CN102458819A - 回射光学构造 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了回射光学构造。本发明所公开的回射光学构造包括:回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;和光学膜,所述光学膜设置在所述回射层的所述回射结构化主表面上。所述光学膜的光学雾度为不小于约30%。所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。
Description
技术领域
本发明整体涉及包括低折射率多孔光学膜的回射光学制品。本发明还适用于包括光学漫射膜的回射光学制品,所述光学漫射膜显示具有某些低折射率类特性。
发明背景
回射片材将入射光朝起源光源回射。回射片材常常用于(例如)交通标志、汽车牌照、路障和安全衣服中,以改善或增强它们在不良照明条件中的可见性。
立体角常常用于回射片材中。通常,立体角包括在单个顶点处相交的三个相互垂直的光学面。通常,从光源入射在立体角上的光从三个垂直的立体角光学面中的每一个都发生全内反射,并朝光源重新导向返回。在光学面上存在的(例如)灰尘、水和粘合剂可抑制全内反射(TIR)并导致回射光强度降低。这样,空气界面通常被密封膜所保护,但这种膜通常减少了总活性区域,该总活性区域为其上可以发生回射的区域。金属化立体角不依赖于回射光的TIR,但它们对于(例如)标记应用的日间观察而言通常不足够白。此外,金属涂层的耐久性也可能不充分。
发明内容
一般来讲,本发明涉及回射光学构造。在一个实施例中,光学构造包括:回射层,其具有回射结构化主表面;光学膜,其设置在回射结构化主表面上,并且其有效折射率为不大于约1.3;以及光学漫射层,其设置在光学膜上,并且其光学雾度为不小于约30%。回射光学构造中的每两个相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。在一些情况下,光学膜的有效折射率为不大于约1.2、或不大于约1.15、或不大于约1.1。在一些情况下,光学漫射层的光学雾度为不小于约50%、或不小于约70%、或不小于约90%。在一些情况下,回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少50%、或至少70%、或至少90%都彼此直接接触。在一些情况下,光学膜基本上使回射层平面化。在一些情况下,光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个互连空隙,其中光学膜中的多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%,并且粘结剂与多个粒子的重量比为不小于约1∶1。
在另一个实施例中,回射光学构造包括:回射层,其具有回射结构化主表面;以及光学膜,其设置在回射层的回射结构化主表面上,并且其光学雾度为不小于约30%。回射光学构造中的每两个相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。在一些情况下,回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少50%、或至少70%、或至少90%都彼此直接接触。在一些情况下,光学膜包含多个粒子和多个互连空隙,其中光学膜中的多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%,并且多个粒子与粘结剂的重量比范围为约2∶1至约6∶1。
在另一个实施例中,回射光学构造包括:回射层,其具有回射结构化主表面;以及光学膜,其设置在回射结构化主表面的第一部分上。光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个空隙。对于0.2度的观察角和-4度的入射角,回射结构化主表面的第一部分显示具有不小于约50cd/(lux·m2)的回射系数RA。在一些情况下,第一部分为回射结构化主表面的不小于约30%、或不小于约45%、或不小于约60%。在一些情况下,对于0.2度的观察角和-4度的入射角,RA不小于约100cd/(lux·m2)、或不小于约200cd/(lux·m2)、或不小于约300cd/(lux·m2)。
在另一个实施例中,回射光学构造包括:回射层,其具有回射结构化主表面;以及光学膜,其设置在回射结构化主表面的第一部分上。光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个空隙。对于入射角为-4度的入射可见光,回射结构化主表面的第一部分显示具有的全光返回率为不小于约5%。在一些情况下,对于入射角为-4度的入射可见光,全光返回率为不小于约10%、或不小于约20%、或不小于约30%。
附图说明
结合附图对本发明的各种实施例所做的以下详细描述将有利于更完整地理解和领会本发明,其中:
图1A为回射光学构造的示意性侧视图;
图1B为回射层的示意性俯视图;
图2为另一个回射光学构造的示意性侧视图;
图3为另一个回射光学构造的示意性侧视图;
图4为另一个回射光学构造的示意性侧视图;
图5为另一个回射光学构造的示意性侧视图;
图6为另一个回射光学构造的示意性侧视图;
图7A和图7B为棱柱回射层中的单个棱柱的各自的示意性俯视图和侧视图;并且
图8A和图8B为另一棱柱回射层中的单个棱柱的各自的示意性俯视图和侧视图。
在本说明书中,多个附图中使用的相同附图标号是指具有相同或类似特性和功能的相同或类似元件。
具体实施方式
本发明整体涉及回射膜和光学构造,所述回射膜和光学构造包括一个或多个具有低折射率或显示具有某些低折射率类光学特性的光学膜。一些本发明所公开的回射光学构造包括一个或多个光学膜,所述光学膜具有低光学雾度或漫反射率以及低有效折射率,例如小于约5%的光学雾度和小于约1.3的有效折射率。在此类情况下,低折射率光学膜可有效地支持或保持全内反射。一些本发明所公开的回射光学构造包括一个或多个光学膜,所述光学膜具有高光学雾度或漫反射率而同时显示一些低折射率类光学特性,例如为支持全内反射或增强内反射的能力。引入此类漫射光学膜的回射光学构造可具有白色外观(这在日光观察中尤其是理想的属性),同时可高效地回射。
由于一些本发明所公开的光学膜包括多个空隙,因此该光学膜支持全内反射(TIR)或增强内反射(EIR)。当在光学透明无孔介质中传播的光入射在具有高孔隙度的层上时,入射光在倾斜角度处的反射率比在垂直入射角度处的反射率高得多。就无雾度或低雾度有空隙的膜而言,在大于临界角的倾斜角度处的反射率为接近约100%。在此类情况下,入射光发生全内反射(TIR)。就高雾度有空隙的膜而言,尽管光不会发生TIR,但类似入射角度范围内的倾斜角度反射率可以为接近100%。高雾度膜的这种增强反射率类似于TIR,被称为增强内反射(EIR)。如本文所用,所谓多孔(或有空隙的)光学膜增强内反射(EIR),意指与无空隙的膜或层叠薄膜相比,有空隙的膜或层叠薄膜的有空隙的和无空隙的层边界处的反射率较大。
本发明所公开的光学膜包括分散于粘结剂中的多个空隙。空隙具有折射率nv和电容率εv,其中nv 2=εv;粘合剂具有折射率nb和电容率εb,其中nb 2=εb。通常,光学膜与光的相互作用(例如光入射在光学膜上或在其中传播)取决于多种膜特性,例如为膜厚度、粘结剂折射率、空隙或孔的折射率、孔的形状和大小、孔的空间分布和光的波长。在一些情况下,入射在该光学膜上或在其中传播的光可“识别”或“发现”有效电容率εeff和有效折射率neff,其中neff可以按照空隙折射率nv、粘结剂折射率nb、以及空隙孔隙度或体积百分率“f”来表示。在此类情况下,光学膜足够厚并且空隙足够小,以使得光无法分辨单个空隙或隔离空隙的形状和特征。在此类情况下,至少大部分空隙(例如至少60%或70%或80%或90%的空隙)的尺寸为不大于约λ/5、或不大于约λ/6、或不大于约λ/8、或不大于约λ/10、或不大于约λ/20,其中λ为光的波长。
在一些情况下,入射在本发明所公开的光学膜上的光是可见光,意指光的波长在电磁光谱的可见区内。在此类情况下,可见光的波长为在约380nm至约750nm、或约400nm至约700nm、或约420nm至约680nm的范围内。在此类情况下,如果空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%``或70%或80%或90%)的尺寸为不大于约70nm、或不大于约60nm、或不大于约50nm、或不大于约40nm、或不大于约30nm、或不大于约20nm、或不大于约10nm,则该光学膜具有有效折射率并包括多个空隙。
在一些情况下,本发明所公开的光学膜为足够厚,从而光学膜可以合理地具有可以用空隙和粘结剂的折射率以及空隙或孔体积百分率或孔隙度表示的有效折射率。在此类情况下,该光学膜的厚度为不小于约100nm、或不小于约200nm、或不小于约500nm、或不小于约700nm、或不小于约1,000nm。
当本发明所公开的光学膜中的空隙足够小、并且光学膜足够厚时,光学膜具有可以用下式表示的有效电容率εeff:
εeff=f εv+(1-f)εb (1)
在此类情况下,光学膜的有效折射率neff可以表示为:
neff 2=f nv 2+(1-f)nb 2 (2)
在一些情况下,例如当孔与粘结剂的折射率差值足够小时,光学膜的有效折射率可以大致表示为:
neff=f nv+(1-f)nb (3)
在此类情况下,光学膜的有效折射率为空隙和粘结剂的折射率的体积加权平均数。例如,空隙体积百分率为约50%、粘结剂折射率为约1.5的光学膜具有约1.25的有效折射率。
图1A为回射光学构造900的示意性侧视图,所述回射光学构造900包括:回射层930,其包括面向观察者905的前主表面936和背对表面936的回射结构化主表面940;光学膜960,其设置在回射主表面940上;光学粘合剂层970,其设置在光学膜上;光学漫射层995,其设置在光学粘合剂层上;和第一基底980,其设置在光学粘合剂层上。回射光学构造900还包括:光学透明的第二基底920,其设置在回射层的前主表面936上;和图形层910,其设置在第二基底上。
回射光学构造900的回射系数RA(有时称为回射率)可根据应用中所需的特性而变化。在一些情况下,RA在0度和90度取向角下满足ASTMD4956-07e1标准。在一些情况下,当根据ASTM E-810测试方法或CIE54.2(2001年)测试方法在0.2度观察角和+5度入射角测量时,RA为在约5cd/(1ux·m2)至约1500cd/(lux·m2)的范围内。在一些情况下,例如在其中光学构造900用于交通控制标志、弯道标示照明排灯或路障的情况下,如根据ASTM E-810测试方法或CIE 54.2(2001年)测试方法在0.2度观察角和+5度入射角测得,RA为至少约330cd/(lux·m2)、或至少约500cd/(lux·m2)、或至少约700cd/(lux·m2)。在一些情况下,例如在机动车辆相关的应用中,如根据ASTM E-810测试方法或CIE 54.2(2001年)测试方法在0.2度观察角和+5度入射角测得,RA为至少约60cd/(lux·m2)、或至少约80cd/(lux·m2)、或至少约100cd/(lux·m2)。
回射层930包括:回射部分934,其包括多个回射光学元件950或回射光学元件950阵列;和基体部分932,其连接回射光学元件。图1B为回射层930的示意性俯视图。在一些情况下,例如在示例性光学构造900中,每一个回射光学元件950均为四面体或棱锥的形式,例如常规的四面体或棱锥,其具有三个小平面或边952和底部956,其中所述边在顶点954处汇合。任意两个小平面之间的二面角都可根据应用中所需的特性而变化。在一些情况下,任意两个小平面952之间的二面角都为90度。在此类情况下,小平面952基本上彼此垂直(如同房间的角落中),且光学元件可称为立体角。在一些情况下,相邻小平面952之间的二面角可偏离90°,如(例如)在美国专利No.4,775,219中所述,该专利的公开内容全文以引用方式并入本文。
在一些情况下,光学元件950可为截平的立体角。在一些情况下,光学元件950可为全立方体(full cube)或为如(例如)美国专利No.7,422,334中所述的优选几何(PG)立方体,该专利的公开内容全文以引用方式并入本文。
每一个回射光学元件950均包括与小平面952形成相等角度的对称轴957。在一些情况下,例如在示例性光学构造900中,对称轴957垂直于底部956或前表面936。在一些情况下,对称轴不垂直于底部或前表面。在此类情况下,如(例如)美国专利No.4,588,258中所述来倾斜顶点954或光学元件950。
回射立体角的操作原理为熟知的,并且描述于(例如)J.Optical Soc.of America 46(7),496(1958)中。总之,沿正y方向传播并且入射在回射光学元件950上的光线990被光学元件的小平面952中的每一个都全内反射(TIR),从而产生沿负y方向传播并且平行于入射光线990的回射光线993。在一些情况下,因为回射光线992作为回射光线992偏离y方向,从而与y轴形成发散角。在一些情况下,例如就交通标志而言,发散角δ为在约0.2度至约2度的范围内。TIR的任何衰减都可显著降低回射光线993的强度。
光学膜960具有足够低的折射率,以便保持或支持TIR,从而导致由回射层930产生的有效回射。在一些情况下,光学膜960的有效折射率为不大于约1.3、或不大于约1.25、或不大于约1.2、或不大于约1.15、或不大于约1.1。
光学粘合剂层970将光学膜960粘合至光学漫射层995。在一些情况下,粘合剂层970为显著光学漫射的层,并且可具有白色外观。例如,在此类情况下,光学漫射粘合剂层970的光学雾度为不小于约30%、或不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%、或不小于约70%、或不小于约80%、或不小于约90%、或不小于约95%。在一些情况下,漫射粘合剂层的漫反射率为不小于约20%、或不小于约30%、或不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%。在此类情况下,粘合剂层可通过包含分散于光学粘合剂中的多个粒子而具有光学漫射性,其中粒子和光学粘合剂具有不同的折射率。这两种折射率之间的失配可使光散射。在一些情况下,例如当光学粘合剂层970为光学漫射层时,光学构造900可以不包括光学漫射层995。
光学粘合剂层970可包括可能在应用中需要和/或可用的任何光学粘合剂。示例性光学粘合剂包括压敏粘合剂(PSA)、热敏粘合剂、挥发性溶剂型粘合剂和UV固化性粘合剂,例如可得自Norland Products,Inc.的UV固化性光学粘合剂。示例性PSA包括那些基于天然橡胶、合成橡胶、苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸类嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烃和聚(甲基)丙烯酸酯的PSA。如本文所用,(甲基)丙烯酸类(或丙烯酸酯)是指丙烯酸类和异丁烯酸类物质两者。其他示例性PSA包含(甲基)丙烯酸酯、橡胶、热塑性弹性体、有机硅、氨基甲酸酯以及它们的组合。在一些情况下,PSA基于(甲基)丙烯酸PSA或至少一种聚(甲基)丙烯酸酯。示例性有机硅PSA包含聚合物或树胶和可选的增粘树脂。其他示例性有机硅PSA包含聚二有机硅氧烷-聚乙二酰胺和任选的增粘剂。
在一些情况下,光学粘合剂层970可包含交联的增粘丙烯酸类压敏粘结剂。光学粘合剂层970可包含添加剂,例如增粘剂、增塑剂和填料(例如颜料,例如TiO2)。在一些情况下,可将TiO2加入粘合剂层,以向粘合剂层赋予白色外观。
光学漫射层995漫射入射光并且可(例如)在日光条件下有利地向光学构造900赋予白色外观。光学漫射层995可为可能在应用中需要和/或可用的任何光学漫射层。例如,光学漫射层可包括分散于粘结剂中的多个粒子,其中所述粒子和粘结剂具有不同的折射率。在一些情况下,例如当光学漫射层995具有足够漫射性以向光学构造900赋予白色外观时,光学漫射具有不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%、或不小于约70%、或不小于约80%、或不小于约90%、或不小于约95%的光学雾度。
在一些情况下,光学漫射层995也可为粘合剂。在此类情况下,光学漫射层995可提供足够的粘合力,在这种情况下,光学构造900可能不包括光学粘合剂层970。
光学构造900中的每两个相邻层的相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。例如,光学构造900中的各自的相邻层960和930的相邻结构化主表面951和940的相当大一部分彼此直接接触。例如,这两个相邻主表面的至少30%、或至少40%、或至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或至少95%彼此直接接触。在一些情况下,光学膜960涂布于回射层930的表面940上。
通常,光学构造900中的每两个相邻层的相邻主表面(彼此面对或彼此相邻的主表面)的相当大一部分都彼此直接接触。例如,在一些情况下,可以在光学膜960和回射层930之间设置一个或多个附加层,但图1A中未明确示出。在此类情况下,光学构造900中的每两个相邻层的相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。在此类情况下,光学构造中的每两个相邻层的相邻主表面的至少30%、或至少40%、或至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或至少95%都彼此直接接触。
光学膜960可为具有足够低的折射率的任何光学膜,例如标题为“OPTICAL FILM”(光学膜)的与本专利申请同一日提交的共同未决的美国专利申请No.61/169446中所述的那些,该专利申请的公开内容全文以引用方式并入本文。在一些情况下,光学膜960包含粘结剂、多个粒子和多个互连空隙。光学膜中的多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%、或不小于约30%、或不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%、或不小于约70%、或不小于约80%。粘结剂与多个粒子的重量比为不小于约1∶1、或不小于约1.5∶1、或不小于约2∶1、或不小于约2.5∶1、或不小于约3∶1、或不小于约3.5∶1、或不小于约4∶1。光学膜具有显著低的光学雾度。例如,在此类情况下,光学膜的光学雾度为不大于约10%、或不大于约7%、或不大于约5%、或不大于约3%、或不大于约2%、或不大于约1.5%、或不大于约1%。在一些情况下,光学膜中的粒子可为大致球形的粒子。在一些情况下,粒子可为细长的粒子。
图2为回射光学构造901的示意性侧视图,所述回射光学构造901包括:光学图形层910;第二基底920,其设置在图形层上;回射层930,其设置在第二基底上;光学膜965,其设置在回射层上;光学粘合剂层970,其设置在光学膜上;和第一基底980,其设置在光学粘合剂层上。
光学膜965为显著光学漫射的膜。例如,光学膜965的光学雾度为不小于约20%、或不小于约30%、或不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%、或不小于约70%、或不小于约80%、或不小于约90%、或不小于约95%。在一些情况下,光学膜的漫反射率为不小于约20%、或不小于约30%、或不小于约40%、或不小于约50%、或不小于约60%。
此外,光学膜965显示具有某些低折射率类特性。具体地讲,光学膜965支持或保持TIR和/或促进在接合回射层930的界面处的内反射。
光学膜965包括结构化主表面966,结构化主表面966面向回射层930的结构化主表面940。光学构造901中的每两个相邻层的相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。例如,光学构造901中的各自的相邻层965和930的相邻结构化主表面966和940的相当大一部分彼此直接接触。例如,这两个相邻主表面的至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或至少95%彼此直接接触。在一些情况下,光学膜965涂布于回射层的结构化表面940上。
通常,光学构造901中的每两个相邻层的相邻主表面(彼此面对或彼此相邻的主表面)的相当大一部分都彼此直接接触。例如,在一些情况下,可以在介于回射层930和光学膜965之间设置一个或多个附加层,但图2中未明确示出。在此类情况下,光学构造901中的每两个相邻层的相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。在此类情况下,光学构造中的每两个相邻层的相邻主表面的至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或至少95%都彼此直接接触。
一般来讲,光学膜965可为促进或保持TIR或增强内反射的任何光学漫射膜,例如标题为“OPTICAL FILM”(光学膜)的共同未决的美国专利申请No.61/169466中所述的那些。在一些情况下,光学膜包含粘结剂、气相金属氧化物(例如气相二氧化硅或氧化铝)、以及多个互连空隙或互连空隙网,其中空隙提供所需的光学雾度。在一些情况下,气相金属氧化物与粘结剂的重量比为在约2∶1至约6∶1的范围内、或在约2∶1至约4∶1的范围内。
在一些情况下,光学膜965可为或可包括具有多个空隙的任何光学膜,其中空隙提供足够的光学雾度,并且光学膜为足够多孔的膜,以促进或保持TIR或增强内反射。
在示例性光学构造900和901中,光学膜960和965填充光学元件950之间的槽,并且基本上使回射结构化表面940平面化,这意味着各自的光学膜960和965的顶部表面923和959为基本上平面的表面。例如,在此类情况下,如从公共基准面(例如基准表面936)测量,顶部表面923的最大高度和最小高度之差为光学元件950的高度h1的不超过约20%、或不超过约15%、或不超过约10%、或不超过约5%,其中h1为介于顶点954和底部956之间的距离958。
在一些情况下,光学膜未使结构化表面940平面化。例如,图3为光学构造300的示意性侧视图,所述光学构造300包括:光学膜1060,其基本上适形设置在回射层930的回射结构化表面940上;和光学层310,其设置在光学膜上并且基本上使光学膜平面化。光学层310可(例如)为类似于基底980的基底、或类似于层970的光学粘合剂层、或类似于层995的光学漫射层。
光学膜1060具有厚度t1。在一些情况下,厚度t1为不小于在回射表面934处基本上支持全内反射所需的最小厚度。在此类情况下,t1为足够大,以使得在介于回射层930和光学膜1060之间的界面处的入射光线1090的消逝尾迹基本上保持在光学膜内,且不延伸或极少延伸至相邻光学层310内。在此类情况下,入射光线1090作为光线1092被全内反射,且无入射光线部分或入射光线的极小部分耦合到层310内。在此类情况下,厚度t1为不小于约0.5微米、或不小于约0.6微米、或不小于约0.7微米、或不小于约0.8微米、或不小于约0.9微米、或不小于约1微米、或不小于约1.1微米、或不小于约1.2微米、或不小于约1.3微米、或不小于约1.4微米、或不小于约1.5微米、或不小于约1.7微米、或不小于约2微米。
光学膜1060包括两个结构化主表面。具体地讲,光学膜包括:第一结构化主底表面1064,其面向回射层930;和第二结构化主顶部表面1062,其背对第一结构化主表面1064。
重新参考图1A,基底920和980中的一者或两者可向回射光学构造900提供支承,并且增加回射光学构造900的强度。基底920为显著光学透射的基底。例如,基底920的光学透射比为不小于约50%、或不小于约60%、或不小于约70%、或不小于约80%、或不小于约90%。
基底980可为不透光或透光的基底。在一些情况下,背基底980可为刚性板,例如刚性铝板。例如,光学构造900可为道路标志或机动车辆牌照的一部分,并且基底980可为刚性铝质背板。在一些情况下,光学构造900不包括第一基底980。
图1A和图1B中的示例性光学元件950具有棱锥或四面体形状。一般来讲,光学元件950可具有可在应用中提供有效反射或回射的任何合适形状。
在一些情况下,例如当回射光学构造900旨在为基本上柔性的构造时,回射层930不包括基体部分932。在此类情况下,回射光学元件不通过基体部分彼此连接,并可直接形成于(例如)基底920上。使用分立非连接的立体角光学元件950可增加回射光学构造900的柔韧性,因为每一个立体角光学元件950均可独立于其他立体角光学元件地移动。
图形层910为任选的层,并包括用于由观察者905在合适光照条件(例如日间照明条件)下观察的一个或多个图形图像。图形图像可为彩色图像并且可光学透射包含在图像中的所有颜色,但图形层可较易光学透射较亮颜色并且不易光学透射较暗颜色。在一些情况下,对包含在层内的任何颜色,图形层的光学透射比为至少5%、或至少7%、或至少10%。图形层910可通过任何合适的方法(例如任何合适的印刷或涂布方法)形成,并且可包括适当分散于粘结剂中的不同着色剂(例如不同的染料或颜料)。
在示例性的回射光学构造900中,图形层910设置在构造的前部。一般来讲,图形层(如果包括)可设置在可能在应用中需要的任何位置。例如,在一些情况下,图形层可设置在层920和930之间。
在示例性光学构造900和901中,光学膜960和965基本上覆盖整个结构化回射表面940。在一些情况下,光学膜可进行图案化并且可仅覆盖表面940的某些部分。例如,图4为光学构造400的示意性侧视图,所述光学构造400包括仅覆盖表面940的部分的图案化光学膜420。具体地讲,光学膜420基本上适形覆盖表面940的部分430,但不覆盖且留下表面940的暴露的其他部分432。光学膜420在表面940上形成图案。在一些情况下,图案可为规则图案。在一些情况下,图案可为不规则(例如随机)图案。光学膜420促进TIR或增强内反射并且可类似于光学膜960或965。
光学构造400还包括设置在光学膜420和未覆盖部分430上的光学漫射层410。在一些情况下,光学漫射层410包括分散于粘结剂中的多个粒子,例如多个TiO2粒子,其中粘结剂的折射率可接近回射层930的折射率。在此类情况下,光学构造可在覆盖部分430中、而非在未覆盖部分432中有效地使光回射。光学漫射层410可在某种照明(例如日光)条件中向光学构造赋予白色外观。
图5为光学构造500的示意性侧视图,所述光学构造500包括仅覆盖表面940的部分的图案化光学膜520。具体地讲,光学膜520覆盖表面940的部分430并且使其基本上平面化,但不覆盖且留下表面940的暴露的其他部分432。光学构造500类似于光学构造400,不同的是光学膜420适形覆盖表面940的部分430,而光学膜520使表面940的部分430平面化。
光学膜420和520可类似于本文所公开的任何光学膜。例如,光学膜420和520可类似于顶部光学膜960或965。在一些情况下,回射表面940中被光学膜420或520覆盖的部分430的区域百分比为总结构化区域的小于约50%、或小于约40%、或小于约30%。
粒子体积浓度(PVC)和临界粒子体积浓度(CPVC)可用于表征涂层的孔隙率。当粒子体积浓度大于CPVC时,涂层为多孔层,因为不存在足够的粘结剂来填充粒子之间的所有间隙和涂层的空隙区域。涂层则变为粘结剂、粒子空隙的混合物。发生该情况的体积浓度与粒子尺寸以及粒子结构和/或形状有关。体积浓度在CPVC以上的制剂具有在混合物中树脂的体积缺陷,所述体积缺陷被空气取代。介于CPVC、PVC和孔隙率之间的关系为:
在一些情况下,回射构造的CPVC的理想值为不大于约60%、或不大于约50%、或不大于约40%。高度支化或结构化的粒子避免在粘结剂基质中的有效堆积并且允许形成间隙洞或孔。示例性的结构化和支化的材料为Cabo-Siltm气相二氧化硅(例如EH5、TS 520、PG 002、PG 022)、气相氧化铝(例如PG003)和可分散的炭黑(例如,以商品名Vulcantm XC72R得自Cabot的那些)。
可通过Braunauer、Emmett和Teller表面积分析法(BET法)来测定纳米多孔涂布制剂的表面积、孔隙率和骨架密度。可使用通过BET获得的孔隙率值来确定CPVC。BET法为用于测定固体物质的孔尺寸、表面积和孔隙率百分比的熟知方法。
在一些情况下,对于本发明所公开的光学膜中的一些的涂层而言,理想的BET孔隙率为在约55%至约80%的范围内、或在约60%至约80%的范围内、或在约65%至约80%的范围内。
重新参考图1A,回射光学构造900包括回射层930,回射层930包括回射结构化主表面940。光学构造还包括光学膜960,光学膜960通常设置在回射结构化主表面的第一部分上。例如,第一部分可以是图4中的部分430。在一些情况下,第一部分为不小于回射结构化主表面的约30%、或不小于回射结构化主表面的约35%、或不小于回射结构化主表面的约40%、或不小于回射结构化主表面的约45%、或不小于回射结构化主表面的约50%、或不小于回射结构化主表面的约55%、或不小于回射结构化主表面的约60%、或不小于回射结构化主表面的约65%、或不小于回射结构化主表面的约70%、或不小于回射结构化主表面的约75%、或不小于回射结构化主表面的约80%。
光学膜960支持回射结构化主表面的第一部分中的TIR。在一些情况下,对于约0.2度的观察角和约-4度的入射角,回射结构化主表面的第一部分显示具有的回射系数RA为不小于约50cd/(lux·m2)、或不小于约100cd/(lux·m2)、或不小于约150cd/(lux·m2)、或不小于约200cd/(lux·m2)、或不小于约250cd/(lux·m2)、或不小于约300cd/(lux·m2)、或不小于约350cd/(lux·m2)、或不小于约400cd/(lux·m2)。
可通过了解活性区域百分比和光线强度来确定回射光学构造900的全光返回率(TLR)。光线强度可通过前表面损失和通过从用于回射线的三个立体角表面中的每一个的反射而被降低。全光返回率定义为活性区域百分比和光线强度的乘积,或被回射的全入射光的百分比。对直接加工的立体角阵列的全光返回率的讨论在(例如)美国专利No.3,712,706(Stamm)中有所描述。全光返回率还在2008年10月22日提交的美国临时专利申请No.61/107586中有所描述,该专利申请的全文以引用方式并入本文。
在一些情况下,对于入射角为约-4度的入射可见光,回射结构化主表面的第一部分显示具有的全光返回率为不小于约5%、或不小于约10%、或不小于约15%、或不小于约20%、或不小于约25%、或不小于约30%。
本发明所公开的膜、层、构造和系统的某些优点还通过以下实例进行说明。本实例中列出的特定材料、量和尺寸以及其他条件和细节不应被解释为不当地限制本发明。
实例1:
使用表I中所列的疏水性树脂制备涂布溶液1至9。对于每一种涂布溶液,都将树脂和气相二氧化硅(以TS-530得自Cabot Corporation(BillericaMA))按表I中指定的重量比与也在表I中指定的相应溶剂混合。树脂的重量份为1。例如,对于涂布溶液1,树脂FC2145与气相二氧化硅的重量比为1∶5。
涂布溶液1、2和9中所用的树脂为Dyneon含氟弹性体共聚物FC2145(得自Dyneon LLC(Oakdale MN))。涂布溶液3和4中所用的树脂为SPU-5k,其为由介于αω氨丙基聚二甲基硅氧烷和m-四甲基二甲苯二异氰酸酯之间的反应形成的有机硅聚脲,如美国专利No.6,355,759的实例23中通常所述。涂布溶液5和6中所用的树脂为SR-351,它是一种紫外固化型单体(得自Sartomer公司(Exton PA))。涂布溶液7和8中所用的树脂为Ebecryl 8807(EB-8807),它也是一种紫外固化型单体(得自CytecCorporation(West Paterson NJ))。样品5-8可通过紫外线固化,并包含在甲基乙基酮中的1重量%的Esacure KB-1光引发剂(得自Lamberti USA(Conshohocken PA))。
对于每一种涂布溶液,溶剂都为异丙醇(IPA)或甲醇(MeOH)。在300mL不锈钢烧杯中混合树脂、气相二氧化硅和溶剂。用具有单级槽式磁头转子的Ross 100-LC单级高剪切搅拌器(得自Charles Ross and Sons(Hauppauge NY))以1200rpm的速度运行约3分钟,从而将气相二氧化硅分散于树脂中。然后,让所得的泡沫消散。接着,通过加入更多的相同溶剂将固体重量百分比调至12%,从而得到涂布溶液1至9。
然后,建立用于每一种涂布溶液的涂布方法。首先,用圆线棒(以Meyer棒得自RD Specialties(Webster NY))将涂布溶液涂覆在PVC乙烯基有机溶胶基底(以Geon 178得自PolyOne(Avon Lake OH))上,其中棒的尺寸在表I中规定。湿涂层厚度由线棒编号决定。编号为30的线棒形成厚度为约75.2微米的湿涂层,编号为15的线棒形成厚度为约38.1微米的湿涂层。
在室温下将涂覆的样品1至4和9干燥25分钟。用装有500瓦H型灯泡的Fusion Systems Light Hammer UV系统(得自Fusion Systems Inc(Gaithersburg,MD))通过紫外线辐射使涂覆的样品5-8固化。以40英尺/分钟(12.3米/分钟)的速度通过单次曝光固化涂层,其对应于约49千焦耳/平方厘米的UV-B剂量。
表I:用于实例1的配方和涂布参数
实例2:
使用如表II中指定的亲水性聚乙烯醇(可作为Poval PVA-235得自Kuraray America(Houston TX))制备涂布溶液10-15。对于每一种涂布溶液,都以表II中指定的重量比混合树脂和气相二氧化硅(可作为Cabo-O-Sperse PG002得自Cabot Corporation(Billerica MA))。树脂的重量份为1。例如,对于涂布溶液10,树脂PVA-235与气相二氧化硅的重量比为1∶4。首先,将作为在水中的7重量%溶液的PVA-235树脂加入配备了气动混合机的不锈钢烧杯中,所述气动混合机在低速下运行,以使起泡最小化。将PVA-235的1重量%的Tergitol Min-Foam XL(可得自Dow Chemical公司(Midland MI))和PVA-235的2-3重量%的NH4OH加入混合机中,以将pH调节至大约9.5-10。然后,气相二氧化硅作为在水中的20重量%溶液而被加入。如果需要,将表II中指定的以树脂的重量百分比计的足够量的CX-100加入混合机中,搅拌所述混合物直至获得均匀溶液。然后,加入去离子水,以将固含量百分比调节至表II中指定的值。
然后,建立用于每一种涂布溶液的涂布方法。使用自动化缺口棒涂法以7.62米/秒的涂布速度在PVC Vinyl有机溶胶基材上涂布每一种涂布溶液。然后,将所得的经涂布样品在65℃下干燥5分钟。
表II:用于实例2的制剂和涂布参数
实例3:
制备回射光学构造3000,其示意性侧视图示于图6中。光学构造3000类似于图1A中的对应构造并且包括柔性棱柱回射层930和涂布在回射层上的光学膜960。光学膜基本上使回射层的结构化侧平面化。图7A和图7B为棱柱回射层中的单个棱柱的各自的示意性俯视图和侧视图。图7A和图7B的角度以度计,尺寸以密耳计。回射层中的棱柱的每一个小面均为直角三角形,且底部为等腰三角形。使用通常描述于(例如)美国专利No.6,843,571和No.5,691,846中的方法制备棱柱,所述专利的公开内容以全文引用的方式并入本文。
按照实例2中所述的步骤来制备类似于构造3000的回射光学构造1-9。构造1-9对应于实例2中制得的各自的样品1-9。构造“A”为不具有涂层的棱柱回射层(即,层960为空气)。
构造的单位为cd/(lux·m2)的回射系数RA根据ASTM E-810测试方法在0.2度观察角和-4度入射角、以及在0.2度观察角和30度入射角下进行测量。测量在两个正交棱柱取向上进行。RA的测得结果汇总于表III中。
表III:实例3中的样品的回射特性
实例4:
按照实例2中所述的步骤来制备类似于构造3000的回射光学构造10-15。构造10-15对应于实例2中制得的各自的样品10-15。构造“B”为不具有涂层的棱柱回射层(即,层960为空气)。
光学构造的单位为cd/(lux·m2)的回射系数RA在0.2度观察角和-4度入射角、以及在0.2度观察角和40度入射角下进行测量。测量在两个正交棱柱取向上进行。RA的测得结果汇总于表IV中。
表IV:实例4中的样品的回射特性
实例5:
制备回射光学构造3000。棱柱回射层930为刚性的层,并且使用通常描述于(例如)美国专利No.6,884,371中的方法制得,该专利的公开内容全文以引用方式并入本文。光学膜基本上使回射层的结构化侧平面化。图8A和图8B为棱柱回射层中的单个棱柱的各自的示意性俯视图和侧视图。图8A和图8B的角度以度计,尺寸以密耳计。棱柱的面为直角三角形,且底部为等腰三角形。
按照实例1中所述的步骤来制备类似于构造3000的回射光学构造1-7。构造1-6对应于实例1中制得的各自的样品1-6。光学构造7对应于实例1中的样品9。构造“C”为不具有涂层的棱柱回射层(即,层960为空气)。
单位为cd/(lux·m2)的回射系数RA在0.2度观察角和-4度入射角、以及在0.2度观察角和30度入射角下进行测量。测量在两个正交棱柱取向上进行。RA的测得结果汇总于表V中。
表V:实例5中的样品的回射特性
实例6:
制备回射光学构造3000,其示意性侧视图示于图6中。光学构造3000类似于图1A中的对应构造并且包括柔性棱柱回射层930和涂布在回射层上的光学膜960。光学膜基本上使回射层的结构化侧平面化。图7A和图7B为棱柱回射层中的单个棱柱的各自的示意性俯视图和侧视图。图7A和图7B的角度以度计,尺寸以密耳计。回射层中的棱柱的每一个小面均为直角三角形,且底部为等腰三角形。棱柱使用通常描述于(例如)美国专利No.6,843,571和No.5,691,846中的方法制得。
首先制备涂布溶液。在配备了冷凝器和温度计的2升三颈烧瓶内,在迅速搅拌下将960克IPA-ST-UP有机硅细长粒子(可得自Nissan ChemicalInc.(Houston,TX))、19.2克去离子水和350克1-甲氧基-2-丙醇混合在一起。细长粒子的直径为在约9nm至约15nm的范围内、长度为在约40nm至约100nm的范围内。将粒子分散于15.2重量%的IPA中。然后,向烧瓶中加入22.8g的Silquest A-174硅烷(得自GE Advanced Materials(Wilton,CT))。将所得的混合物搅拌30分钟。
然后,将混合物保持在81℃下16小时。接着,让溶液冷却至室温。然后,用旋转蒸发仪在40℃的水浴中除去溶液中的约950g溶剂,从而得到在1-甲氧基-2-丙醇中41.7重量%的A-174-改性的细长二氧化硅透明分散体。
然后,将407g该透明分散体、165.7g的SR 444(得自Sartomer公司(Exton,PA))、8.28g光引发剂Irgacure 184和0.828g光引发剂Irgacure 819(均得自Ciba Specialty Chemicals公司(High Point NC))和258.6g异丙醇混合在一起并搅拌,从而得到40%固含量的均匀涂布溶液。
随后,建立用于涂布溶液的涂布方法。将大约1ml的40%固含量涂布溶液施用至柔性棱柱回射层。将1.0密耳厚的SBOPP(同时双轴取向的聚丙烯)衬垫手动层合到所述溶液上,以产生涂布溶液的均匀层。衬垫略微高于三直角锥的顶峰。随后,通过将样品通过速度为50fpm的带式给料紫外灯系统(可得自RPC industries(Plainfield,Ill.))而在单次暴露中固化样品,所述紫外灯系统装配有两个200瓦中压汞灯泡,从而在空气中产生300mJ/cm2的UVA剂量。然后从室中移出样品,去除SBOPP衬垫,并将样品在120°F烘箱中放置约10分钟,以进行干燥。
构造的单位为cd/(lux·m2)的回射系数RA根据ASTM E-810测试方法在0.2度观察角和-4度入射角、以及在0.2度观察角和30度入射角下进行测量。测量在两个正交棱柱取向上进行。RA的测得结果汇总于表VI中。
表VI:实例6中的样品的回射特性
实例7:
将实例2中所述的涂布制剂12的25g溶液在50℃下在200ml烧杯中进行干燥。收集经干燥的制剂,并使用陶瓷电机和研杵将其研磨为细粉,并进一步在80℃下干燥16小时。然后,将固体粉末与以类似方式制得的对照样品CE-A、CE-B和CE-C提交,以用于BET分析。使用聚(甲基丙烯酸甲酯)-Cabot TS 530 f-SiO2混合物(PMMA-Si 1∶5,其中PMMA获自Aldrich Chemicals且所述混合物从在MEK(而不是水)中的15%固含量进行干燥)来制备对照样品CE-A。由PMMA-NALCO 2327 1∶5(以重量计)混合物(Nalco 2327为可得自Rohm and Haas(Philadelphia,PA)的非多孔20nm胶体二氧化硅分散体)制备对照样品CE-B。由不具有树脂的CabotTS 530 f-SiO2制备对照样品CE-C。BET数据示于表VII中。
利用Quantachrome Autosorb 1 BET分析仪(可得自QuantachromeInstruments(Boynton Beach,Fl))测量经干燥的涂布制剂的表面积、孔隙率和骨架密度。使样品经受40点分析,以确定其表面积和孔尺寸分布。表面积分析的BET法(因Braunauer、Emmett和Teller而命名)用于确定用于该样品中的每一个的孔尺寸、表面积和百分比。
表VII:用于实例7的样品的孔体积、孔比率和表面积
如本文所用,术语(例如)“竖直”、“水平”、“上面”、“下面”、“左”、“右”、“上”及“下”、“顺时针”、“逆时针”以及其他类似的术语是指如附图中所示的相对位置。通常,物理实施例可具有不同的取向,并且在这种情况下,所述术语旨在是指修改到装置的实际取向的相对位置。例如,即使图1A中的光学构造900与该图中的取向相比发生翻转,也仍将主表面923视为“顶部”主表面。
以上引用的所有的专利、专利申请以及其他出版物均以如同全文复制的方式并入本文以供参考。尽管上面详细描述了本发明的具体实例以有利于说明本发明的各个方面,但应当理解,并不意图将本发明限于这些实例的具体描述。相反,本发明的目的在于涵盖所附权利要求书限定的本发明的精神和范围内的所有修改形式、等同形式和替代形式。
Claims (83)
1.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面上,并且其有效折射率为不大于约1.3;和
光学漫射层,所述光学漫射层设置在所述光学膜上,并且其光学雾度为不小于约30%,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。
2.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述回射结构化主表面中的结构包括多个锥体结构。
3.根据权利要求2所述的回射光学构造,其中所述多个锥体结构包括多个立体角。
4.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜的有效折射率为不大于约1.2。
5.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜的有效折射率为不大于约1.15。
6.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜的有效折射率为不大于约1.1。
7.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学漫射层的光学雾度为不小于约50%。
8.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学漫射层的光学雾度为不小于约70%。
9.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学漫射层的光学雾度为不小于约90%。
10.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学漫射层为光学粘合剂。
11.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少50%都彼此直接接触。
12.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少70%都彼此直接接触。
13.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少90%都彼此直接接触。
14.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜基本上使所述回射层平面化。
15.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜包括:第一结构化主表面,所述第一结构化主表面面向所述回射层的所述回射结构化主表面;和第二结构化主表面,所述第二结构化主表面背对所述第一结构化主表面。
16.根据权利要求1所述的回射光学构造,还包括光学粘合剂层,所述光学粘合剂层设置在所述光学膜和所述光学漫射层之间。
17.根据权利要求1所述的回射光学构造,还包括基底,所述基底设置在所述光学漫射层上。
18.根据权利要求17所述的回射光学构造,其中所述基底包括金属板。
19.根据权利要求1所述的回射光学构造,还包括图形层,所述图形层背对所述光学膜设置在所述回射层上。
20.根据权利要求19所述的回射光学构造,其中所述图形层为光学透射的层。
21.根据权利要求1所述的回射光学构造,其中所述光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个互连空隙,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%,并且其中所述粘结剂与所述多个粒子的重量比为不小于约1∶1。
22.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约50%。
23.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述粘结剂与所述多个粒子的重量比为不小于约2∶1。
24.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述粘结剂与所述多个粒子的重量比为不小于约3∶1。
25.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述光学膜的光学雾度为不大于约5%。
26.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述光学膜的光学雾度为不大于约2%。
27.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述光学膜的光学雾度为不大于约1%。
28.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述多个粒子包括细长粒子。
29.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;和
光学膜,所述光学膜设置在所述回射层的所述回射结构化主表面上,并且其光学雾度为不小于约30%,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的相当大一部分都彼此直接接触。
30.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述回射结构化主表面中的结构包括多个锥体结构。
31.根据权利要求30所述的回射光学构造,其中所述多个锥体结构包括多个立体角。
32.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述光学膜的光学雾度为不小于约50%。
33.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述光学膜的光学雾度为不小于约70%。
34.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述光学膜的光学雾度为不小于约90%。
35.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少50%都彼此直接接触。
36.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少70%都彼此直接接触。
37.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少90%都彼此直接接触。
38.根据权利要求29所述的回射光学构造,其中所述光学膜包含多个粒子和多个互连空隙,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%,并且其中所述多个粒子与所述粘结剂的重量比为在约2∶1至约6∶1的范围内。
39.根据权利要求38所述的回射光学构造,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约50%。
40.根据权利要求38所述的回射光学构造,其中所述多个粒子与所述粘结剂的重量比为在约2∶1至约4∶1的范围内。
41.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;和
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面的第一部分上并且包含粘结剂、多个粒子和多个空隙,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,所述回射结构化主表面的所述第一部分显示具有的回射系数RA为不小于约50cd/(lux·m2)。
42.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中所述第一部分为不小于所述回射结构化主表面的约30%。
43.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中所述第一部分为不小于所述回射结构化主表面的约45%。
44.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中所述第一部分为不小于所述回射结构化主表面的约60%。
45.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,RA为不小于约100cd/(lux·m2)。
46.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,RA为不小于约200cd/(lux·m2)。
47.根据权利要求41所述的回射光学构造,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,RA为不小于约300cd/(lux·m2)。
48.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;和
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面的第一部分上并且包含粘结剂、多个粒子和多个空隙,其中对于入射角为-4度的入射可见光,所述回射结构化主表面的所述第一部分显示具有的全光返回率为不小于约5%。
49.根据权利要求48所述的回射光学构造,其中对于入射角为-4度的入射可见光,所述全光返回率为不小于约10%。
50.根据权利要求48所述的回射光学构造,其中对于入射角为-4度的入射可见光,所述全光返回率为不小于约20%。
51.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面上,并且其有效折射率为不大于约1.3。
52.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中所述回射结构化主表面包括多个锥体结构。
53.根据权利要求52所述的回射光学构造,其中所述多个锥体结构包括多个立体角。
54.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中所述光学膜的有效折射率为不大于约1.25。
55.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中所述回射光学构造中的每两个相邻主表面的至少50%都彼此直接接触。
56.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中所述光学膜基本上使所述回射层平面化。
57.根据权利要求51所述的回射光学构造,还包括光学粘合剂层,所述光学粘合剂层设置在所述光学膜和光学漫射层之间。
58.根据权利要求51所述的回射光学构造,还包括基底,所述基底设置在光学漫射层上。
59.根据权利要求58所述的回射光学构造,其中所述基底包括金属板。
60.根据权利要求51所述的回射光学构造,还包括图形层,所述图形层背对所述光学膜设置在所述回射层上。
61.根据权利要求60所述的回射光学构造,其中所述图形层为光学透射的层。
62.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中所述光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个互连空隙,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约20%,并且其中所述粘结剂与所述多个粒子的重量比为不小于约1∶1。
63.根据权利要求62所述的回射光学构造,其中所述光学膜中的所述多个互连空隙的体积百分率为不小于约50%。
64.根据权利要求62所述的回射光学构造,其中所述粘结剂与所述多个粒子的重量比为不小于约2∶1。
65.根据权利要求62所述的回射光学构造,其中所述多个粒子包括细长粒子。
66.根据权利要求62所述的回射光学构造,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅粒子,并且所述粘结剂与所述气相二氧化硅粒子的重量比为小于约1∶1。
67.根据权利要求62所述的回射光学构造,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅粒子,并且所述粘结剂与所述气相二氧化硅粒子的重量比为介于约1∶2和约1∶6之间。
68.根据权利要求51所述的回射光学构造,还包括光学漫射层,所述光学漫射层设置在所述光学膜上。
69.根据权利要求51所述的回射光学构造,其中光学漫射层为光学粘合剂。
70.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅粒子,并且所述粘结剂与所述气相二氧化硅粒子的重量比为小于约1∶1。
71.根据权利要求21所述的光学膜,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅粒子,并且所述粘结剂与所述气相二氧化硅粒子的重量比为介于约1∶2和约1∶6之间。
72.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;和
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面的第一部分上并且包含粘结剂、多个粒子和多个空隙。
73.根据权利要求72所述的回射光学构造,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,所述回射结构化主表面显示具有的回射系数RA为不小于约50cd/(lux·m2)。
74.根据权利要求72所述的回射光学构造,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅。
75.根据权利要求72所述的回射光学构造,其中所述粘结剂为可辐射固化型粘结剂和可聚合型粘结剂中的至少一种。
76.根据权利要求72所述的回射光学构造,其中对于入射角为-4度的入射可见光,所述回射结构化主表面显示具有的全光返回率为不小于约5%。
77.根据权利要求72所述的回射光学构造,其中所述光学膜的有效折射率为小于约1.3。
78.一种回射光学构造,包括:
回射层,所述回射层具有回射结构化主表面;
光学膜,所述光学膜设置在所述回射结构化主表面上,并且其有效折射率为小于约1.3。
79.根据权利要求78所述的回射光学构造,其中所述光学膜包含粘结剂、多个粒子和多个空隙。
80.根据权利要求78所述的回射光学构造,其中对于0.2度的观察角和-4度的入射角,所述回射结构化主表面显示具有的回射系数RA为不小于约50cd/(lux·m2)。
81.根据权利要求78所述的回射光学构造,其中所述多个粒子包括气相二氧化硅。
82.根据权利要求78所述的回射光学构造,其中所述粘结剂为可辐射固化型粘结剂和可聚合型粘结剂中的至少一种。
83.根据权利要求78所述的回射光学构造,其中对于入射角为-4度的入射可见光,所述回射结构化主表面显示具有的全光返回率为不小于约5%。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16953209P | 2009-04-15 | 2009-04-15 | |
US61/169,532 | 2009-04-15 | ||
PCT/US2010/031225 WO2010121019A1 (en) | 2009-04-15 | 2010-04-15 | Retroreflecting optical construction |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102458819A true CN102458819A (zh) | 2012-05-16 |
CN102458819B CN102458819B (zh) | 2014-09-03 |
Family
ID=42980786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201080025394.6A Expired - Fee Related CN102458819B (zh) | 2009-04-15 | 2010-04-15 | 回射光学构造 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8534849B2 (zh) |
EP (1) | EP2419265A4 (zh) |
CN (1) | CN102458819B (zh) |
BR (1) | BRPI1006654A2 (zh) |
IN (1) | IN2011CN07418A (zh) |
WO (1) | WO2010121019A1 (zh) |
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Legal Events
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
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Granted publication date: 20140903 Termination date: 20190415 |