CN102678249B - 排气管 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种排气管，该排气管的散热性优异。该排气管为具备金属基材以及形成在上述金属基材的表面上的表面被覆层的排气管，其中上述表面被覆层含有无机玻璃基材；在上述表面被覆层的表面存在有低于第一基准面的凹区域，上述第一基准面具有上述表面被覆层的表面的平均高度；在上述凹区域的周边部存在有凸状部，该凸状部包围上述凹区域、高于上述第一基准面。

Description

排气管
技术领域
本发明涉及排气管。
背景技术
为了对发动机所排出的尾气中所含有的有害气体等有害物质进行处理，在包含有排气管的尾气通路上设有催化转换器。
为了提高利用催化转换器净化有害物质的净化效率，需要将尾气及尾气流通的排气管等的温度维持在适于催化剂活化的温度(下文也称为催化剂活化温度)。
但是，在发动机的高速运转时，尾气的温度会暂时性为超过1000℃的高温。因而，尾气的温度有时会超出催化剂活化温度的上限值。其结果，具有难以有效地进行尾气的净化、或催化剂发生劣化这样的问题。
因此，对于与汽车发动机相连接的排气管，要求其在汽车发动机的高速运转时能够将在排气管内流通的尾气的热散到外部。
在专利文献1和专利文献2中公开了下述的排气管，其通过在由金属构成的筒状基材的表面形成有由结晶性无机材和非晶态无机材构成的层而形成。
对于专利文献1所公开的排气管，由结晶性无机材和非晶态无机材构成的层的红外线发射率高于基材的红外线发射率，散热性优异。
另外，对于专利文献2所公开的排气管，位于结晶性无机材的外周面侧的位置的非晶态无机材的平均厚度为20μm以下，散热性优异。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-133213号公报
专利文献2：日本特开2009-133214号公报
发明内容
发明所要解决的课题
根据专利文献1和专利文献2记载的发明，能够提供散热性优异的排气管。但是，现状是，热切期望散热性进一步优异的排气管、特别是散热性更进一步优异的排气管的登场。
用于解决课题的手段
本发明人以散热性进一步提高为目的，反复进行了深入研究。其结果，成功地得到了比现有技术(例如，专利文献1和专利文献2记载的技术)的散热性更为优异的排气管，得到了本发明。
即，第1方面所述的排气管为具备金属基材以及形成在上述金属基材的表面上的表面被覆层的排气管，该排气管的特征在于：
上述表面被覆层含有无机玻璃基材；
在上述表面被覆层的表面存在有低于第一基准面的凹区域，所述第一基准面具有上述表面被覆层的表面的平均高度；
在上述凹区域的周边部存在有凸状部，该凸状部包围上述凹区域、高于上述第一基准面。
在第1方面所述的排气管中，由于在表面被覆层的表面存在有凹区域和凸状部，因而排气管的表面积变大、表观(見かけ上)发射率变高。因此，该排气管的辐射传热得到促进而成为散热性优异的排气管。
另外，利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域，可以大量设定用于使热应力分散的非固定端。并且，由于在表面被覆层的表面所形成的凹区域而在表面被覆层中产生膜厚薄的部分，由于该部分在厚度方向上的温差变小，因而在表面被覆层的内部难以产生热应力。因此，能够缓和热冲击所致的热应力、能够防止表面被覆层的剥离。因此认为能够维持高散热性。
此处，对“周边部”进行说明。
图1中，(a)为示意性示出本发明的排气管中的凹区域的说明图，(b)为示意性示出本发明的排气管中的周边部的说明图。
图1(a)中示意性示出了从垂直于金属基材的表面的方向对表面被覆层进行观察时凹区域30所看上去的样子。凹区域30形成为呈圆形的图形31。
图1(b)中示出了与图形31相似的图形61。图形61的重心与图形31的重心50一致。图形31与图形61的相似比为r：r’，r’＝1.2r。
周边部60为图形61的内部区域中除去凹区域30后的区域。
本发明的排气管中，在凹区域的周边部存在有包围着凹区域的凸状部。所谓“凸状部包围凹区域”是指，在凹区域的周边部的面积中，凸状部的面积所占的比例为60％以上。凹区域的周边部的面积中凸状部的面积所占的比例优选为80％以上、更优选为90％以上、最优选为100％。这是由于，若周边部的面积中凸状部的面积所占的比例越高，则排气管的表面积越大。周边部的面积中凸状部的面积所占的比例若小于60％，则排气管的表面积不够大，因而可能难以充分提高排气管的散热性。
另外，对于本发明中的凹区域来说，其为低于第一基准面的区域中的在周边部存在有凸状部的区域。即，即使为低于第一基准面的区域，若在周边部不存在凸状部，则该区域也并非为凹区域。
因而，本发明中，并非必须在低于第一基准面的全部区域中在周边部都存在凸状部。若将低于第一基准面的区域称为凹区域候选区，则在本发明中，在凹区域候选区中只要存在有在周边部存在凸状部的区域即可。
在第2方面所述的排气管中，在设上述表面被覆层的表面高度的最大值为Hmax、设上述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设Hmax与Hmin的差为H时，上述凸状部高于具有(Hmax-H×1/3)的高度的第二基准面。
在上述排气管中，在凹区域的周边部存在有高于第二基准面的凸状部。第二基准面为具有(Hmax-H×1/3)的高度的面。即，在上述排气管中，在凹区域的周边部(即，在凹区域的较近处)存在有与凹区域相比为相当高的区域，从凹区域到凸状部为止的表面被覆层的表面形成了陡峭的坡度。据认为，由此可以增大表面积、增高表观发射率，从而可以进一步提高散热性。
在第3方面所述的排气管中，上述凹区域从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的形状实质上为圆形。
据认为，由此可以进一步缓和热冲击所致的热应力。并且，在凹区域的端部一旦发生剥离的情况下，在凹区域为直线的情况下，剥离逐次进行；与此相对，在凹区域的上述形状实质上为圆形的情况下，发生了剥离的表面被覆层被周围的表面被覆层牵拉，因而不易进行剥离。其结果，可以提高表面被覆层与金属基材的密合性。
此处，对“实质上为圆形”进行说明。
图1(c)为示意性示出本发明的排气管中的凹区域的说明图。
图1(c)中示出了与图1(a)所示的凹区域30相同的凹区域30。
图1(c)中，rmax为图形31上的点与重心50的距离的最大值，rmin为图形31上的点与重心50的距离的最小值。
所谓“实质上为圆形”指的是rmax<1.5rmin的关系成立的情况。
在第4方面所述的排气管中，设上述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设具有Hmin高度的面与上述金属基材的表面的距离为d时，d>0。
在d＝0的情况下、也即金属基材在排气管的表面露出的情况下，不能充分得到利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域来提高发射率的效果，另外，在表面露出的金属基材的发射率低，因而认为发射率提高的效果变小。与此相对，在d>0的情况下，由于发射率低的金属基材不在表面露出，因而可以防止散热性的降低。
第5方面所述的排气管中，d≧2μm。
由此，通过使发射率低的金属基材的表面与凹区域的底部的距离为一定程度(2μm)以上，可以充分得到利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域来提高发射率的效果，因而可以得到高发射率。从而可以更有效地防止散热性的降低。
在第6方面所述的排气管中，上述凹区域从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的形状实质上为圆形，该圆的直径为3μm～2000μm。
如上所述，据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的尺寸小、密度高。
但是，在凹区域的尺寸过小的情况下，凹区域的壁以近距离相对，表面被覆层被加热时所发射出的红外线难以发射到表面被覆层的外面，因而散热效果变小。另一方面，凹区域相当于表面被覆层的厚度薄的部位，发射率低，因而凹区域的尺寸过大的情况下，表面被覆层整体的发射率也会降低，不易得到高散热性。
第6方面所述的排气管中，由于凹区域具有适度尺寸(圆的直径为3μm～2000μm)，因而为散热性优异的排气管。
在第7方面所述的排气管中，上述凹区域的密度为10个/cm2～107个/cm2。
如上所述，据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的密度高。若凹区域的密度过低，则表面积的增加少，因而不易得到发射率提高的效果。
另一方面，在凹区域的密度过高的情况下，2个不同的凹区域过于接近，可能会发生部分重合的情况。2个不同的凹区域若重合，则在该2个不同的凹区域之间会形成凸状的部位。该凸状的部位低于第一基准面，因而并非为凸状部，并非为包围着凹区域而连续地形成的。因而，该凸状的部位成为易于剥离的部位。因此，随着时间的推移，会以该凸状的部位为起点发生剥离，可能会招致发射率的降低。
第7方面所述的排气管中，由于凹区域以适度的密度形成，因而为散热性优异的排气管。
在第8方面所述的排气管中，上述表面被覆层进一步含有无机颗粒。
对于无机颗粒来说，作为材料物性其发射率高，因而在受到加热时较强地发射出红外线。这一点基于下式(1)所示的斯蒂芬·玻耳兹曼的定义。
q＝εσ(T1 4-T2 4)···(1)
(σ：斯蒂芬·玻耳兹曼常数···5.67×10-8[W/m2·K4]、q：热通量[W/m2]、ε：发射率、T1：加热体温度[K]、T2：受热体温度[K])
因而，对于在表面被覆层含有无机颗粒的排气管来说，由于产生来自表面被覆层中的无机颗粒的红外线的发射，因而表面被覆层的发射率变高，为高温下的散热性优异的排气管。
在第9方面所述的排气管中，上述无机颗粒的平均粒径为3μm以下。
如上所述，无机颗粒具有提高发射率的作用。因此在将无机颗粒存在的部位投影至与金属基材的表面平行的面的情况下，投影的部分的面积大时发射率变高。
此处，若无机颗粒的平均粒径大，则存在无机颗粒局部集中的区域，在其它区域中无机颗粒缺乏。这种情况下，上述面积变小。因而，发射率降低。
即，表面被覆层所含有的无机颗粒的比例为恒定的情况下，无机颗粒的平均粒径小的情况下，该面积变大。
第9方面所述的排气管中，由于采用平均粒径为3μm以下的较小的无机颗粒，因而为高温下的散热性优异的排气管。
在第10方面所述的排气管中，上述无机颗粒的颗粒间距离的平均值为3μm以下。
如上所述，无机颗粒具有提高发射率的作用。因此在将无机颗粒存在的部位投影至与金属基材的表面平行的面的情况下，投影的部分的面积大时发射率变高。
此处，若无机颗粒的颗粒间距离大，则存在无机颗粒局部集中的区域，在其它区域中无机颗粒缺乏。这种情况下，上述面积变小。因而，发射率降低。
即，表面被覆层所含有的无机颗粒的比例为恒定的情况下，无机颗粒的颗粒间距离小的情况下，上述面积变大。
第10方面所述的排气管中，由于无机颗粒的颗粒间距离的平均值为3μm这样的较小值，因而为高温下的散热性优异的排气管。
在第11方面所述的排气管中，上述无机颗粒为过渡金属的氧化物。
并且，在第12方面所述的排气管中，上述无机玻璃基材的软化点为300℃～1000℃。
此外，本发明提供了一种排气管，其具备金属基材和形成在所述金属基材的表面上的表面被覆层，该排气管的特征在于，
所述表面被覆层含有无机玻璃基材和无机颗粒；
在所述表面被覆层的表面存在有低于第一基准面的凹区域，所述第一基准面具有所述表面被覆层的表面的平均高度；
在所述凹区域的周边部存在有凸状部，该凸状部包围所述凹区域，所述凸状部高于所述第一基准面；
所述排气管的制造方法包括：
制作含有无机玻璃颗粒、电沉积树脂和无机颗粒的涂料；
通过电沉积涂装将制作的涂料涂装在准备的金属基材的表面；
通过在100℃～200℃的温度下对涂布有涂料的金属基材进行加热，对形成在金属基材的表面上的涂料的涂膜进行干燥的同时进行固化；
然后，将所述金属基材在电沉积树脂的烧失温度以上的温度进行加热，从而使电沉积树脂烧失；
然后，将所述金属基材在所述无机玻璃颗粒的软化点以上的温度进行加热。
附图说明
图1中，(a)为示意性示出本发明的排气管中的凹区域的说明图，(b)为示意性示出本发明的排气管中的周边部的说明图，(c)为示意性示出本发明的排气管中的凹区域的说明图。
图2为示意性示出本发明的排气管的立体图。
图3为示意性示出对图2所示的排气管沿着其长度方向进行切断的截面的部分放大截面图。
图4中，(a)为示出对图2所示的排气管沿着其长度方向进行切断的截面的部分放大截面图，(b)为示出对图2所示的排气管沿着其长度方向进行切断的截面的部分放大截面图。
图5为从垂直于金属基材的表面的方向对图2所示的排气管进行拍摄的照片。
图6中，(a)为示意性示出本发明实施方式中的阴离子型电沉积涂装的模式的说明图，(b)为示意性示出本发明实施方式中的阳离子型电沉积涂装的模式的说明图。
图7中，(a)～(e)为示意性示出制造本发明的排气管的模式的一例的说明图，其中，(a)中的涂料含有电沉积树脂、无机玻璃颗粒和无机颗粒，(e)中的表面被覆层含有无机玻璃颗粒和无机颗粒。
图8为示意性示出本发明实施方式的无机玻璃颗粒和无机颗粒中的pH值与电荷的对应关系的说明图。
具体实施方式
下面对本发明一个实施方式的排气管进行说明。
图2为示意性示出本发明的排气管的立体图。
图3为示意性示出对图2所示的排气管沿着其长度方向进行切断的截面的部分放大截面图。
另外，图2中，尾气以G表示，尾气的流动方向以箭头表示。
图2所示的排气管1由圆筒状的金属基材10以及以特定厚度形成在金属基材10的外周面上的表面被覆层20构成。
作为上述金属基材的材质没有特别限定，可以举出例如不锈钢、钢、铁、铜等金属；镍铬铁耐热耐蚀合金、哈斯特洛伊耐蚀耐热镍基合金、因瓦合金等镍合金等。这些金属材料的热导率高，因而可有助于排气管的散热性的提高。
如图3所示，在金属基材10的表面优选形成了凹凸。形成有该凹凸的金属基材的外周面的表面粗糙度RzJIS(JIS B 0601：2001)优选为1.5μm～15.0μm。
金属基材的外周面的表面粗糙度RzJIS若小于1.5μm，则金属基材的表面积变小，因而金属基材与表面被覆层的密合性不充分。另一方面，金属基材的外周面的表面粗糙度RzJIS若超过15.0μm，则在金属基材的表面与表面被覆层之间会形成空隙。据认为，这是由于，若金属基材的外周面的表面粗糙度RzJIS过大，则在金属基材的表面所形成的凹凸的凹谷部分未能确实地进入涂料。若在金属基材的表面与表面被覆层之间形成空隙，则金属基材与表面被覆层的密合性不充分。
表面被覆层20含有无机玻璃基材。
上述无机玻璃基材优选为软化点在300℃～1000℃的低熔点玻璃。上述低熔点玻璃的种类没有特别限定，可以举出钠钙玻璃、无碱玻璃、硼硅酸盐玻璃、钾玻璃、水晶玻璃、钛水晶玻璃、钡玻璃、硼玻璃、锶玻璃、氧化铝硅酸盐玻璃、钠锌玻璃、钠钡玻璃等。这些玻璃可以单独使用，也可以2种以上混合使用。
上述低熔点玻璃的软化点若处于300℃～1000℃的范围，则在将低熔点玻璃熔解并涂布在金属基材的外周面上之后通过实施加热烧制处理，可以在金属基材的外周面上容易且牢固地形成表面被覆层。
上述低熔点玻璃的软化点小于300℃时，在作为排气管使用时在有热负荷的情况下低熔点玻璃容易发生软化，因而在石或砂等异物从外部飞来并进行接触时，容易附着至软化的低熔点玻璃上。若表面有异物附着，则具有高发射率的表面被覆层被异物覆盖，可能不能成为在高温时具有高散热性的排气管。
另一方面，上述低熔点玻璃的软化点若大于1000℃，则在热处理中需要进行1000℃以上的加热，因而在形成排气管的表面被覆层时的热处理中，金属基材由于暴露于高温而劣化。
另外，低熔点玻璃的软化点可以基于JIS R 3103-1：2001中规定的方法使用例如有限会社OPT企业制造的玻璃自动软化点·应变点测定装置(SSPM-31)进行测定。
上述硼硅酸盐玻璃的种类没有特别限定，可以举出SiO2-B2O3-ZnO系玻璃、SiO2-B2O3-Bi2O3系玻璃等。上述水晶玻璃为含有PbO的玻璃，其种类没有特别限定，可以举出SiO2-PbO系玻璃、SiO2-PbO-B2O3系玻璃、SiO2-B2O3-PbO系玻璃等。上述硼玻璃的种类没有特别限定，可以举出B2O3-ZnO-PbO系玻璃、B2O3-ZnO-Bi2O3系玻璃、B2O3-Bi2O3系玻璃、B2O3-ZnO系玻璃等。上述钡玻璃的种类没有特别限定，可以举出BaO-SiO2系玻璃等。
表面被覆层20优选含有无机颗粒。
作为上述无机颗粒，优选使用过渡金属的氧化物，更优选使用由锰、铁、铜、钴、铬、镍中的至少一种金属的氧化物形成的无机颗粒。
这些无机颗粒可以单独使用，也可以两种以上混合使用。
对于这些过渡金属的氧化物来说，由于作为材料物性的发射率高，因而在受到加热时较强地发射出红外线，有助于通过辐射传热提高排气管的散热性。
表面被覆层20中的无机颗粒的颗粒间距离的平均值优选为3μm以下。
无机颗粒具有提高发射率的作用。因此在将无机颗粒存在的部位投影至与金属基材的表面平行的面的情况下，投影的部分的面积大时发射率变高。
此处，若无机颗粒的颗粒间距离大，则存在无机颗粒局部集中的区域，在其它区域中无机颗粒缺乏。这种情况下，上述面积变小。因而，发射率降低。
即，表面被覆层所含有的无机颗粒的比例为恒定的情况下，无机颗粒的颗粒间距离小的情况下，上述面积变大。
无机颗粒的颗粒间距离的平均值若大于3μm，则无机颗粒的颗粒间距离过大，因而排气管1难以成为具有所期望的散热性的排气管。
不过，表面被覆层中的无机颗粒的颗粒间距离的平均值也可以大于3μm。
表面被覆层中的无机颗粒的颗粒间距离的平均值优选为0.1μm以上。颗粒间距离的平均值若低于0.1μm，则在加热时和冷却时，在颗粒间的区域中热应力增大，在无机玻璃基材上可能会产生裂纹。若在无机玻璃基材上产生裂纹，则可能以其为起点产生表面被覆层的裂纹和脱落，无法得到具有高发射率的排气管。
如图3所示，在表面被覆层20的表面存在有凹区域30和凸状部40。
此处，使用图4(a)、图4(b)以及图5，对凹区域30和凸状部40进行说明。
图4(a)和图4(b)为示出对图2所示的排气管沿着其长度方向进行切断的截面的部分放大截面图。
图5为从垂直于金属基材的表面的方向对图2所示的排气管进行拍摄的照片。
另外，图5所示的照片是利用电子显微镜进行拍摄的，加速电压为15.0kV、倍率为200倍。
如图4(a)和图4(b)所示，凹区域30为低于第一基准面的区域。第一基准面为具有表面被覆层20的表面的平均高度的面。
图4(a)和图4(b)中，第一基准面以平均线的形式来表示。
上述平均线为用于JIS B0601(2001)中所规定的截面曲线的平均线，其是利用最小二乘法应用于截面曲线的表示标称形状的曲线。
所谓标称形状指的是平面的倾斜、圆筒部件的圆弧等的形状。
对于平均线，利用市售的表面粗糙度测定机(例如Veeco制Wyko NT9100(光学式))进行表面形状的测定，通过获得截面曲线而自动计算出。
对于上述凹区域，从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的形状优选实质上为圆形。
在凹区域的端部，在一旦发生剥离的情况下，在凹区域为直线的情况下，剥离逐次进行；与此相对，在凹区域的上述形状实质上为圆形的情况下，发生了剥离的表面被覆层被周围的表面被覆层牵拉，因而不易进行剥离。因而，在凹区域的上述形状实质上为圆形的情况下，可以提高表面被覆层与金属基材的密合性。
如图5所示，对于凹区域30，从垂直于金属基材10的表面的方向所观察到的形状为带有圆形的形状(拟圆形形状)。在本说明书中，将这样的凹区域30的形状称为实质上为圆形。
从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的上述凹区域的形状实质上为圆形(拟圆形)时，该圆的直径优选为3μm～2000μm。
据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的尺寸小、密度高。
但是，在凹区域的尺寸过小的情况下，凹区域的壁以近距离相对，表面被覆层被加热时所发射出的红外线难以发射到表面被覆层的外面，因而散热效果变小。另一方面，凹区域相当于表面被覆层的厚度薄的部位，发射率低，因而凹区域的尺寸过大的情况下，表面被覆层整体的发射率也会降低，不易得到高散热性。
该圆的直径小于3μm的情况下、或者大于2000μm的情况下，不易得到散热性优异的排气管。
该圆的直径更优选为1000μm以下、进一步优选为120μm以下。
另外，上述圆的直径为在该拟圆内画直线时的最大长度。
上述凹区域的密度优选为10个/cm2～107个/cm2。
据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的密度高。若凹区域的密度过低，则表面积的增加少，因而不易得到发射率提高的效果。
另一方面，在凹区域的密度过高的情况下，2个不同的凹区域过于接近，可能会发生部分重合的情况。2个不同的凹区域若重合，则在该2个不同的凹区域之间会形成凸状的部位。该凸状的部位低于第一基准面，因而并非为上述凸状部，并非为包围着凹区域而连续地形成的。因而，该凸状的部位成为易于剥离的部位。因此，随着时间的推移，会以该凸状的部位为起点发生剥离，可能会招致发射率的降低。
上述凹区域的密度小于10个/cm2的情况下、或者大于107个/cm2的情况下，不易得到散热性优异的排气管。
上述凹区域的密度更优选为1×102个/cm2以上、进一步优选为5×102个/cm2以上。
具有Hmin高度的面(参照图4(a)和图4(b))与上述金属基材的表面的距离设为d时(参照图3)，优选d>0、更优选d≧2μm。Hmin为表面被覆层的表面高度的最小值。
在d＝0的情况下，金属基材在排气管的表面露出，因而不能充分得到利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域来提高发射率的效果；另外，在表面露出的金属基材的发射率低，因而认为发射率提高的效果变小。因而，d＝0的情况下，难以防止散热性的降低。
另外，在本说明书中，也将具有Hmin高度的面与上述金属基材的表面的距离d称为凹区域的膜厚。并且还将具有Hmax高度的面与上述金属基材的表面的距离D称为表面被覆层的膜厚。
另外，在凹区域的膜厚d＝0的情况下，也称为“凹区域贯穿表面被覆层”。
如图4(a)和图4(b)所示，凸状部40为高于第二基准面的区域。第二基准面为具有(Hmax-H×1/3)的高度的面。
Hmax为表面被覆层20的表面高度的最大值。H为Hmax与Hmin的差，Hmin为表面被覆层20的表面高度的最小值。
如图4(a)和图4(b)所示，从凹区域直至凸状部为止的表面被覆层的表面形成陡峭的坡度。
另外，Hmax为表面被覆层20的全部表面中的最高地点的高度。Hmin为表面被覆层20的全部表面中的最低地点的高度。
在图4(a)中，示出了该截面中的最高地点45为表面被覆层20的全部表面中的最高地点、该截面中的最低地点35为表面被覆层20的全部表面中的最低地点的情况。
图4(b)中，示出了表面被覆层20的全部表面中的最高地点高于该截面中的最高地点45、表面被覆层20的全部表面中的最低地点低于该截面中的最低地点35的情况。
上面对本发明的排气管1的凹区域30和凸状部40进行了说明。
在本实施方式中，在这样的凹区域的周边部存在凸状部。对于周边部，与使用图1(a)和图1(b)所说明的一致。
下面对本发明排气管的制造方法进行说明。
本发明的排气管的制造方法中使用特定涂料。
下面对本实施方式的涂料进行说明。
本发明的排气管的涂料中含有上述无机玻璃颗粒和电沉积树脂。
在本发明的排气管的制造方法中，通过使用含有电沉积树脂的涂料进行电沉积涂装，在金属基材的表面形成涂膜。其后，在电沉积树脂的烧失温度以上的温度对涂膜进行加热，进一步在无机玻璃颗粒的软化点以上的温度对涂膜进行加热。其结果，形成在表面具有凹区域的表面被覆层。
下面采用图6(a)和图6(b)以及图7(a)～图7(e)，对于在使用本发明的排气管的涂料所制造的排气管的表面形成凹区域的理由进行说明。
图6(a)为示意性示出本发明实施方式中的阴离子型电沉积涂装的模式的说明图。
图6(b)为示意性示出本发明实施方式中的阳离子型电沉积涂装的模式的说明图。
图7(a)～图7(e)为示意性示出制造本发明的排气管的模式的一例的说明图，其中，图7(a)中的涂料含有电沉积树脂、无机玻璃颗粒和无机颗粒，图7(e)中的表面被覆层含有无机玻璃颗粒和无机颗粒。
如图6(a)和图6(b)所示，作为电沉积涂装，有阴离子型电沉积涂装和阳离子型电沉积涂装。
另外，在图7(a)～图7(e)所示的示例中，作为电沉积树脂使用的是阴离子型电沉积树脂，但也可使用阳离子型电沉积树脂作为电沉积树脂。并且，在涂料和表面被覆层中含有无机颗粒，但也可以不含有无机颗粒。
在阴离子型电沉积涂装中，作为电沉积树脂，使用阴离子型电沉积树脂。
阴离子型电沉积树脂具有与碱反应而形成盐的官能团(例如羧基)，通过被碱(例如有机胺)中和而带负电(参照下式(2))。
R-COOH+NR3→R-COO-+NR3H+···(2)
将金属基材和电极板配置在电沉积槽内，通过通电，带负电的电沉积树脂被吸引到阳极(参照图6(a))，涂料所含有的无机玻璃颗粒等被与电沉积树脂一同运送到金属基材(被着体)的表面。并且，在电沉积树脂与金属基材的表面接触时，进行下式(3)和(4)的反应。
(3)2H2O→4H++4e-+O2↑
(4)R-COO-+H+→R-COOH
由此，电沉积树脂变为不溶性，从而无机玻璃颗粒等在金属基材(阳极)的表面析出。
与此相对，在阳离子型电沉积涂装中，作为电沉积树脂，使用阳离子型电沉积树脂。
阳离子型电沉积树脂带正电，因而被吸引到阴极(参照图6(b))，无机玻璃颗粒等在金属基材(阴极)的表面析出。
如以上所说明，在电沉积涂装中，电沉积树脂将无机玻璃颗粒等运送到金属基材的表面(参照图7(a))。并且，电沉积树脂通过与金属基材的表面接触而在金属基材的表面析出(参照图7(b)和图7(c))。此时，在涂膜中形成了用于可溶性的电沉积树脂通过的通路(参照图7(b)和图7(c))。如上述(3)的反应式所示，电沉积树脂与金属基材的表面接触时产生氧气。通路是在该氧气冲开已经形成的涂膜而在涂液中穿过时形成的。在电沉积涂装终止后，在电沉积树脂残存在通路中的情况下，该电沉积树脂不会在金属基材的表面析出，为可溶性的，因而通过水洗会流掉。
其后，若对涂膜进行加热，则电沉积树脂发生烧失，涂膜的体积收缩。据推测，在该过程中，形成了基于上述通路的凹区域(参照图7(d)和图7(e))。
上面对于在使用本发明的排气管的涂料所制造的本发明的排气管的表面形成凹区域的理由进行了说明。
下面对本发明的排气管的涂料进行说明。
上述无机玻璃颗粒的平均粒径没有特别限定，优选为3μm以下。
无机玻璃颗粒的平均粒径大于3μm时，颗粒的尺寸容易不均匀。这种情况下，在电沉积涂装中会局部妨碍涂膜的流动，从而不易形成通路，其结果，在排气管的表面不易形成凹区域。
并且，无机玻璃颗粒的平均粒径若大于3μm，在进行烧制时，软化了的无机玻璃颗粒会填埋排气管表面的凹区域，无法在排气管的表面良好地形成凹区域。
进一步地，无机玻璃颗粒的平均粒径若大于3μm，在进行电沉积涂装时，无机玻璃颗粒无法在涂料的溶液中稳定。
并且，上述无机玻璃颗粒的平均粒径优选为0.1μm以上。无机玻璃颗粒的平均粒径若小于0.1μm，则玻璃的成分会溶出到涂料中，妨碍涂料的稳定性。
上述涂料优选进一步含有上述无机颗粒。
上述无机颗粒的平均粒径和上述无机玻璃颗粒的平均粒径没有特别限定，尽管上述无机颗粒的平均粒径和上述无机玻璃颗粒的平均粒径之一或二者大于3μm也是可以的，但优选上述无机颗粒的平均粒径为3μm以下、且上述无机玻璃颗粒的平均粒径为3μm以下。
并且更优选上述无机颗粒的平均粒径为1μm以下、且上述无机玻璃颗粒的平均粒径为1μm以下。此外进一步优选上述无机颗粒的平均粒径为0.9μm以下、且上述无机玻璃颗粒的平均粒径为0.8μm以下。
无机颗粒的平均粒径和无机玻璃颗粒的平均粒径之一或二者大于3μm时，颗粒的尺寸容易不均匀。这种情况下，在电沉积涂装中会局部妨碍涂膜的流动，从而不易形成通路，其结果，在排气管的表面不易形成凹区域。
并且，无机玻璃颗粒的平均粒径若大于3μm，在进行烧制时，软化了的无机玻璃颗粒会填埋排气管表面的凹区域，无法在排气管的表面良好地形成凹区域。
并且，无机颗粒的平均粒径若大于3μm，在进行烧制时，呈现出固体的无机颗粒分散在发生软化而呈液态的无机玻璃颗粒中的状态。此时，与无机颗粒小的情况相比，在无机颗粒大的情况下，软化了的无机玻璃颗粒与无机颗粒的复合体的粘性低、流动性好，因而该复合体会填埋排气管的表面的凹区域。若凹区域被填埋，则表面被覆层的表面积减小、发射率降低。
并且，无机颗粒的平均粒径优选为0.1μm以上。无机玻璃颗粒的平均粒径优选为0.1μm以上。
无机颗粒的平均粒径和无机玻璃颗粒的平均粒径可以使用例如株式会社岛津制作所制造的岛津纳米粒径分布测定装置(SALD-7100)进行测定。
上述无机玻璃颗粒的混合量相对于无机玻璃颗粒粉末与无机颗粒粉末的合计重量的优选下限为40重量％、优选上限为99.5重量％。
无机玻璃颗粒为在烧制工序中发生软化而形成基体的材料。经过烧制工序后，无机玻璃颗粒成为无机玻璃基材。
无机玻璃颗粒的混合量小于40重量％时，无机玻璃颗粒的量相对于无机颗粒的量过少，从而无法充分地形成基体，因此，无机玻璃颗粒无法将无机颗粒间填埋，形成空隙多的表面被覆层。若形成了空隙多的表面被覆层，则表面被覆层的强度降低，无法得到密合性。
另外，无机玻璃颗粒的混合量小于40重量％时，与金属基材接触的无机玻璃颗粒变少，在烧制时发生了软化的无机玻璃颗粒与金属基材的接触面积减小、表面被覆层未充分粘接在金属基材上。因而，在烧制时或受到热冲击时，容易发生表面被覆层的脱落(剥离)。
另一方面，无机玻璃颗粒的混合量若大于99.5重量％，则无机颗粒的量变少，所制作的排气管的散热性容易降低。
无机玻璃颗粒的混合量更优选的下限为60重量％、更优选的上限为80重量％。
上述涂料中也可以不含有无机颗粒。在该情况下，如使用图7(a)～图7(e)所说明的那样，由于涂料中含有电沉积树脂，因而在一定程度上可以得到散热性优异的排气管。
在涂料中含有无机颗粒的情况下，上述无机颗粒的混合量相对于无机玻璃颗粒粉末与无机颗粒粉末的合计重量的优选下限为0.5重量％、优选上限为60重量％。
无机颗粒的混合量小于0.5重量％时，无机颗粒的量相对于无机玻璃颗粒过少，因而排气管的散热性有时会降低。另一方面，无机颗粒的混合量若大于60重量％，则有助于表面被覆层与金属基材的粘接的无机玻璃颗粒的量减少，所制作的排气管中的表面被覆层变得容易脱落。
无机颗粒的混合量更优选的下限为20重量％、更优选的上限为40重量％。
上述电沉积树脂优选为阴离子型电沉积树脂。
上述阴离子型电沉积树脂具有阴离子性基团。阴离子性基团为与碱反应形成盐的官能团。作为阴离子性基团没有特别限定，可以举出羧基、磺酸基、磷酸基等。
并且，作为上述阴离子型电沉积树脂没有特别限定，可以举出丙烯酸类树脂(アクリル樹脂)、环氧树脂、聚氨酯树脂、马来化油、聚酯树脂、聚丁二烯树脂等。
作为上述丙烯酸类树脂没有特别限定，可以举出例如对由含有羧基的乙烯聚合性单体(エチレン重合性単量体)和其他乙烯聚合性单体构成的单体组合物进行聚合而得到的共聚丙烯酸类树脂。
作为上述含有羧基的乙烯聚合性单体没有特别限定，可以举出例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸二聚物、丁烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酸性磷酸酯、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、ω-羧基-聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、异丁烯酸、α-氢-ω-((1-氧代-2-丙烯基)氧基)聚(氧基(1-氧代-1,6-己二酯))(α－ハイドロ－ω－((1－オキソ－2－プロペニル)オキシ)ポリ(オキシ(1－オキソ－1，6－ヘキサンジイル)))、马来酸、富马酸、衣康酸、3-乙烯基水杨酸、3-乙烯基乙酰基水杨酸等。这些物质可以单独使用，也可以合用两种以上。
作为上述其他乙烯聚合性单体没有特别限定，可以举出例如：酯部分的碳原子数为1以上的(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸叔丁基环己酯、二环戊二烯(甲基)丙烯酸酯、二氢二环戊二烯(甲基)丙烯酸酯等)；聚合性酰胺化合物(例如(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二辛基(甲基)丙烯酰胺、N-单丁基(甲基)丙烯酰胺、N-单辛基(甲基)丙烯酰胺、2,4-二羟基-4’-乙烯基二苯甲酮、N-(2-羟基乙基)(甲基)丙烯酰胺等)；聚合性芳香族化合物(例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、叔丁基苯乙烯、对氯苯乙烯和乙烯基萘等)；聚合性腈(例如(甲基)丙烯腈等)；α-烯烃(例如乙烯、丙烯等)；乙烯基酯(例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等)；二烯(例如，丁二烯、异戊二烯等)；(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯、烯丙醇、(甲基)丙烯醇、(甲基)丙烯酸羟乙酯与ε-己内酯的加成物等。这些物质可以单独使用，也可以合用两种以上。
作为上述酯部分的碳原子数为1以上的(甲基)丙烯酸酯，在合用2种以上的(甲基)丙烯酸酯的情况下，优选在该2种以上的(甲基)丙烯酸酯中含有酯部分的碳原子数为1或2的(甲基)丙烯酸酯。
特别是在上述涂料中含有无机颗粒的情况下，上述电沉积树脂优选为阴离子型电沉积树脂。
下面使用图8对其理由进行说明。
图8为示意性示出本发明实施方式的无机玻璃颗粒和无机颗粒中的pH值与电荷的对应关系的说明图。
如图8所示，无机玻璃颗粒的等电点为pH2左右。因而，在pH值小于2的环境中，无机玻璃颗粒带正电；与此相对，在pH值大于2的环境中，无机玻璃颗粒带负电。
另外，无机颗粒的等电点为pH7左右。因而，在pH值小于7的环境中，无机颗粒带正电；与此相对，在pH值大于7的环境中，无机颗粒带负电。
即，在pH2～7的酸性环境下，无机玻璃颗粒所具有的电荷与无机颗粒所具有的电荷不同；与此相对，在碱性环境下，无机玻璃颗粒所具有的电荷与无机颗粒所具有的电荷是相同的。
因而，为了使无机玻璃颗粒与无机颗粒这两者同时析出，优选在碱性环境下进行电沉积涂装。
此处，如上所述，在阴离子型电沉积涂装中，使用碱作为针对阴离子型电沉积树脂的中和剂，因而电沉积涂装在碱性环境下进行。另一方面，在阳离子型电沉积涂装中，使用酸作为针对阳离子型电沉积树脂的中和剂，因而电沉积涂装在酸性环境下进行。
因而，在阴离子型电沉积涂装和阳离子型电沉积涂装中，优选在碱性环境下进行的阴离子型电沉积涂装。即，作为涂料所含有的电沉积树脂，相比阳离子型电沉积树脂，更优选阴离子型电沉积树脂。
如上所述，上述电沉积树脂优选为阴离子型电沉积树脂，但也可以为阳离子型电沉积树脂。与使用阴离子型电沉积树脂的情况相比，在使用阳离子型电沉积树脂的情况下，在涂料的稳定性和凹区域形成的容易性的方面差；但在本发明的实施方式中，并非不能使用阳离子型电沉积树脂。
上述阳离子型电沉积树脂具有阳离子性基团。阳离子性基团为与酸反应形成盐的官能团，作为阳离子性基团没有特别限定，可以举出氨基、硫醚基、膦基等。
并且，作为上述阳离子型电沉积树脂没有特别限定，可以举出丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚酯树脂等。
上述环氧树脂为含有氨基的环氧树脂的情况下，可以利用与伯胺、仲胺、叔胺等胺类的反应使原料环氧树脂分子内的环氧环发生开环来进行制造。
作为上述原料环氧树脂没有特别限定，可以举出例如：多酚聚缩水甘油醚型环氧树脂，其为双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、线型酚醛树脂、甲酚线型酚醛树脂等多环式酚类化合物与环氧氯丙烷的反应生成物；含有噁唑烷酮环的环氧树脂，其是使二异氰酸酯化合物或者利用甲醇、乙醇等低级醇对二异氰酸酯化合物的NCO基进行封端而得到的双氨基甲酸酯化合物与环氧氯丙烷进行反应而得到的；等。
作为上述胺类没有特别限定，可以举出例如丁胺、辛胺、二乙胺、二丁胺、甲基丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、N-甲基乙醇胺、三乙胺酸盐、N,N-二甲基乙醇胺酸盐、含有酮亚胺封端的氨基的多元胺等。
上述含有酮亚胺封端的氨基的多元胺为氨基被酮亚胺封端的胺。作为上述含有酮亚胺封端的氨基的多元胺，可以举出例如，通过使氨基乙基乙醇胺、二亚乙基三胺、二亚丙基三胺、二亚丁基三胺、三亚乙基四胺等多元胺类中的氨基与丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类进行反应而转换为酮亚胺的多元胺等(例如，二亚乙基三胺甲基异丁基酮亚胺、氨基乙基乙醇胺甲基异丁基酮亚胺等含有酮亚胺封端伯氨基的仲胺等)。
作为上述丙烯酸类树脂没有特别限定，可以举出例如，使(甲基)丙烯酸酯和含羟基的(甲基)丙烯酸单体(例如(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯等含羟基的(甲基)丙烯酸酯与ε-己内酯的加成产物)与其他丙烯酸系和/或非丙烯酸单体进行共聚，通过使所得到的共聚物的氧基硅烷环与胺反应而得到的树脂；不使用(甲基)丙烯酸缩水甘油酯而使具有氨基的丙烯酸单体共聚而得到的树脂等。
作为上述电沉积树脂，可以仅使用一种电沉积树脂，也可以使用两种以上的电沉积树脂。
并且，上述涂料中，有机结合材可以仅由电沉积树脂构成，也可以含有电沉积树脂以外的有机结合材。作为电沉积树脂以外的有机结合材，可以举出例如聚乙烯醇、甲基纤维素、乙基纤维素等。这些物质可以单独使用，也可以合用两种以上。
上述两种以上的电沉积树脂优选Tg彼此不同。
在电沉积涂装中，在Tg附近的温度下，电沉积树脂的流动性会发生变化；但若两种以上电沉积树脂的Tg彼此不同，则可抑制电沉积树脂流动性的急剧变化。从而，若两种以上电沉积树脂的Tg彼此不同，则在进行涂料的涂装时不易受到温度的影响，能够在较宽的温度范围稳定地进行涂膜形成，能够缓和涂料涂装时的温度依赖性。其结果，认为能够得到在表面被覆层的表面形成有所期望的凹区域的排气管。
另外，上述电沉积树脂的Tg优选为5℃～50℃。
电沉积树脂的Tg小于5℃的情况下，即使制成涂膜其粘性也低，容易发生流动。从而，在电沉积涂装中，即使在涂膜中暂且形成通路，由于周围的电沉积树脂发生软化并流动，因而该通路也容易被涂膜填埋。因此，不会形成适当的凹区域，无法得到具有高发射率的表面被覆层。另一方面，电沉积树脂的Tg若大于50℃，则与之相反地，在室温下电沉积树脂会过硬，不易流动。其结果，不易在涂膜中形成所期望的通路。因此，不会形成适当的凹区域，无法得到具有高发射率的表面被覆层。并且，若电沉积树脂的Tg大于50℃，则电沉积树脂的流动性变差，因而在干燥和固化时内部的水分不易跑出，干燥和固化需要时间。因此，作业效率变差、成本上升。
不过，上述电沉积树脂的Tg也可以为5℃～50℃的范围之外。在使用两种以上电沉积树脂的情况下，该两种以上电沉积树脂中可以含有Tg为5～50℃的范围之外的电沉积树脂，即使全部电沉积树脂的Tg均为5℃～50℃的范围外也是可以的。
另外，Tg为玻璃化转变温度，可基于JIS K 7121：1987利用DSC(差示扫描量热测定装置)进行测定。
上述电沉积树脂的重量相对于上述无机颗粒与上述无机玻璃颗粒的合计重量之比优选为1.0～3.5。
并且，在上述涂料中不含有无机颗粒的情况下，上述电沉积树脂的重量相对于上述无机玻璃颗粒的重量之比优选为1.0～3.5。
电沉积树脂的重量相对于无机颗粒与无机玻璃颗粒的合计重量之比大于3.5的情况下(包括无机颗粒的重量为0的情况)，由于涂料所含有的电沉积树脂的量过多，因而无机颗粒和无机玻璃颗粒的体积率降低，在涂膜内无机颗粒和无机玻璃颗粒呈各自分离的状态。从而无机颗粒和无机玻璃颗粒未被连结，因而在进行电沉积树脂的脱脂时，若经加热而电沉积树脂发生烧失，则无机颗粒和无机玻璃颗粒易于塌散而发生脱落。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。
另一方面，电沉积树脂的重量相对于无机颗粒与无机玻璃颗粒的合计重量之比小于1.0的情况下(包括无机颗粒的重量为0的情况)，由于电沉积树脂的量过少，因而涂料所含有的无机颗粒和无机玻璃颗粒的密度高，通过电沉积涂装而析出的涂膜内的固体成分(颗粒)的比例也增高。因而，电沉积通电过程中的涂膜的流动性差，从而难以进行通路的形成以及通路周边部的涂膜的形成。作为其结果，也不易在排气管的表面形成所期望的凹区域。因此，无法得到具有高发射率的表面被覆层。并且，涂料所含有的无机颗粒和无机玻璃颗粒过多时，也容易发生无机颗粒和无机玻璃颗粒的沉降，涂液中的颗粒浓度容易发生变化，因而涂装条件会发生变动。其结果，不易稳定地形成涂膜。并且，颗粒向电沉积槽底面的堆积也成为问题。
不过，上述电沉积树脂的重量相对于上述无机颗粒与上述无机玻璃颗粒的合计重量之比也可以处于1.0～3.5的范围之外。并且，在上述涂料中不含有无机颗粒的情况下，上述电沉积树脂的重量相对于上述无机玻璃颗粒的重量之比也可以处于1.0～3.5的范围之外。
在上述涂料中，除了上述无机玻璃颗粒、上述无机颗粒、以及上述有机结合材以外，也可以含有颜料、中和剂、固化剂、分散介质、其他各种添加剂等。
作为上述颜料，可以举出着色颜料、体质颜料以及防锈颜料等。
作为上述着色颜料，可以举出例如钛白、炭黑、氧化铁红、酞菁蓝、酞菁绿、单偶氮黄、二偶氮黄、苯并咪唑酮黄、喹吖啶酮红、单偶氮红、多偶氮红、苝红等。
作为上述体质颜料，可以举出例如高岭土、滑石、硅酸铝、碳酸钙、云母、粘土、二氧化硅等。
作为上述防锈颜料，可以举出例如磷酸锌、磷酸铁、磷酸铝、磷酸钙、亚磷酸锌、氰化锌、氧化锌、三聚磷酸铝、钼酸锌、钼酸铝、钼酸钙、磷钼酸铝、磷钼酸铝锌等。
作为针对阴离子型电沉积树脂的中和剂，可以举出氨、有机胺、碱金属氢氧化物等碱。
作为上述有机胺，可以举出二乙胺、乙基乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺、单丙醇胺、异丙醇胺、乙基氨基乙胺、羟基乙胺、二亚乙基三胺等。
作为上述碱金属氢氧化物，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾等。
作为针对阳离子型电沉积树脂的中和剂，可以举出盐酸、硝酸、磷酸、甲酸、乙酸、乳酸等酸。
作为针对阴离子型电沉积树脂的固化剂，可以举出三聚氰胺树脂、封端多异氰酸酯等。
作为针对阳离子型电沉积树脂的固化剂，可以举出封端多异氰酸酯。
上述封端多异氰酸酯是利用封端剂对多异氰酸酯进行封端而得到的。多异氰酸酯指的是1分子中具有2个以上异氰酸酯基团的化合物。
作为上述分散介质，可以举出水；或甲醇、乙醇、丙酮等有机溶剂等。
作为上述其他的各种添加剂，可以举出为进行电沉积涂装而混合的添加剂、表面活性剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂等。
作为为进行上述电沉积涂装而混合的添加剂，可以举出用于控制ζ电位和/或调整溶液的电阻值的添加剂、用于确保无机玻璃颗粒和/或无机颗粒的分散性的稳定化剂。
上面对本发明实施方式的涂料进行了说明。
在本发明的实施方式中，使用该涂料来制造本发明的排气管。
下面对本发明的排气管的制造方法进行说明。
另外，下面是针对在上述涂料中含有无机颗粒的情况进行说明。
(1)涂料的制作
对上述无机玻璃颗粒和无机颗粒进行干式混合，制作混合粉末。
具体地说，将无机玻璃颗粒的粉末与无机颗粒的粉末以分别达到特定粒度、形状等的方式来进行制备，将各粉末以特定混合比例进行干式混合，制备混合粉末。
向如上制备的混合粉末中添加上述的电沉积树脂和水等各种添加剂进行混合，从而制备上述涂料。
(2)基材的准备
采用由金属制成的基材(金属基材)作为起始材料，首先进行用于除去金属基材表面的杂质的清洗处理。
作为上述清洗处理没有特别限定，可以使用现有公知的清洗处理，例如可以使用在醇溶剂中进行超声波清洗的方法等。
并且，在上述清洗处理后，根据需要，为增大基材表面的比表面积、或调整基材表面的粗糙度，可以对基材表面实施粗化处理。例如，可以实施喷砂处理、蚀刻处理、高温氧化处理等粗化处理。这些处理可以单独使用，也可以合用两种以上。
(3)涂膜的形成
通过电沉积涂装将上述(1)的工序中制作的涂料涂装在上述(2)的工序中准备的金属基材的表面。具体地说，在上述涂料中配置上述金属基材和电极板，上述金属基材和电极板中的一个作为阳极发挥功能，另一个作为阴极发挥功能，施加电压。
如此，可溶性状态的电沉积树脂将无机玻璃颗粒和无机颗粒运送到金属基材的表面(参照图7(a))。并且，电沉积树脂通过与金属基材的表面接触而由可溶性的状态变化到不溶性的状态，在金属基材的表面析出(参照图7(b)和图7(c))。另外，此时，在涂膜中形成用于可溶性的电沉积树脂通过的通路(参照图7(b)和图7(c))。通路是在电沉积树脂与金属基材的表面接触时所产生的氧气冲开已经形成的涂膜而在涂液中穿过时形成的。在电沉积涂装终止后，电沉积树脂有时会残存在通路中，该电沉积树脂不会在金属基材的表面析出，为可溶性的，因而通过水洗会流掉。
对于电沉积涂装，通常优选施加50V～450V的电压，在10℃～45℃的浴温下进行15秒～20分钟，上述电压更优选为60V～300V，上述浴温更优选为26℃～32℃，通电时间更优选为30秒～10分钟。并且，涂料的固体成分浓度优选为5重量％～25重量％、涂料的pH优选为8.0～9.5。
上述电压若大于300V，则由于在被着体(金属基材)的表面所产生的热导致在被着体的表面暂且生成的涂料的涂膜再次发生溶解。其结果，尽管进行了通电，但涂膜的膜厚并未增大。另一方面，若上述电压小于60V，则负荷电压过低，因而将电沉积树脂吸引到被着体(金属基材)的力变弱，得不到涂料的涂膜的充分厚度。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。
上述浴温若超过32℃，则受到热的作用，涂液中的电沉积树脂容易发生劣化。其结果，由于涂料的劣化而使得电沉积树脂的更换频率增加，从而制造成本增加。另一方面，上述浴温小于26℃时，电沉积树脂的活性低，在被着体(金属基材)表面的反应速度变慢，因而不易得到涂料的涂膜。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。
上述通电时间超过10分钟时，由于通电时间过长，因而涂料的固体成分发生堆积，从而在被着体(金属基材)的垂直面与水平面上，涂料的涂膜的膜厚容易产生差异。其结果，得不到在整个面具有均匀的散热性的表面被覆层。另一方面，上述通电时间少于30秒时，由于通电时间过短，因而涂膜的生成在中途终止，得不到涂料的涂膜的充分厚度。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。
上述涂料的固体成分浓度超过25重量％时，通过电沉积涂装而析出的涂膜的流动性降低，在被着体(金属基材)的表面所生成的热或气泡不易逸出，从而由于局部温度上升，涂膜在涂液中发生再溶解、或残留在涂膜中的气泡在加热时发生热膨胀而导致暴沸，使得涂料的涂膜的表面状态变差。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。另一方面，上述涂料的固体成分浓度若小于5重量％，则在被着体(金属基材)上析出的主要为电沉积树脂，只有极少量的无机玻璃颗粒和无机颗粒附着于被着体(金属基材)，因而不易形成涂料的涂膜。从而，烧制后残留在金属基材上的表面被覆层也变薄。其结果，无法得到具有高发射率的表面被覆层。
上述涂料的pH大于9.5时，不易产生涂料的涂膜的析出，为进行涂料的涂敷所需要的电力消耗变大。从而具有能量的浪费。据考虑，这是由于，作为电沉积涂装中的涂膜形成的机制，被着体(金属基材)的表面发生电反应而使pH发生变化，与此相伴，电沉积树脂由可溶性变化为不溶性，从而发生析出。上述涂料的pH若大于9.5，则pH过高而徒劳无益，即使通过电反应使pH降低，电沉积树脂也保持可溶性存在而不会析出、或者暂且析出的涂膜再度溶解在涂液中。进一步地，上述涂料的pH若大于9.5，则由于发泡而使得涂料的涂膜的状态不易稳定。其结果，由于在涂膜中产生大量空隙，因而表面被覆层的强度也降低，无法得到高密合性。
另一方面，上述涂料的pH小于8.0时，该pH为电沉积树脂本身由不溶性变为水溶性的pH的附近，因而电沉积树脂的状态处于可溶性状态与不溶性状态的边界，随着pH的变动而呈可溶性或呈不溶性，因而电沉积树脂在涂液中无法稳定存在。其结果，由于涂料的劣化而使得电沉积树脂的更换频率增加，从而制造成本增加。
另外，在使用阴离子型电沉积树脂作为上述电沉积树脂的情况下，上述金属基材作为阳极发挥功能、上述电极板作为阴极发挥功能。另一方面，在使用阳离子型电沉积树脂作为上述电沉积树脂的情况下，上述金属基材作为阴极发挥功能、上述电极板作为阳极发挥功能，施加电压。
(4)干燥和固化
通过在特定温度下对通过上述(3)的工序涂布有涂料的金属基材进行加热，可以对形成在金属基材的表面上的涂料的涂膜进行干燥的同时进行固化。此时，水分或挥发性的树脂添加剂等通过上述(3)的工序中形成的通路而蒸发，与此相伴，在涂膜的表面形成凹区域预备部(参照图7(d))。此处，所谓凹区域预备部是在涂膜的表面所形成的凹下的区域，指的是伴随着涂膜的干燥和固化，通路发生变形而产生的区域。
本工序中的加热温度优选为100℃～200℃、更优选为110℃～190℃、进一步优选为120℃～180℃。
上述加热温度若超过200℃，则温度过高，因而涂料的涂膜过度固化。从而具有能量的浪费。另一方面，若上述加热温度小于100℃，则干燥和固化不充分，在涂膜中有水分或溶剂残留。其结果，在脱脂工序或烧制工序中进行加热时，所残留的水分或溶剂发生暴沸、涂膜绽开，局部产生未密合部(未着部)(表面被覆层中存在空隙的部分)。并且，由于涂料的涂膜并未充分固化，因而涂膜与金属基材的密合性会降低，容易发生操作导致的剥离。
另外，优选在上述加热温度下保持特定时间，保持时间优选为5分钟～90分钟。
上述保持时间若超过90分钟，则涂料的涂膜过度固化，会浪费时间。另一方面，若上述保持时间少于5分钟，则涂料的涂膜的干燥和固化不充分，在涂膜中有水分或溶剂残留。其结果，在脱脂工序或烧制工序中进行加热时，所残留的水分或溶剂发生暴沸、表面被覆层绽开，局部产生未密合部。并且，由于涂料的涂膜未被充分固化，因而涂膜与金属基材的密合性会降低，容易发生操作导致的剥离。
(5)脱脂
上述(4)的工序之后，将上述金属基材在电沉积树脂的烧失温度以上的温度进行加热，从而使电沉积树脂烧失。由此，涂膜的体积发生收缩，以上述(4)的工序中形成的涂膜的表面的凹区域预备部为基础，在涂膜的表面形成凹区域(参照图7(e))。
电沉积树脂的烧失温度为电沉积树脂的重量减少50％时的温度，可通过TG/DTA同时测定装置进行测定。
本工序中加热温度根据所混合的电沉积树脂的种类而不同，优选为300℃～600℃、更优选为325℃～550℃、进一步优选为350℃～500℃。
上述加热温度超过600℃时，由于温度过高，在电沉积树脂完成脱脂前会产生无机玻璃颗粒的软化。其结果，在无机玻璃颗粒发生软化而开始了基体的形成后，由于电沉积树脂燃烧而产生气体、招致暴沸，因而易于产生未密合部。另一方面，若上述加热温度小于300℃，则电沉积树脂的脱脂不充分，在涂膜中会有树脂成分残留。因此，在下述(6)烧制工序中进行升温时，会招致暴沸、易于产生未密合部。
并且，在本工序中，在上述加热温度保持特定时间。保持时间优选为5分钟～90分钟。
上述保持时间为90分钟时，电沉积树脂的脱脂会充分地完成，因而上述保持时间超过90分钟也造成时间的浪费。另一方面，若上述保持时间少于5分钟，则电沉积树脂的脱脂不充分，在涂膜中会有树脂成分残留。因此，在下述(6)烧制的工序中进行升温时，电沉积树脂在软化了的无机玻璃颗粒中燃烧，产生气体并暴沸，因而会在表面被覆层的表面留出金属基材露出的孔穴。其结果，得不到具有高发射率的表面被覆层。
并且，由上述(4)干燥和固化工序中的加热温度直至本工序中的加热温度为止的升温速度优选为1.7℃/分钟～60.0℃/分钟、更优选为2.0℃/分钟～30.0℃/分钟、进一步优选为3.0℃/分钟～15.0℃/分钟。
上述升温速度超过60.0℃/分钟时，会招致树脂成分的暴沸，容易产生未密合部。另一方面，若上述升温速度小于1.7℃/分钟，则升温过于花费时间，会有时间的浪费。
如上所述，在上述(5)脱脂的工序中，在特定温度保持特定时间。如此，上述(5)脱脂的工序中，“在特定温度保持特定时间”为必要的构成。
本实施方式中，优选经过这样的(5)脱脂的工序，但也可以不经过(5)脱脂的工序就进行下述(6)烧制的工序。
下面以进行(5)脱脂的工序的情况进行说明。
(6)烧制
在上述(5)的工序之后，将上述金属基材在上述无机玻璃颗粒的软化点以上的温度进行加热。
由此，金属基材与无机玻璃颗粒可以牢固地密合，可以形成与金属基材牢固密合的表面被覆层。另外，由于无机玻璃颗粒发生熔解，使得涂膜膜厚的降低率增大，更容易形成在表面具有凹区域的表面被覆层(参照图7(e))。
进一步地，在涂膜中存在无机颗粒的情况下，软化了的无机玻璃颗粒的流动性降低、凹区域周边部的涂膜的流动受到抑制，因而容易形成在表面具有凹区域的表面被覆层。与此相对，在涂膜中不存在无机颗粒的情况下，在凹区域周边部的涂膜的流动不会受到无机颗粒的抑制，因而与涂膜中存在无机颗粒的情况相比，不易形成在表面具有凹区域的表面被覆层。
另外，本说明书中，表面被覆层为在金属基材的表面所形成的层，是通过对涂膜实施烧制处理而得到的层。
本工序中的加热温度根据所混合的无机玻璃颗粒的种类而不同，优选为500℃～1000℃、更优选为600℃～950℃、进一步优选为700℃～900℃。
上述加热温度若超过1000℃，则高温暴露会招致金属基材的劣化。另一方面，上述加热温度小于500℃时，无机玻璃颗粒的软化不充分、烧结不充分，因而涂料的涂装未被致密化，无法充分得到金属基材与表面被覆层的密合性。
另外，本工序中的加热温度高于上述(5)脱脂的工序中的加热温度。
另外，优选在上述加热温度下保持特定时间，保持时间优选为1分钟～30分钟。
上述保持时间若超过30分钟，则会招致金属基材的劣化。另一方面，上述保持时间不足1分钟时，无机玻璃颗粒的软化不充分，涂装未被致密化，无法充分得到金属基材与表面被覆层的密合性。
并且，从上述(5)脱脂的工序中的加热温度直至本工序中的加热温度为止的升温速度优选为3.3℃/分钟～100.0℃/分钟、更优选为4.0℃/分钟～50.0℃/分钟、进一步优选为5.0℃/分钟～25.0℃/分钟。
上述升温速度若大于100.0℃/分钟，则由于金属基材的热容量大而吸收热，因而金属基材整体未被均匀加热。另一方面，若上述升温速度小于3.3℃/分钟，则升温过于花费时间，会有时间的浪费。
通过进行以上的工序，可以制造在金属基材的表面上形成了表面被覆层的本发明的排气管。
上面对本发明的排气管进行了说明。
下面列举出本发明排气管的作用效果。
(1)本发明的排气管中，由于表面被覆层的表面存在凹区域和凸状部，因而排气管的表面积变大、表观发射率变高。因此，该排气管的辐射传热得到促进，从而成为散热性优异的排气管。
另外，利用表面被覆层的表面所形成的凹区域，可以大量设定用于使热应力分散的非固定端。并且，利用表面被覆层的表面所形成的凹区域，在表面被覆层中产生膜厚薄的部分，由于该部分在厚度方向上的温差变小，因而在表面被覆层的内部难以产生热应力。因此，能够缓和热冲击所致的热应力、能够防止表面被覆层的剥离。因此认为能够维持高散热性。
(2)本实施方式的排气管中，在设上述表面被覆层的表面高度的最大值为Hmax、设上述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设Hmax与Hmin的差为H时，上述凸状部高于具有(Hmax-H×1/3)的高度的第二基准面。
在上述排气管中，在凹区域的周边部存在有高于第二基准面的凸状部。第二基准面为具有(Hmax-H×1/3)的高度的面。即，在上述排气管中，在凹区域的周边部(即，在凹区域的较近处)存在有与凹区域相比为相当高的区域，从凹区域直至凸状部为止的表面被覆层的表面形成陡峭的坡度。据认为，由此可以增大表面积、增高表观发射率，从而可以进一步提高散热性。
(3)本实施方式的排气管中，上述凹区域从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的形状实质上为圆形。
据认为，由此可以进一步缓和热冲击所致的热应力。并且，在凹区域的端部一旦发生剥离的情况下，在凹区域为直线的情况下，剥离逐次进行；与此相对，在凹区域的上述形状实质上为圆形的情况下，剥离后的表面被覆层被周围的表面被覆层牵拉，因而不易进行剥离。其结果，可以提高表面被覆层与金属基材的密合性。
(4)本实施方式的排气管中，设上述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设具有Hmin的高度的面与上述金属基材的表面的距离为d时，d>0。
在d＝0的情况下、也即金属基材在排气管的表面露出的情况下，不能充分得到利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域来提高发射率的效果；另外，在表面露出的金属基材的发射率低，因而认为发射率提高的效果变小。与此相对，在d>0的情况下，由于发射率低的金属基材不在表面露出，因而可以防止散热性的降低。
(5)本实施方式的排气管中，d≧2μm。
由此，通过使发射率低的金属基材的表面与凹区域的底部的距离为一定程度以上，可以充分得到利用在表面被覆层的表面所形成的凹区域来提高发射率的效果，因而可以得到高发射率。从而可以更有效地防止散热性的降低。
(6)本实施方式的排气管中，上述凹区域从垂直于上述金属基材的表面的方向所观察到的形状实质上为圆形，该圆的直径为3μm～2000μm。
如上所述，据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的尺寸小、密度高。
但是，在凹区域的尺寸过小的情况下，凹区域的壁以近距离相对，表面被覆层受到加热时所发射出的红外线难以发射到表面被覆层的外面，因而散热效果变小。另一方面，凹区域相当于表面被覆层的厚度薄的部位，发射率低，因而凹区域的尺寸过大的情况下，表面被覆层整体的发射率也会降低，不易得到高散热性。
本实施方式的排气管中，由于凹区域为适度的尺寸，因而为散热性优异的排气管。
(7)本实施方式的排气管中，上述凹区域的密度为10个/cm2～107个/cm2。
如上所述，据认为，若从表面被覆层的表面积的增加有助于发射率提高这方面考虑，则优选凹区域的密度高。若凹区域的密度过低，则表面积的增加少，因而不易得到发射率提高的效果。
另一方面，在凹区域的密度过高的情况下，2个不同的凹区域过于接近，可能会发生部分重合的情况。2个不同的凹区域若重合，则在该2个不同的凹区域之间会形成凸状的部位。该凸状的部位低于第一基准面，因而并非为凸状部，并非为包围着凹区域而连续地形成的。因而，该凸状的部位成为易于剥离的部位。因此，随着时间的推移，会以该凸状的部位为起点发生剥离，可能会招致发射率的降低。
本实施方式的排气管中，由于凹区域以适度的密度形成，因而为散热性优异的排气管。
(8)本实施方式的排气管中，上述表面被覆层进一步含有无机颗粒。
对于无机颗粒来说，作为材料物性其发射率高，因而受到加热时较强地发射出红外线。这一点基于下式(1)所示的斯蒂芬·玻耳兹曼的定义。
q＝εσ(T1 4-T2 4)···(1)
(σ：斯蒂芬·玻耳兹曼常数···5.67×10-8[W/m2·K4]、q：热通量[W/m2]、ε：发射率、T1：加热体温度[K]、T2：受热体温度[K])
因而，对于在表面被覆层中含有无机颗粒的排气管来说，由于产生来自表面被覆层中的无机颗粒的红外线的发射，因而表面被覆层的发射率变高，为高温下的散热性优异的排气管。
(9)本实施方式的排气管中，上述无机颗粒的平均粒径为3μm以下。
如上所述，无机颗粒具有提高发射率的作用。因此在将无机颗粒存在的部位投影至与金属基材的表面平行的面的情况下，投影的部分的面积大时发射率变高。
此处，若无机颗粒的平均粒径大，则存在无机颗粒局部集中的区域，在其它区域中无机颗粒缺乏。这种情况下，上述面积变小。因而，发射率降低。
即，表面被覆层所含有的无机颗粒的比例为恒定的情况下，无机颗粒的平均粒径小的情况下，该面积变大。
本实施方式的排气管中，由于采用平均粒径为3μm以下的较小的无机颗粒，因而为高温下的散热性优异的排气管。
(10)本实施方式的排气管中，上述无机颗粒的颗粒间距离的平均值为3μm以下。
如上所述，无机颗粒具有提高发射率的作用。因此在将无机颗粒存在的部位投影至与金属基材的表面平行的面的情况下，投影的部分的面积大时发射率变高。
此处，若无机颗粒的颗粒间距离大，则存在无机颗粒局部集中的区域，在其它区域中无机颗粒缺乏。这种情况下，上述面积变小。因而，发射率降低。
即，表面被覆层所含有的无机颗粒的比例为恒定的情况下，无机颗粒的颗粒间距离小的情况下，上述面积变大。
本实施方式的排气管中，由于无机颗粒的颗粒间距离的平均值为3μm这样较小的值，因而为高温下的散热性优异的排气管。
(实施例)
下面举出实施例进一步详细说明本发明，但本发明并不仅限于这些实施例。
(实施例1)
(1)涂料的制作
作为无机颗粒的粉末，准备由MnO2粉末24重量份、FeO粉末8重量份、CuO粉末4重量份以及CoO粉末4重量份构成的金属氧化物的粉末。无机颗粒的平均粒径为0.8μm。
并且，作为无机玻璃颗粒的粉末，准备旭硝子株式会社制K807(SiO2-BaO-B2O3系玻璃粉末、软化点720℃)60重量份。无机玻璃颗粒的平均粒径为0.9μm。
将上述无机颗粒的粉末与上述无机玻璃颗粒的粉末干式混合，制作混合粉末。
进一步地，向反应容器中添加单体组合物、溶剂、以及聚合引发剂，使单体组合物发生聚合，从而制作阴离子型电沉积树脂。具体地说，作为单体组合物，添加丙烯酸乙酯13重量份、甲基丙烯酸-2-乙基己酯30重量份、甲基丙烯酸甲酯31重量份、丙烯酸9重量份、丙烯酸-2-羟乙酯17重量份以及N-羟甲基甲基丙烯酰胺4重量份。并且，作为溶剂，添加异丙醇(IPA)54重量份以及丁基溶纤剂15重量份。并且，作为聚合引发剂，添加偶氮二异丁腈3重量份。
在上述混合粉末中，作为有机结合材，添加通过上述聚合得到的阴离子型电沉积树脂170重量份并进行混合。
其后添加纯水1500重量份、其他各种添加剂并进行混合，由此来制作涂料。
所制作的涂料的固体成分浓度为15重量％。
使用DSC(差示扫描量热测定装置)(SII Nanotechnology株式会社制造EXSTARDSC6220)，对上述阴离子型电沉积树脂的Tg进行测定，结果Tg为25℃。
(2)金属基材的准备
作为金属基材，准备宽度100mm、长度100mm、厚度2mm的板状的不锈钢基材(SUS430制)。将该金属基材在醇溶剂中进行超声波清洗，接下来，进行喷砂处理使金属基材的表面粗化。喷砂处理使用#100的Al2O3磨料进行10分钟。
使用表面粗糙度测定机(株式会社东京精密制HANDY SURF E-35B)对金属基材的表面的粗糙度进行测定，结果金属基材的表面的粗糙度为RzJIS＝8.8μm。
(3)涂膜的形成
通过电沉积涂装将上述(1)的工序中制作的涂料0.7g均匀地涂装在上述(2)的工序中准备的金属基材的表面。具体地说，在上述涂料中配置上述金属基材和电极板，上述金属基材作为阳极发挥功能，上述电极板作为阴极发挥功能，施加电压。
对于电沉积涂装，使电压为100V、浴温为26～32℃、通电时间为3分钟，使用旋转式搅拌机，使涂料为搅拌状态进行涂装。涂料的固体成分浓度为15重量％、pH为8.0～9.5。
(4)干燥和固化
通过在干燥机内在160℃下对于通过上述(3)的工序涂布有涂料的金属基材加热60分钟，对形成在金属基材的表面的涂料的涂膜进行干燥、固化。
(5)脱脂
在上述(4)的工序之后，利用加热炉在400℃下对上述金属基材加热60分钟，从而使涂膜所含有的电沉积树脂烧失。
从上述(4)干燥和固化的工序中的加热温度(160℃)直至本工序中的加热温度(400℃)为止的升温速度为4.0℃/分钟。
(6)烧制
在上述(5)的工序之后，利用加热炉在850℃下对上述金属基材加热20分钟，从而对涂膜实施烧制处理。
从上述(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)直至本工序中的加热温度(850℃)为止的升温速度为9.0℃/分钟。
通过进行以上的工序，可以制造在金属基材的表面上形成了表面被覆层的涂料的烧结样品。
(实施例2)
在实施例1的(1)涂料的制作工序中，使无机颗粒粉末的混合量为0重量份，在涂料中不含有无机颗粒；并使无机玻璃颗粒粉末的混合量为100重量份，除此以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
(实施例3)
除使升温速度加快以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
从(4)干燥和固化的工序中的加热温度(160℃)直至(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)为止的升温速度为15.0℃/分钟。
从(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)直至(6)烧制的工序中的加热温度(850℃)为止的升温速度为25.0℃/分钟。
(实施例4)
除使升温速度加快以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
从(4)干燥和固化的工序中的加热温度(160℃)直至(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)为止的升温速度为10.0℃/分钟。
从(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)直至(6)烧制的工序中的加热温度(850℃)为止的升温速度为15.0℃/分钟。
(实施例5)
除使升温速度减慢以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
从(4)干燥和固化的工序中的加热温度(160℃)直至(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)为止的升温速度为2.0℃/分钟。
从(5)脱脂的工序中的加热温度(400℃)直至(6)烧制的工序中的加热温度(850℃)为止的升温速度为4.0℃/分钟。
(实施例6)
在实施例1的(1)涂料的制作工序中，使用平均粒径为3.8μm的无机颗粒以及平均粒径为4.3μm的无机玻璃颗粒，除此以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
(参考例1)
在实施例1的(1)涂料制作的工序中，作为有机结合材不使用阴离子型电沉积树脂而是使用甲基纤维素(Kishida Chemical制甲基纤维素25)；使用平均粒径为3.8μm的无机颗粒以及平均粒径为4.3μm的无机玻璃颗粒；在(3)涂膜的形成工序中，不进行涂料的电沉积涂装而是通过喷涂(雾化涂装)进行涂装；并且，不经过上述(5)脱脂的工序就进行上述(6)烧制的工序；除此以外，通过进行与实施例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
从(4)干燥和固化的工序中的加热温度(160℃)直至(6)烧制的工序中的加热温度(850℃)为止的升温速度为9.0℃/分钟。
其后，使用切割器，在涂料的烧结样品的纵横两个方向以密度30根/cm划上棋盘格状的划痕(キズ)，由此在涂料的烧结样品上形成凹区域。
(比较例1)
通过进行与参考例1相同的工序来制作涂料的烧结样品，但是并未进行使用切割器来在涂料的烧结样品的纵横两个方向划上棋盘格状的划痕，因而在涂料的烧结样品上未形成凹区域。另外，比较例1的烧结样品相当于现有技术(例如专利文献1和2所述的技术)。
(比较例2)
在比较例1的(1)涂料制作工序中，使无机颗粒粉末的混合量为0重量份，在涂料中不含有无机颗粒；并使无机玻璃颗粒粉末的混合量为100重量份，除此以外，通过进行与比较例1相同的工序来制作涂料的烧结样品。
对于实施例1～6、参考例1以及比较例1～2中各自的涂料的烧结样品，将涂料的组成和涂料的烧结样品的制造工序一并示于表1。

Claims (11)

1.一种排气管，其具备金属基材和形成在所述金属基材的表面上的表面被覆层，该排气管的特征在于，
所述表面被覆层含有无机玻璃基材和无机颗粒；
在所述表面被覆层的表面存在有低于第一基准面的凹区域，所述第一基准面具有所述表面被覆层的表面的平均高度；
在所述凹区域的周边部存在有凸状部，该凸状部包围所述凹区域，所述凸状部高于所述第一基准面；
所述排气管的制造方法包括：
制作含有无机玻璃颗粒、电沉积树脂和无机颗粒的涂料；
通过电沉积涂装将制作的涂料涂装在准备的金属基材的表面；
通过在100℃～200℃的温度下对涂布有涂料的金属基材进行加热，对形成在金属基材的表面上的涂料的涂膜进行干燥的同时进行固化；
然后，将所述金属基材在电沉积树脂的烧失温度以上的温度进行加热，从而使电沉积树脂烧失；
然后，将所述金属基材在所述无机玻璃颗粒的软化点以上的温度进行加热。
2.如权利要求1所述的排气管，其中，设所述表面被覆层的表面高度的最大值为Hmax、设所述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设Hmax与Hmin的差为H时，所述凸状部高于具有(Hmax-H×1/3)的高度的第二基准面。
3.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述凹区域从垂直于所述金属基材的表面的方向观察到的形状实质上为圆形。
4.如权利要求1或2所述的排气管，其中，设所述表面被覆层的表面高度的最小值为Hmin、设具有Hmin高度的面与所述金属基材的表面的距离为d时，d>0。
5.如权利要求4所述的排气管，其中，d≧2μm。
6.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述凹区域从垂直于所述金属基材的表面的方向观察到的形状实质上是直径为3μm～2000μm的圆形。
7.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述凹区域的密度为10个/cm2～107个/cm2。
8.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述无机颗粒的平均粒径为3μm以下。
9.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述无机颗粒的颗粒间距离的平均值为3μm以下。
10.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述无机颗粒为过渡金属的氧化物。
11.如权利要求1或2所述的排气管，其中，所述无机玻璃基材的软化点为300℃～1000℃。
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