CN102534621A - 一种酸性蚀刻液的处理方法 - Google Patents
一种酸性蚀刻液的处理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102534621A CN102534621A CN2012100396809A CN201210039680A CN102534621A CN 102534621 A CN102534621 A CN 102534621A CN 2012100396809 A CN2012100396809 A CN 2012100396809A CN 201210039680 A CN201210039680 A CN 201210039680A CN 102534621 A CN102534621 A CN 102534621A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- acid
- mixing solutions
- acidic
- solution
- etch processes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Weting (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100396809A CN102534621B (zh) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 一种酸性蚀刻液的处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100396809A CN102534621B (zh) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 一种酸性蚀刻液的处理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102534621A true CN102534621A (zh) | 2012-07-04 |
CN102534621B CN102534621B (zh) | 2013-11-13 |
Family
ID=46342609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012100396809A Active CN102534621B (zh) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 一种酸性蚀刻液的处理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102534621B (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102778532A (zh) * | 2012-08-10 | 2012-11-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 铝蚀刻液混酸浓度的电位滴定方法 |
CN103213991A (zh) * | 2013-04-28 | 2013-07-24 | 苏州晶瑞化学有限公司 | 电子级混合废酸回收及循环利用技术 |
WO2015070478A1 (zh) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种混酸溶液的电位滴定方法 |
CN105800946A (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-27 | 成都工投电子科技有限公司 | 一种平板显示用玻璃蚀刻液 |
CN105891409A (zh) * | 2016-05-26 | 2016-08-24 | 沈阳富创精密设备有限公司 | 检测硫酸、磷酸化学抛光液中硫酸、磷酸浓度的方法 |
CN108493295A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-09-04 | 苏州晶瑞化学股份有限公司 | 一种太阳能硅片制绒溶液的循环利用方法 |
CN109406433A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-03-01 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中硝酸含量的方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1154723A (zh) * | 1995-05-12 | 1997-07-16 | 株式会社艾恩 | 废蚀刻液重复使用的方法 |
CN1379288A (zh) * | 2001-04-03 | 2002-11-13 | 三菱化学株式会社 | 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法 |
CN1523451A (zh) * | 2003-02-18 | 2004-08-25 | 友达光电股份有限公司 | 一种蚀刻方法 |
CN101140374A (zh) * | 2006-09-08 | 2008-03-12 | 三星电子株式会社 | 蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法 |
CN101170063A (zh) * | 2006-10-26 | 2008-04-30 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液管理装置 |
CN101538715A (zh) * | 2009-04-15 | 2009-09-23 | 苏州市飞莱克斯电路电子有限公司 | 柔性线路板蚀刻液浓度控制装置 |
CN101567309A (zh) * | 2008-04-22 | 2009-10-28 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液调合装置及蚀刻液浓度测定装置 |
CN101667040A (zh) * | 2008-09-02 | 2010-03-10 | 浩硕科技股份有限公司 | 蚀刻液浓度控制方法 |
JP2010152155A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び被エッチング基体の製造方法 |
CN101833341A (zh) * | 2010-05-19 | 2010-09-15 | 四川超声印制板有限公司 | 碱性蚀刻ph值自动控制系统及其控制方法 |
CN201749376U (zh) * | 2010-06-12 | 2011-02-16 | 东莞森玛仕格里菲电路有限公司 | 一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置 |
CN102127765A (zh) * | 2011-01-14 | 2011-07-20 | 广州有色金属研究院 | 一种酸性蚀刻废液循环再生系统 |
CN102164456A (zh) * | 2011-04-11 | 2011-08-24 | 常州大学 | 印制线路板蚀刻工艺的自动化控制方法 |
-
2012
- 2012-02-21 CN CN2012100396809A patent/CN102534621B/zh active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1154723A (zh) * | 1995-05-12 | 1997-07-16 | 株式会社艾恩 | 废蚀刻液重复使用的方法 |
CN1379288A (zh) * | 2001-04-03 | 2002-11-13 | 三菱化学株式会社 | 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法 |
CN1523451A (zh) * | 2003-02-18 | 2004-08-25 | 友达光电股份有限公司 | 一种蚀刻方法 |
CN101140374A (zh) * | 2006-09-08 | 2008-03-12 | 三星电子株式会社 | 蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法 |
CN101170063A (zh) * | 2006-10-26 | 2008-04-30 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液管理装置 |
CN101567309A (zh) * | 2008-04-22 | 2009-10-28 | 株式会社平间理化研究所 | 蚀刻液调合装置及蚀刻液浓度测定装置 |
CN101667040A (zh) * | 2008-09-02 | 2010-03-10 | 浩硕科技股份有限公司 | 蚀刻液浓度控制方法 |
JP2010152155A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び被エッチング基体の製造方法 |
CN101538715A (zh) * | 2009-04-15 | 2009-09-23 | 苏州市飞莱克斯电路电子有限公司 | 柔性线路板蚀刻液浓度控制装置 |
CN101833341A (zh) * | 2010-05-19 | 2010-09-15 | 四川超声印制板有限公司 | 碱性蚀刻ph值自动控制系统及其控制方法 |
CN201749376U (zh) * | 2010-06-12 | 2011-02-16 | 东莞森玛仕格里菲电路有限公司 | 一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置 |
CN102127765A (zh) * | 2011-01-14 | 2011-07-20 | 广州有色金属研究院 | 一种酸性蚀刻废液循环再生系统 |
CN102164456A (zh) * | 2011-04-11 | 2011-08-24 | 常州大学 | 印制线路板蚀刻工艺的自动化控制方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
《西部皮革》 19860630 纪昌林等 "PVC膜硝酸根电极测定制革废水中硝酸盐氮" 第11-13页 1-7 , 第2期 * |
纪昌林等: ""PVC膜硝酸根电极测定制革废水中硝酸盐氮"", 《西部皮革》, no. 2, 30 June 1986 (1986-06-30), pages 11 - 13 * |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102778532A (zh) * | 2012-08-10 | 2012-11-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 铝蚀刻液混酸浓度的电位滴定方法 |
CN102778532B (zh) * | 2012-08-10 | 2016-03-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 铝蚀刻液混酸浓度的电位滴定方法 |
CN103213991A (zh) * | 2013-04-28 | 2013-07-24 | 苏州晶瑞化学有限公司 | 电子级混合废酸回收及循环利用技术 |
CN103213991B (zh) * | 2013-04-28 | 2015-09-09 | 苏州晶瑞化学股份有限公司 | 电子级混合废酸回收及循环利用技术 |
WO2015070478A1 (zh) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种混酸溶液的电位滴定方法 |
CN105800946A (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-27 | 成都工投电子科技有限公司 | 一种平板显示用玻璃蚀刻液 |
CN105891409A (zh) * | 2016-05-26 | 2016-08-24 | 沈阳富创精密设备有限公司 | 检测硫酸、磷酸化学抛光液中硫酸、磷酸浓度的方法 |
CN108493295A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-09-04 | 苏州晶瑞化学股份有限公司 | 一种太阳能硅片制绒溶液的循环利用方法 |
CN109406433A (zh) * | 2019-01-10 | 2019-03-01 | 惠科股份有限公司 | 一种检测铝蚀刻液中硝酸含量的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102534621B (zh) | 2013-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102534621B (zh) | 一种酸性蚀刻液的处理方法 | |
Barbosa et al. | Preferential solvation in acetonitrile–water mixtures. Relationship between solvatochromic parameters and standard pH values | |
Ganesh et al. | Potentiometric determination of free acidity in presence of hydrolysable ions and a sequential determination of hydrazine | |
Mylavarapu et al. | Walkley-Black Method | |
SA520420613B1 (ar) | تحديد الطلب الكيميائي على الأكسجين | |
JP2001021548A (ja) | ふっ酸含有溶液中の遊離ふっ素の分析方法および分析装置 | |
CN109633079A (zh) | 一种检测偏钒酸盐溶液中钒和铵含量的方法 | |
CN101839901A (zh) | 化学需氧量快速测定消解液配方 | |
JPH11194120A (ja) | エッチングプロセスにおける混酸液の定量分析方法、定量分析装置およびエッチング制御方法ならびに上記の混酸液の製造方法 | |
CN103645274A (zh) | 测定冷轧乳化液中氯离子含量的方法 | |
CN102353668A (zh) | 一种测定地表水中阴离子表面活性剂的方法 | |
CN106932458B (zh) | 一种硝酸体系高浓度铀溶液中酸度的分析检测方法 | |
CN105067757A (zh) | 一种滴定硫酸根的方法 | |
Takahashi et al. | Elucidation of molybdosilicate complexes in the molybdate yellow method by ESI-MS | |
CN114264769B (zh) | 一种电子级混酸体系的组分浓度检测方法 | |
Henßge et al. | Chemical analysis of acidic silicon etch solutions: I. Titrimetric determination of HNO3, HF, and H2SiF6 | |
CN102507277A (zh) | 一种测定锂的含钙量的试样处理方法 | |
CN108493295A (zh) | 一种太阳能硅片制绒溶液的循环利用方法 | |
CN103900968A (zh) | 带钢表面处理剂中钝化剂总铬含量的分析方法 | |
CN106596877A (zh) | 一种测定水体中化学耗氧量的方法及试剂组合物 | |
CN109633076A (zh) | 退锡水的预处理方法及退锡水中锡含量的测定方法 | |
CN103454234A (zh) | 葡萄糖酸钠母液中测定葡萄糖酸钠含量的方法 | |
CN110057967A (zh) | 一种铝电极箔腐蚀液中铝离子的定量检测方法 | |
JPS5633545A (en) | Method of quantitatively analyzing acid and total iron ion | |
CN103616379A (zh) | 沸石合成废液中四丙基溴化铵含量的快速定量测定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 201108, room 56, 106-108 middle spring road, Shanghai, Minhang District Patentee after: SHANGHAI ZHENGFAN TECHNOLOGY CO., LTD. Patentee after: Shanghai Zhengfan Semiconductor Equipment Co., Ltd. Patentee after: Shanghai Jiao Tong University Address before: 201108, room 56, 106-108 middle spring road, Shanghai, Minhang District Patentee before: Shanghai Zhengfan Technology Co., Ltd. Patentee before: Shanghai Zhengfan Semiconductor Equipment Co., Ltd. Patentee before: Shanghai Jiao Tong University |