的作用。
为了控制维持液晶显示器液晶盒厚度的一致性，主要采用在阵列基板和彩膜基板之间加入一定厚度的隔垫物来实现。隔垫物的工艺类型有一种是利用光刻工艺在彩膜基板上形成柱状隔垫物(Post spacer，简称PS)，利用该柱状隔垫物凸起来控制维持液晶盒的厚度，当然利用光刻工艺在彩膜基板上形成其它形状的隔垫物如球状隔垫物也是可以的，本实施例中以柱状隔垫物为例进行说明。由于柱状隔垫物的位置、高度、形貌可通过光刻工艺来精确控制，因而使用柱状隔垫物的液晶显示器相比于使用其它隔垫物的液晶显示器在显示性能上有极大的提高。
一些具有不对称性晶格结构的材料在外界作用力(压力或拉力)下，材料外形会产生变化(即应变)；外形的变化使材料内部电子分布呈局部不均匀，进而在材料外表面产生一净电场分布。反之对材料施加电压信号，在电压作用下，材料产生形变，形变随外加电压的变化而变化；这种效应称为压电效应，具有压电效应的材料称为压电材料。利用压电材料可以实现电能与机械能之间的转化。
本实施例利用压电材料作为柱状隔垫物除了起支持液晶盒厚度的作用外，直接利用压电效应在外界压力作用下所产生的电信号，并配合交叉的信号线来确定触控位置，实现触摸与显示面板功能的一体化；另一方面在不使用时，还可对压电材料柱状隔垫物施加一定的电压，使其回复原始高度，控制稳定液晶盒的厚度。从而提供了一种能稳定液晶盒厚度的同时，实现可自行提供能源的触摸式面板功能一体化的显示器基板。具有透过率高，结构简单，制备成本低，精度高和寿命长等优点。
通过附图和实施例，对本发明实施例的技术方案做进一步的详细描述。
首先对触控层制备于彩膜基板上的实施例进行说明，如图1所示，包括：
步骤101，制备彩膜基板。
在玻璃基板0a上形成黑矩阵1、红色像素2、绿色像素3和蓝色像素4，如图2-1，2-2所示。
步骤102，在经过步骤101的彩膜基板上沉积绝缘层5a，如图3所示。
本步骤中若黑矩阵，彩色像素层为非导电材料，则步骤102可省略。
步骤103，在经过步骤101或步骤102在的彩膜基板上沉积第一导电层6，通过构图工艺形成第一信号线。
该第一导电层6可以为金属层或透明导电层(ITO)或别的导电材料，构图工艺可以是如光刻工艺，网络印刷法等，如图4-1，4-2所示。
步骤104，在经过步骤103的彩膜基板上沉积压电材料层8，通过构图工艺在第一信号线下方形成柱状隔垫物凸起。
构图工艺可以是光刻工艺，网络印刷法等，柱状隔垫物凸起即压电材料隔垫物，如图5-1，5-2所示。
其中，压电材料可以为压电晶体，压电陶瓷，压电聚合物以及电压陶瓷/聚合物复合材料；优选压电聚合物以及电压陶瓷/聚合物复合材料，如：聚偏氟乙烯，因为这类压电材料柔软，成型性能良好，耐冲击，满足作为柱状隔垫物凸起的要求；另外，此类材料的压电电压常数高，所制备出的触摸屏灵敏度高。
压电材料柱状隔垫物凸起可放置在阵列基板的硅岛、数据信号线、栅极信号线等位置上方；并且位于彩膜基板黑矩阵1下方，避免出现由于柱状隔垫物凸起周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象。柱状隔垫物凸起所起的支撑高度等于所需的液晶盒厚。本实例以压电材料柱状隔垫物凸起放置在数据信号线与栅极信号线交叠区域上方为例进行。
由于液晶显示屏的像素尺寸远小于手指或触控笔所接触的面积，在进行触控操作时可以对多个像素区产生压力，本实施例中每个像素区域包括：一个红色像素2、一个绿色像素3和一个蓝色像素4，以及RGB子像素之间的三个黑矩阵1，当然子像素还可以包括如黄色像素等，或者只有一个黑矩阵1。所以不一定在每个像素区域都分布有压电材料柱状隔垫物凸起，只需要确保在触控操作时，手指或触控笔能产生压力的面积范围内分布有起感应作用的压电材料柱状隔垫物凸起，例如，在多个像素区域的一个黑矩阵下方放置压电材料隔垫物凸起。本实例以每个像素区域都分布有1个压电材料柱状隔垫物凸起为例进行说明。
步骤105，在经过步骤104的彩膜基板上沉积绝缘层5b，如图6-1所示；并通过光刻工艺形成过孔，使压电材料柱状隔垫物凸起下表面露出，如图6-2所示。
在本步骤中沉积绝缘层5b，是为了进一步确保第一信号线与第二信号线之间相互绝缘。若第一信号线与第二信号线是直线，则两导电信号线在同一平面上并不相交，只是第一信号线投影在压电材料柱状隔垫物凸起下表面与第二信号线相交(或第二信号线投影在压电材料柱状隔垫物凸起上表面与第一信号线相交)，则不需要在本步骤中沉积绝缘层5b，直接形成第二信号线，但工艺上实现复杂。
其中步骤104与步骤105的顺序可以对调，先在经过步骤103的基板上沉积绝缘层5b，通过光刻工艺在第一信号线所在区域形成过孔，再在基板上沉积压电材料层8，通过构图工艺在过孔位置形成压电材料隔垫物凸起。只要保证压电材料柱状隔垫物凸起的上下表面分别与第一信号线、第二信号线接触，并且第一信号线与第二信号线之间相互绝缘。
步骤106，在经过步骤105的彩膜基板上沉积第二导电层7，通过构图工艺形成第二信号线。
第二导电层7可以为金属层或透明导电层(ITO)或别的导电材料；构图工艺可以是光刻工艺，网络印刷法等。其中第二信号线置于压电材料柱状隔垫物凸起下表面，并与第一信号线呈格子状的垂直交叉排放方式；第一信号线与第二信号线可位于像素区域的任何位置；为了不影响正常的显示区域与开口率，优选放置于栅极信号线与数据信号线上方，以方便压电材料柱状隔垫物凸起放置在数据信号线与栅极信号线交叠区域上方，即第一信号线位于栅极信号线上方，第二信号线位于数据信号线上方，如图7-1，7-2所示；或者第一信号线位于数据信号线上方，第二信号线位于栅极信号线上方。
步骤107，在经过步骤106的彩膜基板上沉积绝缘层5c和彩膜基板公共电极9。
根据所采用的显示模示，公共电极可有可无，如图8所示。
步骤108，在经过步骤107的基板上涂上液晶分子取向层10a。如图9所示。
步骤109，将经过步骤8的彩膜基板与阵列基板对盒。
阵列基板，包括玻璃基板0b、栅电极信号线金属层11、栅极绝缘层12、钝化层14和液晶分子取向层10b等，如图10所示。
本发明实施例利用压电效应，采用压电材料制备柱状隔垫物凸起实现高透过率、可自行提供能源的触摸式面板功能一体化的显示器基板，利用压电材料柱状隔垫物凸起的压电效应，控制稳定液晶盒的厚度。
再对触控层制备于阵列基板上的实施例进行说明，如图11所示，包括：
步骤201，制备阵列基板。
在玻璃基板0b上形成栅极信号线金属层11、栅极绝缘层12、数据信号线金属层13、钝化层14、硅岛15和像素电极层16等，本实施例中阵列基板包括玻璃基板0b、栅极信号线金属层11、栅极绝缘层12、数据信号线金属层13、钝化层14、硅岛15和像素电极层16等，根据实际需求可增加或减少相应的膜层，如图12-1，12-2所示。
步骤202，在制备好的阵列基板上沉积绝缘层5d。
沉积绝缘层5d是为了防止阵列基板上的各层有导电的特性，与后续形成信号线的导电层相接触，如图13所示。
步骤203，在经过步骤202的阵列基板上沉积第一导电层6，通过构图工艺形成第一导电信号线。
第一导电层6可以为金属层或透明导电层(ITO)或别的导电材料；构图工艺可以为光刻工艺，网络印刷法等；如图14-1，14-2所示。
步骤204，在经过步骤203的阵列基板上沉积压电材料层8，通过构图工艺在第一导电信号线上方形成柱状隔垫物凸起，如图15-1，15-2所示。
其中，压电材料可以为压电晶体、压电陶瓷、压电聚合物以及电压陶瓷/聚合物复合材料；优选压电聚合物以及电压陶瓷/聚合物复合材料，如：聚偏氟乙烯(因为这类压电材料柔软，成型性能良好，耐冲击，满足作为柱状隔垫物凸起的要求；另外，此类材料的压电电压常数高，所制备出的触摸屏灵敏度高)。
压电材料柱状隔垫物凸起可放置在阵列基板的硅岛、数据信号线、栅极信号线等上方，并且位于彩膜基板黑矩阵下方，避免出现由于柱状隔垫物凸起周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象。柱状隔垫物凸起所起的支撑高度等于所需的液晶盒厚。本实例以压电材料柱状隔垫物凸起放置在数据信号线与栅极信号线交叠区域上方为例。
由于液晶显示屏的像素尺寸远小于手指或触控笔所接触的面积，在进行触控操作时可以对多个像素区产生压力；所以不一定在每个像素区域都分布有压电材料柱状隔垫物凸起，只需要确保在触控操作时，手指或触控笔能产生压力的面积范围内分布有起感应作用的压电材料柱状隔垫物凸起。本实例以每个像素区域都分布有1个压电材料柱状隔垫物凸起为例，与前述实施例类似，也可以多个像素区域分布有1个压电材料柱状隔垫物凸起。
步骤205，在经过步骤204的阵列基板上沉积绝缘层5e，并通过光刻工艺形成过孔，使压电材料柱状隔垫物凸起上表面露出。如图16-1、16-2所示。
与前述实施例类似，其中步骤204与步骤205的顺序可以对调，只要保证压电材料柱状隔垫物凸起的上下表面分别与第二导电信号线、第一导电信号线接触，并且第一导电信号线与第二导电信号线之间相互绝缘。
步骤206，在经过步骤205的阵列基板上沉积第二导电层7，通过构图工艺形成第二导电信号线
第二导电层7可以为金属层或透明导电层(ITO)或别的导电材料；其中第二导电信号线置于压电材料柱状隔垫物凸起上表面，并与第一导电信号线呈格子状的垂直交叉排放方式；第一导电信号线与第二导电信号线可位于像素区域的任何位置；为了不影响正常的显示区域与开口率，优选放置于栅极信号线与数据信号线上方，以方便压电材料柱状隔垫物凸起放置在数据信号线与栅极信号线交叠区域上方；即第一导电信号线位于栅极信号线上方，第二导电信号线位于数据信号线上方，如图17-1，17-2所示；或者第一导电信号线位于数据信号线上方，第二导电信号线位于栅极信号线上方。
步骤207，在经过步骤206的阵列基板上涂上液晶分子取向层10b。如图18所示。
步骤208，将经过步骤207的阵列基板与彩膜基板对盒。
彩膜基板包括：玻璃基板0a上形成黑矩阵1、RGB子像素、公共电极9和液晶分子取向层10a，如图19所示。
本发明实施例所制备出的液晶显示屏在没有操作(无触摸情况)时，由于压电材料柱状隔垫物凸起所支撑的原始高度为液晶盒厚度，柱状隔垫物凸起无形变，无电信号产生；当手指或触控笔触摸屏幕时会对液晶盒施加一向下压力，压电材料柱状隔垫物凸起受到垂直于屏方向上的压力而产生形变，在压电材料柱状隔垫物凸起的上下表面产生净电场；通过与第一导电信号线、第二导电信号线相连的外围电压检测系统的检测，确认产生电信号的第一导电信号线，以及产生电信号的第二导电信号线，得到触摸点的位置；则可根据显示屏幕上对应坐标点的显示内容或图形得知触摸者的意图，从而进行相关操作。另一方面在触控操作完成后，还可对压电材料柱状隔垫物施加一定的电压，使其回复原始高度，控制稳定液晶盒的厚度。从而避免了使用传统柱状隔垫物凸起材料在长期触摸压力作用下产生永久形变，造成液晶盒厚度不稳定性，出现液晶显示器显示不均等不良现象。从而提供了一种能稳定液晶盒厚度，同时实现可自行提供能源的触摸式面板功能一体化的显示器基板。具有透过率高，结构简单，制备成本低，精度高和寿命长等优点。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (17)

1.一种液晶面板，其特征在于，在液晶面板的彩膜基板和支持液晶盒厚度的压电材料隔垫物之间设置有一条信号线，压电材料隔垫物与阵列基板之间设置有另一信号线，两条信号线分别与压电材料隔垫物彩膜基板侧表面和阵列基板侧表面接触，彩膜基板侧的信号线在压电材料隔垫物阵列基板侧表面的投影，和阵列基板侧的信号线相交，两条信号线相互绝缘，在触控操作完成后，所述压电材料隔垫物被施加电压以回复原始高度。
2.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，彩膜基板侧的信号线和阵列基板之间以及阵列基板侧的信号和线彩膜基板之间，设置有绝缘层。
3.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，隔垫物的压电材料为压电晶体、压电陶瓷、压电聚合物、以及电压陶瓷和压电聚合物复合材料之一。
4.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，压电材料隔垫物放置在阵列基板的硅岛、数据信号线或栅极信号线所在区域，与彩膜基板黑矩阵所在区域之间。
5.根据权利要求4所述的液晶面板，其特征在于，压电材料隔垫物放置在数据信号线和栅极信号线交叠区域，与彩膜基板黑矩阵所在区域之间。
6.根据权利要求4所述的液晶面板，其特征在于，在多个像素区域的一个黑矩阵下方放置压电材料隔垫物，一个像素区域包括多个子像素，以及设置在多个子像素之间的黑矩阵。
7.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，阵列基板侧的信号线和阵列基板之间设有液晶分子导向层。
8.根据权利要求7所述的液晶面板，其特征在于，彩膜基板上的黑矩阵和彩色像素层为导电材料，彩膜基板侧的信号线和彩膜基板之间设有绝缘层。
9.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，彩膜基板侧的信号线和彩膜基板之间设有液晶分子导向层。
10.根据权利要求9所述的液晶面板，其特征在于，阵列基板侧的信号线和阵列基板之间设有绝缘层。
11.一种液晶显示器，其特征在于，液晶显示器的本体上设置有如权利要求1-10任一权利要求所述的液晶面板，以及和两条信号线相连接的，用于检测两条信号线上有无电信号产生的检测电路。
12.一种液晶面板制造方法，其特征在于，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线；
在第一信号线上形成支持液晶盒厚度的压电材料隔垫物，压电材料隔垫物的第一基板侧表面与第一信号线接触；
在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线，第二基板侧表面与第二信号线接触，第一信号线在压电材料隔垫物第二基板侧表面的投影，和第二信号线相交，两条信号线相互绝缘；
将第一基板和第二基板对盒，第一基板为彩膜基板和阵列基板中的一个，第二基板为彩膜基板和阵列基板中的另一个；
其中，在触控操作完成后，所述压电材料隔垫物被施加电压以回复原始高度。
13.根据权利要求12所述的液晶面板制造方法，其特征在于，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线包括：
在液晶面板的第一基板上形成绝缘层；
在绝缘层上形成第一信号线。
14.根据权利要求12所述的液晶面板制造方法，其特征在于，在液晶面板的第一基板上形成第一信号线包括：
在第一基板上沉积第一导电层；
通过构图工艺形成第一信号线；
在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线包括：
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积第二导电层；
通过构图工艺在隔垫物凸起处形成第二信号线。
15.根据权利要求14所述的液晶面板制造方法，其特征在于，在第一信号线上形成压电材料隔垫物包括：
在形成第一信号线后的第一基板上先沉积绝缘层；
通过构图工艺在第一信号线所在区域形成过孔；
形成过孔后沉积压电材料形成压电材料层；
通过构图工艺在过孔位置形成压电材料隔垫物凸起。
16.根据权利要求14所述的液晶面板制造方法，其特征在于，在第一信号线上形成压电材料隔垫物包括：
在形成第一信号线后的第一基板上直接沉积压电材料形成压电材料层；
通过构图工艺在第一信号线所在区域形成压电材料隔垫物凸起；
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积第二导电层包括：
在形成隔垫物凸起后的第一基板上沉积绝缘层；
通过构图工艺在隔垫物凸起处形成过孔；
在形成过孔后沉积第二导电层。
17.根据权利要求12所述的液晶面板制造方法，其特征在于，在压电材料隔垫物的第二基板侧表面上形成第二信号线步骤，和将第一基板和第二基板对盒步骤之间还包括：
在形成第二信号线后的第一基板上涂上液晶分子导向层。
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