JP2011197207A - 液晶表示装置および電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】耐水性が高い耐久性に優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に無機配向膜を備える液晶表示装置であって、前記無機配向膜の表面に化学結合させて結合されたシランカップリング剤を主体とするナノ重合薄膜を形成した。
【選択図】図2

Description

本願発明は、液晶表示装置および電子機器に関する。
従来、投射型表示装置、いわゆるプロジェクターのライトバルブや、携帯電話等の表示装置として液晶表示装置が広く採用されている。液晶表示装置は、互いに対向する2枚の基板間に液晶を保持し、2枚の基板の液晶側の面には液晶分子の配列を制御する配向膜が形成されている。
従来、配向膜にはポリビニールアルコールやポリイミドを基板上に塗布し、ラビングにより配向性を付与し形成していた。しかし、この有機配向膜では液晶表示装置の大型化に伴う信頼性の確保が困難となっていた。そこで、信頼性確保のために、更に有機配向膜上にシランカップリング剤の単分子膜を形成し、配向性能を高める技術が用いられた(特許文献1)。
また、近年は有機配向膜から無機材料によって配向膜を基板上に形成した液晶表示装置が実用化された。しかし、この無機配向膜は耐水性に劣る欠点があり、特許文献1のようなシランカップリング剤を無機配向膜表面に装飾し、撥水(疎水)性能を付与することが知られている(特許文献2)。
特開平8−262452号公報 特開2008−83325号公報
しかし、上述の特許文献2の技術では、無機配向膜上にはシランカップリング剤の単分子膜が基板上の配向膜の配向方向に結合した状態であり、柱状(カラム状)に形成される無機配向膜のカラム間にはシランカップリング剤が十分に堆積しない。その結果、無機配向膜に十分な撥水(疎水)性能を付与することができず、耐水性能の不十分な液晶表示装置となってしまっていた。
そこで、耐水性の優れたシランカップリング剤が装飾された無機配向膜を形成した基板を備える液晶表示装置を提供する。
本願発明は、少なくとも上述の課題の一つを解決するように、下記の形態または適用例として実現され得る。
〔適用例1〕本適用例による液晶表示装置は、対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に無機配向膜を備える液晶表示装置であって、前記無機配向膜の表面に化学結合させて結合されたシランカップリング剤を主体とするナノ重合薄膜を形成したことを特徴とする。
上述の適用例によれば、カラム状の無機配向膜の間に露出するTFT基板の配線(ITO)と封入される液晶との直接接触を回避し、液晶の耐久性を向上させることができる。また、無機配向膜の耐水性を向上させることができ、画像表示品質の低下を抑制することができる。
〔適用例2〕上述の適用例において、前記ナノ重合薄膜が形成された前記基板の平均表面粗さRaTが、前記ナノ重合薄膜の形成直前の前記基板の平均表面粗さRaNに対して、
(RaN−RaT)≧5nm、であることを特徴とする。
〔適用例3〕上述の適用例において、前記シランカップリング剤は、直鎖状の炭素鎖を8〜18有するシラン化合物を主体とすることを特徴とする。
上述の適用例によれば、液晶表示装置の光透過率を向上させることができ、明るくコントラストの良い画像が表示できる液晶表示装置を得ることができる。
〔適用例4〕上述の液晶表示装置を備えた電子機器。
上述の適用例によれば、画像表示の耐久性が高く、明るくコントラストの良い画像を表示できる液晶表示装置を備える電子機器を得ることができる。
実施形態に係る液晶表示装置を示し、(a)は平面図、(b)はA−A’部の概略拡大断面図。 図1(b)におけるB部を模式的に示す拡大図。 実施形態に係る装飾皮膜の構造を説明する概念図。 本願発明の電子機器の事例を示す概略斜視図。
以下、図面を参照して、本願発明に係る実施形態を説明する。
(実施形態)
図1は実施形態に係る液晶表示装置を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A’部の概略拡大断面図である。液晶表示装置100は、図1(b)に示すようにTFT基板10と、TFT基板10に対向配置される対向基板20とを備え、TFT基板10と対向基板20との間にシール材30によって液晶40が封入されている。TFT基板10の対向基板20に対向する面には画像表示領域10aを備え、画像表示領域10aを囲うようにシール材30が設けられている。
シール材30の外側の領域には、走査線に走査信号を供給する走査線駆動素子61と、データ線に画像信号を供給するデータ線駆動素子62とが実装されている。走査線駆動素子61とデータ線駆動素子62からは、TFT基板10の端部に設けた接続端子70にかけて配線71が引き回されている。
また、対向基板20(図1(a)には図示せず)には、画像表示領域10aのほぼ全域に対応する範囲に、共通電極20aが形成され、共通電極20aの四隅には基板間導通部80が形成されている。基板間導通部80からは、接続端子70まで配線72が引き回されている。そして、接続端子70を介して外部から入力された各種信号によって、画像表示領域10aに画像が表示されるように液晶表示装置100が駆動される。
図2は、図1(b)のB部を拡大し、模式的に描いた断面図である。TFT基板10の液晶側の面となる画像表示領域10aには、液晶40の液晶分子の向きを所定の方向に揃える無機物による無機配向膜11が形成されている。無機配向膜11は蒸着、スパッタ等の方法によって無機化合物、例えばSiO、SiO2、MgF、Al23、TiO2等により形成されている。更に、この無機配向膜11の表面にはシランカップリング剤による装飾皮膜12が形成されている。
装飾皮膜12は、気相法、例えばCVD法などにより長鎖アルキル基を含んだシランカップリング剤溶液を処理チャンバー内に蒸気導入し、TFT基板10に形成した無機配向膜11表面に堆積させ、その後、重合により3次元的に結合させたナノ重合薄膜である。シランカップリング剤とは、1分子中に有機官能基と、2〜3の無機物と反応する官能基を有するもので、次式によって表されるものである。
Figure 2011197207
使用されるシランカップリング剤としては、直鎖状の炭素鎖が8〜18有するシラン化合物を主体とするものが好適に用いられる。特に、デシルトリメトキシシラン(CH3(CH29Si(OCH33)は炭素鎖10を持ち、耐光性能と耐湿性のバランスが良く、より好ましい。しかし、その他のシランカップリング剤であっても、撥水性能および耐光性能の良好なものであれば良く、上述の(化1)における有機官能基Yがアルキル基であるものが好適に用いられる。また、加水分解基には、例えばメトキシ基(−O−CH3)、エトキシ基(−O−C25)などの分子量が小さく、無機配向膜11の表面に反応、結合した際に立体障害が起こりにくい基が好適に用いられる。
ナノ重合薄膜である3次元的な結合状態について説明する。図3は、装飾皮膜12を拡大し模型的に示した図であり、無機配向膜11の表面のSiと、シランカップリング剤の加水分解によってOと結合し、先端部に長鎖アルキル基12bを持つシランカップリング剤の単分子12aとして形成される。ここに、後述する製造過程において水蒸気を供給することで、加水分解は促進され、シランカップリング剤は単分子12aの中のSiとも結合し、装飾皮膜12が形成される。すなわち、従来の無機配向膜11上に単分子12aが単層で膜状に配列されただけでなく、複合的に結合して薄膜状態となっているものをナノ重合薄膜と言う。
なお、上述では気相法によって装飾皮膜12の形成を行うことを説明したが、他にも液相法によっても形成することができる。無機配向膜11が形成されたTFT基板10を、シランカップリング剤の溶液内に所定時間浸漬させ、無機配向膜11の表面上に堆積させ、結合反応によってナノ重合薄膜を形成し装飾皮膜12となる。
装飾皮膜12は、上述の通りシランカップリング剤の長鎖アルキル基を含む分子を堆積させた後に重合させることにより、3次元的に分子が結合した皮膜、いわゆるナノ重合薄膜となっている。このように装飾皮膜12を形成させるので、カラム状の無機配向膜11の隣り合うカラム間の隙間11aにも装飾皮膜12が形成され、液晶40が直接にTFT基板10の表面、特に図示されていないが、TFT基板10に形成されているITO配線に触れることがなく、液晶40の劣化を防止することができる。
また、隙間11aをもって無機配向膜11が形成されているため、無機配向膜11を含むTFT基板10の表面粗さは粗くなってしまい、光透過率を低下させる要因にもなっていたが、装飾皮膜12により、無機配向膜11の凸凹をレベリングする作用によって、光透過率を向上させることもできる。上述の実施形態では、例えば可視紫外光の透過率では、装飾皮膜12を形成することにより15%程度の透過率の向上が認められる。
このレベリングの程度としては、装飾皮膜12の形成前後における表面粗さの差によって評価することができる。また、表面粗さの差によって装飾皮膜12の形成状態を評価することができ、装飾皮膜12が形成されたTFT基板10の装飾皮膜12形成面の平均表面粗さRaTが、装飾皮膜12の形成直前となる無機配向膜11までが形成されたTFT基板10の平均表面粗さRaNに対して、(RaN−RaT)≧5nmであると、無機配向膜11のカラム間の隙間11aまで装飾皮膜12であるシランカップリング剤のナノ重合薄膜が形成された状態となっている。
カラム間の隙間11aにまで装飾皮膜12が形成されることにより、基板間に封入される液晶40が直接にTFT基板10、対向基板20の配線と接触することが無く、液晶の耐久性を劣化させない基板を得ることができる。
上述の説明ではTFT基板10を代表に記載したが、対向基板20であっても無機配向膜11を形成した場合には、同様に装飾皮膜12を形成する。
〔製造方法〕
上述の液晶表示装置100のTFT基板10面および対向基板20面への装飾皮膜12の形成方法について説明する。以下はTFT基板10を例にして説明するが、対向基板20についても同様の方法により、装飾皮膜を形成することができる。
遮蔽膜、半導体層、走査線、データ線、その他の配線、および画素電極までを形成し、更に液晶側表面に斜方蒸着により無機配向膜11が形成された基板を準備する。準備された基板は、処理前に十分な洗浄を行う。
次に、前述の基板をCVD装置のチャンバー内に格納する。チャンバー内を減圧加熱し、無機配向膜11の吸着水分量を所定の範囲になるようにチャンバー環境を制御する。次に、装飾皮膜12の原料シランカップリング剤を、飽和水蒸気圧の30〜90%の圧力でチャンバー内に導入し気化させる。このとき、シランカップリング剤の一部がシラノール化する。導入されたシランカップリング剤と、無機配向膜11の表面のヒドロキシル基とを60〜190℃の条件下で重合させ、ナノ重合薄膜の装飾皮膜12を徐々に無機配向膜11表面上に形成する。
シランカップリング剤の導入と平行して水蒸気を導入することで、加水分解を促進しシランカップリング剤の3次元的な重合、すなわち無機配向膜11表面のSiとの結合だけではなく、シランカップリング剤のSiとも結合しながら重合が進行し、緻密なナノ重合薄膜の形成を促進する。
シランカップリング剤の導入を停止し、重合環境を維持して、反応を終了させ装飾皮膜12の形成が完了する。以上、CVD法(気相法)による装飾皮膜12の製造方法の概略であるが、上述したように液相法によっても装飾皮膜12を形成することができる。液相法の場合は次の概略方法による。
無機配向膜を形成した基板を洗浄、乾燥し清浄な基板を準備する。洗浄された基板を、シランカップリング剤濃度を約1%とした処理液に浸漬し、約1秒間、基板を動かさず放置し、2mm/secのスピードで基板を浸漬液から引き上げる。引上げ後に洗浄、例えばIPA洗浄を行い、クリーンオーブンにて160℃×2時間の乾燥を行い、装飾皮膜12の形成処理が完了する。
〔電子機器〕
上述の液晶表示装置を備えた電子機器の例について説明する。図4(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図であり、図4(a)に示すように携帯電話200の表示部201に本願発明の液晶表示装置が用いられている。
図4(b)は、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。携帯型情報処理装置300は、キーボードなどの入力部301、情報処理装置本体303、液晶表示部302を備え、液晶表示部302に本願発明の液晶表示装置が用いられている。
図4(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。時計本体400は、液晶表示装置401を備え、液晶表示装置401に本願発明の液晶表示装置が用いられている。
図4に示すような電子機器は、表示部に上述の本願発明の液晶表示装置を適用したものであり、高い耐久性を持った液晶表示装置を備えた電子機器を実現できる。
10…TFT基板、11…無機配向膜、12…装飾皮膜、40…液晶。

Claims (4)

  1. 対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に無機配向膜を備える液晶表示装置であって、
    前記無機配向膜の表面に化学結合させて結合されたシランカップリング剤を主体とするナノ重合薄膜を形成した、
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記ナノ重合薄膜が形成された前記基板の平均表面粗さRaTが、前記ナノ重合薄膜の形成直前の前記基板の平均表面粗さRaNに対して、
    (RaN−RaT)≧5nm
    である、
    ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記シランカップリング剤は、直鎖状の炭素鎖を8〜18有するシラン化合物を主体とする、
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
  4. 請求項1から3のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えた、ことを特徴とする電子機器。
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