CN102654681B - 一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件 - Google Patents

一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件 Download PDF

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Abstract

本发明实施例提供一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件，涉及液晶显示器制造领域，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率。该显示面板包括：包括彩膜基板和阵列基板，其间充有液晶，彩膜基板包括：基板；基板上的彩膜层和覆盖彩膜层的第一绝缘层；第一绝缘层上的第一导电信号线；在第一导电信号线上均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物；覆盖第一导电信号线、第一绝缘层和力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；形成在第二绝缘层上与第一导电信号线交叉的第二导信号线，第二导电信号线通过过孔与力敏电阻材料的隔垫物另一端接触。本发明实施例应用于液晶显示器制造。

Description

一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件
技术领域
本发明涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件。
背景技术
作为以薄膜晶体管为控制元件，液晶为介质的集大规模半导体集成电路和平板光源技术于一体的光电子产品——薄膜晶体管液晶显示器以其低功耗，方便携带，使用范围广，高品质等优点成为新一代的主流显示器。
在显示装置中，为了让使用者在观看画面的同时能进行相关操作而采用触摸式面板。触摸显示屏是将输入与输出终端一体化的重要载体之一；通过测量触摸点在显示屏上的坐标位置，则可根据显示屏幕上对应坐标点的显示内容或图形得知触摸者的意图，从而进行相关操作。目前，主要利用电阻式、电容式、红外线式、表面声波式等技术来实现对触摸点位置的确认；然后将使用这些技术方案的触摸屏独立制备出来，再贴合到显示屏上，实现对显示屏的触控作用。
在上述的显示器结构中，发明人发现，由于将触控屏与显示屏分开制备，所以形成的触控显示屏一般成本较高，厚度、重量较大，不利于显示屏轻薄化要求；此外由于贴合过程中的重叠偏离量较大，触控位置不能精确定位；在显示屏表面贴合触控屏会降低显示器的光透过率，在相同显示亮度条件下需要更高功率的背光源，进一步加重了手机电池的负荷，不利于手机设计中对低功耗的要求。
发明内容
本发明的实施例提供一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，本发明实施例提供一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述彩膜基板包括：
基板；
形成在所述基板上的彩膜层和覆盖所述彩膜层的第一绝缘层，其中所述彩膜层包括彩膜像素区域和黑矩阵区域；
形成在所述第一绝缘层上的第一导电信号线；
在所述第一导电信号线上均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物；
覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
形成在所述第二绝缘层上与所述第一导电信号线交叉的第二导信号线，所述第二导电信号线通过过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触。
一方面，本发明实施例提供另一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述彩膜基板包括：
基板；
形成在所述基板上的彩膜层和彩膜层上方的第一绝缘层，其中所述彩膜层包括彩膜像素区域和黑矩阵区域；
形成在所述第一绝缘层上的第一导信号线；
覆盖所述第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层；
通过所述第二绝缘层上的过孔与所述第一信号线电连接的力敏电阻材料的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
形成在所述第二绝缘层上覆盖所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电信号线。
一方面，本发明实施例提供又一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述阵列基板包括：基板；所述基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关，其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层；在形成由上述结构的所述基板上形成有钝化层；在钝化层上对应像素单元区域形成有像素电极层；所述阵列基板还包括：
覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
形成在所述第一绝缘层上的第一导电信号线；
形成在所述第一导电信号线上的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
形成在所述第二绝缘层上的第二导电信号线，所述第二导线信号线通过所述第二绝缘层上的过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物相接触。
一方面，本发明实施例提供再一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述阵列基板包括：阵列玻璃基板；所述基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和栅线围设形成像素单元，每个像素单元包括以及TFT开关，其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层；在形成由上述结构的所述基板上形成有钝化层；在钝化层上对应像素单元区域形成有像素电极层；所述阵列基板还包括：
覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
形成在所述第一绝缘层的第一导电信号线；
覆盖所述第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层；
通过所述第二绝缘层上的第二过孔与所述第一导电信号线电连接的力敏电阻材料的隔垫物，所述隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
形成在所述第二绝缘层上覆盖所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电信号线。
另一方面，本发明实施例提供一种显示器件，包括上述任一所述的显示面板。
又一方面，本发明实施例提供一种液晶显示面板的制作方法，
制作基板上的彩膜层；
制作覆盖所述彩膜层的绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的第二绝缘层；
通过光刻工艺在所述第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过所述过孔露出所述第一导电信号线；
制作覆盖所述第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物的一端通过所述过孔与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第二绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
又一方面，本发明实施例提供另一种液晶显示面板的制作方法，
制作彩膜玻璃基板上的彩膜层；
制作覆盖所述彩膜层的绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，以使所述力敏电阻材料的隔垫物的一端与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第一信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
制作第二绝缘层上的过孔，以露出所述力敏电阻材料的隔垫物的另一端；
制作覆盖所述第二绝缘层的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线通过所述过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
又一方面，本发明实施例提供又一种液晶显示面板的制作方法，在基板上形成横纵交叉的数据线和栅线，所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关；其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层，在形成有上述结构的所述基板上形成钝化层；在所述形成有钝化层的基板上沉积像素电极层；还包括：
制作覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的力敏电阻材料层，通过构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，以使所述力敏电阻材料的隔垫物的一端与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第一信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
制作第二绝缘层上的过孔，以露出所述力敏电阻材料的隔垫物的另一端；
制作覆盖所述第二绝缘层的第二导电层，通过构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线通过所述过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
又一方面，本发明实施例提供再一种液晶显示面板的制作方法，在基板上形成横纵交叉的数据线和栅线，所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关；其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层，在形成有上述结构的所述基板上形成钝化层；在所述形成有钝化层的基板上沉积像素电极层；还包括：
制作覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
制作覆盖所述第一绝缘层的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的第二绝缘层；
通过光刻工艺在所述第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过所述过孔露出所述第一导电信号线；
制作覆盖所述第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物的一端通过所述过孔与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第二绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电层，通过构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
本发明的实施例提供一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A为本发明实施例1提供的一种液晶显示面板的彩膜基板俯视透视结构示意图；
图1B为本发明实施例1提供的液晶显示面板在彩膜基板A-A截面处的结构示意图；
图1C为本发明实施例2提供的液晶显示面板在彩膜基板A-A截面处的结构示意图；
图2A为本发明实施例3提供的一种液晶显示面板的阵列基板俯视透视结构示意图；
图2B为本发明实施例3提供的液晶显示面板的阵列基板A-A截面结构示意图；
图2C为本发明实施例4提供的液晶显示面板的阵列基板A-A截面结构示意图；
图3A-3E为本发明实施例5提供的液晶显示面板的制造过程结构示意图；
图4A-4E为本发明实施例7提供的液晶显示面板的制造过程结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
结合图1A和1B所示(其中图1A为本发明实施例1提供的液晶显示面板的彩膜基板俯视透视结构示意图，图1B为本发明实施例1提供的液晶显示面板在彩膜基板A-A截面处的结构示意图)，本发明实施例提供的液晶显示面板，包括彩膜基板1和阵列基板2，彩膜基板1和阵列基板2之间充有液晶(图中未给出)，彩膜基板1包括：基板10；形成在基板上的彩膜层11和覆盖彩膜层11的第一绝缘层13，其中彩膜层包括彩膜像素区域12a和黑矩阵区域12b；形成在第一绝缘层13上的第一导电信号线16；在第一导电信号线16上均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物18；覆盖第一信号线16、第一绝缘层13和力敏电阻材料的隔垫物18的第二绝缘层14；形成在第二绝缘层14上与第一导电信号线16交叉的第二导信号线17，第二导电信号线17通过过孔111a与力敏电阻材料的隔垫物18另一端接触。
本发明的实施例提供的液晶显示面板，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
这里图1A和1B提供的是以TN(Twisted Nematic，扭曲向列)结构的显示面板为例，因此图中还给出了覆盖第二导电信号线17和第二绝缘层14的第三绝缘层15；覆盖第三绝缘层15的公共电极层19；覆盖公共电极层19的取向层110；当然在IPS(In-Plane Switching，平面转换)或FFS FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关技术)结构的显示面板中则不包括：第三绝缘层15和公共电极层19。
需要说明的是，第一导电信号线16和第二导电信号线17成相互垂直交叉的网格状。第一导电信号线16和第二导电信号线17的交叉位置对应彩膜层11的黑矩阵区域12b。这样便能避免由于力敏电阻材料的隔垫物凸起致使周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象发生。
进一步优选的，第一导电信号线16对应阵列基板上栅线的位置，第二导电信号线17对应阵列基板上数据线的位置；或者，第一导电信号线16对应阵列基板上数据线的位置，第二导电信号线17对应阵列基板上栅线的位置。
此外，力敏电阻材料的隔垫物18为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻材料隔垫物；当然这里图例中给出的力敏电阻材料的隔垫物18为圆台结构，当然也可以为圆柱、棱台结构，这里对力敏电阻材料的隔垫物18的形状不做限制，这里由于力敏电阻材料的隔垫物的形状可以通过光刻工艺精确控制，因此相对于传统的球状隔垫物更有利于维持液晶盒厚提高显示性能。
实施例2：
结合图1C所示(本发明实施例2提供的液晶显示面板的彩膜基板俯视透视结构示意图和实施例1相同，参照图1A，图1C为本发明实施例2提供的液晶显示面板在彩膜基板A-A截面处的结构示意图)，本发明实施例提供的液晶显示面板，包括彩膜基板1和阵列基板2，彩膜基板1和阵列基板2之间充有液晶，彩膜基板1包括：基板10；形成在基板10上的彩膜层11和彩膜层11上方的第一绝缘层13，其中彩膜层11包括彩膜像素区域12a和黑矩阵区域12b；形成在第一绝缘层13上的第一导信号线16；覆盖第一导电信号线16和第一绝缘层13的第二绝缘层14；通过第二绝缘层14上的过孔111b与第一导电信号线16电连接的力敏电阻材料的隔垫物18，力敏电阻材料的隔垫物18均匀设置在第一导电信号线16上；形成在第二绝缘层14上覆盖力敏电阻材料的隔垫物18的第二导电信号线17。
本发明的实施例提供的液晶显示面板，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
同样图1C提供的是以TN(Twisted Nematic，扭曲向列)结构的显示面板为例，因此图中还给出了覆盖第二导电信号线17和第二绝缘层14的第三绝缘层15；覆盖第三绝缘层15的公共电极层19；覆盖公共电极层19的取向层110；当然在IPS(In-Plane Switching，平面转换)或FFS FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关技术)结构的显示面板中则不包括：第三绝缘层15和公共电极层19。
需要说明的是，第一导电信号线16和第二导电信号线17成相互垂直交叉的网格状。第一导电信号线16和第二导电信号线17的交叉位置对应彩膜层11的黑矩阵区域12b。这样便能避免由于力敏电阻材料的隔垫物凸起致使周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象发生。
进一步优选的，第一导电信号线16对应阵列基板上栅线的位置，第二导电信号线17对应阵列基板上数据线的位置；或者，第一导电信号线16对应阵列基板上数据线的位置，第二导电信号线17对应阵列基板上栅线的位置。
此外，力敏电阻材料的隔垫物18为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻材料隔垫物；当然这里图例中给出的力敏电阻材料的隔垫物18为圆台结构，当然也可以为圆柱、棱台结构，这里对力敏电阻材料的隔垫物18的形状不做限制，这里由于力敏电阻材料的隔垫物的形状可以通过光刻工艺精确控制，因此相对于传统的球状隔垫物更有利于维持液晶盒厚提高显示性能。
实施例3：
结合图2A和2B所示(其中图2A为本发明实施例3提供的液晶显示面板的阵列基板俯视透视结构示意图，图2B为本发明实施例3提供的液晶显示面板在阵列基板A-A截面处的结构示意图)，本发明实施例提供的液晶显示面板，包括彩膜基板1和阵列基板2，彩膜基板1和阵列基板2之间充有液晶，阵列基板2包括：基板20；基板20上形成有横纵交叉的数据线24和栅线21；数据线24和栅线21围设形成像素单元以及TFT开关，其中，TFT开关包括栅电极、栅绝缘层22、源电极、漏电极和有源层23；在形成由上述结构的基板20上形成有钝化层25；在钝化层25上对应像素单元区域形成有像素电极层26；阵列基板2还包括：覆盖钝化层25和像素电极层26的第一绝缘层27；形成在第一绝缘层27上的第一导电信号线28；形成在第一导电信号线28上的力敏电阻材料的隔垫物29，力敏电阻材料的隔垫物29均匀设置在第一导电信号线28上；覆盖第一导电信号线28、第一绝缘层27和力敏电阻材料的隔垫物29的第二绝缘层210；形成在第二绝缘层210上的第二导电信号线211，第二导线信号线211通过第二绝缘层210上的过孔213a与力敏电阻材料的隔垫物29相接触。
本发明的实施例提供的液晶显示面板，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
这里图2A和2B还给出了覆盖第二绝缘层210和第二导电信号线211的取向层212。
需要说明的是，第一导电信号线28和第二导电信号线211成相互垂直交叉的网格状。第一导电信号线28和第二导电信号线211的交叉位置对应彩膜层的黑矩阵区域。这样便能避免由于隔垫物凸起致使周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象发生。
进一步优选的，第一导电信号线28对应阵列基板上栅线的位置，第二导电信号线211对应阵列基板上数据线的位置；或者，第一导电信号线28对应阵列基板上数据线的位置，第二导电信号线211对应阵列基板上栅线的位置。
此外，力敏电阻材料的隔垫物29为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻材料隔垫物；当然这里图例中给出的力敏电阻材料的隔垫物29为圆台结构，当然也可以为圆柱、棱台结构，这里对力敏电阻材料的隔垫物29的形状不做限制，这里由于力敏电阻材料的隔垫物的形状可以通过光刻工艺精确控制，因此相对于传统的球状隔垫物更有利于维持液晶盒厚提高显示性能。
实施例4：
结合图2C所示(本发明实施例4提供的液晶显示面板的阵列基板俯视透视结构示意图和实施例3相同参照图2A，图2C为本发明实施例4提供的液晶显示面板在阵列基板A-A截面处的结构示意图)，
一方面，本发明实施例提供再一种液晶显示面板，包括彩膜基板1和阵列基板2，彩膜基板1和阵列基板2之间充有液晶，阵列基板2包括：基板20；基板20上形成有横纵交叉的数据线24和栅线21；数据线24和栅线21围设形成像素单元以及TFT开关，其中，TFT开关包括栅电极、栅绝缘层22、源电极、漏电极和有源层23；在形成由上述结构的基板20上形成有钝化层25；在钝化层25上对应像素单元区域形成有像素电极层26；阵列基板2还包括：覆盖钝化层25和像素电极层26的第一绝缘层27；形成在第一绝缘层27的第一导电信号线28；覆盖第一导电信号线28和第一绝缘层27的第二绝缘层210；通过第二绝缘层210上的第二过孔213b与第一导电信号线28电连接的力敏电阻材料的隔垫物29，力敏电阻材料的隔垫物29均匀设置在第一导电信号线28上；形成在第二绝缘层210上覆盖力敏电阻材料的隔垫物29的第二导电信号线211。
本发明的实施例提供的液晶显示面板，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
这里图2C还给出了覆盖第二绝缘层210和第二导电信号线211的取向层212。
需要说明的是，第一导电信号线28和第二导电信号线211成相互垂直交叉的网格状。第一导电信号线28和第二导电信号线211的交叉位置对应彩膜层的黑矩阵区域。这样便能避免由于力敏电阻材料的隔垫物凸起致使周边液晶分子偏转不正常所造成的漏光等不良现象发生。
进一步优选的，第一导电信号线28对应阵列基板上栅线的位置，第二导电信号线211对应阵列基板上数据线的位置；或者，第一导电信号线28对应阵列基板上数据线的位置，第二导电信号线211对应阵列基板上栅线的位置。
此外，力敏电阻材料的隔垫物29为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻材料隔垫物；当然这里图例中给出的力敏电阻材料的隔垫物29为圆台结构，当然也可以为圆柱、棱台结构，这里对力敏电阻材料的隔垫物29的形状不做限制，这里由于力敏电阻材料的隔垫物的形状可以通过光刻工艺精确控制，因此相对于传统的球状隔垫物更有利于维持液晶盒厚提高显示性能。
本发明实施例提供一种显示器件，包括上述实施例1～4任一显示面板。
本发明的实施例提供的显示器件，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
实施例5：
本发明实施例5提供的液晶显示面板的制作方法，具体结合图3A-3G所示的制作过程中的结构图进行说明，包括以下步骤：
S101、制作基板上的彩膜层11。
S102、制作覆盖彩膜层11的绝缘层13。
S103、参考图3A，制作覆盖绝缘层13的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线16。
S104、参考图3B，制作覆盖第一导电信号线16和第一绝缘层13的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在第一导电信号线16上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物18，以使力敏电阻材料的隔垫物18的一端与第一导电信号线16相接触。
S105、参考图3C，制作覆盖第一信号线16、第一绝缘层13和力敏电阻材料的隔垫物18的第二绝缘层14；通过光刻制作第二绝缘层13上的过孔111a，以露出力敏电阻材料的隔垫物18的另一端。
S106、参考图3D，制作覆盖第二绝缘层14的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与第一导电信号线交叉的第二导电信号线17，第二导电信号17线通过过孔111a与力敏电阻材料的隔垫物18另一端接触。
S107、参考图3E，将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
本发明的实施例提供的液晶显示面板制造方法，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
需要说明的是，结合图3E提供的是TN(Twisted Nematic，扭曲向列)模式的显示面板，因此图中给出了在步骤S106后制作的覆盖第二导电信号线17和第二绝缘层14的第三绝缘层15、覆盖第三绝缘层15的公共电极层19、和覆盖公共电极层19的取向层110，当然在制作IPS或FFS显示模式的显示面板时则只需要直接在第二导电信号线17和第二绝缘层14上制作取向层即可。
实施例6：
本发明实施例6提供的液晶显示面板的制作方法，包括以下步骤：
S201、制作基板上的彩膜层。
S202、制作覆盖彩膜层的绝缘层。
S203、制作覆盖绝缘层的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线。
S204、制作覆盖第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层，通过光刻工艺在第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过过孔露出第一导电信号线。
S205、制作覆盖第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，力敏电阻材料的隔垫物的一端通过过孔与第一导电信号线相接触。
S206、制作覆盖第二绝缘层和力敏电阻材料的隔垫物的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与第一导电信号线交叉的第二导电信号线，第二导电信号线与力敏电阻材料的隔垫物另一端接触。
S207、将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
本实施例未给出具体制作过程中的结构图，具体可参照实施例5中提供的制作过程中的结构图。
本发明的实施例提供的液晶显示面板制造方法，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
需要说明的是，结合图3E提供的是TN(Twisted Nematic，扭曲向列)模式的显示面板，因此在图中还给出了需要在步骤S106后制作的覆盖第二导电信号线17和第二绝缘层14的第三绝缘层15、覆盖第三绝缘层15的公共电极层19、和覆盖公共电极层19的取向层110，当然在制作IPS或FFS显示模式的显示面板时则只需要直接在第二导电信号线17和第二绝缘层14上制作取向层即可。
实施例7：
本发明实施例5提供的液晶显示面板的制作方法，具体结合图4A-4E所示的制作过程中的结构图进行说明，包括以下步骤：
S301、在基板20上形成第一导电薄膜，通过构图工艺处理得到栅线21和栅电极。
S302、在栅线21上形成栅绝缘层，对应栅线的栅电极，在栅绝缘层22上形成有源层23。
S303、在栅绝缘层22上形成第二导电薄膜，通过构图工艺处理得到数据线24以及源电极、漏电极。
S304、在形成有上述结构的基板20上形成钝化层25，并在漏电极位置处形成像素电极过孔。
S305、在钝化层25上沉积像素电极层26。
以上步骤的工序可根据现有技术进行制备。
S306、制作覆盖钝化层25和像素电极层26的第一绝缘层27。
S307、参考图4A，制作覆盖第一绝缘层27的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线28。
S308、参考图4B，制作覆盖第一导电信号线28和第一绝缘层27的力敏电阻材料层，通过构图工艺在第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物29，以使力敏电阻材料的隔垫物29的一端与第一导电信号线相接触。
S309、参照图4C，制作覆盖第一信号线28、第一绝缘层27和隔垫物29的第二绝缘层210，通过光刻工艺制作第二绝缘层210上的过孔213a，以露出力敏电阻材料的隔垫物29的另一端。
S310、参照图4D，制作覆盖第二绝缘层210的第二导电层，通过构图工艺形成与第一导电信号线28交叉的第二导电信号线211，第二导电信号线211通过过孔213a与力敏电阻材料的隔垫物29另一端接触。
S311、参照图4E，将将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
当然，图中还给出了S310之后为阵列基板设置的取向层212。
本发明的实施例提供的液晶显示面板制造方法，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外力敏电阻材料的隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
实施例8：
本发明实施例8提供的液晶显示面板的制作方法，包括以下步骤：
S401、在玻璃基板上形成第一导电薄膜，通过构图工艺处理得到栅线和栅电极。
S402、在栅线上形成栅绝缘层，对应栅线的栅电极，在栅绝缘层上形成有源层。
S403、在栅绝缘层上形成第二导电薄膜，通过构图工艺处理得到数据线以及源电极、漏电极。
S404、在形成有上述结构的基板上形成钝化层，并在漏电极位置处形成像素电极过孔。
S405、在钝化层上沉积像素电极层。
以上步骤的工序可根据现有技术进行制备。
S406、制作覆盖钝化层和像素电极层的第一绝缘层。
S407、制作覆盖第一绝缘层的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线。
S408、制作覆盖第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层，通过光刻工艺在第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过过孔露出第一导电信号线。
S409、制作覆盖第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过构图工艺在第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，力敏电阻材料的隔垫物的一端通过过孔与第一导电信号线相接触。
S410、制作覆盖第二绝缘层和力敏电阻材料的隔垫物的第二导电层，通过构图工艺形成与第一导电信号线交叉的第二导电信号线，第二导电信号线与力敏电阻材料的隔垫物另一端接触。
当然，在S310之后还需为阵列基板设置取向层。
S411、将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
本实施例未给出具体制作过程中的结构图，具体可参照实施例7中提供的制作过程中的结构图。
本发明的实施例提供的液晶显示面板制造方法，能够降低触控显示面板的厚度、提高触控精度和透光率，另外隔垫物同时具备支撑显示面板的液晶盒的厚度和产生压力电阻效应的作用以此实现了触控面板和显示面板一体化可以有效的降低生产成本。
本发明实施例提供的附图均以TN模式的显示面板为例，当然由于本发明实施例所提供的技术方案不受显示模式的限制即与显示模式无关，因此在其他显示模式(如IPS和FFS模式)的显示面板中本发明实施例提供的方案亦可实施。
本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (17)

1.一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，其特征在于，所述彩膜基板包括：
基板；
形成在所述基板上的彩膜层和覆盖所述彩膜层的第一绝缘层，其中所述彩膜层包括彩膜像素区域和黑矩阵区域；
形成在所述第一绝缘层上的第一导电信号线；
在所述第一导电信号线上均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物；
覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
形成在所述第二绝缘层上与所述第一导电信号线交叉的第二导信号线，所述第二导电信号线通过过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触。
2.一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，其特征在于，所述彩膜基板包括：
基板；
形成在所述基板上的彩膜层和彩膜层上方的第一绝缘层，其中所述彩膜层包括彩膜像素区域和黑矩阵区域；
形成在所述第一绝缘层上的第一导电信号线；
覆盖所述第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层；
通过所述第二绝缘层上的过孔与所述第一导电信号线电连接的力敏电阻材料的隔垫物，所述隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
形成在所述第二绝缘层上覆盖所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电信号线。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线和所述第二导电信号线成相互垂直交叉的网格状。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线和所述第二导电信号线的交叉位置对应所述彩膜层的黑矩阵区域。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线对应所述阵列基板上栅线的位置，所述第二导电信号线对应所述阵列基板上数据线的位置；
或，
所述第一导电信号线对应所述阵列基板上数据线的位置，所述第二导电信号线对应所述阵列基板上栅线的位置。
6.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述力敏电阻材料的隔垫物为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻隔垫物。
7.一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述阵列基板包括：基板；所述基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关，其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层；在形成由上述结构的所述基板上形成有钝化层；在钝化层上对应像素单元区域形成有像素电极层；其特征在于，所述阵列基板还包括：
覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
形成在所述第一绝缘层上的第一导电信号线；
形成在所述第一导电信号线上的力敏电阻材料的隔垫物，所述隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
形成在所述第二绝缘层上的第二导电信号线，所述第二导线信号线通过所述第二绝缘层上的过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物相接触。
8.一种液晶显示面板，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板之间充有液晶，所述阵列基板包括：基板；所述基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关，其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层；在形成由上述结构的所述基板上形成有钝化层；在钝化层上对应像素单元区域形成有像素电极层；其特征在于，所述阵列基板还包括：
覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
形成在所述第一绝缘层的第一导电信号线；
覆盖所述第一导电信号线和第一绝缘层的第二绝缘层；
通过所述第二绝缘层上的过孔与所述第一导电信号线电连接的力敏电阻材料的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物均匀设置在所述第一导电信号线上；
形成在所述第二绝缘层上覆盖所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电信号线。
9.根据权利要求7或8所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线和所述第二导电信号线成相互垂直交叉的网格状。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线和所述第二导电信号线的交叉位置对应彩膜层的黑矩阵区域。
11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一导电信号线对应所述阵列基板上栅线的位置，所述第二导电信号线对应所述阵列基板上数据线的位置；
或，
所述第一导电信号线对应所述阵列基板上数据线的位置，所述第二导电信号线对应所述阵列基板上栅线的位置。
12.根据权利要求7或8所述的显示面板，其特征在于，所述力敏电阻材料的隔垫物为半导体晶体隔垫物或合金力敏电阻材料隔垫物。
13.一种显示器件，其特征在于，包括权利要求1～12任一所述的显示面板。
14.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，
制作基板上的彩膜层；
制作覆盖所述彩膜层的绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的第二绝缘层；
通过光刻工艺在所述第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过所述过孔露出所述第一导电信号线；
制作覆盖所述第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，所述力敏电阻材料的隔垫物的一端通过所述过孔与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第二绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
15.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，
制作基板上的彩膜层；
制作覆盖所述彩膜层的绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过第一次构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的力敏电阻材料层，通过第二次构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，以使所述隔垫物的一端与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述力敏电阻材料的隔垫物的第二绝缘层；
制作第二绝缘层上的过孔，以露出所述隔垫物的另一端；
制作覆盖所述第二绝缘层的第二导电层，通过第三次构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线通过所述过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的彩膜基板与制作成型的阵列基板对盒并注入液晶。
16.一种液晶显示面板的制作方法，在基板上形成横纵交叉的数据线和栅线，所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关；其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层，在形成有上述结构的所述基板上形成钝化层；在所述形成有钝化层的基板上沉积像素电极层；其特征在于，还包括：
制作覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
制作覆盖所述绝缘层的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的力敏电阻材料层，通过构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，以使所述力敏电阻材料的隔垫物的一端与所述第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第一导电信号线、第一绝缘层和所述隔垫物的第二绝缘层；
制作第二绝缘层上的过孔，以露出所述隔垫物的另一端；
制作覆盖所述第二绝缘层的第二导电层，通过构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线通过所述过孔与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
17.一种液晶显示面板的制作方法，在基板上形成横纵交叉的数据线和栅线，所述数据线和栅线围设形成像素单元以及TFT开关；其中，所述TFT开关包括栅电极、栅绝缘层、源电极、漏电极和有源层，在形成有上述结构的所述基板上形成钝化层；在所述形成有钝化层的所述基板上沉积像素电极层；其特征在于，还包括：
制作覆盖所述钝化层和所述像素电极层的第一绝缘层；
制作覆盖所述第一绝缘层的第一导电层，并通过构图工艺形成第一导电信号线；
制作覆盖所述第一导电信号线和所述第一绝缘层的第二绝缘层；
通过光刻工艺在所述第二绝缘层上形成均匀分布的过孔，以便通过所述过孔露出所述第一导电信号线；
制作覆盖所述第二绝缘层的力敏电阻材料层，通过构图工艺在所述第一导电信号线上形成均匀设置的力敏电阻材料的隔垫物，所述隔垫物的一端通过所述过孔与第一导电信号线相接触；
制作覆盖所述第二绝缘层和所述隔垫物的第二导电层，通过构图工艺形成与所述第一导电信号线交叉的第二导电信号线，所述第二导电信号线与所述力敏电阻材料的隔垫物另一端接触；
将通过上述工艺制作的阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
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CN102654681B (zh) * 2012-02-23 2016-09-28 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件
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CN102967972B (zh) * 2012-11-06 2015-03-25 北京京东方光电科技有限公司 一种电容触摸阵列基板及制作方法、液晶面板
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CN103455202B (zh) 2013-08-28 2015-11-25 合肥京东方光电科技有限公司 内嵌式触摸屏、其制备方法及显示装置
CN104407466B (zh) * 2014-12-25 2017-12-26 厦门天马微电子有限公司 一种显示基板、显示面板和显示装置
CN104834121B (zh) * 2015-05-11 2018-01-30 京东方科技集团股份有限公司 触控基板、显示面板、显示装置及触控方法
TWI575436B (zh) * 2016-03-22 2017-03-21 友達光電股份有限公司 觸控顯示裝置以及其製造方法
CN108198586B (zh) 2018-01-18 2020-12-08 京东方科技集团股份有限公司 移位寄存器电路及其驱动方法、栅极驱动器和显示面板
CN115868260A (zh) * 2021-03-30 2023-03-28 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置
CN113641051B (zh) * 2021-10-15 2022-02-08 惠科股份有限公司 阵列基板和显示面板

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1839368A (zh) * 2003-08-23 2006-09-27 皇家飞利浦电子股份有限公司 触摸输入有源矩阵显示器件
CN101685212A (zh) * 2008-09-26 2010-03-31 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示面板
CN101738763A (zh) * 2008-11-18 2010-06-16 奇信电子股份有限公司 具有内嵌电阻式触控结构的液晶显示器
CN102236447A (zh) * 2010-05-06 2011-11-09 北京京东方光电科技有限公司 触摸屏及触摸屏液晶显示器

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0667789A (ja) * 1992-08-18 1994-03-11 Fujitsu Ltd 座標入力装置
KR101437866B1 (ko) * 2007-10-15 2014-09-05 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 그 제어방법
CN102654681B (zh) * 2012-02-23 2016-09-28 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法和显示器件

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1839368A (zh) * 2003-08-23 2006-09-27 皇家飞利浦电子股份有限公司 触摸输入有源矩阵显示器件
CN101685212A (zh) * 2008-09-26 2010-03-31 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示面板
CN101738763A (zh) * 2008-11-18 2010-06-16 奇信电子股份有限公司 具有内嵌电阻式触控结构的液晶显示器
CN102236447A (zh) * 2010-05-06 2011-11-09 北京京东方光电科技有限公司 触摸屏及触摸屏液晶显示器

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