CN102343547A - 一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液 - Google Patents

Abstract

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法，在抛光过程中加热抛光盘，抛光盘的温度为30℃-100℃；该抛光法采用的抛光液，由复合磨料、pH复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水组成，其中复合磨料由硬质磨料和软质磨料两种磨料粒子混合构成，pH调节剂由有机强碱和有机弱碱组成，抛光液的pH值为8-13。本发明的优点：在抛光过程中通过加热铸铁抛光盘，促进抛光液与蓝宝石衬底材料的反应速率，从而提高了抛光的效率；抛光液中使用复合磨料可以避免表面划痕和亚表层裂缝等问题，以获得高质量、高平整度的表面性状，同时兼顾了抛光的效率；该抛光液还具备稳定性高、不腐蚀设备、易清洗等优点。

Description

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液

技术领域

本发明涉及微电子辅助材料及加工工艺技术领域，特别是一种用于蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液。

背景技术

蓝宝石集优良的光学、物理和化学性能于一体，与天然的宝石有着相同的光学性能、力学性能、热学性能、电气性能和介电特性，并且化学性质稳定、防腐蚀，莫氏硬度达到9级，仅次于金刚石的硬度。由于蓝宝石本身具有优良的性质故其已经广泛被应用于国防、科研、工业等领域，在其众多的应用中由于蓝宝石与GaN之间的晶格常数失配率小，所以现阶段是最主要的GaN薄膜外延衬底之一。由于GaN被誉为第三代半导体材料，其有着很广泛的应用，但是GaN很难制作块体材料，必须要在其他的衬底材料上生长GaN薄膜。在众多的衬底材料中蓝宝石被实践证明是最适合GaN生长的衬底材料。目前已经在蓝宝石衬底上外延生长出了GaN薄膜，并且已经研发出GaN基的蓝色发光二极管及激光二极管。

要想外延生长出高质量的GaN薄膜，必须对衬底材料进行抛光以得到平整光亮、晶格完整的清洁表面。衬底表面质量直接影响着外延层的质量，器件的性能参数及产品的成品率。所以应用于制造生产的蓝宝石衬底材料必须经过抛光才能应用到实际的生产中去。蓝宝石的抛光方法一般有机械、化学和机械化学的抛光方法。机械抛光是用硬质磨料对晶片抛光，但是蓝宝石的莫氏硬度为9仅次于金刚石，故机械研磨很难将其表面抛光，而且这种靠机械力抛光的加工方法使衬底表面质量不高而且存在较深的亚表层损伤，导致产品性能和加工成品率的降低；化学抛光其抛光速率低而且抛光的表面形貌的精度会降低；化学机械抛光综合了机械和化学抛光的优势，在抛光速率、抛光精度、表面损伤方面有着明显的提高。以上所述蓝宝石的抛光方法都有其各自的特点，但是对于切割完表面具有较深划痕的蓝宝石晶片其抛光的加工效率较低，要得到较好的表面质量需要较长的时间，且抛光后表面还会出现腐蚀坑和亚表面层有微裂缝等问题。这些问题与抛光过程中所使用的抛光液有着机密切的关系。目前关于蓝宝石抛光方法和抛光液已经有了相关的报道。下面是各种有关蓝宝石抛光的方法。

专利（CN1203965C）掺钛蓝宝石晶体激光棒的表面加工方法介绍一种掺钛蓝宝石晶棒端面的加工方法，能够得到较平整的断面表面，晶格表面完整平滑，而且在这种表面上沉积的薄膜具有很高的激光破坏阈值，因此非常适合用于制作激光器件的衬底。但是抛光过程中涉及到了高温热处理及酸液腐蚀，这使得加工过程能量消耗过大，酸液腐蚀对设备的要求也提高了，蓝宝石晶棒加工完成后的废液处理使加工成本增加。

专利（CN1289261C）光学蓝宝石晶体基片的研磨工艺公开了一种蓝宝石晶体基片的研磨方法，包括粗磨、精磨、抛光三个步骤。此方法能够有效地降低蓝宝石衬底表面的粗糙度，但是采用硬度比蓝宝石大的金刚石磨料在研磨抛光的过程中容易造成蓝宝石衬底亚表层裂缝。

专利（CN100556619C）蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法介绍了一种碱性抛光液其磨料为SiO₂。整个抛光过程分为两步第一步粗抛，第二步精抛。由于采用的磨料SiO₂ 莫氏硬度小于蓝宝石，故抛光的速率不是很高，整个衬底材料加工的效率不高。

专利（CN100528480C）蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法介绍了一种利用强化学作用来提高抛光速率的方法，但是此方法抛光后的蓝宝石衬底材料表面粗糙度无法控制，且由于过强的化学方应会在表面出现腐蚀坑。

专利（CN101604666A）蓝宝石衬底及抛光方法与应用介绍了一种蓝宝石衬底材料的抛光方法，此方法抛光后的表面具有随机无序的凹陷的图形结构，且只能实现局部平坦化，不能够实现全局平坦化。

专利（CN100433268C）蓝宝石衬底磨削方法介绍了一种使用砂轮来磨削表面以达到减薄蓝宝石衬底的目的，此方法采用间歇式磨削的方法，使砂轮总是保持在一个比较锋利的状态，所以降低了破裂和掉边的可能性，同时有效地释放了表面的应力，降低了去蜡后衬底的曲翘度。但是此方法减薄后的衬底表面的粗糙度较大，切在磨削的过程中可能会引起压表面层裂缝等问题。

专利（CN101664894A）蓝宝石的抛光装置及抛光方法介绍了一种用激光束去除蓝宝石衬底表面微量物的方法。此方法能够很好的控制表面的去除量及去除速率，同时降低了表面的粗糙度和潜在损伤的可能性，但是此方法的耗能过高，切抛光的设备复杂，操作不便。

专利（CN1833816A） 蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺介绍了一种蓝宝石衬底的抛光加工方法，主要包括粘片、塑性域磨削、研磨、粗抛、精抛、净化等步骤组成，抛光过程中涉及到了含金刚石微粉的研磨液和含硝酸、硫酸、磷酸的酸性腐蚀液及专用抛光液。此方法能够得到平坦的蓝宝石表面，但是抛光过程中涉及到酸液，所以对设备的要求较高且废液的处理也是一个问题。

专利（CN1227730C）一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法介绍了一种加工看宝石衬底的方法，包括粘片、粗磨、细磨、粗抛、细抛等几个步骤，可以达到较高的表面平坦度，但是加工的效率不高。

上述各种用于蓝宝石的衬底加工的抛光方法虽然能够有效地降低表面的粗糙度和提高表面平整度，但是都因为抛光过程中或者选用金刚石作为磨料粒子或者选用砂轮作为磨削的工具，所以在抛光过程中极易在蓝宝石衬底晶片表面产生亚表层损伤和表面划痕，且抛光的效率不高。

对蓝宝石抛光过程中所使用的抛光液也已经有了相关的报道。

专利（CN101870853A）微碱性蓝宝石抛光液及其制备方法介绍了一种硅溶胶颗粒来配制成蓝宝石抛光液的方法，此抛光液成微碱性，此抛光液抛光后易清洗，稳定性好，不腐蚀设备但是由于用硅溶胶作为抛光磨料故抛光效率不高。

专利（CN1858137A）蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法介绍了一种蓝宝石抛光液的组成及配置的方法，此抛光液能够满足衬底高精度加工的需要，只是选用硅溶胶为研磨料，所以抛光的速率不是很高，致使加工效率降低。

专利（CN102010669A）蓝宝石衬底材料CMP抛光液的制备方法介绍了一种碱性的抛光液，此抛光液稳定性好，且在制备过程中采用密闭系统下负压搅拌法从而减小了抛光液中大颗粒的存在，防止了抛光过程中产生表面划痕，但是由于硅溶胶的莫氏硬度比蓝宝石小，故抛光过程中的机械研磨的作用不是很强，导致抛光的加工效率不高。

专利（CN100478412C）一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆料介绍了一种含有复合磨料的抛光浆液，其复合磨料为基材颗粒碳化硼表面包裹一层粒子构成的复合磨料，其本质为碳化硼磨料表面改性后形成复合磨料，但是由于蓝宝石衬底表面很硬，在抛光过程中，由于较强的机械磨削作用包覆在碳化硼粒子表面的粒子容易脱落，从而导致不能达到良好的抛光效果。

专利（CN101230239A）高效高精度蓝宝石衬底抛光液及其制备方法介绍了一种碱性的抛光液，此抛光液包含硅溶胶、络合剂、表面活性剂。此抛光液固含量较低，抛光后在蓝宝石表面不易风干，大大降低了抛光后清洗的负担。但是选用的硅溶胶作为抛光研磨料，故抛光效率低。

以上各种抛光液均采用单一的抛光磨料硅溶胶，由于硅溶胶的莫氏硬度比蓝宝石要小，故抛光过程中的机械研磨的作用被降低了，所以蓝宝石衬底抛光加工的效率不是很高。

综上所述现有的各种抛光方法及抛光液虽然能够很好的降低蓝宝石衬底材料的表面粗糙度而且能够达到很好的平整度，但是这些抛光方法一般都需要经过几个步骤才能完成，抛光工艺复杂，操作不是很方便。而且抛光液都采用单一的磨料这使得使用硬度较大的金刚石为磨料时蓝宝石表面在抛光过程中可能会产生划痕或亚表层裂缝，使用硬度较小的硅溶胶时抛光速率降低，致使整个加工效率降低。

发明内容

本发明的目的是针对上述技术分析和存在问题，提供一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光方法及抛光液，该方法简单易行，且由于抛光液中含有复合磨料，所以在抛光中不会产生表面划痕和亚表层裂缝等问题，同时还能提高抛光的加工效率。

本发明的技术方案：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法，在热化学机械抛光过程中加热抛光盘，抛光盘的温度为30℃-100℃。

一种所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成，其各成分的质量百分比为：复合磨料0.1%~20wt%、Ph复合调节剂 0.01%~5wt%、表面活性剂                0.001%-1wt%、分散剂0.001%-1wt%、去离子水为余量。

所述复合磨料由硬质磨料和软质磨料两种磨料粒子混合构成，其中硬质磨料为金刚石粉、碳化硅粉和刚玉粉中的一种或者两种以任意比例混合的混合物；软质磨料为胶体二氧化硅、二氧化铈、二氧化锆中的一种或者两种以任意比例混合的混合物；硬质磨料和软质磨料的质量比为1：1-4。

所述复合ph调节剂由有机强碱和有机弱碱组成，其中有机强碱为四甲基氢氧化铵、羟基胺和四乙基氢氧化铵中的一种或两种以任意比例混合的混合物；有机弱碱为二羟基乙基乙二胺、二乙烯三胺、乙二胺和二乙醇胺中的一种或两者以任意比例混合的混合物；有机强碱与有机弱碱体积比为2-5：1。

所述表面活性剂为硅烷聚二乙醇醚、聚二乙醇醚和十二烷基乙二醇醚中的一种或两种任意比例的混合物。

所述分散剂为聚乙二醇200或聚乙二醇400。

所述抛光液的ph值为8-13。

本发明技术方案分析：

本发明中所使用的复合磨料由硬质磨料软质磨料构成，且软质磨料的粒径要大于硬质磨料的粒径。由于抛光液中存在莫氏硬度比蓝宝石小的大粒径软质磨料粒子，所以在下压力从小变大的过程中，首先是软质磨料与蓝宝石衬底材料接触，研磨抛光蓝宝石衬底，但是在这种情况下由于蓝宝石本身莫氏硬度比软质磨料莫氏硬度大，故研磨抛光的速率很低。当下压力不断增大时，软质磨料粒子在蓝宝石衬底材料的压迫下会产生一定的形变，在这种情况下，蓝宝石衬底表面与抛光盘之间的缝隙减小，使得硬质磨料开始接触并磨削蓝宝石衬底材料。在此过程中由于大粒径软质磨料的存在，起到了一个缓冲的作用使得硬质磨料与蓝宝石衬底材料接触时产生的机械磨削力得到了缓和，并且均匀的施加到整个蓝宝石衬底表面，从而避免了因局部机械磨削力过大而造成的表面划痕和亚表面损伤等问题。同时由于硬质磨料的莫氏硬度要比蓝宝石的硬度大或者相等，故机械研磨的作用大大增强了，保证获得较高的抛光速率。

在应用化学机械抛光法抛光衬底材料过程中，其抛光速率主要取决于以下两个方面：一是抛光液中所含化学物质与被抛光物质的反应速率，生成中间产物的速率；二是抛光液中磨料的机械磨削作用。抛光后衬底材料的表面质量主要取决于抛光液中磨料与被抛光表面的机械磨削作用力的大小和作用方式，机械磨削作用力过小则抛光速率下降，过大则容易造成表面划痕和亚表层裂缝。

由于酸性抛光液腐蚀设备、会产生金属离子对蓝宝石基片本身污染较重，同时污染环境、对人体的危害也较大，容易造成非均匀化腐蚀、影响衬底材料表面的全局平整度，故本发明中选用碱性抛光液而非酸性抛光液。为了避免在抛光液中引入金属离子杂质，故选用有机碱物质作为本发明抛光液的ph值调节剂。本发明中使用复合ph调节剂是为了使抛光过程中抛光液的ph值始终稳定在一个值，使化学作用保持稳定，这样有利于获得高质量、高平整度的蓝宝石衬底材料。由于碱性物质与蓝宝石衬底材料反应较慢，从而使抛光速率降低。本发明通过加热抛光盘来提高抛光液与蓝宝石衬底材料的反应速率从而提高抛光速率。

本发明的优点是：

1）通过加热抛光盘提高了抛光过程中抛光液与蓝宝石基片表面的化学反应速率，从而提高了抛光速率；

2）抛光液中使用复合有机ph调节剂即避免了由抛光液引入的金属离子对衬底材料的污染，同时使整个抛光过程中抛光液的ph值始终保持在一个稳定的值内，保证了整个抛光过程中化学反应速率的均一性，这对获得高平整度的表面至关重要；

3）抛光液中使用由硬质磨料和软质磨料组成的复合膜料，即防止了单纯使用硬质磨料抛光时易出现表面划痕和亚表层损伤等问题，又解决了单纯使用软质磨料抛光时，抛光效率低的问题。复合磨料的使用结合了两者的优点，在保证获得高质量，高平整度衬底表面的同时又保证了较高的抛光速率。

附图说明

图1为大粒径软质研磨粒子与抛光衬底表面接触状况示意图。

图2为小粒径硬质研磨粒子与抛光衬底表面接触状况示意图。

图3为抛光之前蓝宝石AFM测试图。

图4为抛光之后蓝宝石AFM测试图。

具体实施方式

下面结合实施例进一步阐述说明本发明的实质性特点和显著性进步，但本发明绝非仅限于实施例。在不脱离本发明实质性精神的前提下，对本发明进行的任何修改均属于本发明保护的范围内。

实施例1：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为300nm的硅溶胶200g、聚二乙醇醚5ml和3ml的聚乙二醇200，将其混合并用去离子水稀释至1000ml形成磨料悬浮液，再取粒径100nm的金刚石粉末50g，将金刚石粉末缓慢加入上述所述磨料悬浮液中并快速搅拌至均匀。取选用有机强碱四甲基氢氧化铵和有机弱碱二羟基乙基乙二胺混合液为ph值调节剂（体积比为4：1），调节ph值为8。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力3psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为50℃。图1为大粒径软质研磨粒子与抛光衬底表面接触状况示意图；图2为小粒径硬质研磨粒子与抛光衬底表面接触状况示意图。

抛光效果的测试：用Dektak 150轮廓仪测量抛光前后的蓝宝石衬底的厚度差除以抛光时间就可以得到抛光的速率，用Agilent公司的原子力显微镜（AFM）来测量抛光前后蓝宝石衬底的表面形貌和粗糙度，图3为抛光之前蓝宝石AFM测试图，图4为抛光之后蓝宝石AFM测试图。

抛光效果：抛光速率为127.8nm/min，抛光前表面粗糙度为20.73nm，抛光后表面粗糙度为0.76nm。

实施例2：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为200nm的硅溶胶200g、十二烷基乙二醇醚3ml和4ml的聚乙二醇400，将其混合并用去离子水稀释至1000ml形成磨料悬浮液，再取粒径80nm的金刚石粉末70g，将金刚石粉缓慢加入上述磨料悬浮液中并快速搅拌至均匀。选用有机强碱羟基胺和有机弱碱二羟基乙基乙二胺混合液为ph值调节剂（体积比为4：1），调节ph值为9。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力3psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为70℃。

抛光效果的测试手段与实施例1相同。 

抛光效果：抛光速率为152.3nm/min，抛光前表面粗糙度为17.86nm，抛光后表面粗糙度为0.42nm。

实施例3：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为200nm的氧化铈和氧化锆混合物200g、硅烷聚二乙醇醚2ml和3ml聚乙二醇200，将其混合并用去离子水溶解至1000ml形成磨料悬浮液，再取粒径100nm的金刚石粉末和刚玉粉共计50g，将金刚石粉和刚玉粉的混合物缓慢加入到前面所述的磨料悬浮液中并快速搅拌至均匀。选用有机强碱四甲基氢氧化铵和有机弱碱二乙烯三胺的混合液为ph值调节剂（体积比为5：1），调节ph值为10。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力2psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为60℃。

抛光效果的测试手段与实施例1相同。 

抛光效果：抛光速率为162.3nm/min，抛光前表面粗糙度为23.68nm，抛光后表面粗糙度为0.63nm。

实施例4：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为500nm的氧化铈和氧化锆混合物300g，硅烷聚二乙醇醚5ml和5ml聚乙二醇400，将其混合并用去离子水溶解至1000ml形成磨料悬浮液。再取粒径100nm的碳化硅粉和刚玉粉70g，将碳化硅和刚玉粉的混合物缓慢加入到前面所述的磨料悬浮液中并快速搅拌至均匀。选用有机强碱四乙基氢氧化铵和有机弱碱二羟基乙基乙二胺混合液为ph值调节剂（体积比为4：1），调节ph值为11。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力2psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为40℃。

抛光效果的测试手段与实施例1相同。 

抛光效果：抛光速率为183.8nm/min，抛光前表面粗糙度为19.63nm，抛光后表面粗糙度为0.89nm。

实施例5：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为400nm的氧化铈粉200g，硅烷聚二乙醇醚1ml和2ml聚乙二醇200，将其混合并用去离子水溶解至1000ml形成磨料悬浮液，再取粒径150nm的碳化硅粉100g，将碳化硅粉缓慢加入到前面所述的磨料悬浮液中并快速搅拌至均匀。选用有机强碱四甲基氢氧化铵和有机弱碱乙二胺混合液为ph值调节剂（体积比为4：1），调节ph值为12。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力2psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为80℃。

抛光效果的测试手段与实施例1相同。 

抛光效果：抛光速率为227.8nm/min，抛光前表面粗糙度为23.45nm，抛光后表面粗糙度为0.63nm。

实施例6：

一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成。

抛光液的配置：取粒径为200nm的氧化锆粉200g，硅烷聚二乙醇醚3ml和5ml聚乙二醇200，将其混合并用去离子水溶解至1000ml形成磨料悬浮液，再取粒径100nm的金刚石粉末50g，缓慢加入金刚石粉末并快速搅拌至均匀。选用有机强碱四甲基氢氧化铵和有机弱碱二羟基乙基乙二胺混合液为ph值调节剂（体积比为5：1），调节ph值为11。

抛光工艺的实现：采用UNIPOL-1260-TCMP单面抛光机上抛光，抛光盘为铸铁盘，抛光下压力2psi、抛光液流量为100ml/min、抛光头转速为50rpm，抛光盘的转速为40rpm、铸铁抛光盘温度为60℃。

抛光效果的测试手段与实施例1相同。 

抛光效果：抛光速率为227.8nm/min，抛光前表面粗糙度为20.96nm，抛光后表面粗糙度为0.32nm。

Claims (7)

1.一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法，其特征在于：在热化学机械抛光过程中加热抛光盘，抛光盘的温度为30℃-100℃。

2.一种如权利要求1所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：由复合磨料、ph复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水混合组成，其各成分的质量百分比为：复合磨料0.1%~20wt%、Ph复合调节剂 0.01%~5wt%、表面活性剂0.001%-1wt%、分散剂0.001%-1wt%、去离子水为余量。

3.根据权利要求2所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：所述复合磨料由硬质磨料和软质磨料两种磨料粒子混合构成，其中硬质磨料为金刚石粉、碳化硅粉和刚玉粉中的一种或者两种以任意比例混合的混合物；软质磨料为胶体二氧化硅、二氧化铈、二氧化锆中的一种或者两种以任意比例混合的混合物；硬质磨料和软质磨料的质量比为1：1-4。

4.根据权利要求2所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：所述复合ph调节剂由有机强碱和有机弱碱组成，其中有机强碱为四甲基氢氧化铵、羟基胺和四乙基氢氧化铵中的一种或两种以任意比例混合的混合物；有机弱碱为二羟基乙基乙二胺、二乙烯三胺、乙二胺和二乙醇胺中的一种或两者以任意比例混合的混合物；有机强碱与有机弱碱体积比为2-5：1。

5.根据权利要求2所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为硅烷聚二乙醇醚、聚二乙醇醚和十二烷基乙二醇醚中的一种或两种任意比例的混合物。

6.根据权利要求2所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：所述分散剂为聚乙二醇200或聚乙二醇400。

7.根据权利要求2所述蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法的抛光液，其特征在于：所述抛光液的ph值为8-13。

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