CN102317865A - 多载置台光刻系统 - Google Patents

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Abstract

一种光刻式工件处理工具，包括：用于装载工件的装载区域(108)；和用于处理工件的处理区域(106)。该工件处理工具还包括配置于装载区域与处理区域之间的多载置台系统(10)。多载置台系统包括构造成在装载区域与处理区域之间移动的同时经过彼此的至少两个载置台(110、112)。所述至少两个载置台中的每一个构造成保持工件。

Description

多载置台光刻系统
相关申请的交叉引用
本专利申请要求2009年2月13日提交的临时美国专利申请No.61/202,289的优先权。
背景技术
现有技术的描述
在用于在工件(例如基片或晶片)上进行写入或形成图案的常规装置中，工件流程通常包括至少四个处理步骤：装载、测量、写入和卸载。如果这些处理步骤顺次地进行，系统资源存在空闲时间，导致较低的吞吐量。
为了提高系统资源的利用，可使用流水线式(pipelined)构造。具有多个基片承载台的装置能实现并行的动作，并减少系统资源的空闲时间。在一个示例装置中，两个载置台配置在单个棱柱轴线上，以便载置台从两相反端进入写入区域。然而，这种配置需要双份的装载和对准用系统和区域。
发明内容
示例性实施例提供多载置台系统，其中载置台可在装载区域与处理区域之间移动时经过彼此。这种示例性实施例只需单个装载区域和单个处理区域。
至少一个示例性实施例提供光刻处理工具。该工具包括：用于装载工件的装载区域；用于处理工件的处理区域；和配置在装载区域与处理区域之间的多载置台系统。多载置台系统包括构造成在装载区域与处理区域之间移动的同时经过彼此的至少两个载置台。所述至少两个载置台中的每一个构造成保持工件。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的每一个可构造成从上方或下方经过所述至少两个载置台中的另一个。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的每一个可构造成被上升和下降中的至少一种，以使所述至少两个载置台在装载区域与处理区域之间移动时经过彼此。
所述至少两个载置台中的每一个可安装在轴承上。轴承沿一轴提供棱柱运动(prismatic movement)，并绕一轴线提供旋转运动。工具可以是图案生成器、测量工具、检查工具、扫描多光束系统、或包括一个或多个旋转光学臂的光学处理装置，所述旋转光学臂包括构造成从调制器向工件的表面中继图像信息的光学系统。
附图说明
将参考附图来更详细地描述示例性实施例，附图中：
图1示出了一示例性实施例的多载置台系统；
图2示出了一示例性实施例的多载置台系统的一部分；
图3A-3E示出了一示例性实施例的多载置台系统的示例操作；
图4示出了另一示例性实施例的多载置台系统的示例操作；
图5示出了另一示例性实施例的多载置台系统的一部分；
图6示出了又一示例性实施例的多载置台系统的一部分；
图7示出了再一示例性实施例的多载置台系统的一部分；
图8示出了用于组合编码器输出的方法的一个示例性实施例；而
图9是示出根据一示例性实施例的用于处理工件的方法的流程图。
具体实施方式
现在将参考示出了一些示例性实施例的附图来更充分地描述示例性实施例。附图中，各层和区域的厚度是夸大的，以便于说明。各图中的相同附图标记代表相同元件。
具体的说明性实施例在本文公开。然而，本文所公开的特定结构和功能详情仅仅是为了描述示例性实施例的目的。示例性实施例可借多种变型进行实施，而不应该解释为只局限于本文给出的示例性实施例。
然而，应该理解的是，没有意图将示例性实施例限制于所公开的特定示例性实施例，相反，示例性实施例应覆盖落于适当范围内的所有变型、等同方案和替代方案。在整个附图的描述中，相同的标记指代相同的元件。
应该理解的是，虽然本文中可能使用第一、第二等术语来描述多种不同的元件，但是这些元件不应该被这些术语限制。这些术语只用于区别元件。例如，在不背离示例性实施例的范围的情况下，第一元件可称为第二元件，并且相似地，第二元件也可称为第一元件。如本文所使用的，术语“和/或”包括相关联的列举项目中的一个或多个的任一个和所有组合。
应该理解的是，当一元件被描述为“连接”或“连结”至另一元件时，它可以是直接连接或连结至另一元件，也可以存在中间元件。对比之下，当一元件被描述为“直接连接”或“直接连结”至另一元件时，则不存在中间元件。用于描述元件之间的关系的其它词语也应该以相同的方式解释(例如“之间”与“直接之间”、“相邻”与“直接相邻”等)。
本文使用的术语只是为了描述特定实施例，而并非旨在限制示例性实施例。如本文所使用的，“一”、“一个”、“该”等单数形式旨在也包括复数形式，除非上下文另有清楚地指明。此外，应理解的是，“包括”、“包含”和/或“含有”等术语在用于本文时，表明所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或组合的存在或添加。
还应注意的是，在一些替代实施方式中，所标示的功能/动作可能不以图中标示的顺序发生。例如，连续示出的两幅图实际上可能基本同时地执行，有时也可能以相反顺序执行，取决于所涉及的功能/动作。
示例性实施例涉及扫描工件，例如基片或晶片，以读取和写入图案和/或图像。示例性实施例还涉及测量工件。示例性基片或晶片包括平板显示器、印刷电路板(PCB)、用于包装应用的基片或工件、光伏面板(photovoltaic panel)等。
根据示例性实施例，应广义地理解读取和写入。例如，读取操作可包括比较小或比较大工件的显微检测、检查、度量、波谱检测、干涉测量、散射测量等。写入可包括曝光光阻材料、通过光学加热退火、消融、通过光束在表面生成任何其它变化等。
根据示例性实施例的多载置台系统可实施于(或随同于)用于在基片上写入图像的图案生成器(或其它工具)，例如包括一个或多个图像生成调制器的图案生成器。
根据示例性实施例的多载置台系统可实施于(或随同于)用于测量工件的测量和/或检查工具。一个或多个示例性实施例可实施于其中的测量和/或检查工具可包括一个或多个检测器、传感器(例如时间延迟和积分(TDI)传感器)、摄像装置(例如电荷耦合器件(CCD))等。
示例性实施例还可实施于用于在例如三维(3D)基片等比较厚的基片上写入图案的图案生成器，也可实施于用于测量或检查比较厚的工件或基片的工具(例如，用于测量或检查位于厚度超过约2μm～约100μm或更多的光阻材料中的三维(3D)图案的工具)。
示例性实施例还可实施于扫描多光束系统，例如包括至少一个偏转器的声光多光束系统。
再者，示例性实施例可实施于较高吞吐量光学处理装置，该光学处理装置包括具有光学系统的一个或多个旋转光学臂，所述光学系统从调制器向工件的表面中继图像信息，同时在工件上的信息与旋转光学臂的中枢处的信息之间保持基本一致的取向关系，即使是当臂在工件上扫描出一个弧度时也如此。
示例性实施例还可实施于包括一个或多个旋转臂的测量和/或检查工具，所述一个或多个旋转臂包括一个或多个检测传感器。
示例性实施例提供一种系统，其中载置台可在装载区域与处理区域之间移动的同时经过彼此。根据至少一些示例性实施例，处理区域可以是读取区域、写入区域和/或测量区域。
示例性实施例提供一种多载置台系统，其中载置台可在装载区域与处理区域之间移动时经过彼此。这种示例性实施例只需单个装载区域和单个处理区域。
至少一个示例性实施例提供光刻处理工具。该工具包括：用于装载工件的装载区域；用于处理工件的处理区域；和配置在装载区域与处理区域之间的多载置台系统。多载置台系统包括构造成在装载区域与处理区域之间移动的同时经过彼此的至少两个载置台。所述至少两个载置台中的每一个构造成保持工件。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的每一个可构造成上升和下降中的至少一种，以使所述至少两个载置台在装载区域与处理区域之间移动时经过彼此。
所述至少两个载置台中的每一个可安装在轴承上。轴承沿一轴提供棱柱运动，并绕一轴线提供旋转运动。工具可以是图案生成器、测量工具、检查工具、扫描多光束系统、或包括一个或多个旋转光学臂的光学处理装置，所述旋转光学臂包括构造成从调制器向工件的表面中继图像信息的光学系统。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的每一个可构造成从上方或下方经过所述至少两个载置台中的另一个。
根据至少一些示例性实施例，工具还可构造成抬升所述至少两个载置台中的第一个，以使所述至少两个载置台中的第二个从第一载置台下方经过。
根据至少一些示例性实施例，工具还可包括至少一个第一机械手，该第一机械手构造成抬升所述至少两个载置台中的第一个，以使所述至少两个载置台中的第二个从第一载置台下方经过。
多载置台系统还包括：第一载置台组件和第二载置台组件。第一载置台组件可包括所述至少两个载置台中的第一个，并且所述第一载置台组件构造成在装载区域与处理区域之间移动。第二载置台组件包括所述至少两个载置台中的第二个，并且所述第二载置台组件构造成在装载区域与处理区域之间移动。第一载置台安装在第一支撑部上，第二载置台安装在第二支撑部上，并且第一载置台构造成经由致动器上升或下降，以使第一载置台在装载区域与处理区域之间移动时从上方经过第二载置台。
第一载置台组件的支撑部和第二载置台组件的支撑部可在装载区域与处理区域之间移动时在相同或大致相同的垂直高度处经过彼此。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的第一个安装在第一可垂直致动轴上，而所述至少两个载置台中的第二个安装在第二可垂直致动轴上。第一和第二载置台构造成发生上升和下降，以使第一和第二载置台中的一个在装载区域与处理区域之间移动时从下方经过第一和第二载置台中的另一个。
根据至少一些示例性实施例，所述至少两个载置台中的第一个小于所述至少两个载置台中的第二个，并且第一载置台构造成在装载区域与处理区域之间移动时从下方经过第二载置台。
至少一个其它示例性实施例提供一种用于光刻应用的工件处理方法。根据至少该示例性实施例，第一工件装载到所述至少两个载置台中的第一个上，并且第一载置台向处理区域移动。第一工件被处理，并且第二工件装载到所述至少两个载置台中的第二个上。在某些实施例中，第一工件受到处理的时间与装载第二工件的时间至少部分地重叠。这将能实现比现有技术单个载置台系统快的生产率。
现有技术多载置台系统通常遭遇不均匀的工件流和与生产线中的其它系统的贫弱交接。本发明的示例性实施例的对称双载置台设计解决或减轻上述问题，方法是提供在多个载置台之间共享的基本平行的轴和线性电机导轨和/或线性刻度尺，从而能实现以均匀的步调处理工件，其也有助于与生产线中其它系统的交接。
根据至少一些示例性实施例，当移动至处理区域时，第一载置台从上方或下方经过第二载置台。
根据至少一些示例性实施例，第二载置台可移动至处理区域，而第一载置台可移动返回装载区域。在第一和第二载置台经过彼此时，载置台中的至少一个的至少一侧上升或下降，以允许载置台的经过。
至少一个其它示例性实施例提供一种图案生成器。该图案生成器包括构造成在工件上生成图案的图案生成单元、和构造成使工件往返于图案生成单元的载置台系统。载置台系统包括分别安装在延伸于装载区域与图案生成单元之间的各轴上的至少两个载置台。所述至少两个载置台中的每一个构造成承载工件，并且构造成沿各轴的轴线枢转，以使所述至少两个载置台中的第一个从上方或下方经过所述至少两个载置台中的第二个。
图1是一示例性实施例的多载置台系统的俯视图。
参考图1，多载置台系统10包括装载区域108和处理区域106。载置台110安装在轴或导轨102上，而载置台112安装在轴或导轨104上。轴102和104至少在装载区域108与处理区域106之间延伸并穿过它们。载置台110和112构造成在轴102和104上在装载区域108与处理区域106之间一齐或同时移动。在一个示例中，轴102和104可以是磁导轨，而载置台110和112可被线性电机(未示出)驱动。虽然图1中未示出，载置台110和112可共享同一线性电机，甚至共享同一轴或导轨。因此，在某些实施例中，载置台110和112可被公用线性电机(未示出)驱动，而在又一实施例中，载置台110和112于是可共享同一线性电机磁导轨。通过根据本发明的示例性实施例在多载置台系统中的载置台之间共享同一线性电机，与具有多个磁导轨的系统相比，能够显著降低系统的总成本。对多载置台系统使用单个公用的磁导轨还减少组装时间。
需要非常精确的速率控制的高精度系统可能有必要对沿各磁导轨的作用力波动进行测量和抵消。根据本发明的示例性实施例对载置台引入公用导轨能实现高精度系统中的精确速率控制，或者能够降低对精确速率控制和校准的需求。
在一示例操作中，载置台110和112中的一个在装载区域108与处理区域106之间移动时从上方或下方经过载置台中的另一个。
在装载区域108，工件被装载和卸载。在处理区域106，工件被处理。处理区域106可以是读取区域、写入区域和/或测量区域。在一个示例中，处理区域106可包括构造成处理装载于载置台110和112上的工件的处理单元或工具(例如，读取单元、写入单元和/或测量单元)。例如，处理区域106可包括以下物体中的一个或多个：图案生成工具；用于测量工件的测量和/或检查工具；声光多光束图案生成设备；和较高吞吐量的光学处理装置。
根据至少一些示例性实施例，第一载置台(例如载置台110)上的工件受到处理的时间与将工件装载于第二载置台(例如载置台112)上的时间至少部分地重叠。
仍然参考图1，当载置台110和112能够经过彼此时，同一装载系统、对准系统和/或处理系统可用于配置在载置台110和112两者上的工件。因此，能够增加总吞吐量，同时能够降低整个系统所需求的成本和/或空间。
图2示出了一示例性实施例的多载置台系统的一部分。多载置台系统的图2所示部分示出了载置台110和112经过彼此的一个示例方式。
参考图2，载置台110经由枢转轴承202安装在轴102上，具有至少两个自由度。载置台110还安装在垂直轴承204上。载置台112也经由枢转轴承202安装在轴104上，具有至少两个自由度。载置台112还安装在垂直轴承204上。虽然图2示出了两个载置台110和112安装在轴承上，但是载置台110和112中只有一个能够安装在枢转轴承202上。轴承202和204实现载置台110和112沿轴102和104做棱柱运动，以及绕作为旋转轴线的轴102和104做旋转运动。具有两个自由度的枢转轴承202可以是例如径向空气轴承、空气轴瓦、磁轴承、滚珠轴承，或能够提供棱柱和旋转自由度的任何其它类型的轴承。
使用枢转轴承202提供的旋转自由度，载置台110能够被抬升，以使载置台112在载置台110和112于装载区域与处理区域之间经过彼此时，从下方经过载置台110。虽然图2中未示出，旋转自由度也可用于使载置台中的一个(例如载置台112)下降，同时使另一载置台(例如载置台110)从上方经过下降了的载置台。
根据至少一个示例性实施例，载置台110和112可在除经过彼此时之外的所有时间在同一或大致同一垂直高度处承载基片或晶片。
根据示例性实施例的多载置台系统可设置有较少移动部分或不设置移动部分。另外，载置台可具有运动学轴承设计，该设计具有横跨单一平面的至少三个支撑点，这能够简化多载置台系统的组装和/或调节。此外，如上所述，如果根据示例性实施例的载置台设计成由线性电机驱动，则载置台可共享同一磁导轨。此外，如果以线性编码器测量载置台位置，则载置台还可共享同一线性刻度尺。用于多个载置台的一个公用线性刻度尺降低成本、简化组装并最小化对准所需的工作量。此外，用于多个载置台的一个刻度尺将最小化载置台之间的位置偏差。这有助于处理过程得到可重复的结果，而与使用的载置台是哪一个无关。获得可重复的结果对于批处理特别重要，在批处理中各被处理工件之间的覆盖是关键因素。与多个刻度尺相比，单个线性刻度尺的另一优点是易于保护和清洁，因为线性刻度尺通常对颗粒和污染是敏感的。根据至少一个示例性实施例，电机和/或刻度尺可定位成比较靠近载置台的旋转中心，这能够降低和/或最小化寄生旋转(parasitic rotation)。
图3A-3E是示出载置台110在从装载区域108向处理区域106移动时从下方经过载置台112的一示例操作的顺序图。
如图3A所示，各载置台110和112最初位于相同或大致相同的垂直高度。
参考图3B和3C，随着载置台110朝处理区域106移动并接近载置台112，载置台112被抬升以使载置台110从下方经过载置台112。在本示例中，载置台112在轴104上枢转，以使载置台112绕轴104旋转，使得载置台112的一侧得到抬升。
参考图3C和3D，当载置台112被抬升后，载置台110从下方经过载置台112。
参考图3E，当载置台110从下方经过载置台112后，载置台112下降返回其初始位置并继续朝处理区域106移动。
图3A-3E所示示例性实施例能实现一个工件的装载、卸载和测量与另一工件的处理并行。
根据至少一些示例性实施例，系统资源只在载置台于装载区域与处理区域之间或在处理区域与装载区域之间移动时空闲。
根据至少一个示例性实施例，载置台的抬升运动可由位于载置台自由端(例如与载置台安装至轴那侧相反的一侧)的机械手或磁致动器生成，或由构造成绕轴生成转矩的电磁装置生成。
图4A-4D是示出机械手抬升载置台的一侧的示例性实施例的顺序图。在本示例性实施例中，载置台406安装在轴402上，以便载置台406在轴402上枢转，而载置台406的一侧能够被机械手404抬升。机械手404构造成上升和下降，以抬升和降低载置台406。
参考图4A，机械手404安装在载置台406的自由端。在本示例中，机械手404安装在轴402的相反侧，并定位在一上位，使得机械手404的下部位于载置台406的上表面的上方。
参考图4B，随着载置台406接近机械手404，机械手404下降至一下位，使得机械手404的抬升部分的上表面位于载置台406的下表面的下方。
参考图4C，一旦处于下位，载置台406从上方经过机械手404的抬升部分。
参考图4D，机械手404于是移动至上位，以抬升载置台406的一侧，以便另一载置台(未示出)能够从下方经过载置台406。
如以下将详细描述的，可使用其它可能的设计选择来实现至少两个载置台在不同垂直水平处经过，同时在其它时间保持载置台处于相同或大致相同的垂直高度。
图5示出了另一示例性实施例的多载置台系统的一部分。
如图5所示，载置台组件500A和500B包括多个部分。在本示例中，一个载置台组件的至少一部分可上升或下降。
参考图5，载置台组件500A安装在轴506A上，以便载置台组件500A能够沿轴506A做棱柱运动。载置台组件500B安装在轴506B上，以便载置台组件500B能够沿轴506B做棱柱运动。
载置台组件500A包括安装在支撑部508A上的载置台502A。载置台组件500B包括安装在支撑部508B上的载置台502B。支撑部508A和508B中的每一个配置在相同或大致相同的垂直高度，并且配置成在装载区域与处理区域之间或在处理区域与装载区域之间移动时经过彼此。
在图5所示示例性实施例中，载置台502A和502B比支撑部508A和508B大(例如，至少在水平方向上)。
载置台502A和502B可定位在相同垂直高度，直到经过彼此时。在本示例中，在载置台组件500A和500B接近彼此时，载置台502A被致动器504A升高，以使载置台502A从上方经过载置台502B。
虽然图5中未示出，载置台组件500B也可包括致动器，以便载置台502B能够像载置台502A那样上升或下降。
图6示出了又一示例性实施例的多载置台系统。
参考图6，载置台600A在一侧固定至可垂直致动轴602A。载置台600B也在一侧固定至可垂直致动轴602B。可垂直致动轴602A和602B配置在两相反侧，以便载置台600A和600B的未附接至可垂直致动轴602A和602B的端部彼此面对。
在图6所示示例性实施例中，载置台600A和600B可上升和下降至离散位置(或连续地)，以便载置台600A和600B能够在装载区域与处理区域之间或在处理区域与装载区域之间移动时经过彼此。
根据示例性实施例，载置台600A和600B中的一个可小于另一个。在一个示例中，较小载置台可在处理和/或对准期间上升。
图7示出了再一示例性实施例的多载置台系统。
如图7所示，载置台组件700B包括载置台702B，载置台702B小于载置台组件700A的载置台702A。在本示例中，较大载置台702A可上升，以便较小载置台702B在装载区域与处理区域之间或在处理区域与装载区域之间移动时从下方经过较大载置台702A。
更详细地参考图7，载置台组件700A安装在轴706A上，以便载置台组件700A能够在装载区域与处理区域之间做棱柱运动。载置台组件700B安装在轴706B上，以便载置台组件700B能够在装载区域与处理区域之间做棱柱运动。
载置台702A和702B可定位在相同或大致相同垂直高度，直到经过彼此。或者，载置台702A和702B可定位在不同垂直高度。在一个示例中，较小载置台702B可相对于较大载置台702A定位在较低垂直高度，以便较小载置台702B能够从下方经过较大载置台702A。
在载置台702A和702B定位在相同或大致相同的垂直高度直到经过彼此的示例中，当载置台组件700A和700B接近彼此时，载置台702A借助配置于载置台组件500A的一侧的致动器(未示出)上升，以便较大载置台702A从上方经过较小载置台702B。
根据示例性实施例的吞吐量系统可使用线性编码器来进行位置测量。线性编码器可具有迫使在速率与分辨率之间进行折衷的带宽极限。在较高吞吐量系统中，以比较高的速率进行传送移动和/或在写入和/或对准期间使用比较高的分辨率是有益的。这可通过以下方法实现：在每个载置台使用两个或两个以上的编码器读取头，并如图8所示那样将两个编码器的输出进行组合起来。
图8示出了用于组合编码器输出的方法的一个示例性实施例。
参考图8，第一编码器构造成用于较高速率(例如约2.5m/s的最大速率)和较低分辨率(例如约50nm)，而第二编码器构造成用于较低速率(例如约0.25m/s的最小速率)和较高分辨率(例如约5nm)。第一编码器能够内插约400x，而第二编码器能够内插约4000x。
绝对位置于是由第一编码器给定，而多余的高分辨率数字可从第二编码器添加，得到较高分辨率位置，该位置可能在较高速率运动期间在最后一位数字中具有误差，但是在较低速率运动期间是精确的。
根据至少该示例性实施例的编码器系统可用于其它系统、载物台方案和/或移动目标，其使用编码器以及较高速率-较低分辨率模式与较低速率-较高分辨率模式的组合。
图9示出了根据一示例性实施例的用于处理工件的方法。为清楚起见，将参考图1所示多载置台系统来描述图9所示方法。然而，应该理解的是，示例性实施例也可适用于其它多载置台和/或光刻系统。
参考图9，在S902，在装载区域108将工件装载于载置台110上。
在S904，在轴102上向处理区域106移动载置台110。在装载区域108与处理区域106之间移动的同时，载置台110如上参考例如图2-7所述那样经过载置台112。在一更具体的示例中，载置台110和112中的一个被抬升，以便载置台110和112中的另一个从下方经过被抬升的载置台。
仍然参考图9，在S906A，在处理区域106处理装载于载置台110上的第一工件。一齐地或同时地，在S906B，在装载区域108向载置台112上装载第二工件。
在S908A，在处理完第一工件后，使载置台110移动返回装载区域108。一齐地或同时地，在S908B，向处理区域106移动载置台112。如上所述，在装载区域108与处理区域106之间移动的同时，载置台110和112如上针对例如图2-7所述那样经过彼此。在一更具体的示例中，载置台110和112中的一个被抬升，以便另一载置台能够从下方经过上升的载置台。
仍然参考图9，在S910A，在装载区域108从载置台110卸载第一工件。一齐地或同时地，在S910B，在处理区域106处理第二工件。
针对图9所描述的方法可重复进行，以提高多载置台系统的吞吐量，以便装载于一个载置台上的工件的处理可与向另一载置台上装载工件一齐地或同时地进行。
根据图9所示的示例性实施例，第一工件受到处理的时间与向载置台上装载第二工件的时间至少部分地重叠。
以上提供的描述是为了图示和描述目的。它并非旨在穷举。特定示例性实施例的各元件或特征通常并不局限于该特定示例，在适用时是可交换的，并且能够用于即使未具体地图示或描述的所选实施例。同样的事物也可以多种方式发生变型。这种变型不能视为背离示例性实施例，并且所有这种变型旨在包括在本文所述示例性实施例的范围内。

Claims (20)

1.一种光刻处理工具，包括：
用于装载工件的装载区域；
用于处理工件的处理区域；和
配置于装载区域与处理区域之间的多载置台系统，所述多载置台系统包括构造成在装载区域与处理区域之间移动的同时经过彼此的至少两个载置台，所述至少两个载置台中的每一个构造成保持工件。
2.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的每一个构造成被上升和下降中的至少一种，以使所述至少两个载置台在装载区域与处理区域之间移动时经过彼此。
3.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的每一个安装在轴承上，所述轴承沿一轴提供棱柱运动并绕相同轴线提供旋转运动。
4.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的第一载置台在所述轴上枢转，以使第一载置台的一侧上升，从而使得所述至少两个载置台中的第二载置台从下方经过第一载置台。
5.如权利要求1所述的工具，其中，所述工具是图案生成器。
6.如权利要求1所述的工具，其中，所述工具是测量或检查工具中的至少一个。
7.如权利要求1所述的工具，其中，所述工具是扫描多光束系统。
8.如权利要求1所述的工具，其中，所述工具是包括一个或多个旋转光学臂的光学处理装置，所述一个或多个旋转光学臂包括构造成从一调制器向工件的表面中继图像信息的光学系统。
9.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的每一个构造成从上方或下方经过所述至少两个载置台中的另一个。
10.如权利要求1所述的工具，还包括：
至少第一机械手，其构造成抬升所述至少两个载置台中的第一载置台以便所述至少两个载置台中的第二载置台从下方经过第一载置台。
11.如权利要求1所述的工具，其中，所述多载置台系统还包括：
第一载置台组件，包括所述至少两个载置台中的第一和第二载置台，所述第一载置台组件构造成在装载区域与处理区域之间移动；和
第二载置台组件，包括所述至少两个载置台中的第三和第四载置台，所述第二载置台组件构造成在装载区域与处理区域之间移动；其中
第一载置台安装在第二载置台上，第三载置台安装在第四载置台上，并且
第一载置台构造成经由致动器上升或下降，以便第一载置台在装载区域与处理区域之间移动时从上方经过第三载置台。
12.如权利要求11所述的工具，其中，第二载置台和第四载置台在装载区域与处理区域之间移动时在相同或大致相同的垂直高度经过彼此。
13.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的第一载置台安装在第一可垂直致动轴上，而所述至少两个载置台中的第二载置台安装在第二可垂直致动轴上；并且其中
第一和第二载置台构造成被上升和下降，以使第一和第二载置台中的一个在装载区域与处理区域之间移动时从下方经过第一和第二载置台中的另一个。
14.如权利要求1所述的工具，其中，所述至少两个载置台中的第一载置台小于所述至少两个载置台中的第二载置台，并且第一载置台构造成在装载区域与处理区域之间移动时从下方经过第二载置台。
15.一种用于处理工件的光刻方法，该方法包括：
将第一工件装载到至少两个载置台中的第一载置台上；
使第一载置台向处理单元移动；
处理第一工件；和
将第二工件装载到所述至少两个载置台中的第二载置台上；其中
第一工件受到处理的时间与装载第二工件的时间至少部分地重叠。
16.如权利要求15所述的方法，其中，当向处理单元移动时，第一载置台从上方或下方经过第二载置台。
17.如权利要求16所述的方法，还包括：向处理单元移动第二载置台；和将第一载置台移动返回装载区域；其中
在第一和第二载置台经过彼此时，载置台中的至少一个的至少一侧被上升或下降，以能够使载置台经过。
18.一种图案生成器，包括
构造成在工件上生成图案的图案生成单元；和
构造成使工件移动往返于所述图案生成单元的载置台系统，所述载置台系统包括至少两个载置台，所述至少两个载置台安装于在装载区域与图案生成单元之间延伸的轴上，所述至少两个载置台构造成承载工件，并且构造成沿所述轴的轴线枢转，以使所述至少两个载置台中的第一载置台从上方或下方经过所述至少两个载置台中的第二载置台。
19.如权利要求18所述的图案生成器，其中，所述至少两个载置台中的每一个构造成被上升和下降中的至少一种，以使所述至少两个载置台在装载区域与图案生成单元之间移动时经过彼此。
20.如权利要求18所述的图案生成器，其中，所述至少两个载置台中的每一个安装在轴承上，所述轴承沿一轴提供棱柱运动并绕相同轴线提供旋转运动。
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