KR101657221B1 - 멀티-테이블 리소그래피 시스템 - Google Patents

멀티-테이블 리소그래피 시스템 Download PDF

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Abstract

리소그래피 소재 프로세싱 툴은 소재를 로딩하기 위한 로딩 영역(108); 및 소재를 프로세싱하기 위한 프로세싱 영역(106)을 포함한다. 또한, 소재 프로세싱 툴은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에 배열된 멀티-테이블 시스템(10)을 포함한다. 멀티-테이블 시스템은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 서로를 통과하도록 구성된 적어도 2개의 테이블들(110, 112)을 포함한다. 적어도 2개의 테이블들 각각은 소재를 보유하도록 구성된다.

Description

멀티-테이블 리소그래피 시스템{MULTI-TABLE LITHOGRAPHIC SYSTEMS}
[0001] 본 특허 출원은 2009년 2월 13일 출원된 미국 가특허출원 제61/202,289호의 우선권을 청구한다.
[0002] 소재(workpiece)(이를테면, 기판 또는 웨이퍼)를 기록 또는 패터닝하기 위한 통상의 디바이스에서, 통상적으로 워크 플로우는 적어도 4개의 프로세스 단계들: 로딩, 측정, 기록 및 언로딩을 포함한다. 이러한 프로세스 단계들이 연속적으로 수행될 경우, 시스템 자원들에 대한 유휴 시간(idle time)은 비교적 낮은 처리량을 산출하게 된다.
[0003] 시스템 자원 활용을 개선하기 위해, 파이프라인된 아키텍처가 사용될 수 있다. 다수의 기판 전달 테이블들을 가지는 디바이스는 병렬적 동작들을 가능케하며 시스템 자원들에 대한 유휴 시간을 감소시킨다. 일 실시예의 디바이스에서, 2개의 테이블들은 테이블들이 마주하는 단부들로부터 기록 영역에 진입하도록 단일의 프리즈매틱(prismatic) 축 상에 배열된다. 그러나 이러한 배열은 이중의 로딩 및 정렬 시스템들 및 영역들을 요구한다.
[0004] 예시적 실시예들은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 테이블들이 서로를 통과할 수 있는 멀티-테이블 시스템들을 제공한다. 이러한 예시적 실시예는 단지 하나의 로딩 영역 및 하나의 프로세싱 영역을 요구한다.
[0005] 적어도 하나의 예시적 실시예는 리소그래피 프로세싱 툴을 제공한다. 툴은 소재의 로딩을 위한 로딩 영역; 소재의 프로세싱을 위한 프로세싱 영역; 및 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에 정렬되는 멀티-테이블 시스템을 포함한다. 멀티-테이블 시스템은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과하도록 구성된 적어도 2개의 테이블들을 포함한다. 적어도 2개의 테이블들 각각은 소재를 보유(hold)하도록 구성된다.
[0006] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 각각은 적어도 2개의 테이블들 중 서로 다른 하나의 위로 또는 아래로 통과하도록 구성될 수 있다.
[0007] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 각각은 적어도 2개의 테이블들이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 서로를 통과하도록, 상승되고 하강되는 것중 적어도 하나를 수행하도록 구성될 수 있다.
[0008] 적어도 2개의 테이블들 각각은 베어링(bearing) 상에 장착될 수 있다. 베어링은 샤프트를 따른 프리즈매틱 이동 및 축 부근의 회전 이동을 제공한다. 툴은 패턴 생성기, 측정 툴, 검사 툴, 스캐닝 멀티-빔 시스템, 또는 변조기(modulator)로부터 소재의 표면으로의 이미지 정보를 중계하도록 구성된 광학기(optics)를 포함하는 하나 이상의 회전하는 광학적 아암(arm)들을 가지는 광학 프로세싱 디바이스일 수 있다.
[0009] 예시적 실시예들은 도면들과 관련하여 보다 상세하게 논의될 것이다.
[0010] 도 1은 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템을 예시한다.
[0011] 도 2는 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다.
[0012] 도 3a-3e는 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 예시적 동작을 예시한다.
[0013] 도 4는 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 예시적 동작을 예시한다.
[0014] 도 5는 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다.
[0015] 도 6은 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다.
[0016] 도 7은 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다.
[0017] 도 8은 인코더 출력들을 조합하기 위한 방법의 예시적 실시예를 예시한다. 그리고,
[0018] 도 9는 예시적 실시예에 따라 소재를 프로세싱하기 위한 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0019] 예시적 실시예들이 첨부되는 도면들을 참조로 보다 상세하게 개시될 것이며, 도면들에서는 일부 예시적 실시예들이 도시된다. 도면들에서, 층들 및 영역들의 두께들은 명료화를 위해 확대되었다. 도면들에서 유사한 참조 번호들은 유사한 부재들을 나타낸다.
[0020] 예시적인 상세한 실시예들이 본 명세서에 개시된다. 그러나 본 명세서에 개시되는 특정한 구조 및 기능적 사항들은 단지 예시적 실시예들을 개시하기 위한 목적으로 나타낸다. 예시적 실시예들은 다수의 대안적 형태들로 구현될 수 있으며 본 명세서에 개시되는 예시적 실시예들로만 제한되는 것으로서 해석되지 말아야 한다.
[0021] 그러나 개시된 특정한 것들로 예시적 실시예들을 제한하고자 의도되는 것은 아니며, 반대로 예시적 실시예들은 적절한 범주 내에 있는 모든 변형들, 등가물들, 및 대안물들을 포함하는 것으로 의도된다는 것을 인식해야 한다. 유사한 번호들은 도면들의 설명 전반에서 유사한 부재들로 간주된다.
[0022] 제 1, 제 2 등의 용어들은 다양한 부재들을 설명하기 위해 본 명세서에서 사용될 수 있지만, 이들 부재들은 이러한 용어들로 제한되지 않아야 한다는 것이 이해될 것이다. 이러한 용어들은 단지 하나의 부재를 서로 다른 하나의 부재와 구별하기 위해서 사용된다. 예를 들어, 예시적 실시예들의 범주를 이탈하지 않고, 제 1 부재는 제 2 부재로 불릴 수 있고, 유사하게 제 2 부재는 제 1 부재로 불릴 수 있다. 본 명세서에 개시되는 것처럼, "및/또는" 이란 용어는 연관된 리스트 항목들 중 하나 이상의 임의의 및 모든 조합들을 포함한다.
[0023] 부재가 다른 부재와 "연결되는" 또는 "결합되는" 것으로 간주될 때, 이는 다른 부재에 직접 연결되거나 결합될 수 있으며 혹은 중간 부재들이 존재할 수 있다. 반대로, 부재가 다른 부재와 "직접 연결되는" 또는 "직접 결합되는"으로 간주될 때, 중간 부재들은 존재하지 않는다. 부재들 간의 관계를 기재하는데 사용되는 다른 단어들은 유사한 형태로 해석되어야 한다(이를테면, "사이" 대 "사이에 바로", "인접한" 대 "사이에 인접한" 등).
[0024] 본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 것이며 예시적 실시예들을 제한하고자 의도되는 것은 아니다. 본 명세서에 사용되는 것처럼, 단수 형태의 관사들("a", "an" 및 "the)은 문맥에 명확한 별다른 언급이 없다면, 마찬가지로 복수 형태를 포함하는 것으로 의도된다. 또한, 본 명세서에 사용될 때, "포함한다(comprises)", "포함하는(comprising)", "포함한다(includes) 및/또는 "포함하는(including)"이란 용어는 정해진 피처들, 정수들, 단계들, 동작들, 부재들, 및/또는 컴포넌트들의 존재를 명시하지만, 하나 이상의 다른 피처들, 정수들, 단계들, 동작들, 부재들, 컴포넌트들, 및/또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
[0025] 일부 대안적 구현예들에서, 언급되는 기능들/동작들은 도면에 언급된 순서를 벗어나게 수행될 수 있다는 것을 주목해야 한다. 예를 들어, 연속하게 도시된 2개의 도면들은 수반되는 기능/동작들에 따라, 사실상 실질적으로 동시적으로 실행될 수 있고 때로는 바뀐 순서로 실행될 수 있다.
[0026] 예시적 실시예들은 패턴들 및/또는 이미지들을 판독 및 기록하기 위해 기판 또는 웨이퍼와 같은 소재들을 스캐닝하는 것과 관련된다. 또한, 예시적 실시예들은 소재들을 측정하는 것과 관련된다. 예시적 기판들 또는 웨이퍼들은 플랫 패널 디스플레이들, 인쇄 회로 보드(PCB)들, 애플리케이션들을 패키징하기 위한 기판들 또는 소재들, 광전지 패널들 및 이와 유사한 것을 포함한다.
[0027] 예시적 실시예들에 따라, 판독 및 기록이 넓은 의미로 이해될 것이다. 예를 들어, 판독 동작들은 비교적 작은 또는 비교적 큰 소재의 현미경검사(microscopy), 검사, 계측법(metrology), 분광법(spectroscopy), 간섭법(interferometry), 산란측정법(scatterometry) 등을 포함할 수 있다. 기록은 포토레지스트 노광, 광학 가열에 의한 어닐링, 절제, 광학 빔에 의해 표면에 대한 임의의 다른 변화들 생성 등을 포함할 수 있다.
[0028] 예시적 실시예들에 따른 멀티-테이블 시스템들은 기판상에 이미지를 기록하기 위한 패턴 생성기들(또는 다른 툴들)에서 (또는 이와 조합되어) 구현될 수 있고, 예를 들어 패턴 생성기는 하나의 또는 다수의 이미지-생성 변조기를 포함한다.
[0029] 예시적 실시예들에 따른 멀티-테이블 시스템들은 소재를 측정하기 위한 측정 및/또는 검사 툴들에서 (또는 이와 조합하여) 구현될 수 있다. 하나 이상의 예시적 실시예들이 구현될 수 있는 측정 및/또는 검사 툴은 하나의 또는 다수의 검출기들, 센서들(이를테면, TDI(time delay and integration) 센서들), 카메라들(이를테면, 전하 결합 디바이스(CCD)들), 또는 이와 유사한 것을 포함할 수 있다.
[0030] 또한, 예시적 실시예들은 3차원(3D) 기판과 같은 비교적 두꺼운 기판 상에 패턴들을 기록하기 위해 패턴 생성기들에서 구현되거나 또는 비교적 두꺼운 소재 또는 기판을 측정 또는 검사하기 위한 툴(이를테면, 약 2㎛ 내지 약 100㎛ 이상 보다 두꺼운 포토레지스트의 3차원(3D) 패턴을 측정 또는 검사하기 위한 툴)에서 구현될 수 있다.
[0031] 또한, 예시적 실시예들은 적어도 하나의 편향기(deflector)를 포함하는 음향-광학 멀티-빔 시스템과 같은 스캐닝 멀티-빔 시스템에서 구현될 수 있다.
[0032] 또한, 예시적 실시예들은 아암이 소재를 거쳐 아크를 스윕(sweep)하더라도, 소재 상의 정보 및 회전하는 광학 아암의 허브(hub)에서의 정보 간에 본질적으로 일관적인(consistent) 배향 관계를 유지하는 동안 변조기로부터 소재의 표면으로의 이미지 정보를 중계하는 광학기를 가지는 하나 이상의 회전하는 광학적 아암들을 포함하는 비교적 높은 처리량의 광학 프로세싱 디바이스로 구현될 수 있다.
[0033] 또한, 예시적 실시예들은 하나 또는 다수의 검출기 센서들을 포함하는 하나 이상의 회전 아암들을 포함하는 측정 및/또는 검사 툴로 구현될 수 있다.
[0034] 예시적 실시예들은 테이블들이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과할 수 있는 시스템을 제공한다. 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 프로세싱 영역은 판독 영역, 기록 영역 및/또는 측정 영역일 수 있다.
[0035] 예시적 실시예들은 테이블들이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과할 수 있는 멀티-테이블 시스템들을 제공한다. 이러한 예시적 실시예는 하나의 로딩 영역 및 하나의 프로세싱 영역만을 요구한다.
[0036] 적어도 하나의 예시적 실시예들은 리소그래피 프로세싱 툴을 제공한다. 툴은 소재 로딩을 위한 로딩 영역; 소재 프로세싱을 위한 프로세싱 영역; 및 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에 배열되는 멀티-테이블 시스템을 포함한다. 멀티-테이블 시스템은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과하도록 구성되는 적어도 2개의 테이블들을 포함한다. 적어도 2개의 테이블들 각각은 소재를 보유하도록 구성된다.
[0037] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 각각은 적어도 2개의 테이블들이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과하도록 상승되는 것 및 하강되는 것 중 적어도 하나를 수행하도록 구성될 수 있다.
[0038] 적어도 2개의 테이블들 각각은 베어링에 장착될 수 있다. 베어링은 샤프트를 따른 프리즈매틱 이동 및 축 부근의 회전 이동을 제공한다. 툴은 패턴 생성기, 측정, 검사 툴, 스캐닝 멀티-빔 시스템, 또는 하나 이상의 회전하는 광학 아암들을 포함하는 광학 프로세싱 디바이스일 수 있으며, 광학 프로세싱 디바이스는 변조기로부터 소재의 표면으로의 이미지 정보를 중계하도록 구성된 광학기를 포함한다.
[0039] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 각각은 적어도 2개의 테이블들이 다른 것의 위로 또는 아래로 통과하도록 구성될 수 있다.
[0040] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 툴은 적어도 2개의 테이블들 중 제 2의 테이블이 제 1 테이블 아래로 통과하도록, 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블을 상승시키도록 추가로 구성될 수 있다.
[0041] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 툴은 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블이 제 1 테이블 아래로 통과하도록, 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블을 상승시키도록 구성되는 적어도 제 1 기계 손(mechanical hand)을 추가로 포함할 수 있다.
[0042] 멀티-테이블 시스템은 제 1 테이블 어셈블리 및 제 2 테이블 어셈블리를 더 포함한다. 제 1 테이블 어셈블리는 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블을 포함할 수 있고, 제 1 테이블 어셈블리는 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하도록 구성된다. 제 2 테이블 어셈블리는 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블을 포함하며, 제 2 테이블 어셈블리는 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동하도록 구성된다. 제 1 테이블은 제 1 지지부 상에 장착되고, 제 2 테이블은 제 2 지지부 상에 장착되며, 제 1 테이블은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 제 1 테이블이 제 2 테이블 위로 통과하도록, 액추에이터를 통해 상승 또는 하강하도록 구성된다.
[0043] 제 1 테이블 어셈블리의 지지부 및 제 2 테이블 어셈블리의 지지부는 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때, 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에서 서로 다른 하나를 통과할 수 있다.
[0044] 적어도 일부 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블은 수직으로 작동가능한 제 1 샤프트상에 장착되며 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블은 수직으로 작동가능한 제 2 샤프트상에 장착된다. 제 1 및 제 2 테이블들은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 제 1 및 제 2 테이블 중 하나가 제 1 및 제 2 테이블 중 서로 다른 하나의 아래로 통과하도록, 상승 및 하강하도록 구성된다.
[0045] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블은 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블 보다 작고 제 1 테이블은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 제 2 테이블 아래를 통과하도록 구성된다.
[0046] 적어도 하나의 다른 예시적 실시예는 리소그래피 애플리케이션들에 대해 소재를 프로세싱하기 위한 방법을 제공한다. 적어도 이러한 예시적 실시예에 따라, 제 1 소재는 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블상에 로딩되며, 제 1 테이블은 프로세싱 영역으로 이동된다. 제 1 소제가 프로세싱되고, 제 2 소재는 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블상에 로딩된다. 특정 실시예들에서, 제 1 소재가 프로세싱되는 동안의 시간은 제 2 소재가 로딩되는 동안의 시간과 적어도 부분적으로 오버랩된다.
[0047] 흔히 다수의 테이블 시스템들의 기술 상태는 생산 라인에서의 다른 시스템들과의 불량(poor) 인터페이스 및 불균일한 피스 플로우(piece flow)를 겪게된다. 본 발명의 예시적 실시예들의 대칭적 이중 테이블 설계는 다수의 테이블들 사이에 공유되는 본질적으로 평행한 샤프트들 및 선형 모터 레일 및/또는 선형 스케일을 제공함으로써, 생산 라인에 있는 다른 시스템들에 대한 인터페이스를 손쉽게하는 일정 페이스(even pace)로 소재의 프로세싱을 가능케함으로써 상기 문제점들을 해결 또는 완화시킨다.
[0048] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 프로세싱 영역으로 이동할 때, 제 1 테이블은 제 2 테이블 위 또는 아래를 통과한다.
[0049] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 제 2 테이블은 프로세싱 영역으로 이동될 수 있고, 제 1 테이블은 다시 로딩 영역으로 이동될 수 있다. 제 1 및 제 2 테이블들이 서로 다른 하나를 통과함에 따라, 테이블들 중 적어도 하나의 측면(side)은 테이블들의 통과를 가능케하기 위해 상승 또는 하강된다.
[0050] 적어도 하나의 다른 예시적 실시예는 패턴 생성기를 제공한다. 패턴 생성기는 소재 상에 패턴을 생성하도록 구성된 패턴 생성 유닛, 및 패턴 생성 유닛으로 그리고 패턴 생성 유닛으로부터 소재를 이동시키도록 구성된 테이블 시스템을 포함한다. 테이블 시스템은 로딩 영역과 패턴 생성 유닛 사이에서 연장되는 각각의 샤프트들 상에 장착된 적어도 2개의 테이블들을 포함한다. 적어도 2개의 테이블들 각각은 소재를 운반하도록 구성되며, 적어도 2개의 테이블들 제 1 테이블이 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블 위 또는 아래로 통과하도록, 샤프트들 각각의 하나의 축을 따라 피봇되게 구성된다.
[0051] 도 1은 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 상부도이다.
[0052] 도 1을 참조로, 멀티-테이블 시스템(10)은 로딩 영역(108) 및 프로세싱 영역(106)을 포함한다. 테이블(110)은 샤프트 또는 레일(102) 상에 장착되며, 테이블(112)은 샤프트 또는 레일(104) 상에 장착된다. 샤프트들(102, 104)은 적어도 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106)을 통해 이들 사이에서 연장된다. 테이블들(110, 112)은 샤프트들(102, 104) 상의 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106) 사이에서 동시적으로 또는 일제히 이동하도록 구성된다. 일례로, 샤프트들(102, 104)은 자성 레일일 수 있으며, 테이블들(110, 112)은 선형 모터(미도시)에 의해 구동될 수 있다. 도 1에는 도시되지 않았지만, 테이블들(110, 112)은 동일한 선형 모터 또는 심지어 동일한 샤프트 또는 레일을 공유할 수 있다. 따라서, 특정 실시예들에서, 테이블들(110, 112)은 공통의 선형 모터(미도시)에 의해 구동될 수 있으며 또 다른 실시예에서, 테이블들(110, 112)은 동일한 선형 모터의 자석 레일을 공유할 수 있다. 본 발명의 예시적 실시예들에 따른 다수의 테이블 시스템의 테이블들 사이에 공통의 선형 모터를 공유함으로써, 다수의 자석 레일들을 갖는 시스템들에 비해 시스템의 전체 총 비용이 상당히 감소될 수 있다. 다수의 테이블 시스템에 대한 단일의 공통 자석 레일의 사용은 어셈블리 시간 또한 감소시킨다.
[0053] 매우 정확한 속도 제어를 요구하는 고(high) 정확도 시스템들은 각각의 자석 레일을 따른 힘 변동들을 측정하고 이를 보상할 필요가 있을 수 있다. 본 발명의 예시적 실시예들을 따라 테이블들에 대해 공통 레일을 도입하는 것은 고 정확도 시스템의 정확한 속도 제어를 제공하거나 또는 정확한 속도 제어 및 교정(calibration)에 대한 요구사항을 감소시킬 수 있다.
[0054] 예시적 동작에서, 테이블들(110, 112) 중 하나는 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106) 사이에서 이동할 때 다른 것의 위 또는 아래를 통과한다.
[0055] 로딩 영역(108)에서, 소재는 로딩 및 언로딩된다. 프로세싱 영역(106)에서, 소재는 프로세싱된다. 프로세싱 영역(106)은 판독 영역, 기록 영역 및/또는 측정 영역일 수 있다. 일례로, 프로세싱 영역(106)은 테이블들(110, 112) 상에 로딩된 소재들을 처리하도록 구성된 프로세싱 유닛 또는 툴(이를테면, 판독 유닛, 기록 유닛 및/또는 측정 유닛)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 프로세싱 영역(106)은 패턴 생성 툴; 소재를 측정하기 위한 측정 및/또는 검사 툴들; 음향-광학 멀티-빔 패턴 생성 장치; 및 비교적 높은 처리량의 광학 프로세싱 디바이스 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
[0056] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 제 1 테이블(이를테면, 테이블(110)) 상의 소재가 프로세싱되는 동안의 시간은 소재가 제 2 테이블(이를테면, 테이블(112)) 상에 로딩되는 동안의 시간과 적어도 부분적으로 중첩된다.
[0057] 여전히 도 1을 참조로, 테이블들(110, 112)이 서로 다른 하나를 통과할 수 있을 때, 동일한 로딩 시스템, 정렬 시스템 및/또는 프로세싱 시스템이 모든 테이블들(110, 112) 상에 배열된 소재들에 대해 이용될 수 있다. 따라서, 총 처리량이 증가되는 반면, 전체 시스템에 대한 비용들 및/또는 공간 요구조건은 감소될 수 있다.
[0058] 도 2는 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다. 도 2에 도시된 멀티-테이블 시스템의 일부는 테이블들(110, 112)이 서로 다른 하나를 통과하는 예시적 방식을 예시한다.
[0059] 도 2를 참조로, 테이블(110)은 적어도 2 자유도(degrees of freedom)를 갖는 피봇 베어링(202)을 통해 샤프트(102) 상에 장착된다. 또한, 테이블(110)은 수직 베어링(204) 상에 장착된다. 또한, 테이블(112)은 적어도 2 자유도를 갖는 피봇 베어링(202)를 통해 샤프트(104) 상에 장착된다. 또한, 테이블(112)은 수직 베어링(204) 상에 장착된다. 도 2는 2개의 테이블들(110, 112)이 베어링들 상에 장착되는 것을 도시하지만, 테이블들(110, 112) 중 단지 하나가 피봇 베어링(202) 상에 장착될 수 있다. 베어링들(202, 204)은 샤프트들(102, 104)을 따른 테이블들(110, 112)의 프리즈매틱 이동, 및 회전 축으로서 샤프트들(102, 104) 부근에서 테이블들(110, 112)의 회전 이동을 제공한다. 적어도 2 자유도를 갖는 피봇 베어링들(202)은 예를 들어, 방사상 에어 베어링들, 에어 부싱들, 마그네틱 베어링들, 볼 베어링들 또는 프리즈매틱 및 회전 자유도를 제공할 수 있는 임의의 다른 종류의 베어링들일 수 있다.
[0060] 피봇 베어링(202)에 의해 제공되는 회전 자유도를 이용함으로써, 테이블들(110, 112)이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 서로 다른 하나를 통과시킬 때 테이블(112)이 테이블(110) 아래로 통과하도록 테이블(110)이 상승될 수 있다. 도 2에는 도시되지 않았지만, 회전 자유도는 테이블들 중 하나(이를테면, 테이블(112))를 하강시키는데 이용될 수 있는 반면 다른 테이블(이를테면, 테이블(110))은 하강된 테이블 위를 통과한다.
[0061] 적어도 하나의 예시적 실시예에 따라, 테이블들(110, 112)은 서로 다른 하나를 통과할 때를 제외한 모든 시간들에서 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에서 기판들 또는 웨이퍼들을 운반할 수 있다.
[0062] 예시적 실시예들에 따른 멀티-테이블 시스템들은 거의 또는 움직이지 않는 부품들로 구성될 수 있다. 또한, 테이블은 단일 평면에 걸쳐있는(span) 적어도 3개의 지지점들을 갖는 운동학적(kinematic) 베어링 설계를 가질 수 있으며, 이는 멀티-테이블 시스템의 어셈블리 및/또는 조절을 단순화시킬 수 있다. 또한, 앞서 논의된 것처럼, 예시적 실시예들에 따른 테이블들이 선형 모터에 의해 구동되게 설계될 경우, 테이블들은 동일한 자성 레일을 공유할 수 있다. 또한, 선형 인코더로 테이블 위치가 측정될 경우, 테이블들은 동일한 선형 스케일을 공유할 수도 있다. 다수의 테이블들에 대한 하나의 공통 선형 스케일은 비용을 감소시키며 어셈블리를 단순화시키고 정렬을 위해 요구되는 작업을 최소화시킨다. 또한, 다수의 테이블들에 대한 하나의 스케일은 테이블들 간의 위치 편차들을 최소화시킨다. 이는 어떤 테이블이 사용되는지와 상관없이 반복적인 결과들로의 프로세싱을 조장한다. 반복적인 결과를 얻는 것은 각각의 프로세싱된 소재가 중요 인자(crucial factor)인 경우 배치 프로세싱(batch processing)에 대해 특히 중요하다. 다수의 스케일들과 비교할 때 단일 선형 스케일이 갖는 또 다른 장점은 선형 스케일들은 통상 입자들 및 오염에 민감하기 때문에 세정 및 보호하기가 더 쉽다는 것이다. 적어도 하나의 예시적 실시예에 따라, 모터 및/또는 스케일은 테이블들의 회전 중심부와 비교적 근접하게 위치될 수 있어, 기생(parasitic) 회전을 감소 및/또는 최소화시킬 수 있다.
[0063] 도 3a-3e는 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106)으로부터 이동할 때 테이블(110)이 테이블(112) 아래를 통과하는 예시적 동작을 예시하는 시퀀스이다.
[0064] 도 3a에 도시된 것처럼, 테이블들(110, 112) 각각은 초기에 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에 위치된다.
[0065] 도 3b 및 도 3c를 참조로, 테이블(110)이 프로세싱 영역(106)을 향해 이동하고 테이블(112)에 다가감에 따라, 테이블(112)은 테이블(110)이 테이블(112) 아래를 통과하도록 상승된다. 본 예에서, 테이블(112)은 테이블(112)이 샤프트(104) 부근을 회전하고 테이블(112)의 측면이 상승되도록 샤프트(104) 상에서 피봇한다.
[0066] 도 3c 및 도 3d를 참조로, 테이블(112)이 상승된 이후, 테이블(110)은 테이블(112) 아래를 통과한다.
[0067] 도 3e를 참조로, 테이블(110)이 테이블(112) 아래를 통과한 후, 테이블(112)은 다시 그의 원래 위치로 하강되며 프로세싱 영역(106)을 향한 이동을 지속한다.
[0068] 도 3a-3e에 도시된 예시적 실시예는 또 다른 소재의 프로세싱과 병렬로 하나의 소재를 로딩, 언로딩, 및 측정하는 것을 가능케한다.
[0069] 적어도 일부 예시적 실시예들에 따라, 시스템 자원들은 테이블들이 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 또는 이와 반대로 이동하는 동안에만 유휴된다.
[0070] 적어도 하나의 예시적 실시예에 따라, 테이블들의 리프팅 모션은 (이를테면, 테이블이 샤프트에 장착되는 측과 마주하는) 테이블의 자유단(free end)에서 기계 손 또는 자성 액추에이터에 의해 샤프트 부근에 토크를 생성하도록 구성된 전자기 디바이스에 의해 생성될 수 있다.
[0071] 도 4a-4d는 기계 손이 테이블의 측면을 상승시키는 예시적 실시예를 예시하는 시퀀스를 도시한다. 이러한 예시적 실시예에서, 테이블(406)이 샤프트(402) 상에서 피봇되고 테이블(406)의 측면이 기계 손(404)에 의해 상승될 수 있도록, 테이블(406)은 샤프트(402) 상에 장착된다. 기계 손(404)은 테이블(406)을 상승 및 하강시키기 위해 상승 및 하강되도록 구성된다.
[0072] 도 4a를 참조로, 기계 손(404)은 테이블(406)의 자유단에 장착된다. 본 예에서, 기계 손(404)은 샤프트(402)를 마주하는 측에 장착되며, 기계 손(404)의 하부 부분이 테이블(406)의 상부 표면 위에 있도록 상향-위치(up-position)에 위치된다.
[0073] 도 4b를 참조로, 테이블(406)이 기계 손(404)에 다가감에 따라, 기계 손(404)은 기계 손(404)의 상승 부분의 상부 표면이 테이블(406)의 하부 부분 아래에 있도록, 하향 위치로 하강된다.
[0074] 도 4c를 참조로, 하향 위치에 있게 되면, 테이블(406)은 기계 손(404)의 상승 부분 위를 통과한다.
[0075] 도 4d를 참조로, 기계 손(404)은 또 다른 테이블(미도시)이 테이블(406) 아래를 통과할 수 있도록 테이블(406)의 측면을 상승시키기 위해 상향 위치로 이동된다.
[0076] 하기에 보다 상세하게 논의되는 것처럼, 다른 때에는(at other times) 테이블들을 동일한 또는 실질적으로 동일한 높이로 유지하면서, 적어도 2개의 테이블들이 상이한 수직 레벨들로 통과될 수 있게 하기 위해 다른 가능한 설계 선택안들이 사용될 수 있다.
[0077] 도 5는 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템의 일부를 예시한다.
[0078] 도 5에 도시된 것처럼, 테이블 어셈블리들(50OA, 50OB)은 다수의 부품들을 포함한다. 본 예에서, 하나의 테이블 어셈블리의 적어도 하나의 부품은 상승 또는 하강될 수 있다.
[0079] 도 5를 참조로, 테이블 어셈블리(500A)는 테이블 어셈블리(500A)가 샤프트(506A)를 따라 프리즈매틱 이동을 할 수 있도록 샤프트(506A) 상에 장착된다. 테이블 어셈블리(500B)는 테이블 어셈블리(500B)가 샤프트(506B)를 따른 프리즈매틱 이동을 할 수 있도록 샤프트(506B) 상에 장착된다.
[0080] 테이블 어셈블리(500A)는 지지부(508A) 상에 장착된 테이블(502A)을 포함한다. 테이블 어셈블리(500B)는 지지부(508B) 상에 장착된 테이블(502B)을 포함한다. 지지부들(508A, 508B) 각각은 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에 배열되고 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 또는 이와 반대로 이동할 때 서로 다른 하나를 통과하도록 배열된다.
[0081] 도 5에 도시된 예시적 실시예에서, 테이블들(502A, 502B)은 (이를테면, 적어도 수평 방향에서) 지지부들(508A, 508B) 보다 크다.
[0082] 테이블들(502A, 502B)은 서로 다른 하나를 통과할 때까지 동일한 수직 높이에 위치될 수 있다. 본 예에서, 테이블 어셈블리들(500A, 500B)이 서로 다른 하나에 다가감에 따라, 테이블(502A)은 테이블(502A)이 테이블(502B) 위를 통과하도록 액추에이터(504A)에 의해 상승된다.
[0083] 도 5에 도시되지는 않았지만, 테이블 어셈블리(500B)는 테이블(502B)이 테이블(502A)와 동일한 방식으로 상승 또는 하강될 수 있도록 액추에이터를 더 포함할 수 있다.
[0084] 도 6은 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템을 예시한다.
[0085] 도 6을 참조로, 테이블(600A)은 일측에서 수직으로 작동가능한 샤프트(602A)에 고정된다. 또한, 테이블(600B)은 일측에서 수직으로 작동가능한 샤프트(602B)에 고정된다. 수직으로 작동가능한 샤프트들(602A, 602B)은 마주하는 측에 배열되어, 수직으로 작동가능한 샤프트들(602A, 602B)에 부착되지 않은 테이블들(600A, 600B)의 단부들은 서로를 마주한다.
[0086] 도 6에 도시된 예시적 실시예에서, 테이블들(600A, 600B)은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 또는 이와 반대의 경우로 이동할 때, 테이블들(600A, 600B)이 서로 다른 하나를 통과하도록, 개별(discrete) 위치들(또는 연속적으로)로 상승 및 하강될 수 있다.
[0087] 예시적 실시예들에 따라, 테이블들(600A, 600B) 중 하나는 다른 것에 비해 더 작을 수 있다. 일례로, 더 작은 테이블은 프로세싱 및/또는 정렬 동안 상승될 수 있다.
[0088] 도 7은 또 다른 예시적 실시예에 따른 멀티-테이블 시스템을 예시한다.
[0089] 도 7에 도시된 것처럼, 테이블 어셈블리(700B)는 테이블 어셈블리(700A)의 테이블(702A) 보다 더 작은 테이블(702B)을 포함한다. 본 예에서, 더 큰 테이블(702A)은 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 이동할 때 또는 이와 반대로 이동할 때 더 작은 테이블(702B)이 더 큰 테이블(702A) 아래를 통과하도록 상승될 수 있다.
[0090] 보다 상세하게 도 7을 참조로, 테이블 어셈블리(700A)는 테이블 어셈블리(700A)가 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 프리즈매틱 이동을 할 수 있도록 샤프트(706A) 상에 장착된다. 테이블 어셈블리(700B)는 테이블 어셈블리(700B)가 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 프리즈매틱 이동을 할 수 있도록 샤프트(706B) 상에 장착된다.
[0091] 테이블들(702A, 702B)은 서로 다른 하나를 통과할 때까지 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에 위치될 수 있다. 대안적으로, 테이블들(702A, 702B)은 상이한 수직 높이들로 위치될 수 있다. 일례로, 더 작은 테이블(702B)이 더 큰 테이블(702B) 아래를 통과할 수 있도록 더 작은 테이블(702B)은 더 큰 테이블(702A)에 대해 낮은 수직 높이에 위치될 수 있다.
[0092] 테이블들(702A, 702B)이 서로 다른 하나를 통과할 때까지 동일한 또는 실질적으로 동일한 수직 높이에 위치되는 예에서, 테이블들(702A, 702B)이 서로 다른 하나에 다가감에 따라, 더 큰 테이블(702A)이 더 작은 테이블(702B) 위를 통과하도록 테이블(702A)은 테이블 어셈블리(500A)의 일측에 배열된 액추에이터(미도시)에 의해 상승된다.
[0093] 예시적 실시예들에 따른 처리량 시스템들은 위치 측정을 위해 선형 인코더들을 이용할 수 있다. 선형 인코더들은 속도와 해상도 간의 트레이드-오프(trade-off)를 강요하는 대역폭 제한을 가질 수 있다. 비교적 높은 처리량 시스템에서, 비교적 높은 속도에서의 수송 이동을 수행하는 것 및/또는 기록 및/또는 정렬 동안 비교적 높은 해상도를 이용하는 것이 바람직할 수 있다. 이는 테이블 당 2개 이상의 인코더 판독 헤드들을 이용함으로써 그리고 도 8에 도시된 것처럼 2개의 인코더들의 출력들을 조합함으로써 달성될 수 있다.
[0094] 도 8은 인코더 출력들을 조합하기 위한 방법의 예시적 실시예들 예시한다.
[0095] 도 8을 참조로, 제 1 인코더는 비교적 높은 속도(이를테면, 약 2.5 m/s의 최대 속도) 및 비교적 낮은 해상도(이를테면, 약 50 nm)를 위해 구성되는 반면, 제 2 인코더는 비교적 낮은 속도(이를테면, 약 0.25 m/s의 최소 속도) 및 비교적 높은 해상도(이를테면, 약 5 nm)를 위해 구성된다. 제 1 인코더는 약 40Ox로 보간될 수 있는 반면, 제 2 인코더는 약 400Ox로 보간될 수 있다.
[0096] 다음 제 1 인코더에 의해 절대 위치가 주어지며, 추가의(extra) 높은 해상도 디지트가 제 2 인코더로부터 부가되어 비교적 높은 속도의 이동들 동안 마지막 디지트에서 에러들을 가질 수 있지만, 비교적 낮은 속도 이동들 동안에는 정확한 비교적 높은 해상도 위치를 산출할 수 있다.
[0097] 적어도 이러한 예시적 실시예들에 따른 인코더 시스템이 다른 시스템들, 스테이지 솔루션들 및/또는 비교적 낮은 속도-비교적 높은 해상도 모드와 조합되는 비교적 높은 속도-비교적 낮은 해상도 모드 및 인코더를 이용하는 객체들의 이동을 위해 이용될 수 있다.
[0098] 도 9는 예시적 실시예에 따라 소재를 프로세싱하기 위한 방법을 예시한다. 명료화를 위해, 도 9에 도시된 방법은 도 1에 도시된 멀티-테이블 시스템과 관련하여 개시될 것이다. 그러나 예시적 실시예들은 다른 멀티-테이블 및/또는 리소그래피 시스템들에 적용될 수 있다는 것이 이해될 것이다.
[0099] 도 9를 참조로, S902에서, 소재는 로딩 영역(108)에서 테이블(110) 상에 로딩된다.
[00100] S904에서, 테이블(110)은 샤프트(102) 상의 프로세싱 영역(106)으로 이동된다. 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106) 사이에서 이동하는 동안, 테이블(110)은 예를 들어, 도 2-7과 관련하여 앞서 개시된 것처럼 테이블(112)을 통과한다. 보다 특정한 예에서, 테이블들(110, 112) 중 하나는 테이블들(110, 112) 중 다른 하나가 상승된 테이블 아래를 통과하도록 상승된다.
[00101] 여전히 도 9를 참조로, S906A에서, 테이블(110)상에 로딩된 제 1 소재는 프로세싱 영역(106)에서 프로세싱된다. 동시적으로 또는 일제히, S906B에서, 제 2 소재는 로딩 영역(108)에서 테이블(112) 상에 로딩된다.
[00102] S908A에서, 제 1 소재가 프로세싱된 후, 테이블(110)은 다시 로딩 영역(108)으로 이동된다. 동시적으로 또는 일제히, S908B에서, 테이블(112)은 프로세싱 영역(106)으로 이동한다. 앞서 논의된 것처럼, 로딩 영역(108)과 프로세싱 영역(106) 사이에서 이동하는 동안, 테이블들(110, 112)은 예를 들어, 도 2-7과 관련하여 앞서 논의된 것처럼 서로 다른 하나를 통과한다. 보다 특정한 예에서, 테이블들(110, 112) 중 하나는 다른 테이블이 상승된 테이블 아래를 통과할 수 있도록 상승된다.
[00103] 여전히 도 9를 참조로, S91OA에서, 제 1 소재가 로딩 영역(108)에서 테이블(110)로부터 언로딩된다. 동시적으로 또는 일제히, S910B에서, 제 2 소재가 프로세싱 영역(106)에서 프로세싱된다.
[00104] 도 9와 관련하여 개시된 방법은 하나의 테이블 상에 로딩된 소재가 다른 테이블 상의 소재의 로딩과 동시적으로 또는 일제히 프로세싱될 수 있도록, 멀티-테이블 시스템의 처리량을 개선시키기 위해 반복적으로 반복된다.
[00105] 도 9에 도시된 예시적 실시예에 따라, 제 1 소재가 프로세싱되는 동안의 시간은 제 2 소재가 테이블 상에 로딩되는 동안의 시간과 적어도 부분적으로 중첩된다.
[00106] 지금까지의 설명은 예시 및 설명을 위해 제공되었다. 이것이 전체로 의도되는 것은 아니다. 특정한 예시적 실시예의 각각의 부재들 또는 피처들은 일반적으로 이러한 특정 예로 제한되는 것이 아니라, 특정하게 도시되거나 설명되지 않더라도, 선택된 실시예에서 사용 또는 이용가능한 경우 상호교환될 수 있다. 다수의 방식들에서 동일하게 변경될 수 있다. 이러한 변동들은 예시적 실시예들의 이탈로 간주되지 않으며, 이러한 모든 변형들은 본 명세서에 개시되는 예시적 실시예들의 범주 내에 포함되는 것으로 의도된다.

Claims (20)

  1. 리소그래피 프로세싱 툴(lithography processing tool)로서,
    소재(workpiece)를 로딩하기 위한 로딩 영역;
    소재를 프로세싱하기 위한 프로세싱 영역; 및
    상기 로딩 영역과 상기 프로세싱 영역 사이에 배열된 멀티-테이블 시스템
    을 포함하며, 상기 멀티-테이블 시스템은 상기 로딩 영역과 상기 프로세싱 영역 사이에서 이동하는 동안 서로를 통과(pass)하도록 구성된 적어도 2개의 테이블들을 포함하며, 상기 적어도 2개의 테이블들 각각은 소재를 보유하도록 구성되며,
    상기 적어도 2개의 테이블들 중 적어도 제 1 테이블은 샤프트(shaft)를 따른 이동 및 회전 축으로서의 동일 샤프트 부근에서의 회전 이동을 제공하는 베어링 상에 장착되며,
    상기 적어도 2개의 테이블들 중 상기 적어도 제 1 테이블은, 상기 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블 및 상기 적어도 제 1 테이블이 상기 로딩 영역과 상기 프로세싱 영역 사이에서 서로를 통과할 수 있도록, 상기 제 1 테이블의 측면(side)을 상승 또는 하강시키도록 상기 샤프트 상에서 피봇(pivot)되도록 구성되는,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 툴은 패턴 생성기인,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 툴은 측정 또는 검사 툴 중 적어도 하나인,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 툴은 스캐닝 멀티-빔 시스템인,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 툴은, 변조기로부터 상기 소재의 표면으로의 이미지 정보를 중계하도록 구성된 광학기(optics)를 포함하는 하나 이상의 회전하는 광학적 아암들(arms)을 가지는 광학적 프로세싱 디바이스인,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 테이블들 각각은 상기 적어도 2개의 테이블들 중 다른 하나의 위 또는 아래를 통과하도록 구성되는,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블이 상기 제 1 테이블 아래를 통과하도록, 상기 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블을 상승시키도록 구성된 적어도 제 1 기계 손(hand)을 더 포함하는,
    리소그래피 프로세싱 툴.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 로딩 영역과 프로세싱 영역 사이에서 소재를 이동시키고 상기 프로세싱 영역 내의 상기 소재를 프로세싱하기 위한 리소그래피 방법으로서,
    상기 로딩 영역에서 적어도 2개의 테이블들 중 제 1 테이블 상에 제 1 소재를 로딩하는 단계;
    상기 프로세싱 영역 내의 프로세싱 유닛으로 상기 제 1 테이블을 이동하는 단계;
    상기 제 1 소재를 프로세싱하는 단계;
    상기 로딩 영역에서, 상기 적어도 2개의 테이블들 중 제 2의 테이블 상에 제 2 소재를 로딩하는 단계;
    상기 프로세싱 영역 내의 상기 프로세싱 유닛으로 상기 제 2 테이블을 이동하는 단계; 및
    상기 로딩 영역으로 상기 제 1 테이블을 다시 이동하는 단계
    를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 테이블들이 서로 다른 하나를 통과함에 따라, 상기 방법은,
    샤프트의 축 부근에서 상기 테이블들 중 적어도 하나를 피봇하는 단계를 더 포함하며, 상기 적어도 하나의 테이블은 상기 테이블들 중 적어도 하나의 측면(side)이 상승 또는 하강되는 것에 따라 이동하게 함으로써, 상기 테이블들의 통과를 가능하게 하는,
    방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 소재가 프로세싱되는 동안의 시간은 상기 제 2 소재가 로딩되는 동안의 시간과 적어도 부분적으로 중첩하는,
    방법.
  14. 패턴 생성기로서,
    소재 상에 패턴을 생성하도록 구성된 패턴 생성 유닛; 및
    상기 패턴 생성 유닛으로 그리고 상기 패턴 생성 유닛으로부터 소재들을 이동시키도록 구성된 테이블 시스템을 포함하며,
    상기 테이블 시스템은 적어도 2개의 테이블들을 포함하며, 상기 적어도 2개의 테이블들 중 적어도 제 1 테이블은 로딩 영역과 상기 패턴 생성 유닛 사이에서 연장되는 샤프트 상에 장착되며, 상기 적어도 2개의 테이블은 소재를 운반(carry)하도록 구성되며,
    상기 적어도 2개의 테이블들 중 상기 적어도 제 1 테이블은, 상기 적어도 2개의 테이블들 중 상기 적어도 제 1 테이블이 상기 적어도 2개의 테이블들 중 제 2 테이블의 위 또는 아래를 통과할 수 있도록, 상기 샤프트의 축 부근에서 피봇되도록 추가로 구성되는,
    패턴 생성기.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 테이블들 각각은, 상기 로딩 영역과 상기 패턴 생성 유닛 사이에서 이동할 때 상기 적어도 2개의 테이블들이 서로를 통과하도록 상승되는 것 또는 하강되는 것 중 적어도 하나를 수행하도록 구성되는,
    패턴 생성기.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 테이블들 각각은 샤프트를 따른 프리즈매틱(prismatic) 이동 및 동일 축 부근의 회전 이동을 제공하는 베어링 상에 장착되는,
    패턴 생성기.
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