CN102455822A - 触摸面板的制造方法及触摸面板 - Google Patents

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Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种触摸面板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序；在表面上具有羟基的第一基板的表面上涂布上述溶液的工序；使上述第一基板的表面和上述硅烷偶联剂化学结合、形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序；和与上述第一基板隔着间隔设置与上述第一基板中形成有上述凸部的面相对的第二基板的工序。

Description

触摸面板的制造方法及触摸面板
技术领域
本发明涉及一种触摸面板(touch panel)的制造方法及触摸面板。
背景技术
触摸面板中，已知电阻膜方式、静电电容方式、及与笔输入相对应的静电电容结合方式的触摸面板(参见日本特开2010-113516号公报)。
另外，日本特开2008-155387号公报中公开了一种层合体，所述层合体在将光聚合性组合物固化所得的厚0.1～1mm的树脂形成体的一面上形成有透明导电膜，并且树脂成型体的面上形成有具有抗牛顿环功能的凹凸，其表面粗糙度(Ra)在JIS B0601：2001中为50～150nm。
发明内容
但是，在电阻膜方式触摸面板中，虽然通过专利文献2中记载的发明能够改善由借助空气层设置的二个基板之间的吸附引起产生牛顿环，但专利文献2中形成的具有的抗牛顿环功能的凹凸较大，为在显示屏幕中能够识别凹凸存在的程度。例如，与液晶显示器等显示装置组合使用时，存在由液晶显示器显示的显示屏幕的显示品质降低的问题。
触摸面板与显示装置组合使用时，为了维持由显示装置显示的显示屏幕的显示品质、同时抑制牛顿环的产生，需要形成微小到不能识别程度的具有抗牛顿环功能的凹凸，另外需要确立该凹凸的形成方法。
本发明的目的在于提供一种触摸面板和该触摸面板的制造方法，所述触摸面板即使在与显示装置组合使用时也能维持由显示装置显示的显示图像的显示品质、并抑制牛顿环的产生。
另外，本发明的上述及其他目的和新的特征，通过本说明的叙述及附图进行说明。
用于解决上述课题的本发明的触摸面板的制造方法的特征在于包括下述工序：准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序；在表面上具有羟基的第一基板的表面涂布上述溶液的工序；使上述第一基板的表面与上述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序；与上述第一基板隔着间隔设置与上述第一基板中形成有上述凸部的面相对的第二基板的工序。
另外，上述第一基板可以为玻璃基板。另外，上述溶液中含有的上述硅烷偶联剂的量可以为0.1～0.01wt％。另外，上述第一基板可以具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极，上述第二基板在与上述第一基板相对的面上可以具有电介质膜。另外还包括下述工序：在上述电介质膜的表面上涂布上述溶液的工序；使上述电介质膜的表面与上述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。另外，上述电介质膜的电阻值可以为106～1012Ω·cm。
另外，上述第一基板具有形成于与上述第二基板相对的面上且由多个配线线路构成的第一导电膜，上述第二基板具有形成于与上述第一基板相对的面上的第二导电膜，另外，所述方法还可以包括下述工序：在上述第二基板的表面上涂布上述溶液的工序；和使上述第二基板表面与上述硅烷偶联剂化学结合，形成在结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
另外，本发明的触摸面板包括在表面上具有羟基的第一基板、和与上述第一基板隔着间隔相对的第二基板，其特征在于，在上述第一基板的与上述第二基板相对的面的表面上具有凸部，所述凸部是化学结合硅烷偶联剂形成的，且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
另外，上述第一基板可以为玻璃基板。另外，上述第一基板可以具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极，上述第二基板可以在与上述第一基板相对的面上具有电介质膜。另外，上述第一基板可以具有形成于与上述第二基板相对的面上且由多个配线线路构成的第一导电膜，上述第二基板可以具有形成于与上述第一基板相对的面上的第二导电膜。另外，上述电介质膜的电阻值可以为106～1012Ω·cm。
根据本发明，能够提供一种触摸面板，所述触摸面板即使与显示装置组合使用时也能维持由显示装置显示的显示图像的显示品质、并且抑制牛顿环的产生，本发明还提供一种所述触摸面板的制造方法。关于本发明的其他效果，可以从说明书整体的记载中明确。
附图说明
图1为说明硅烷偶联剂与无机材料化学结合的状况的图。
图2为表示第一实施方案的触摸面板的截面的一部分的图。
图3为表示第一实施方案的触摸面板被树脂笔按下表面的状况的一部分截面图。
图4为表示放大图3中的IV部分的部分放大图。
图5为表示第二实施方案的触摸面板的截面的一部分的图。
图6为表示将图5中的VI部分放大的部分放大图。
图7为表示第二实施方案的触摸面板的表面被树脂笔按下的状况的一部分截面图。
图8为表示将图7中的VIII部分放大的部分放大图。
图9为表示第三实施方案的触摸面板的截面的一部分的图。
图10为表示第三实施方案的触摸面板的表面被树脂笔按下的状况的一部分截面图。
图11为表示将图10中的XI部放大的部分放大图。
图12为表示使用了第一实施方案的触摸面板的液晶显示装置的截面的一部分的图。
具体实施方式
本实施方案的触摸面板的制造方法包括下述工序：准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序；在表面上具有羟基的第一基板的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序；使第一基板表面与硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序；与第一基板隔着间隔设置与第一基板中形成有凸部的面相对的第二基板的工序、。
首先对准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序进行说明。硅烷偶联剂是1分子中具有反应性不同的2种官能团的物质。硅烷偶联剂的通式用下式(1)表示。
Figure BSA00000595230200041
其中，上式(1)中的X为与有机材料化学结合的反应基团，例如可以举出氨基、乙烯基、环氧基、甲基丙烯酰基、巯基等，但不限定于此。另外，上式(1)中的OR为与玻璃或金属等无机材料化学结合的反应基团，例如可以举出甲氧基、乙氧基、氯等的卤代基等，但不限定于此。
更具体而言，作为能够适用本实施方案的硅烷偶联剂，例如可以举出乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、γ-脲基丙基三乙氧基硅烷等，但不限定于此。另外，本实施方案的触摸面板的制造方法中使用的含有硅烷偶联剂的溶液中，可以单独含有一种硅烷偶联剂，也可以含有组成不同的多种硅烷偶联剂。含有硅烷偶联剂的溶液中所含的溶剂，使用乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类溶剂或甲苯、二甲苯等烃类溶剂。
此处，一直以来，通常将硅烷偶联剂分散在稀释水溶液中进行使用。通过将硅烷偶联剂添加到有水存在的溶剂中，硅烷偶联剂分子内容易形成硅烷醇基。并且，通过在硅烷偶联剂的分子间各个硅烷醇基之间进行缩合反应，能够促进硅氧烷键的生成。结果，来自大的分子结构的硅烷偶联剂能够形成被膜，且能够形成均匀的表面处理。但是，本实施方案的触摸面板的制造方法中，相比由硅烷偶联剂形成的均匀的表面处理，优选在表面上无规则地形成微小的凸部。因此，本实施方案的触摸面板的制造方法中不优选下述内容，即，通过在溶剂中混入水分使硅烷偶联剂的烷基甲硅烷基改性为硅烷醇基，由在硅烷偶联剂的分子间发生的缩合反应形成的凸部的尺寸变大，另外根据缩合反应的进度凸部的大小也变得不同。
因此，优选溶剂中水分较少。溶剂中含有的水优选为0wt％～2.0wt％，更优选为0wt％～1.0wt％，特别优选为0wt％～0.5wt％。
将99.0～99.99重量份准备的溶剂和1.0～0.01重量份硅烷偶联剂混合，使整体为100重量份，制备含有硅烷偶联剂的溶液。含有硅烷偶联剂的溶液的制备优选如下进行，即，预先将溶剂加入到烧杯等容器中，一边搅拌溶剂一边缓缓地添加硅烷偶联剂，添加硅烷偶联剂后30分钟左右再进行搅拌。搅拌后，溶液内不溶物、悬浮物明显时，优选预先除去不溶物、悬浮物。优选例如通过使用孔径0.5μm以下的滤芯(cartridge)进行循环过滤处理，预先除去不溶物、悬浮物。
此处，添加到溶液中的硅烷偶联剂优选在溶液中的浓度为0.1～0.01wt％。通过使硅烷偶联剂在溶液中的浓度为0.1～0.01wt％，能够进一步提高抑制牛顿环的效果。低于0.01wt％时，抑制牛顿环的效果降低，超过0.1wt％进行添加时，在成本上不优选。
接下来，对在表面上具有羟基的第一基板的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序进行说明。作为表面上具有羟基的材料，有玻璃、金属、单晶硅等无机材料。第一基板的表面优选预先进行UV清洗。通过进行UV清洗，能够除去附着在第一基板表面上的有机物等，并且本工序中的凸部的形成变得均质。
含有硅烷偶联剂的溶液的涂布可以使用旋涂机进行，也可以使用辊涂机进行，另外也可以通过喷涂进行。另外，含有硅烷偶联剂的溶液的涂布不限定于上述方法。
接下来，针对下述工序进行说明，即，在表面上具有羟基的第一基板的表面涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序、和使第一基板表面与硅烷偶联剂进行化学结合、形成在结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
图1为说明硅烷偶联剂与第一基板100化学结合的状况的图。如图1所示，与由无机材料形成的第一基板100化学结合形成的凸部10，在结构中具有来自硅烷偶联剂结构的氧化硅骨架(-Si-O-)和有机官能团(X)。硅烷偶联剂的分子中含有的反应基团(式(1)中的-OR基)与空气中的水反应形成羟基(硅烷醇基)。硅烷偶联剂的分子中形成的羟基的一部分与其他硅烷偶联剂的分子中形成的羟基部分地进行缩合反应。另外，硅烷偶联剂的分子中形成的羟基的另外一部分吸附在无机材料的表面上存在的羟基11的位置并形成氢键，进行脱水缩合，从而进行化学结合。
形成凸部10的工序如下进行，即，将通过在第一基板100的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序涂布的溶液风干，由此挥发溶液的溶剂、并且使第一基板100的表面与硅烷偶联剂进行化学结合的反应。
另外，形成凸部10的工序，优选不仅通过风干而且进行加热处理来促进第一基板100的表面与硅烷偶联剂化学结合的反应。例如，加热处理优选在140℃～50℃/1分钟～5分钟的条件下进行。另外，更优选在110℃～60℃/1分钟～5分钟的条件下进行。
最后，对与第一基板100隔着间隔设置与第一基板100中形成有凸部10的面相对的第二基板200的工序进行说明。与第一基板100隔着间隔设置与第一基板100中形成有凸部10的面相对的第二基板200的工序如下实现，即，在第一基板100中形成有凸部10的面上形成间隔点(dot spacer)，进而叠在间隔点上设置第二基板200。
另外，代替上述间隔点，将凸部10与第二基板200直接重叠，也能实现与第一基板100隔着间隔设置与第一基板100中形成有凸部10的面相对的第二基板200的工序，所述凸部通过与硅烷偶联剂化学结合在第一基板100上形成、且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
以下，具体说明本实施方案的触摸面板的制造方法和所制造的触摸面板适用的例子。
[第一实施方案]
本实施方案的触摸面板1的制造方法适用于可以进行笔输入·多点检测的静电电容触摸面板和所谓电阻膜方式触摸面板。第一实施方案的触摸面板1是可进行笔输入·多点检测的静电电容触摸面板。
图2为表示第一实施方案的触摸面板1的截面的一部分的图。通过本实施方案的触摸面板1的制造方法制造的、第一实施方案的触摸面板1包括在表面上具有羟基的第一基板100和与第一基板100隔着间隔相对的第二基板200，在第一基板100的与第二基板200相对的面的表面上具有凸部10，所述凸部10是化学结合硅烷偶联剂形成的、且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
第一实施方案的触摸面板1中的第一基板100使用透明基板(玻璃基板)101。在透明基板101上具有由多个配线线路构成的第一电极102及第二电极103。第一绝缘膜104、第二绝缘膜105均形成分别保护第一电极102、第二电极103的配线保护用的钝化膜的结构。并且，第一绝缘膜104、第二绝缘膜105均可以通过CVD(ChemicalVapor Deposition)法、沉淀法由SiO2、磷硅酸盐玻璃等形成。
在第一基板100的最表面、即第二绝缘膜105的表面上形成凸部10，所述凸部10是与硅烷偶联剂化学结合形成的，且在结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
对第一实施方案的触摸面板1的制造方法进行说明。首先，在烧杯中秤量99.9wt％乙酸乙酯，一边进行搅拌一边缓缓加入0.1wt％γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(KBE903，信越化学工业株式会社制)。将γ-氨基丙基三乙氧基硅烷全部添加到乙酸乙酯中后30分钟再进行搅拌。搅拌后，虽然溶液内未见不溶物、悬浮物等，但使用孔径0.5μm以下的滤芯进行循环过滤处理。由此制备含有硅烷偶联剂的溶液。
形成有凸部10的第一基板100的表面预先在Deep/UV(远紫外线)、200s的条件下进行UV清洗。通过进行UV清洗，能够除去附着在第一基板100的表面上的有机物等，形成凸部10的工序中凸部10的形成变得均质。
在500rpm/15秒的条件下、使用旋涂机将已制备的含有硅烷偶联剂的溶液涂布在如上所述预先进行了UV清洗的第一基板100的表面上。涂布后，在60℃/1分钟的条件下使用加热板进行加热处理，使含有硅烷偶联剂的溶液中含有的溶剂(乙酸乙酯)挥发，同时通过使第一基板100的表面与硅烷偶联剂进行化学结合反应，在第一基板100上形成凸部10。形成的凸部10为半球状，高度为20μm，直径为
Figure BSA00000595230200081
并且，凸部10被无规则地配置在第一基板100的表面上，目视不能识别。如果鉴于将第一实施方案的触摸面板1与显示面板组合使用的情况，凸部10的高度优选为0.1mm以下。
然后，在形成有凸部10的第一基板100上进一步配置间隔点301。间隔点301起到作为用于在第一基板100和第二基板200之间形成空气层300的隔片的作用。在第一基板100的表面上以预先设定的一定间隔规则地配置间隔点301。其中，第一实施方案的触摸面板1中使用的间隔点301为直径0.2mm的透明珠。即，与第一基板100中形成有凸部10的面相对的第二基板200与第一基板100隔着0.2mm的间隔进行设置。
如图2所示，第二基板200如下构成，即，包括与间隔点301接触的电介质膜204、由透明弹性体形成的透明弹性膜202、将电介质膜204与透明弹性膜202贴合的膜203和用于保护触摸面板免受机械损伤的前窗(front window)。
图3为表示第一实施方案的触摸面板1被树脂笔2按下表面的状况的一部分截面图。图4为表示将图3中的IV部分放大的部分放大图。
通过第二基板200的表面被树脂笔2按下，第一实施方案的静电电容结合方式的触摸面板1中含有的电介质膜204追随第一基板100侧被按下。被按下的电介质膜204通过与凸部10接触形成静电电容(电容器)。通过该静电电容流过微弱电流，第一基板100上具有的第一电极102、第二电极103检测该流过的微弱电流的变化部分，从而检测出电介质膜204与凸部10接触的位置。
通过第二基板200的表面被树脂笔2按下，第一实施方案的静电电容结合方式的触摸面板1中含有的电介质膜204追随第一基板100侧被按下，与第一基板100接触。如图4所示，电介质膜204与第一基板100接触的区域由于存在凸部10，所以不是整面接触，在接触区域的一部分形成空气层300。通过形成该空气层300，第一基板100和第二基板200不发生吸附，因此抑制了牛顿环的产生。
另外，电介质膜204只要形成静电电容即可，优选电阻值为106～1012Ω·cm的电介质膜。即，可以不为金属之类的具有低电阻值的材料，只要电阻值满足106～1012Ω·cm的条件，也可以为有机材料。
另外，本实施方案的触摸面板1的制造方法还可以包括下述工序：在电介质膜204的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序；使电介质膜204的表面与硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部10的工序。通过包括上述工序，第一实施方案的触摸面板1可以在电介质膜204的与第一基板100相对的面上具有凸部10。
需要说明的是，电介质膜204由有机材料形成时，也能在电介质膜204的与第一基板100相对的面上具有凸部10。这是由于，聚酰亚胺、丙烯酸等所谓有机材料的表面理论上在表面上不具有羟基，但通过由空气中的氧引起的氧化分解反应或由残留双键的氧化等形成的反应部位可以与硅烷偶联剂反应。
第二基板200的表面被树脂笔2按下时，由于在第一基板100及第二基板200上分别形成有凸部10，所以与只在第一基板100上形成凸部10的情况相比，电介质膜204和第一基板100接触的区域形成更多的空气层300。因此，第一基板100和第二基板200更不会发生吸附，所以抑制了牛顿环的产生。
将第一实施方案的触摸面板1组装到液晶显示装置中使用，确认由显示装置显示的显示屏幕的品质是否下降，结果未见品质下降。
[第二实施方案]
除在第一实施方案的触摸面板1中不具有间隔点301的方面之外、利用与第一实施方案的触摸面板相同的制造方法制造第二实施方案的触摸面板1。
图5为表示第二实施方案的触摸面板1的截面的一部分的图。图6为表示将图5中的VI部分放大的部分放大图。如图5及图6所示，第二实施方案的触摸面板1的凸部10起到隔片的作用，在第一基板100和第二基板200之间，形成有由凸部10的高度产生的空气层300。
图7为表示第二实施方案的触摸面板1被树脂笔2按下表面的状况的一部分截面图。图8为表示将图7中的VIII部分放大的部分放大图。
通过第二基板200的表面被树脂笔2按下，第二实施方案的静电电容结合方式的触摸面板1中含有的电介质膜204追随第一基板100侧被按下。被按下的电介质膜204通过与第二绝缘膜105接触，蓄积在电介质膜204中的静电电容(电容器)发生变化。并且，通过该静电电容流过的微弱电流也发生变化，第一基板100中具有的第一电极102、第二电极103检测该变化部分，从而检测出电介质膜204和凸部10接触的位置。
如图8所示，电介质膜204和第一基板100接触的区域由于存在凸部10，所以不是整面接触，在接触区域的一部分形成空气层300。通过形成该空气层300，第一基板100和第二基板200不发生吸附，因此抑制了牛顿环的产生。
另外，第二实施方案的触摸面板1中的电介质膜204也只要形成静电电容即可，优选电阻值为106～1012Ω·cm的电介质膜。即，可以不为金属之类的具有低电阻值的材料，只要电阻值满足106～1012Ω·cm的条件即可，也可以为有机材料。
另外，第二实施方案的触摸面板1的制造方法中也可以进一步包括下述工序：在电介质膜204的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序；使电介质膜204的表面与硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部10的工序。通过进一步包括上述工序，第二实施方案的触摸面板1在电介质膜204的与第一基板100相对的面上具有凸部10。第二基板200的表面被树脂笔2按下时，由于第一基板100及第二基板200上分别形成有凸部10，所以与只在第一基板100上形成凸部10的情况相比，电介质膜204和第一基板100接触区域形成更多的空气层300。因此，第一基板100和第二基板200更不发生吸附，所以抑制了牛顿环的产生。
将第二实施方案的触摸面板1组装到液晶显示装置中，确认由显示装置显示的显示屏幕的品质是否下降，结果未见品质下降。
[第三实施方案]
第三实施方案的触摸面板1为电阻膜方式触摸面板。图9为表示第三实施方案的触摸面板1的截面的一部分的图。根据本实施方案的触摸面板1的制造方法制造的第三实施方案的触摸面板1，在第一基板100上具有形成于与第二基板200相对的面上的、由多个配线线路构成的第一导电膜106，在第二基板200上具有形成于与第一基板100相对的面上的第二导电膜205。
第三实施方案的触摸面板1中的第一基板100使用透明基板(玻璃基板)101。在透明基板101上具有由多个配线线路构成的第一导电膜106。在第一基板100的最表面即第一导电膜106的表面上形成有凸部10，所述凸部10是与硅烷偶联剂化学结合形成的，且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
对第三实施方案的触摸面板1的制造方法进行说明。首先，在烧杯中秤量99.99wt％乙酸乙酯，一边进行搅拌一边缓缓地加入0.01wt％γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(KBE903，信越化学工业株式会社制)。将全部γ-氨基丙基三乙氧基硅烷添加到乙酸乙酯中后30分钟再进行搅拌。搅拌后，虽然溶液内未见不溶物、悬浮物等，也使用孔径0.5μm以下的滤芯进行循环过滤处理。由此制备含有硅烷偶联剂的溶液。
形成凸部10的第一导电膜106由ITO(氧化铟锡(Indium TinOxide))等透明导电材料形成，其表面上存在用于与硅烷偶联剂化学结合的羟基。预先在Deep/UV(远紫外线)、200s的条件下对第一导电膜106的表面进行UV清洗。优选将形成凸部10的第一导电膜106的表面预先进行UV清洗。通过进行UV清洗，能够除去附着在第一导电膜106的表面上的有机物等，本工序中的凸部10的形成变得均质。
在1500rpm/30秒的条件下、使用旋涂机将已制备的含有硅烷偶联剂的溶液涂布在如上所述准备的第一导电膜106表面上。涂布后，在60℃/1分钟的条件下使用加热板进行加热处理，使含有硅烷偶联剂的溶液中含有的溶剂(乙酸乙酯)挥发，同时通过使第一导电膜106的表面与硅烷偶联剂进行化学结合的反应，在第一基板100上形成凸部10。形成的凸部10为半球状，高度为20μm，平面方向的宽度为60μm。凸部10被无规则地配置在第一基板100的表面上，且目视不能识别。如果鉴于将第三实施方案的触摸面板1与显示面板组合使用的情况，凸部10的高度优选为0.1mm以下。
然后，在形成有凸部10的第一基板100上进一步配置间隔点301。
间隔点301起到作为用于在第一基板100和第二基板200之间形成空气层300的隔片的作用。在第一基板100的表面上以预先设定的一定间隔有规则地配置间柱301。其中，第三实施方案的触摸面板1中使用的间隔点301为直径0.3mm的透明珠。因此，与第一基板100中形成有凸部10的面相对的第二基板200和第一基板100以隔着0.3mm的间隔进行设置。
如图9所示，第二基板200如下构成，即，包括与间隔点301相接触的第二导电膜205和具有挠性的透明基板201。第二导电膜205也与第一导电膜106同样地由ITO等透明导电材料形成。
图10为表示第三实施方案的触摸面板1被树脂笔2按下表面的状况的一部分截面图。图11为表示将图10中的XI部分放大的部分放大图。
通过第二基板200的表面被树脂笔2按下，第三实施方案的电阻膜方式的触摸面板1中含有的第二导电膜205追随第一基板100侧被按下，与第一导电膜106接触。如图11所示，第一导电膜106与第二导电膜205接触的区域由于存在凸部10，所以不是整面接触，在接触区域的一部分形成空气层300。通过形成该空气层300，第一基板100与第二基板200不发生吸附，因此抑制了牛顿环的产生。
另外，在第三实施方案的触摸面板1中，也可以进一步包括下述工序，所述触摸面板1的第一基板100具有形成于与第二基板200相对的面上的由多个配线线路构成的第一导电膜106，第二基板200具有形成于与第一基板100相对的面上的第二导电膜205，所述工序包括：在第二基板200的表面上涂布含有硅烷偶联剂的溶液的工序；和使第二基板200的表面与硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部10的工序。
第二基板200的表面被树脂笔2按下时，由于在第一基板100及第二基板200上分别形成有凸部10，所以与只在第一基板100上形成凸部10的情况相比，第一导电膜106与第二导电膜205接触的区域形成了更多的空气层300。因此，第一基板100与第二基板200更不会发生吸附，所以抑制了牛顿环的产生。
将第三实施方案的触摸面板1组装到液晶显示装置中，确认由显示装置显示的显示屏幕的品质是否下降，结果未见品质下降。
此处，对将上述第一～第三实施方案的触摸面板1组装到液晶显示装置中进行使用的形态进行说明。图12为表示使用第一实施方案的触摸面板1的液晶显示装置50的截面的一部分的图。如图12所示，可以通过在具有显示功能的液晶显示面板51的显示部侧(与液晶显示面板51的背光源52侧相反的一侧)重叠配置第一实施方案的触摸面板1，在液晶显示装置50上使用第一实施方案的触摸面板1。对于第二、第三实施方案的触摸面板，也可以同样地用于液晶显示装置中。另外，第一～第三实施方案的触摸面板1也可以用于自发光显示装置的有机EL显示装置代替液晶显示装置。
虽然本说明书中已经描述了目前被认为是本发明的一些实施方式，但应该理解为可以对其进行各种变形，并且所附的权利要求覆盖所有落入本发明的主旨和范围内的所有变形例。
符号说明
1触摸面板、2树脂笔、10凸部、11羟基、100第一基板、101透明基板、102第一电极(X电极)、103第二电极(Y电极)、104第一绝缘膜、105第二绝缘膜、106第一导电膜、200第二基板、201具有挠性的透明基板、202透明弹性膜、203膜、204电介质膜、205第二导电膜、300空气层。

Claims (12)

1.一种触摸面板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：
准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序；
在表面上具有羟基的第一基板的表面上涂布所述溶液的工序；
使所述第一基板的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序；和
与所述第一基板隔着间隔设置与所述第一基板中形成有所述凸部的面相对的第二基板的工序。
2.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板为玻璃基板。
3.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述溶液中含有0.1～0.01wt％的所述硅烷偶联剂。
4.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极；
所述第二基板在与所述第一基板相对的面上具有电介质膜。
5.如权利要求4所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，还包括下述工序：
在所述电介质膜的表面上涂布所述溶液的工序；和
使所述电介质膜的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
6.如权利要求4所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述电介质膜的电阻值为106～1012Ω·cm。
7.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板具有形成于与所述第二基板相对的面上的由多个配线线路构成的第一导电膜；
所述第二基板具有形成于与所述第一基板相对的面上的第二导电膜；
并且，所述方法还包括下述工序：
在所述第二基板的表面上涂布所述溶液的工序；和
使所述第二基板的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
8.一种触摸面板，其特征在于，包括：
在表面具有羟基的第一基板；和
与所述第一基板隔着间隔相对的第二基板，
其中，在所述第一基板的与所述第二基板相对的面的表面上具有凸部，所述凸部是通过与硅烷偶联剂化学结合形成的，且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
9.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板为玻璃基板。
10.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极；
所述第二基板在与所述第一基板相对的面上具有电介质膜。
11.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板具有形成于与所述第二基板相对的面上的由多个配线线路构成的第一导电膜；
所述第二基板具有形成于与所述第一基板相对的面上的第二导电膜。
12.如权利要求10所述的触摸面板，其特征在于，
所述电介质膜的电阻值为106～1012Ω·cm。
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