CN102340945A - 壳体及其制作方法 - Google Patents

壳体及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102340945A
CN102340945A CN2010102328949A CN201010232894A CN102340945A CN 102340945 A CN102340945 A CN 102340945A CN 2010102328949 A CN2010102328949 A CN 2010102328949A CN 201010232894 A CN201010232894 A CN 201010232894A CN 102340945 A CN102340945 A CN 102340945A
Authority
CN
China
Prior art keywords
housing
oxide film
zinc
silica membrane
matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2010102328949A
Other languages
English (en)
Inventor
张新倍
陈文荣
蒋焕梧
陈正士
王莹莹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN2010102328949A priority Critical patent/CN102340945A/zh
Priority to US13/087,512 priority patent/US8637862B2/en
Publication of CN102340945A publication Critical patent/CN102340945A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material

Abstract

本发明提供一种壳体及该壳体的制作方法。该壳体包括一基体、以及依次形成于基体表面的一二氧化硅薄膜及一氧化锌薄膜，所述二氧化硅薄膜具有微米量级的结构，所述氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。该壳体的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用溶胶法在该基体的表面形成一二氧化硅薄膜，该二氧化硅薄膜具有微米量级的结构；采用真空溅镀法在该二氧化硅薄膜表面形成一氧化锌薄膜，该氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。

Description

壳体及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有防水及自清洁功能的壳体及该壳体的制作方法。
背景技术
近年来，消费者对于3C产品的要求越来越高。除具有更多、更强的功能外，还对产品的外壳提出了更高的要求，如希望外壳可防腐蚀、防锈、防尘、防水及具有自清洁功能等。
为了使外壳具有防水的效果，现有的方法一般是将具有疏水性的涂料涂覆于外壳的表面形成一疏水性薄膜。然而，该疏水性薄膜虽具有防水的功能，但是灰尘沾上外壳表面后，液滴不能有效的在外壳表面滚动来清除灰尘，因此不具有自清洁功能。且，所使用的疏水性的涂料通常为有毒的有机物，对环境及人体健康不利。
研究表明在外壳上涂覆一纳米氧化锌薄膜可起到防水的作用。然而，该纳米氧化锌薄膜仅具有较大的静态接触角(当液体滴在外壳表面上时，外壳表面和液滴切线的夹角，即为静态接触角)，不具有较小的动态接触角，液滴在外壳表面不易自行滑落，因而也不具有自清洁功能，难以满足消费者的需求。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种具有防水及自清洁功能的壳体。
另外，还有必要提供一种上述壳体的制作方法。
一种壳体，其包括一基体、以及依次形成于基体表面的一二氧化硅薄膜及一氧化锌薄膜，所述二氧化硅薄膜具有微米量级的结构，所述氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。
一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用溶胶法在该基体的表面形成一二氧化硅薄膜，该二氧化硅薄膜具有微米量级的结构；
采用真空溅镀法在该二氧化硅薄膜表面形成一氧化锌薄膜，该氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。
相较于现有技术，所述的壳体通过在基体表面形成一具有微米量级的二氧化硅薄膜及具有纳米量级的氧化锌薄膜的微米-纳米复合结构涂层，可使得壳体的表面既具有较大的静态接触角，又具有较小的动态接触角，从而使得壳体既具有防水功能，又具有自清洁功能。该壳体的制作方法不需要使用有毒的有机涂料，也不需经酸或碱处理，对环境及人体健康无害；且该方法简单易行。
附图说明
图1是本发明一较佳实施方式的壳体的剖视示意图。
主要元件符号说明
壳体                    10
基体                    11
二氧化硅薄膜            13
氧化锌薄膜              15
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施方式的壳体10包括一基体11，及依次形成于基体11表面的二氧化硅薄膜13及氧化锌薄膜15。
基体11可由金属材料或非金属材料制成。该金属材料可包括不锈钢、铝、铝合金、铜、铜合金、锌等。该非金属材料可包括塑料、陶瓷、玻璃、聚合物等。
二氧化硅薄膜13为一透明的薄膜，其具有微米量级的结构。且该二氧化硅薄膜13的表面粗糙度大小为微米级。
氧化锌薄膜15为一透明的薄膜，其具有纳米量级的结构。该氧化锌薄膜15的表面形成有纳米的氧化锌棒阵列。
所述二氧化硅薄膜13与氧化锌薄膜15的总厚度在1微米以下，最好为0.1～0.5微米。
本发明一较佳实施方式的制作上述壳体10的方法包括如下步骤：
提供一基体11。
采用溶胶法在该基体11的表面形成一二氧化硅薄膜13。形成该二氧化硅薄膜13包括如下步骤：
制备一溶胶。该溶胶中可含有正硅酸乙酯、乙醇、盐酸及去离子水。制备所述溶胶时，可按正硅酸乙酯、乙醇、盐酸(36.5％)及去离子水1～5∶1∶0.01～0.05∶1～25的体积比量取上述各成分混合均匀，再进行磁力搅拌约1-5小时。
采用浸渍提拉法，将所述基体11浸渍于该溶胶中一定时间，再匀速将该基体11拉出，使基体11的表面被附着一溶胶层，待该溶胶层于空气中干燥后，再对其进行热处理，以除去该溶胶层中含有的有机物，以在基体11的表面形成一二氧化硅薄膜13。所述热处理的温度可为200～400℃。
采用真空溅镀法在该二氧化硅薄膜13的表面形成一氧化锌薄膜15。形成该氧化锌薄膜15包括如下步骤：
将形成有二氧化硅薄膜13的基体11放入一真空溅镀机(图未示)的镀膜室中，抽真空该镀膜室的真空度至4.0×10-3Pa，并加热该镀膜室的温度至20～300℃，以锌为靶材，并对该靶材施加-100～-300V的偏压，通入流量为20～300sccm(标准毫升每分)的反应气体氧气及流量为100～400sccm的工作气体氩气，然后开启靶材的电源，于二氧化硅薄膜13的表面沉积所述氧化锌薄膜15。沉积的时间可为20～60分钟。
相较于现有技术，所述的壳体10通过在基体11表面形成一具有微米量级的二氧化硅薄膜13及具有纳米量级的氧化锌薄膜15的微米-纳米复合结构涂层，可使得壳体10的表面既具有较大的静态接触角，又具有较小的动态接触角，从而使得壳体10既具有防水功能，又具有自清洁功能。该壳体10的制作方法不需要使用有毒的有机涂料，也不需经酸或碱处理，对环境及人体健康无害；且该方法简单易行。

Claims (12)

1.一种壳体，其包括一基体，其特征在于：所述壳体还包括依次形成于基体表面的一二氧化硅薄膜及一氧化锌薄膜，所述二氧化硅薄膜具有微米量级的结构，所述氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜的表面粗糙度大小为微米级。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氧化锌薄膜的表面具有纳米级的氧化锌棒阵列。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜与氧化锌薄膜的总厚度在1微米以下。
5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅薄膜与氧化锌薄膜的总厚度为0.1～0.5微米。
6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体由金属材料或非金属材料制成。
7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用溶胶法在该基体的表面形成一二氧化硅薄膜，该二氧化硅薄膜具有微米量级的结构；
采用真空溅镀法在该二氧化硅薄膜表面形成一氧化锌薄膜，该氧化锌薄膜具有纳米量级的结构。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成所述二氧化硅薄膜包括如下步骤：制备一溶胶，该溶胶中含有正硅酸乙酯；以浸渍提拉法于基体表面附着一溶胶层；对该溶胶层进行热处理以制得所述二氧化硅薄膜。
9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述溶胶中还含有乙醇、盐酸及去离子水。
10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述正硅酸乙酯、乙醇、盐酸及去离子水的体积比为1～5∶1∶0.01～0.05∶1～25，所述盐酸为质量百分含量为36.5％的盐酸。
11.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述热处理的温度为200～400℃。
12.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述真空溅镀法以锌为靶材，设置于该靶材的偏压为-100～-300V，镀膜温度为20～300℃，以氧气为反应性气体，其流量为20～300sccm；以氩气为工作气体，其流量为100～400sccm。
CN2010102328949A 2010-07-21 2010-07-21 壳体及其制作方法 Pending CN102340945A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010102328949A CN102340945A (zh) 2010-07-21 2010-07-21 壳体及其制作方法
US13/087,512 US8637862B2 (en) 2010-07-21 2011-04-15 Device housing and method for making the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010102328949A CN102340945A (zh) 2010-07-21 2010-07-21 壳体及其制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102340945A true CN102340945A (zh) 2012-02-01

Family

ID=45492701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010102328949A Pending CN102340945A (zh) 2010-07-21 2010-07-21 壳体及其制作方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8637862B2 (zh)
CN (1) CN102340945A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104250732A (zh) * 2013-06-27 2014-12-31 比亚迪股份有限公司 一种化学镀铜混合物及其制备方法、化学镀铜方法和化学镀铜镀件
CN104308397A (zh) * 2014-09-28 2015-01-28 中国电子科技集团公司第三十八研究所 铝合金共形钎料的制备方法
CN106973135A (zh) * 2017-03-31 2017-07-21 上海琛岫自控科技有限公司 一种表面电沉积SiO2的智能手机壳

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103909689A (zh) * 2013-01-07 2014-07-09 深圳富泰宏精密工业有限公司 陶瓷与塑料的复合体及应用该复合体的电子装置
CN108138328A (zh) * 2015-09-11 2018-06-08 惠普发展公司，有限责任合伙企业 基于轻金属的多层基板
CN110918422A (zh) * 2018-09-19 2020-03-27 华硕电脑股份有限公司 壳体的表面加工方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030165693A1 (en) * 2002-03-01 2003-09-04 Klaus Hartig Thin film coating having transparent base layer
CN1693377A (zh) * 2004-05-09 2005-11-09 中国科学院化学研究所 超亲水性和/或超亲油性纳米孔材料的用途
CN101474896A (zh) * 2009-01-21 2009-07-08 重庆大学 复合结构的超疏水膜

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030165693A1 (en) * 2002-03-01 2003-09-04 Klaus Hartig Thin film coating having transparent base layer
CN1693377A (zh) * 2004-05-09 2005-11-09 中国科学院化学研究所 超亲水性和/或超亲油性纳米孔材料的用途
CN101474896A (zh) * 2009-01-21 2009-07-08 重庆大学 复合结构的超疏水膜

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104250732A (zh) * 2013-06-27 2014-12-31 比亚迪股份有限公司 一种化学镀铜混合物及其制备方法、化学镀铜方法和化学镀铜镀件
CN104250732B (zh) * 2013-06-27 2018-02-09 比亚迪股份有限公司 一种化学镀铜混合物及其制备方法、化学镀铜方法和化学镀铜镀件
CN104308397A (zh) * 2014-09-28 2015-01-28 中国电子科技集团公司第三十八研究所 铝合金共形钎料的制备方法
CN104308397B (zh) * 2014-09-28 2016-02-10 中国电子科技集团公司第三十八研究所 铝合金共形钎料的制备方法
CN106973135A (zh) * 2017-03-31 2017-07-21 上海琛岫自控科技有限公司 一种表面电沉积SiO2的智能手机壳

Also Published As

Publication number Publication date
US20120018340A1 (en) 2012-01-26
US8637862B2 (en) 2014-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102340945A (zh) 壳体及其制作方法
Xu et al. Rapid fabrication of large-area, corrosion-resistant superhydrophobic Mg alloy surfaces
Guo et al. A facile approach to fabricate a stable superhydrophobic film with switchable water adhesion on titanium surface
Fan et al. Corrosion resistance of nanostructured magnesium hydroxide coating on magnesium alloy AZ31: influence of EDTA
CN107321583B (zh) 微纳米分级结构超疏水表面的原位构建方法及应用
CN103182369B (zh) 一种在金属基体上制备混杂多阶结构的超疏水薄膜的方法
CN102345093B (zh) 壳体及其制作方法
CN102407220B (zh) 在锌基底表面制备超疏水膜的方法
TW200829720A (en) Corrosion-resisting member and method for making the same
CN102899610A (zh) 镀膜件及其制造方法
CN102373428A (zh) 涂层、具有该涂层的被覆件及该被覆件的制备方法
CN102463714A (zh) 具有抗指纹性的被覆件及其制造方法
CN110373626A (zh) 耐等离子体腐蚀的氧化铝涂层封孔方法
CN107419315A (zh) 一种镁合金黑色微弧氧化膜的制备方法
CN100460561C (zh) 二氧化钛薄膜材料的超亲水驱油表面制备方法
CN105369205A (zh) 一种不锈钢表面制备多功能薄膜的工艺方法
CN105489267B (zh) 一种导电银膜的制备方法
CN112871125B (zh) 一种无颗粒脱落风险的薄片形吸气剂的制备方法
JP5170788B2 (ja) 新規金属窒素酸化物プロセス
TW200936790A (en) Sno2-based sputtering target
JP2009143759A (ja) イオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末、イオンプレーティング用蒸発源材料及びその製造方法、ガスバリア性シート及びその製造方法
CN101564916B (zh) 表面具有锡锑铝巴氏合金涂层的镁合金构件及其制作方法
CN112899686A (zh) 一种超疏水铝镁合金材料的制备方法
TW201206300A (en) Housing and method for making the same
JP2011032548A (ja) アルミニウム部材の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20120201