JPH11194120A

JPH11194120A - エッチングプロセスにおける混酸液の定量分析方法、定量分析装置およびエッチング制御方法ならびに上記の混酸液の製造方法

Info

Publication number: JPH11194120A
Application number: JP22288898A
Authority: JP
Inventors: Satoro Sawada; 吏郎沢田; Hiromichi Kusano; 弘道草野; Fumie Yachi; 文枝谷地
Original assignee: Nippon Kasei Chemical Co Ltd; Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Nippon Kasei Chemical Co Ltd; Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-08-28
Filing date: 1998-08-06
Publication date: 1999-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】簡易な方法で且つ短時間で各酸成分の濃度を求
めることが出来るエッチングプロセスにおける混酸液の
定量分析方法、定量分析装置およびそれらを利用するこ
とが出来るエッチング制御方法ならびに上記の混酸液の
製造方法を提供する。【解決手段】上記の分析方法は、強酸成分として硝酸を
含み、さらに、フッ酸および／またはその他の強酸（但
し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種とヘキサフロロ珪
酸とを含むエッチングプロセスにおける混酸液の分析方
法であって、非水中和滴定法によりフッ酸および／また
はその他の酸成分の濃度を定量分析し、別途に紫外部吸
光光度法により硝酸の濃度のみを定量分析し、硝酸、フ
ッ酸および／または上記のその他の強酸成分の各濃度を
区分して求める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エッチングプロセ
スにおける混酸液の定量分析方法、定量分析装置および
エッチング制御方法ならびに上記の混酸液の製造方法に
関するものでありる。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体回路の形成に使用するシリ
コンウェハーのエッチングには、通常、フッ酸、硝酸、
酢酸の混酸液や、更に必要により、リン酸および硫酸を
組み合わせた混酸液が使用されている。これらの配合比
は処理設備の種類などにより異なっている。上記の混酸
液がエッチング処理に使用された場合、その中の硝酸お
よびフッ酸などの一部の成分は消費されて各酸の比率が
変化し、エッチング効果が変化する。

【０００３】そのため、使用後のエッチング用の混酸液
に硝酸およびフッ酸などの消費量を補充し、常時同じエ
ッチング状態を保つ様に配慮しているが、従来、使用済
み混酸液の各成分の定量分析が別々の滴定法により行う
必要があって煩雑であり、長時間かかるため、その補充
量の決定は、担当者の経験により判断している場合が多
い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、簡易な方法で且
つ短時間で各酸成分の濃度を求めることが出来るエッチ
ングプロセスにおける混酸液の定量分析方法、定量分析
装置を提供することにある。そして、本発明の他の目的
は、工業的に有利なエッチング制御方法ならびに上記の
混酸液の製造方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため種々検討した結果、上記の混酸液の組
成分析を行うに当たって、特定の定量分析方法を組み合
わせることにより、混酸液が構成される各酸成分の濃度
を少ない分析手段で且つ短時間で区別して求めることが
出来ることに想到し、本発明を達成したものである。ま
た、同時に、本発明者らは、特定手段の採用により、工
業的に有利なエッチング制御方法ならびに上記の混酸液
の製造方法を達成し得るとの知見を得た。

【０００６】すなわち、本発明の第１の要旨は、強酸成
分として硝酸を含み、さらに、フッ酸および／またはそ
の他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種と
ヘキサフロロ珪酸とを含むエッチングプロセスにおける
混酸液の分析方法であって、非水中和滴定法によりフッ
酸および／またはその他の酸成分の濃度を定量分析し、
別途に紫外部吸光光度法により硝酸の濃度のみを定量分
析し、次に示す（１）〜（３）の方法により、硝酸、フ
ッ酸および／または上記のその他の強酸成分の各濃度を
区分して求めることを特徴とするエッチングプロセスに
おける混酸液の定量分析方法に存する。

【０００７】（１）混酸液が強酸成分として硝酸および
フッ酸のみを含む場合、上記の非水中和滴定法により硝
酸の濃度とヘキサフロロ珪酸の濃度との合計濃度、およ
び、フッ酸の濃度を区分して得、当該合計濃度から上記
の紫外部吸光光度法による硝酸の濃度を差し引いてヘキ
サフロロ珪酸の濃度を得ることにより、硝酸、フッ酸お
よびヘキサフロロ珪酸の各濃度を区分して求める。

【０００８】（２）混酸液が強酸成分として硝酸、フッ
酸およびその他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除
く）の１種を含み、当該その他の強酸が硫酸またはリン
酸の場合、上記の非水中和滴定法により硝酸の濃度とヘ
キサフロロ珪酸の濃度と硫酸またはリン酸の濃度との合
計濃度およびフッ酸の濃度を区分して得、更にドライア
ップ法定量分析により上記の硫酸またはリン酸の濃度を
得、当該合計濃度から上記の紫外部吸光光度法による硝
酸の濃度およびドライアップ法定量分析による硫酸また
はリン酸の濃度を差し引いてヘキサフロロ珪酸の濃度を
得ることにより、硝酸、フッ酸、硫酸またはリン酸、お
よび、ヘキサフロロ珪酸の濃度を区分して求める。

【０００９】（３）混酸液が強酸成分として硝酸および
その他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種
のみを含む場合、上記の非水中和滴定法により得られる
硝酸の濃度と上記のその他の強酸との合計濃度から上記
の紫外部吸光光度法による硝酸の濃度を差し引いて上記
のその他の強酸の濃度を得ることにより、硝酸および上
記のその他の強酸の濃度を区分して求める。

【００１０】そして、本発明の第２の要旨は、強酸成分
として硝酸を含み、さらに、フッ酸および／またはその
他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種を含
むエッチングプロセスにおける混酸液の分析装置であっ
て、非水中和滴定法によりフッ酸および／または上記の
その他の強酸の濃度を定量分析する手段と、別途に紫外
部吸光光度法により硝酸の濃度を定量分析する手段とを
備えていることを特徴とするエッチングプロセスにおけ
る混酸液の定量分析装置に存する。

【００１１】本発明の第３の要旨は、強酸成分として硝
酸を含み、さらに、フッ酸および／またはその他の強酸
（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種を含む混酸液
によりシリコンウエハーをエッチング処理し、その後の
混酸液を定量分析し、当該組成の定量分析結果に基づい
て、濃度が低下した各酸成分をエッチング工程に補充す
ることを特徴とするエッチング制御方法に存する。

【００１２】そして、本発明の第４の要旨は、シリコン
ウエハーのエッチングプロセスに使用される混酸液の製
造方法であって、エッチング工程から排出され、強酸成
分として硝酸を含み、さらに、フッ酸および／またはそ
の他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種と
ヘキサフロロ珪酸とを含む混酸液に上記のエッチング工
程で濃度が低下した各酸成分を添加することを特徴とす
る、エッチングプロセスにおける混酸液の製造方法に存
する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の定量分析方法は本発明の定量分析装置において
使用され、本発明の定量分析装置は本発明のエッチング
制御方法において使用することが出来るため、以下の説
明は、本発明のエッチング制御方法に基づいて行う。そ
して、その後に本発明における混酸液の製造方法につい
て説明す。

【００１４】上記のエッチング制御方法は、シリコンウ
エハーをエッチング処理し、その後の混酸液を定量分析
し、当該組成の定量分析結果に基づいて、濃度が低下し
た各酸成分をエッチング工程に補充することから成る。

【００１５】上記のエッチング処理は、通常、シリコン
ウエハーの製造の際にシリコンウエハー研磨工程で行わ
れる処理である。上記のエッチング処理用混酸液は、硝
酸を含み、さらに、フッ酸および／またはその他の強酸
（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種を含み、通
常、さらに、弱酸である酢酸が併用される。そして、必
要により更にリン酸、硫酸などが併用される。

【００１６】そして、エッチング処理前の混酸液が硝酸
の他にフッ酸を含む場合、上記のエッチング処理用混酸
液の酸成分の他に、エッチング処理によりエッチングの
対象素材であるシリコンとの反応生成物であるヘキサフ
ロロ珪酸が生成され、上記のエッチング処理後の混酸液
にはヘキサフロロ珪酸が含有される。

【００１７】上記のエッチング処理後の混酸液の定量分
析は、シリコンウエハーのエッチング処理後の混酸液の
硝酸、フッ酸および／またはその他の強酸および弱酸の
濃度を非水中和滴定法により定量分析し、別途に紫外部
吸光光度法により硝酸の濃度のみを定量分析する。

【００１８】上記のエッチング処理後の混酸液中の硝酸
の濃度は、通常３０〜６０重量％、好ましくは３５〜４
５重量％であり、フッ酸の濃度は、通常２〜２０重量
％、好ましくは２〜１５重量％であり、酢酸の濃度は、
通常１０〜３０重量％、好ましくは１５〜２５重量％、
ヘキサフロロ珪酸の濃度は、通常１〜１０重量％、好ま
しくは３〜６重量％、水の濃度は、通常２０〜４０重量
％、好ましくは３０〜３５重量％である。

【００１９】上記の非水中和滴定法とは、基本的には、
エッチング処理後の混酸液中の滴定対象成分を溶解する
溶媒として非水溶媒を使用する中和滴定法である。上記
の非水溶媒としては、例えば、ベンゼン、ジオキサン、
アセトン、アセトニトリル、炭化水素、クロロホルム、
クロルベンゼン、メチルイソブチルケトン、エーテル、
塩化チオニル、ニトロメタン等が挙げられるが、中でも
アセトンが実用的である。

【００２０】そして、エッチング処理後の混酸液を上記
の非水溶媒に溶解した滴定試料溶液中の各滴定対象成分
（酸成分）の濃度は、全酸として、通常１〜１００ミリ
当量、好ましくは１０〜２５ミリ当量である。また、上
記の滴定試料溶液中には少量の水が含有される。含有さ
れる水の量は、通常１〜１０重量％、好ましくは２〜５
重量％とされる。

【００２１】上記の非水中和滴定法に使用する滴定標準
液としては、例えば、水酸化ナトリウムのアルコール溶
液が使用される。斯かるアルコールとしては、通常、エ
タノールが好適に使用される。また、上記の滴定標準液
の水酸化ナトリウム濃度は、例えば、１／１０規定
（Ｎ）とされる。

【００２２】上記の非水中和滴定法による具体的な分析
方法としては、電位差滴定法が実用的である。そして、
その測定には、公知の測定装置を使用することが出来
る。

【００２３】上記の非水中和滴定を電位差滴定法で行っ
た場合、滴定試料溶液に滴定標準液を滴下するに連れて
滴定試料溶液中の成分による電位差が変化し、滴定標準
液の滴下量に対して下降する電位差曲線を描く。電位差
滴定法においては、変曲点電位を示すときを滴定の当量
点として判断する。

【００２４】上記の非水中和滴定において、フッ酸と酢
酸の濃度は、硝酸などの強酸の濃度とそれぞれ区分して
求めることが出来る。ところで、硝酸とヘキサフロロ珪
酸の濃度は、それらの電位差曲線が重畳するため、区分
して得ることが出来ない。そこで、本発明においては、
上記の非水中和滴定法による定量分析の他に、別途に紫
外部吸光光度法により硝酸の濃度の定量分析を行う。

【００２５】紫外部吸光光度法は、通常３０２．０ｎｍ
付近の波長の光における滴定試料溶液の吸光度を求め、
吸光度から硝酸の濃度を求める方法である。紫外部吸光
光度法による硝酸の濃度の測定では、他の混在物質の存
在による影響が無く、硝酸のみの定量分析が出来る。上
記の紫外部吸光光度法による具体的な測定は、公知の方
法により行うことが出来る。

【００２６】上記の非水中和滴定法による定量分析結果
と紫外部吸光光度法による定量分析結果とから、次に示
す（１）〜（３）の方法により、硝酸、フッ酸および／
またはその他の強酸成分の濃度を区分して求めることが
出来る。

【００２７】（１）混酸液が強酸成分として硝酸および
フッ酸のみを含む場合、上記の非水中和滴定法により硝
酸の濃度とヘキサフロロ珪酸の濃度との合計濃度、およ
び、フッ酸の濃度を区分して得、当該合計濃度から上記
の紫外部吸光光度法による硝酸の濃度を差し引いてヘキ
サフロロ珪酸の濃度を得ることにより、硝酸、フッ酸お
よびヘキサフロロ珪酸の各濃度を区分して求める。

【００２８】（２）混酸液が強酸成分として硝酸、フッ
酸およびその他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除
く）の１種を含み、当該その他の強酸が硫酸またはリン
酸の場合、上記の非水中和滴定法により硝酸の濃度とヘ
キサフロロ珪酸の濃度と硫酸またはリン酸の濃度との合
計濃度およびフッ酸の濃度を区分して得、更にドライア
ップ法定量分析により上記の硫酸またはリン酸の濃度を
得る。

【００２９】そして、上記の合計濃度から上記の紫外部
吸光光度法による硝酸の濃度およびドライアップ法定量
分析による硫酸またはリン酸の濃度を差し引いてヘキサ
フロロ珪酸の濃度を得ることにより、硝酸、フッ酸、硫
酸またはリン酸、および、ヘキサフロロ珪酸の濃度を区
分して求める。

【００３０】上記のドライアップ法は、滴定試料溶液を
煮沸水浴上で加熱することにより、不揮発性である硫酸
またはリン酸以外の酸を追い出した後、上記の非水中和
滴定法またはその他の適宜の方法により硫酸またはリン
酸の濃度を定量分析する分析方法である。この方法によ
り、硫酸またはリン酸の濃度のみを求めることが出来
る。

【００３１】（３）混酸液が強酸成分として硝酸および
その他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種
のみを含む場合、上記の非水中和滴定法により得られる
硝酸の濃度と上記のその他の強酸との合計濃度から上記
の紫外部吸光光度法による硝酸の濃度を差し引いて上記
のその他の強酸の濃度を得ることにより、硝酸および上
記のその他の強酸の濃度を区分して求める。

【００３２】前記のエッチング処理により濃度が低下し
た各酸成分のエッチング工程への補充量は、エッチング
処理用混酸液の定量分析値または規格値とエッチング処
理後の混酸液の定量分析値とを比較して求められる濃度
差とエッチング処理用混酸液量との積として求めること
が出来る。

【００３３】この際、エッチング処理後の混酸液中に
は、エッチング処理に伴う化学反応により強酸であるヘ
キサフロロ珪酸が生成され、蓄積されて含有されている
が、このヘキサフロロ珪酸は、エッチング処理用混酸液
の更新などの方法により適宜処理することが出来る。な
お、上記の化学反応により、ヘキサフロロ珪酸と共に水
が生成し、硝酸およびフッ酸が消費される。そして、酢
酸は、消費されないが、ヘキサフロロ珪酸および水の生
成に伴い濃度が低下する。

【００３４】前記の非水中和滴定法によりフッ酸および
／またはその他の酸成分の濃度の定量分析に使用する手
段としては、電位差滴定法による測定装置が好ましく、
中でも自動測定型測定装置が好ましい。斯かる装置とし
ては、公知の装置を採用することが出来る。

【００３５】また、前記の紫外部吸光光度法により硝酸
の濃度の定量分析に使用する手段としては、公知の紫外
部吸光光度法分析装置が挙げられる。そして、上記の両
手段を具現する装置としては、上記の二つの手段を兼備
した装置であってもよいし、上記の各々の手段が備えら
れた装置をセットとしたものでもよい。

【００３６】なお、弱酸である酢酸を含む場合は、上記
の非水中和滴定法により強酸の濃度と同時に酢酸の濃度
を区分して求めることが出来る。

【００３７】そして、本発明のエッチング制御方法は、
エッチング処理後の混酸液がエッチング工程に循環され
ない回分式またはエッチング処理後の混酸液がエッチン
グ工程に循環される連続式の何れの方法で行ってもよ
い。そして、濃度が低下した各酸成分（硝酸、フッ酸、
酢酸）のエッチング工程（エッチング槽）への補充は、
次の様に行われる。すなわち、回分式の場合は、エッチ
ング工程に直接添加する方法が採用され、連続式の場合
は、上記の他、エッチング工程に循環される混酸液に添
加する方法を採用することも出来る。この場合、各酸成
分は、循環される混酸液に各別に添加してもよいし、予
め混合した後に添加してもよい。なお、連続式の場合、
ヘキサフロロ珪酸および水のエッチング工程への過剰な
蓄積を防止するため、エッチング工程の混酸液の一部は
適宜抜き出される。

【００３８】次に、本発明における混酸液の製造方法に
ついて説明する。本発明においては、エッチング工程か
ら排出され、強酸成分として硝酸を含み、さらに、フッ
酸および／またはその他の強酸（但し、硝酸およびフッ
酸を除く）の１種とヘキサフロロ珪酸とを含む混酸液に
上記のエッチング工程で濃度が低下した各酸成分を添加
する。斯かる操作それ自体は、上記の連続式エッチング
制御方法の中に包含されている。

【００３９】ところで、例えば、前述した様な、硝酸、
フッ酸、酢酸、ヘキサフロロ珪酸および水を含有する高
純度混酸液は、原料の一つとして高純度シリカを使用す
ることによって製造することが出来る。例えば、硝酸、
フッ酸、酢酸の混酸液に上記のシリカを添加してヘキサ
フロロ珪酸を生成させる。

【００４０】しかしながら、上記の製造方法による場合
は、高純度シリカが高価であるために経済的ではなく、
また、硝酸の酸化作用によって窒素酸化物含有ガスが発
生して環境上の問題がある。斯かる環境上の問題は、硝
酸を含まない混酸液にシリカを添加した後に硝酸を添加
する方法によって回避することが出来るが、この場合
は、２段階の混合溶解操作が必要となる不利益がある。

【００４１】これに対し、本発明の製造方法によれば、
上記の様な不利益が一挙に解消され、しかも、エッチン
グ工程から排出される使用済みの混酸液が有効利用され
る等の著しい経済的効果が得られる。また、強酸成分を
含む混酸液の排出量が大幅に低減されるため、環境問題
上における効果も非常に大きい。

【００４２】上述のエッチング制御方法ならびに混酸液
の製造方法においては、必要な分析方法として、本発明
の定量分析方法以外の他の方法を採用してもよい。

【００４３】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。

【００４４】実施例１硝酸、フッ酸および酢酸をそれぞれ、３９．３重量％、
１１．４重量％及び２０．９重量％含有し、残余が水で
あるエッチング処理用混酸液（３種混酸液）を使用して
シリコンウエハーのエッチング処理を行った。その後、
処理後の混酸液を次の様に希釈して分析試料に供した。
先ず、容量１００ｍｌのポリエチレン製瓶に脱炭酸水約
１００ｍｌを精確に秤り採り、これに上記のエッチング
処理後の混酸液４ｍｌをピペットで精確に秤量して添加
した後、よく振って混合して滴定試料溶液を調製した。

【００４５】別に容量１００ｍｌのポリエチレン製ビー
カーに上記の滴定試料溶液約２ｍｌを精秤して採り、更
にアセトン約７０ｍｌを加え、テフロン被覆回転子を静
かに入れ、非水中和自動滴定装置（三菱化学会社製製
品、商品名「ＧＴ−０７」）にセットし、ビーカーをシ
ーラーで覆った後、窒素ガスを流しつつ１／１０規定の
ＮａＯＨエタノール標準液を使用して滴定した。

【００４６】その結果、滴下量−電位差曲線は、硝酸と
ヘキサフロロ珪酸、フッ酸、酢酸の当量点に対応する三
つの変曲点を示した。それぞれの変曲点の電位差は、そ
れぞれ、１３５ｍＶ、−３８ｍＶ、−３７９ｍＶであ
り、その時の滴下量は、それぞれ、１１．０８ｍｌ、
５．６２ｍｌ、５．２２ｍｌであった。これらの滴下量
は、処理後の混酸液の希釈前の硝酸とヘキサフロロ珪酸
混合濃度、フッ酸の濃度および酢酸の濃度は、それぞれ
３９．３重量％、７．５重量％及び２０．９重量％に相
当していた。

【００４７】また、別に、上記の処理後混酸液１．７ｍ
ｌに水２５０ｍｌを加えて希釈し、紫外部吸光光度法
（日立製作所製品、商品名「ｕ−２００１」）を使用し
て３０２．０ｎｍの硝酸に固有の波長の光源により吸光
度を測定した。その結果、エッチング処理後の混酸液の
希釈前の硝酸の濃度は３４．５重量％であった。

【００４８】以上の結果から、エッチング処理後の混酸
液中の硝酸、フッ酸、酢酸およびヘキサフロロ珪酸の濃
度は、それぞれ３４．５重量％、７．５重量％、２０．
９重量％及び４．６重量％であり、残余は水であった。
この濃度をエッチング処理前の混酸液中の硝酸、フッ
酸、酢酸およびヘキサフロロ珪酸の濃度と比較すると、
硝酸が−４．８重量％、フッ酸が−３．９重量％、酢酸
が−１．０重量％、ヘキサフロロ珪酸が＋４．６重量％
の増減であった。

【００４９】以上の結果に基づき、上記のエッチング処
理後の混酸液中に上記の増減に従って、硝酸、フッ酸お
よび酢酸を補充した。そして、再びシリコンウエハーの
エッチング処理に供した。なお、上記のエッチング処理
後の混酸液の一部は、ヘキサフロロ珪酸の過剰な蓄積を
防止するため、定期的にパージした。

【００５０】

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、エッチン
グプロセスにおける混酸液の組成分析を行うに当たっ
て、特定の条件による非水中和滴定法および紫外部吸光
光度法、必要により更にドライアップ法を組み合わせる
ことにより、混酸液の各成分の濃度を簡易に且つ短時間
で求めることが出来る定量分析方法、定量分析装置が提
供される。また、本発明によれば、工業的に有利なエッ
チング制御方法ならびに上記の混酸液の製造方法が提供
される。従って、本発明の工業的価値は大きい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者谷地文枝福島県いわき市小名浜字高山34番地日本化成株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】強酸成分として硝酸を含み、さらに、フ
ッ酸および／またはその他の強酸（但し、硝酸およびフ
ッ酸を除く）の１種とヘキサフロロ珪酸とを含むエッチ
ングプロセスにおける混酸液の分析方法であって、非水
中和滴定法によりフッ酸および／またはその他の酸成分
の濃度を定量分析し、別途に紫外部吸光光度法により硝
酸の濃度のみを定量分析し、次に示す（１）〜（３）の
方法により、硝酸、フッ酸および／または上記のその他
の強酸成分の各濃度を区分して求めることを特徴とする
エッチングプロセスにおける混酸液の定量分析方法。
（１）混酸液が強酸成分として硝酸およびフッ酸のみを
含む場合、上記の非水中和滴定法により硝酸の濃度とヘ
キサフロロ珪酸の濃度との合計濃度、および、フッ酸の
濃度を区分して得、当該合計濃度から上記の紫外部吸光
光度法による硝酸の濃度を差し引いてヘキサフロロ珪酸
の濃度を得ることにより、硝酸、フッ酸およびヘキサフ
ロロ珪酸の各濃度を区分して求める。（２）混酸液が強酸成分として硝酸、フッ酸およびその
他の強酸（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種を含
み、当該その他の強酸が硫酸またはリン酸の場合、上記
の非水中和滴定法により硝酸の濃度とヘキサフロロ珪酸
の濃度と硫酸またはリン酸の濃度との合計濃度およびフ
ッ酸の濃度を区分して得、更にドライアップ法定量分析
により上記の硫酸またはリン酸の濃度を得、当該合計濃
度から上記の紫外部吸光光度法による硝酸の濃度および
ドライアップ法定量分析による硫酸またはリン酸の濃度
を差し引いてヘキサフロロ珪酸の濃度を得ることによ
り、硝酸、フッ酸、硫酸またはリン酸、および、ヘキサ
フロロ珪酸の濃度を区分して求める。（３）混酸液が強酸成分として硝酸およびその他の強酸
（但し、硝酸およびフッ酸を除く）の１種のみを含む場
合、上記の非水中和滴定法により得られる硝酸の濃度と
上記のその他の強酸との合計濃度から上記の紫外部吸光
光度法による硝酸の濃度を差し引いて上記のその他の強
酸の濃度を得ることにより、硝酸および上記のその他の
強酸の濃度を区分して求める。
【請求項２】強酸成分として硝酸を含み、さらに、フ
ッ酸および／またはその他の強酸（但し、硝酸およびフ
ッ酸を除く）の１種を含むエッチングプロセスにおける
混酸液の分析装置であって、非水中和滴定法によりフッ
酸および／または上記のその他の強酸の濃度を定量分析
する手段と、別途に紫外部吸光光度法により硝酸の濃度
を定量分析する手段とを備えていることを特徴とするエ
ッチングプロセスにおける混酸液の定量分析装置。
【請求項３】強酸成分として硝酸を含み、さらに、フ
ッ酸および／またはその他の強酸（但し、硝酸およびフ
ッ酸を除く）の１種を含む混酸液によりシリコンウエハ
ーをエッチング処理し、その後の混酸液を定量分析し、
当該組成の定量分析結果に基づいて、濃度が低下した各
酸成分をエッチング工程に補充することを特徴とするエ
ッチング制御方法。
【請求項４】エッチング処理後の混酸液がエッチング
工程に循環され、そして、エッチング工程への各酸成分
の補充が当該エッチング工程に循環される混酸液に添加
することにより行われる請求項３に記載のエッチング制
御方法。
【請求項５】定量分析が請求項１に記載の定量分析法
で行われる請求項３又は４に記載のエッチング制御方
法。
【請求項６】シリコンウエハーのエッチングプロセス
に使用される混酸液の製造方法であって、エッチング工
程から排出され、強酸成分として硝酸を含み、さらに、
フッ酸および／またはその他の強酸（但し、硝酸および
フッ酸を除く）の１種とヘキサフロロ珪酸とを含む混酸
液に上記のエッチング工程で濃度が低下した各酸成分を
添加することを特徴とする、エッチングプロセスにおけ
る混酸液の製造方法。
【請求項７】エッチング工程で濃度が低下した酸成分
の分析に請求項１に記載の定量分析法を使用する請求項
６に記載の混酸液の製造方法。