CN102873625A - 抛光装置 - Google Patents

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李金昌
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Abstract

本发明提供了一种抛光装置,包括:盘状金属本体,绕一轴心旋转,所述盘状金属本体的一个盘状表面为抛光表面;多个凹槽,间隔地分布于所述盘状金属本体的外圆周上;加热装置,适于加热所述盘状金属本体的抛光面;以及喷射装置,向所述盘状金属本体的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液,其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述盘状金属本体的外圆周之前形成抛光浆液。本发明可以更好地利用抛光浆液来辅助研磨,提高了抛光操作的稳定性和可靠性。

Description

抛光装置
技术领域
本发明涉及一种抛光装置。
背景技术
抛光机是一种电动工具,抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上,固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上,电动机通过底座上的开关接通电源起动后,便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。
针对不同的应用,需要开发不同类型的抛光装置。例如,在某些金属抛光领域中,需要不断地在抛光装置的抛光表面和被抛光物体之间注入抛光浆料。因此,需要针对这种特殊的应用开发特别的抛光装置。
发明内容
本发明的发明人结合多年的研发经验,开发出了一种抛光装置,包括:
盘状金属本体,绕一轴心旋转,所述盘状金属本体的一个盘状表面为抛光表面;
多个凹槽,间隔地分布于所述盘状金属本体的外圆周上;
加热装置,适于加热所述盘状金属本体的抛光面;以及
喷射装置,向所述盘状金属本体的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液,其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述盘状金属本体的外圆周之前形成抛光浆液。
较佳地,根据本发明的优选实施例,在上述的抛光装置中,所述多个凹槽以相同的间隔分布于所述盘状金属本体的圆周上。
较佳地,根据本发明的优选实施例,在上述的抛光装置中,所述加热装置与所述盘状金属本体的抛光面导热连接。
较佳地,根据本发明的优选实施例,在上述的抛光装置中,所述加热装置为一辐射加热装置,且所述辐射加热装置的辐射方向对准所述盘状金属本体的抛光面。
较佳地,根据本发明的优选实施例,在上述的抛光装置中,所述喷射装置进一步包括:喷嘴,呈管状,所述喷嘴的内壁上设置有多个凸起,且所述喷嘴在工作时沿其轴向旋转;抛光颗粒腔体,连通至所述喷嘴;以及抛光液腔体,连通至所述喷嘴,其中,来自所述抛光颗粒腔体的颗粒和来自所述抛光液腔体的抛光液在所述喷嘴内在所述多个凸起的搅拌作用下形成抛光浆液。
根据本发明,可使用加热装置来抛光本体的外表面,以便抛光浆液在与抛光本体的抛光表面接触后辅助研磨时达到更佳的工作温度。特别是,加热到合适温度的抛光浆液可以减少其中液泡,从而提高研磨的稳定性。
此外,通过在喷嘴处进行适当的搅拌,可以使得抛光颗粒和抛光液更充分地融合,这同样有助于减少所形成的抛光浆液中的液泡。
最后,在抛光本体的外圆周上设置多个凹槽可以帮助引导抛光浆液深入抛光表面的内部。特别是,这些凹槽的深度可以根据加工工艺的需要而任意设定,以便使得抛光浆液在研磨过程中更均匀地涂布于抛光表面和被抛光物体之间。
应当理解,本发明以上的一般性描述和以下的详细描述都是示例性和说明性的,并且旨在为如权利要求所述的本发明提供进一步的解释。
附图说明
附图主要是用于提供对本发明进一步的理解。附图示出了本发明的实施例,并与本说明书一起起到解释本发明原理的作用。附图中:
图1示意性地示出了本发明的抛光装置的基本结构。
具体实施方式
以下结合附图详细讨论本发明的多个实施例。
图1示意性地示出了本发明的抛光装置100的基本结构。如图所示,本发明的抛光装置100主要包括:盘状金属本体101、轴心102、凹槽103、加热装置104、喷射装置105。
盘状金属本体101绕轴心102旋转。所述盘状金属本体101的一个盘状表面为抛光表面。
如图所示,多个凹槽103间隔地分布于所述盘状金属本体101的外圆周上。优选地,所述多个凹槽以相同的间隔分布于所述盘状金属本体的圆周上,例如图1所示的优选实施例。
此外,加热装置104适于加热所述盘状金属本体101的抛光面。在图1所示的优选实施例中,所述加热装置104为一辐射加热装置,且所述辐射加热装置的辐射方向对准所述盘状金属本体101的抛光面。当然,作为一个可选实施例,本发明也可以使得所述加热装置104与所述盘状金属本体101的抛光面导热连接,以传导的方式进行加热。
喷射装置105向所述盘状金属本体101的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液,其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述盘状金属本体101的外圆周之前形成抛光浆液。
较佳地,根据本发明的优选实施例,在上述的抛光装置100中,所述喷射装置105可以进一步包括:喷嘴106、连通至所述喷嘴106的抛光颗粒腔体107以及连通至所述喷嘴106的抛光液腔体108。
喷嘴106呈管状。所述喷嘴106的内壁上设置有多个凸起(未图示),且所述喷嘴106在工作时沿其轴向旋转,使得来自所述抛光颗粒腔体107的颗粒和来自所述抛光液腔体108的抛光液在所述喷嘴106内在所述多个凸起的搅拌作用下形成抛光浆液。
抛光颗粒腔体107中的抛光颗粒例如可以是金属颗粒,可使用典型的金属颗粒。作为金属颗粒的示例,可给出选自包括Fe、Cu、Co、Ni、Cr、Ti、W、WC、Sn、CuSn、Ag和P的铁基金属和非铁基金属组中的一种金属或至少两种金属。
根据本发明,可使用加热装置来抛光本体的外表面,以便抛光浆液在与抛光本体的抛光表面接触后辅助研磨时达到更佳的工作温度。特别是,加热到合适温度的抛光浆液可以减少其中液泡,从而提高研磨的稳定性。
此外,通过在喷嘴处进行适当的搅拌,可以使得抛光颗粒和抛光液更充分地融合,这同样有助于减少所形成的抛光浆液中的液泡。
最后,在抛光本体的外圆周上设置多个凹槽可以帮助引导抛光浆液深入抛光表面的内部。特别是,这些凹槽的深度可以根据加工工艺的需要而任意设定,以便使得抛光浆液在研磨过程中更均匀地涂布于抛光表面和被抛光物体之间。
上述实施例是提供给本领域普通技术人员来实现或使用本发明的,本领域普通技术人员可在不脱离本发明的发明思想的情况下,对上述实施例做出种种修改或变化,因而本发明的保护范围并不被上述实施例所限,而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的最大范围。

Claims (5)

1.一种抛光装置,包括:
盘状金属本体,绕一轴心旋转,所述盘状金属本体的一个盘状表面为抛光表面;
多个凹槽,间隔地分布于所述盘状金属本体的外圆周上;
加热装置,适于加热所述盘状金属本体的抛光面;以及
喷射装置,向所述盘状金属本体的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液,其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述盘状金属本体的外圆周之前形成抛光浆液。
2.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述多个凹槽以相同的间隔分布于所述盘状金属本体的圆周上。
3.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述加热装置与所述盘状金属本体的抛光面导热连接。
4.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述加热装置为一辐射加热装置,且所述辐射加热装置的辐射方向对准所述盘状金属本体的抛光面。
5.如权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述喷射装置进一步包括:
喷嘴,呈管状,所述喷嘴的内壁上设置有多个凸起,且所述喷嘴在工作时沿其轴向旋转;
抛光颗粒腔体,连通至所述喷嘴;以及
抛光液腔体,连通至所述喷嘴,
其中,来自所述抛光颗粒腔体的颗粒和来自所述抛光液腔体的抛光液在所述喷嘴内在所述多个凸起的搅拌作用下形成抛光浆液。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113653123A (zh) * 2021-09-23 2021-11-16 扬州扬子到河复合材料制品有限公司 一种多功能挖掘机工具箱后罩及其加工工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406929A (en) * 1992-12-18 1995-04-18 Hilti Aktiengesellschaft Grinding tool bit
JP2001162517A (ja) * 1999-12-03 2001-06-19 Sony Corp 研磨装置
CN1449322A (zh) * 2000-06-29 2003-10-15 国际商业机器公司 带槽的抛光垫及其使用方法
CN2813207Y (zh) * 2005-08-23 2006-09-06 李广庆 节块式金刚石磨轮
CN201913553U (zh) * 2010-11-19 2011-08-03 佛山市佛晶金属工具制造有限公司 一种新型强制风冷式金刚石磨轮
CN102343547A (zh) * 2011-10-20 2012-02-08 天津理工大学 一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406929A (en) * 1992-12-18 1995-04-18 Hilti Aktiengesellschaft Grinding tool bit
JP2001162517A (ja) * 1999-12-03 2001-06-19 Sony Corp 研磨装置
CN1449322A (zh) * 2000-06-29 2003-10-15 国际商业机器公司 带槽的抛光垫及其使用方法
CN2813207Y (zh) * 2005-08-23 2006-09-06 李广庆 节块式金刚石磨轮
CN201913553U (zh) * 2010-11-19 2011-08-03 佛山市佛晶金属工具制造有限公司 一种新型强制风冷式金刚石磨轮
CN102343547A (zh) * 2011-10-20 2012-02-08 天津理工大学 一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113653123A (zh) * 2021-09-23 2021-11-16 扬州扬子到河复合材料制品有限公司 一种多功能挖掘机工具箱后罩及其加工工艺

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