CN102305978B - 硅基液晶屏生产系统及其生产方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了硅基液晶屏生产系统及其生产方法，本方法包括(1)基板清洗步骤：氧化铟锡玻璃与硅晶圆交替输送进入聚酰亚胺涂覆前清洗机完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃和硅晶圆依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；(3)将清洗后的氧化铟锡玻璃和硅晶圆送入玻璃/硅晶圆分流系统，氧化铟锡玻璃输送进入紫外框胶滴胶机，硅晶圆和完成在氧化铟锡玻璃上涂布图案框胶加工的氧化铟锡玻璃进行硅基液晶屏贴合加工，然后完成框胶曝光固化；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；(5)经过密封胶水固化处理的硅基液晶屏进行灌晶制得反射式液晶显示器，采用本方法提高了硅基液晶屏组装品质。
Description
技术领域
本发明涉及一种以硅基芯片为基板的液晶显示器的生产线设备结构及生产方法，特别涉及硅基液晶屏生产线结构及其工艺流程方法。
背景技术
硅基液晶(Liquid Crystal on Silicon，简称LCOS)显示技术是液晶显示(LiquidCrystal Display，简称LCD)技术与互补金属氧化物半导体(complementary metal oxidesemiconductor，简称CMOS)集成电路技术有机结合的反射型新型显示技术。首先在硅晶圆上运用CMOS器件工艺制作每行或每列的像素均拥有反射电极的硅基液晶芯片，然后将硅基液晶芯片与拥有透明电极的玻璃基板保持适当距离贴合，且在硅基液晶芯片与拥有透明电极的玻璃基板之间灌入液晶材料，并用适量封结胶把液晶材料固定在硅基液晶芯片与拥有透明电极的玻璃基板之间形成反射式液晶屏，通过传输不同电压于硅基液晶芯片上每行或每列的像素的反射电极，从而控制液晶材料导光强弱，实行对入射光的反射程度调制完成灰度图像显示。近年来迅速崛起的便携移动通讯及无线显示产品对硅基液晶屏的需求量日趋增大，硅基液晶屏固有的优点决定了移动显示产品的发展前景。目前生产硅基液晶屏的方法有以下两种：
常见方法一：首先将整片硅基板和氧化铟锡(Indium tin oxide，简称ITO)玻璃分别切割成单片，然后再进行镀膜、涂胶、压合、固化、灌注液晶等工序，最后是成品。
此种方法在切割单片时，破损率高、成品低，所以生产效率很低，增加了生产成本，由于是单片制作，很难保证成品器件液晶层厚度的一致性，导致存在质量问题。
常见方法二详见发明专利申请公开说明书申请号200610032920.7，发明名称“液晶显示器LCOS的制作方法及其压合装置”：主要是在整片硅基板上制作硅基液晶显示器，设计多个硅基液晶Die的整片的硅基板和作为硅基液晶显示器公共电极的氧化铟锡玻璃板，工作表面分别经过清洗和真空镀制SiO2(二氧化硅)取向膜，然后在硅基板上涂布对应的液晶盒边框胶，再将氧化铟锡玻璃板贴合在硅基板上，经压合预固化和热固化后成一体，然后分别进行下表面硅基板锯割，上表面玻璃金刚刀划痕，再裂片成一个个液晶盒，经对液晶盒灌注后就成为成品。
此方法的缺陷是：真空镀制SiO2取向膜相关的工艺设备昂贵，且当要求取向膜厚度小于50nm时，工件各批次之间、同一工件内SiO2取向膜厚度较难做到偏差不超过±10％；采用依靠氧化铟锡玻璃与硅基板自身缺口进行对准的方法其偏差非常大，批量生产中几乎没有使用价值；采用热固化框胶，通常需要200度左右的稳定烘烤才能固化框胶，容易引发硅晶圆和玻璃出现形变差异，从而影响硅基液晶屏的品质；另外，所述工序陈述简单，没有对工艺细节进行翔实描述以方便生产实际，因而缺乏实用价值。
发明内容
本发明的目的在于提供一种生产成本低并且提高了硅基液晶屏组装品质的硅基液晶屏生产系统及其生产方法。
本发明的硅基液晶屏生产系统，它包括依次相连的氧化铟锡玻璃上料机架、氧化铟锡玻璃清洗机、聚酰亚胺涂覆前清洗机、聚酰亚胺凸版印刷机、聚酰亚胺预烘烤热板传输线、聚酰亚胺坚膜无尘烘箱、聚酰亚胺摩擦机、聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机、玻璃/硅晶圆分流系统、基板正压贴合机、紫外框胶曝光机、框胶坚膜烘箱、基板密封滴胶机、紫外密封胶曝光机、激光切割标识机、硅晶圆切割机、氧化铟锡玻璃划片机、裂片机、灌晶机、紫外胶封口滴胶机，紫外胶封口曝光机，聚酰亚胺涂覆前清洗机的另一进料端与硅晶圆上料机架出料端相连；玻璃/硅晶圆分流系统的另一工件输出端与紫外框胶滴胶机工件输入端相连并且紫外框胶滴胶机工件输出端能够将在紫外框胶滴胶机内涂覆了图案胶框的氧化铟锡玻璃输出到基板正压贴合机的玻璃架上；
所述的基板正压贴合机包括贴合控制系统、摄像头集成器、x/y/θ动力平台、贴合微动台辅助系统和贴合微动台，所述摄像头集成器包括左摄像头和右摄像头，所述贴合微动台辅助系统包括贴合结构底座，在所述的贴合结构底座中间固定连接有微动台B柱并且在贴合结构底座两侧分别固定连接有微动台A柱、微动台C柱，在所述的微动台B柱顶面的两端设置有铰链支撑，在所述的铰链支撑上转动的连接有贴合结构铰链转轴，玻璃架架设在微动台B柱和微动台C柱的顶面上并且玻璃架架设在微动台B柱的一端与所述贴合结构铰链转轴固定相连，玻璃架能够绕所述贴合结构铰链中轴线转动并分别与所述微动台C柱、所述微动台A柱的顶面相接触配合，在所述的玻璃架内开有玻璃架真空腔，在所述的玻璃架顶面上开有多个与玻璃架真空腔相连通的玻璃架真空孔，在所述玻璃架上连接有与玻璃架真空腔相连通的真空排气孔B；所述的贴合微动台包括安装在所述x/y/θ动力平台上的硅晶圆承片托气缸，所述的x/y/θ动力平台位于所述微动台A柱与微动台B柱之间，硅晶圆承片托下部插在所述的硅晶圆承片托气缸内，硅晶圆承片托活塞密封圈设置在所述硅晶圆承片托气缸与所述硅晶圆承片托之间并且与所述硅晶圆承片托气缸、硅晶圆承片托的接触面形成紧配合，由硅晶圆承片托气缸、硅晶圆承片托和硅晶圆承片托活塞密封圈形成的封闭空间构成硅晶圆承片托气腔，进气孔A设置在所述硅晶圆承片托气缸上且与所述硅晶圆承片托气腔相连通，在所述的硅晶圆承片托上部开有硅晶圆承片托真空腔，硅晶圆承片托顶面上开有与硅晶圆承片托真空腔相连通的硅晶圆承片托真空孔，连接在硅晶圆承片托上的真空排气孔A与硅晶圆承片托真空腔相连通；所述的贴合微动台能够随着所述的x/y/θ动力平台在所述贴合控制系统的作用下沿x轴、y轴方向移动并且能够围绕所述贴合微动台中心点在x轴和y轴构成的平面内做至少10度的往复旋转，所述的摄像头集成器能够获取设置在所述的硅晶圆承片托上的硅晶圆与设置在玻璃架上的氧化铟锡玻璃的图案胶框的相对位置图像信号并将该图像信号输出给工控机，工控机A通过x/y/θ动力平台驱动总线与x/y/θ动力平台相连接并且通过微动台面板控制总线与微动台面板相连接；
所述的紫外框胶曝光机包括曝光台、曝光控制系统、曝光台扫描动力系统和紫外灯集成器，所述曝光台包括其底部固定在曝光台基座上的硅基液晶屏承载盘气缸，在所述的硅基液晶屏承载盘气缸的顶部两侧分别固定有曝光台A柱和曝光台B柱，用于放置硅基液晶屏的硅基液晶屏承载盘的下部插在所述的硅基液晶屏承载盘气缸内，硅基液晶屏承载盘活塞密封圈设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸内壁与所述硅基液晶屏承载盘外壁之间并且与所述硅基液晶屏承载盘气缸和硅基液晶屏承载盘接触面均形成紧配合，由硅基液晶屏承载盘、硅基液晶屏承载盘活塞密封圈与硅基液晶屏承载盘气缸形成的密闭空间构成硅基液晶屏承载盘气腔，进气孔B设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸上且与硅基液晶屏承载盘气腔相连通，在所述的硅基液晶屏承载盘的上部开有硅基液晶屏承载盘真空腔，多个硅基液晶屏承载盘真空孔开在硅基液晶屏承载盘顶面上并与硅基液晶屏承载盘真空腔相连通，安装在硅基液晶屏承载盘上的真空排气孔C与硅基液晶屏承载盘真空腔相连通，曝光台铰链转轴的两端分别与固定在所述的曝光台B柱顶面上的两个铰链支撑件转动相连，所述曝光台还包括其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃直径尺寸的透明石英玻璃的盖板架，所述盖板架的一侧与所述的曝光台铰链转轴转动相连并且盖板架的另一侧架设在安装在曝光台基座上的曝光台C柱上，所述的盖板架能够绕所述曝光台铰链中轴线逆时针旋转180度后接触到所述曝光台A柱顶面与之相接触配合，所述曝光台基座与曝光台扫描动力系统相连并且在所述曝光台扫描动力系统的驱动下能够沿x轴和y轴方向运动，工控机B通过紫外光源总线与至少由6只紫外灯构成的紫外灯集成器相连，所述曝光台与所述的紫外灯集成器相对设置以使紫外灯能够照射到安装在硅基液晶屏承载盘顶部的氧化铟锡玻璃上的图案框胶，工控机B通过扫描动力系统总线与所述曝光台扫描动力系统相连接并且工控机B通过曝光机面板控制总线与曝光机面板控制器相连接。
本发明的一种用于硅基液晶屏生产的方法包括以下步骤：(1)基板清洗步骤：至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片硅晶圆交替输送进入聚酰亚胺涂覆前清洗机完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃和硅晶圆依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；(3)将经过干法超声清洗机清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃和至少一片硅晶圆送入玻璃/硅晶圆分流系统，从玻璃/硅晶圆分流系统输出的氧化铟锡玻璃进入紫外框胶滴胶机完成在氧化铟锡玻璃上涂布图案框胶的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统输出的硅晶圆和完成在氧化铟锡玻璃上涂布图案框胶加工的氧化铟锡玻璃输送进入基板正压贴合机进行硅基液晶屏贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机完成框胶曝光固化；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；(5)经过密封胶水固化处理的硅基液晶屏进行灌晶制得反射式液晶显示器；
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏贴合加工包括以下步骤：(a)将硅晶圆输送承载到基板正压贴合机的硅晶圆承片托上并将其真空吸附在硅晶圆承片托上；(b)将覆盖有图案框胶的氧化铟锡玻璃输送承载到所述基板正压贴合机的玻璃架上并将其吸附在所述玻璃架上；(c)将吸附着氧化铟锡玻璃的所述玻璃架逆时针旋转180度后，使硅晶圆正对覆盖有图案框胶的氧化铟锡设置；(d)在保持所述硅晶圆与图案框胶之间没有产生接触的状态下，移动两者之间的相对位置直至到达预定位置要求；(e)使吸附着硅晶圆的所述硅晶圆承片托接近所述吸附着氧化铟锡玻璃的玻璃架，直至所述硅晶圆与图案框胶之间形成紧密接触状态；(f)当所述硅晶圆与图案框胶之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆、图案框胶和氧化铟锡玻璃构成的所述硅基液晶屏，这时首先解除所述玻璃架对所述氧化铟锡玻璃的真空吸附，接着将所述玻璃架再顺时针旋转180度后返回到初始位置，然后解除所述硅晶圆承片托对所述硅晶圆的真空吸附作用，将所述硅基液晶屏从基板正压贴合机的硅晶圆承片托上取下；
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏紫外框胶曝光包括以下步骤：(g)将从所述基板正压贴合机的硅晶圆承片托上取下的所述硅基液晶屏输送进入紫外框胶曝光机的硅基液晶屏承载盘上，并且硅基液晶屏中的硅晶圆与所述硅基液晶屏承载盘相接触，然后将承载的硅基液晶屏吸附在所述硅基液晶屏承载盘上；(h)将在其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃直径尺寸的透明石英玻璃的盖板架旋转设置在硅基液晶屏上方；(i)使所述硅基液晶屏承载盘接近所述盖板架的透明石英玻璃直至与所述硅基液晶屏的氧化铟锡玻璃与透明石英玻璃紧密接触同时使所述图案框胶在紫外灯照射下固化，(j)当所述图案框胶固化以后，通过对气缸的进气孔放气使得吸附着所述硅基液晶屏的所述硅基液晶屏承载盘在自身重力的作用下离开所述盖板架的内嵌所述透明石英玻璃一定距离，接着将所述盖板架旋转离开，同时解除对所述硅基液晶屏的吸附作用完成框胶曝光过程。
综上所述，采用本发明系统和方法不仅保证了氧化铟锡玻璃与硅晶圆的准确对位，而且实现了一边压挤硅基液晶屏达到规定的硅晶圆与氧化铟锡玻璃之间的间隙值而成型，一边对图案框胶进行紫外曝光固化的模式，从而可以进行硅基液晶屏批量生产，另外框胶固化可以在常温条件下完成，避免了硅晶圆与氧化铟锡玻璃因材质不同在加工温度高于室温时而带来的形变差异现象；本发明通过采用整片硅基板与氧化铟锡玻璃直接封装、涂覆聚酰亚胺取向膜而非真空镀SiO2薄膜，从而降低了生产线成本；另外采用框胶滴胶技术可以客观上最大程度减少了设备自身对原材料的污染程度，从而提高了硅基液晶屏组装品质。
附图说明
图1是本发明提供的硅基液晶屏生产线结构框图；
图2是本发明提供的基板正压贴合机系统框图；
图3是图2所示的系统中贴合微动台辅助系统和贴合微动台载入基板时的顶视示意图；
图4是图3所示的装置的中截面的示意图；
图5是图2所示的系统中贴合微动台辅助系统和贴合微动台的基板对准时的顶视示意图；
图6是图5所示的装置的中截面的示意图；
图7是本发明提供的紫外框胶曝光机的结构示意图；
图8是图7所示的装置载入硅基液晶屏时曝光台的顶视示意图；
图9是图8所示的装置的截面示意图；
图10是采用图8所示的装置进行硅基液晶屏紫外框胶固化曝光时曝光台的顶视示意图；
图11是图10所示的装置的截面示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
本发明的一种硅基液晶屏生产系统，参见图1，它包括依次相连的氧化铟锡玻璃上料机架1、聚酰亚胺涂覆前清洗机3、聚酰亚胺凸版印刷机4、聚酰亚胺预烘烤热板传输线6、聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7、聚酰亚胺摩擦机8、聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机9、玻璃/硅晶圆分流系统10、基板正压贴合机12、紫外框胶曝光机13、框胶坚膜烘箱14、基板密封滴胶机15、紫外密封胶曝光机16、激光切割标识机17、硅晶圆切割机18、氧化铟锡玻璃划片机19、裂片机20、灌晶机21、紫外胶封口滴胶机22，紫外胶封口曝光机23，聚酰亚胺涂覆前清洗机的另一进口与硅晶圆上料机架5出料端相连；玻璃/硅晶圆分流系统10的工件输出端与紫外框胶滴胶机11工件输入端相连并且紫外框胶滴胶机11工件输出端能够将氧化铟锡玻璃40输出到基板正压贴合机12的玻璃架41上；优选的在所述的氧化铟锡玻璃上料机架1和聚酰亚胺涂覆前清洗机2之间连接有氧化铟锡玻璃清洗机1。
所述氧化铟锡玻璃上料机架1中放置的工件可以是直径为200～300mm、厚度为0.7～0.8mm的至少一片氧化铟锡玻璃40，且所述氧化铟锡玻璃上料机架1中的工件可以输送进入氧化铟锡玻璃清洗机2；氧化铟锡玻璃清洗机2具备刷洗、循环去离子水喷淋、超声波循环去离子水清洗、风刀干燥、自动接受/传递氧化铟锡玻璃40和硅晶圆24的功能。
所述硅晶圆上料机架5中放置的工件至少是直径为200～300mm、厚度为0.7～0.8mm的一片硅晶圆24，所述聚酰亚胺涂覆前清洗机3可以分别接受从所述氧化铟锡玻璃清洗机2、硅晶圆上料机架5输送来的工件，并把处理完的工件输送进入所述聚酰亚胺凸版印刷机4。
所述聚酰亚胺凸版印刷机4通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述聚酰亚胺预烘烤热板传输线6，
所述聚酰亚胺预烘烤热板传输线6通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7，
所述聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述聚酰亚胺摩擦机8，
所述聚酰亚胺摩擦机8通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机9，
所述聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机9通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述玻璃/硅晶圆分流系统10，
所述玻璃/硅晶圆分流系统10通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式分别将氧化铟锡玻璃40输送进入所述紫外框胶滴胶机11、硅晶圆24输送进入所述基板正压贴合机12，
所述基板正压贴合机12同时接受从所述玻璃/硅晶圆分流系统10输送来的硅晶圆24、从所述紫外框胶滴胶机11输送来的氧化铟锡玻璃40，
所述基板正压贴合机12通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述紫外框胶曝光机13，
所述紫外框胶曝光机13通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述框胶坚膜烘箱14，
所述框胶坚膜烘箱14通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述基板密封滴胶机15，
所述基板密封滴胶机15通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述紫外密封胶曝光机16，
所述紫外密封胶曝光机16通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述激光切割标识机17，
所述激光切割标识机17通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述硅晶圆切割机18，
所述硅晶圆切割机18通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述氧化铟锡玻璃划片机19，
所述氧化铟锡玻璃划片机19通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述裂片机20，
所述裂片机20通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述灌晶机21，
所述灌晶机21通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述紫外胶封口滴胶机22，
所述紫外胶封口滴胶机22通过现有机械手方式或者现有自动传输带方式或者编排的人工传递方式将处理完的工件输送进入所述紫外胶封口曝光机23，经工艺处理成为一种新型的反射式液晶显示器。
参见图2、图3、图4、图5、图6，所述基板正压贴合机12包括贴合控制系统88、摄像头集成器75、贴合微动台辅助系统78和贴合微动台25，所述贴合控制系统88包括视频信号传输总线70、工控机A71、x/y/θ动力平台驱动总线72、微动台面板控制总线73和微动台面板74，所述摄像头集成器75包括左摄像头77和右摄像头79，所述贴合微动台辅助系统78包括贴合结构底座35，在所述的贴合结构底座35中间固定连接有微动台B柱43并且在贴合结构底座35两侧分别固定连接有微动台A柱32、微动台C柱44，在所述的微动台B柱43顶面的两端设置有固定相连的铰链支撑93，在所述的铰链支撑93上转动的连接有贴合结构铰链转轴36，玻璃架41架设在微动台B柱43和微动台C柱44的顶面上并且玻璃架41架设在微动台B柱43的一端与所述贴合结构铰链转轴36固定相连，玻璃架41能够绕所述贴合结构铰链中轴线45转动并分别与所述微动台C柱44、所述微动台A柱32的顶面相接触配合。玻璃架41的一端与所述微动台C柱44相接触且能够绕所述贴合结构铰链中轴线45逆时针旋转180度后接触到所述微动台A柱32，且能够停留，并且再顺时针绕所述贴合结构铰链中轴线45转180度后接触到所述微动台C柱44。氧化铟锡玻璃40可以放置在所述玻璃架41上，氧化铟锡玻璃40上覆盖具有灌晶口47的图案框胶37。在所述的玻璃架41内开有玻璃架真空腔39，在所述的玻璃架41顶面上开有多个与玻璃架真空腔39相连通的玻璃架真空孔42，在所述玻璃架41上连接有与玻璃架真空腔39相连通的真空排气孔B38，通过所述真空排气孔B38对所述玻璃架真空腔39抽真空或充气。所述的贴合微动台25包括安装在所述x/y/θ动力平台76上的硅晶圆承片托气缸29，所述的x/y/θ动力平台76位于所述微动台A柱32与微动台B柱43之间，硅晶圆承片托30下部插在所述的硅晶圆承片托气缸29内，硅晶圆承片托活塞密封圈31设置在所述硅晶圆承片托气缸29与所述硅晶圆承片托30之间并且与所述硅晶圆承片托气缸29、硅晶圆承片托30的接触面形成紧配合，由硅晶圆承片托气缸29、硅晶圆承片托30和硅晶圆承片托活塞密封圈31形成的封闭空间构成硅晶圆承片托气腔34。进气孔A33设置在所述硅晶圆承片托气缸29上且与所述硅晶圆承片托气腔34相连通，硅晶圆承片托气腔34通过所述进气孔A33进行充、放气。在所述的硅晶圆承片托30上部开有硅晶圆承片托真空腔27，硅晶圆承片托30顶面上开有与硅晶圆承片托真空腔27相连通的硅晶圆承片托真空孔28，连接在硅晶圆承片托30上的真空排气孔A26与硅晶圆承片托真空腔27相连通；通过所述真空排气孔A26对所述硅晶圆承片托真空腔27抽真空或充气。硅晶圆承片托30顶面上覆盖有硅晶圆24。所述的贴合微动台25能够随着所述的x/y/θ动力平台76在所述贴合控制系统88的作用下沿x轴92、y轴91移动并且能够围绕所述贴合微动台中心点90在x轴92和y轴91构成的平面内做至少10度的往复旋转。
所述的x/y/θ动力平台76可以为导轨滑块结构或者可以为丝杠螺母等常规现有结构，或者采用美国专利US006054784A、中国专利CN2580470Y、中国专利CN2629926Y、中国专利CN100573340C等所描述的微动台结构。
由左摄像头77和右摄像头79构成的摄像头集成器75能够获取设置在硅晶圆承片托30上的硅晶圆24与设置在玻璃架41上的氧化铟锡玻璃40的图案框胶37相对位置图像信号并将该图像信号通过视频信号传输总线70输出给工控机A71，工控机A71接收所述的图像信号并通过x/y/θ动力平台驱动总线72与x/y/θ动力平台76相连接以控制x/y/θ动力平台76在x轴92和y轴91构成的平面内做往复旋转运动的角度。
微动台面板74通过微动台面板控制总线73与工控机A71相连接，操作人员通过所述微动台面板74向所述工控机A71发送指令，即可以控制所述x/y/θ动力平台76的运动方向与速度。
参见图7、图8、图9、图10、图11，所述紫外框胶曝光机13至少包括曝光台66、曝光控制系统89、曝光台扫描动力系统86和紫外灯集成器85，所述曝光台66包括其底部固定在曝光台基座59上的硅基液晶屏承载盘气缸54，在所述的硅基液晶屏承载盘气缸54的顶部两侧分别固定有曝光台A柱58和曝光台B柱64，用于放置硅基液晶屏46的硅基液晶屏承载盘53的下部插在所述的硅基液晶屏承载盘气缸54内，硅基液晶屏承载盘活塞密封圈55设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸54内壁与所述硅基液晶屏承载盘53外壁之间并且与所述硅基液晶屏承载盘气缸54和硅基液晶屏承载盘53接触面均形成紧配合，由硅基液晶屏承载盘53、硅基液晶屏承载盘活塞密封圈55与硅基液晶屏承载盘气缸54形成的密闭空间构成硅基液晶屏承载盘气腔56，进气孔B57设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸54上且与硅基液晶屏承载盘气腔56相连通，所述硅基液晶屏承载盘气腔56通过所述进气孔B57进行充、放气。在所述的硅基液晶屏承载盘53的上部开有硅基液晶屏承载盘真空腔52，多个硅基液晶屏承载盘真空孔51开在硅基液晶屏承载盘53顶面上并与硅基液晶屏承载盘真空腔52相连通，安装在硅基液晶屏承载盘53上的真空排气孔C50与硅基液晶屏承载盘真空腔52相连通，通过所述真空排气孔C50对所述硅基液晶屏承载盘真空腔52抽真空或充气。曝光台铰链转轴60与连接在所述的曝光台B柱64顶面上的两个铰链支撑件94相连，曝光台铰链转轴60与固定在所述的曝光台B柱64顶面上的两个铰链支撑件94转动相连，所述曝光台66还包括其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61的盖板架62，所述盖板架62的一侧与所述的曝光台铰链转轴60转动相连并且盖板架62的另一侧架设在安装在曝光台基座59上的曝光台C柱63上，所述的盖板架62能够绕所述曝光台铰链中轴线48逆时针旋转180度后接触到所述曝光台A柱58顶面相接触配合。盖板架62的中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61，盖板架62一端与所述曝光台C柱63相接触且能够绕所述曝光台铰链中轴线48逆时针旋转180度后接触到所述曝光台A柱58，且能够停留，并且再顺时针绕所述曝光台铰链中轴线48转180度后接触到所述曝光台C柱63。由氧化铟锡玻璃40、具有灌晶口47的图案框胶37、硅晶圆24构成的硅基液晶屏46可以放置在硅基液晶屏承载盘53上。所述曝光台基座59与曝光台扫描动力系统86相连并且在所述曝光台扫描动力系统86的驱动下能够沿x轴92和y轴91方向运动，所述曝光控制系统89包括紫外光源总线80、工控机B81、扫描动力系统总线82、曝光机面板控制总线83和曝光机面板控制器84，其中所述工控机B81通过所述紫外光源总线80与至少由6只紫外灯87构成的所述紫外灯集成器85相连，所述曝光台66与所述的紫外灯集成器85相对设置以使紫外灯87能够照射到安装在硅基液晶屏承载盘53顶部的紫外框胶，工控机B81通过扫描动力系统总线82与所述曝光台扫描动力系统86相连接并且工控机B81通过曝光机面板控制总线83与曝光机面板控制器84相连接以输入运动控制信号。
所述的曝光台扫描动力系统86可以为导轨滑块结构或者可以为丝杠螺母等常规现有结构。
氧化铟锡玻璃上料机架1、氧化铟锡玻璃清洗机2、聚酰亚胺涂覆前清洗机3、硅晶圆上料机架5、聚酰亚胺凸版印刷机4、聚酰亚胺预烘烤热板传输线6、聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7、聚酰亚胺摩擦机8、聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机9、玻璃/硅晶圆分流系统10、紫外框胶滴胶机11、框胶坚膜烘箱14、基板密封滴胶机15、紫外密封胶曝光机16、激光切割标识机17、硅晶圆切割机18、氧化铟锡玻璃划片机19、裂片机20、灌晶机21、紫外胶封口滴胶机22，紫外胶封口曝光机23均可以采用现有的常规设备，在市场采购即可。
结合附图本发明的一种用于硅基液晶屏生产的方法包括以下步骤：(1)基板清洗步骤：至少一片氧化铟锡玻璃40与至少一片所述硅晶圆24交替输送进入所述聚酰亚胺涂覆前清洗机3完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃40和硅晶圆24依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；涂覆在聚酰亚胺凸版印刷机4中进行，烘干可以在聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7进行，摩擦可以在聚酰亚胺摩擦机8中进行，干法超声清洗可以在干法超声清洗机9进行；(3)将经过干法超声清洗机9清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃40和至少一片硅晶圆24送入玻璃/硅晶圆分流系统10，从玻璃/硅晶圆分流系统10输出的氧化铟锡玻璃40输送进入紫外框胶滴胶机11完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统10输出的硅晶圆24和完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工的氧化铟锡玻璃40输送进入基板正压贴合机12进行硅基液晶屏46贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机13完成框胶曝光固化；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏46依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；框胶再固化可以在框胶坚膜烘箱14中进行，密封可以在基板密封滴胶机15中进行，密封胶水固化处理可以在紫外密封胶曝光机16中进行，(5)经过密封胶水固化处理的硅基液晶屏46进行灌晶制得反射式液晶显示器。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46贴合加工包括以下步骤：(a)将硅晶圆24输送承载到基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上并将其真空吸附在硅晶圆承片托30上；(b)将覆盖有图案框胶37的氧化铟锡玻璃40输送承载到所述基板正压贴合机12的玻璃架41上并将其吸附在所述玻璃架41上；(c)将吸附着氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41逆时针旋转180度后，使硅晶圆24正对覆盖有图案框胶37的氧化铟锡40设置；(d)在保持所述硅晶圆24与图案框胶37之间没有产生接触的状态下，移动两者之间的相对位置直至到达预定位置要求；(e)使吸附着硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30接近所述吸附着氧化铟锡玻璃40的玻璃架41，直至所述硅晶圆24与图案框胶37之间形成紧密接触状态；(f)当所述硅晶圆24与图案框胶37之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆24、图案框胶37和氧化铟锡玻璃40构成的硅基液晶屏46，这时分别解除所述硅晶圆承片托30对所述硅晶圆24的真空吸附作用、解除所述玻璃架41对所述氧化铟锡玻璃40的真空吸附，接着将所述玻璃架41再顺时针旋转180度后返回到初始位置，然后将所述硅基液晶屏46从基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下；
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46框胶曝光包括以下步骤：(g)将从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下的所述硅基液晶屏46输送进入紫外框胶曝光机13的硅基液晶屏承载盘53上，并且硅基液晶屏46中的硅晶圆24与所述硅基液晶屏承载盘53相接触，然后将承载的硅基液晶屏46吸附在所述硅基液晶屏承载盘53上；(h)将其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61的盖板架62旋转设置在硅基液晶屏46上方；(i)根据所述硅基液晶屏46使用的图案框胶37材质情况、硅晶圆24与氧化铟锡玻璃40之间的间隙要求，保持对所述进气孔B57有1个大气压～2个大气压的压力1分钟～10分钟、且同时通过曝光控制系统89预设程序的控制，使得所述曝光台66受到所述曝光台扫描动力系统86的作用、所述硅基液晶屏46在点亮的所述紫外灯87照射下沿x轴92运动或者沿y轴91运动30秒～2分钟，使得所述图案框胶37在承受来自所述硅晶圆24和氧化铟锡玻璃40的互作用力情况下，且同时接受到所述紫外灯87透过所述透明石英玻璃61的紫外光照射而实现化学反应固化，(j)当所述图案框胶37固化以后，对所述进气孔B57放气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53在自身重力的作用下离开所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61一定距离，接着将所述盖板架62旋转离开，同时解除对所述硅基液晶屏46的吸附作用完成框胶曝光过程。本发明方法中的吸附可以采用抽真空实现；硅晶圆24与所述硅基液晶屏承载盘53的接触可以采用气缸活塞结构。
优选的在所述的步骤(1)中的基板清洗步骤中所述的至少一片氧化铟锡玻璃40在进入聚酰亚胺涂覆前清洗机3进行清洗前还包括在氧化铟锡玻璃清洗机2内完成初步清洗步骤，从而通过两步清洗保证氧化铟锡玻璃40的清洗质量。
优选的所述的步骤(2)中在至少一片氧化铟锡玻璃40与至少一片所述硅晶圆24上涂覆的聚酰亚胺薄膜的厚度为20nm～40nm，避免使用SiO2真空镀膜工艺，降低了生产设备，提高了生产效率。
优选的将所述的步骤(2)中涂覆有聚酰亚胺的所述氧化铟锡玻璃40、硅晶圆24输送进入同一台所述聚酰亚胺摩擦机8进行摩擦处理，每片氧化铟锡玻璃40的摩擦方向均相同，每片硅晶圆24的摩擦方向均相同，所述的氧化铟锡玻璃40与硅晶圆24摩擦方向至少存在20度角度的偏差。同一台聚酰亚胺摩擦机实现了对氧化铟锡玻璃和硅晶圆这两种不同材料的摩擦处理，降低了设备成本。
所述的步骤(5)中的灌晶可以包括以下步骤：(a)将经过所述紫外密封胶曝光机16处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述激光切割标识机17内，且参照所述图案框胶37的位置刻画出所需的切割标识线；(b)接着将刻画有所需的切割标识线的所述硅基液晶屏46输送进入所述硅晶圆切割机18进行切割，且对所述硅晶圆24的切割深度为0.45mm～0.65mm；(c)接着将经过所述硅晶圆切割机18处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述氧化铟锡玻璃划片机19进行划片，且对所述氧化铟锡玻璃40的划片深度为0.05mm～0.25mm；(d)接着将经过所述氧化铟锡玻璃40划片处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述裂片机20进行断裂加工；(e)接着将经过所述裂片机20处理产生的单枚硅基液晶屏46输送进入所述灌晶机21进行灌注液晶；(f)接着将灌注了液晶的单枚硅基液晶屏46输送进入紫外胶封口滴胶机22在液晶灌注口处滴注紫外胶；(g)接着将经过紫外胶封口滴胶机22处理的硅基液晶屏46输送进入所述紫外胶封口曝光机23对所述紫外胶封口滴胶机22滴注的紫外胶进行紫外光照射固化制得反射式液晶显示器。
实施例1
(1)基板清洗步骤：氧化铟锡玻璃40在所述氧化铟锡玻璃清洗机2内完成初步清洗，至少一片经过初步清洗的所述氧化铟锡玻璃40与至少一片所述硅晶圆24交替输送进入所述聚酰亚胺涂覆前清洗机3完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃40和硅晶圆24依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；涂覆聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺凸版印刷机4中进行，烘干可以在聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7进行，摩擦聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺摩擦机8中进行，干法超声清洗聚酰亚胺薄膜在干法超声清洗机9进行；在至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片所述硅晶圆上涂覆的聚酰亚胺薄膜的厚度为30nm。(3)将经过干法超声清洗机9清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃40和至少一片硅晶圆24送入玻璃/硅晶圆分流系统10分别将氧化铟锡玻璃40输送进入紫外框胶滴胶机11完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统10输出的硅晶圆24和完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工的氧化铟锡玻璃40输送进入所述基板正压贴合机12进行硅基液晶屏46贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机13完成框胶曝光；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏46依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；框胶再固化在框胶坚膜烘箱14中无尘完成框胶再固化。密封在基板密封滴胶机15沿所述氧化铟锡玻璃40与所述硅晶圆24的边缘滴入紫外密封胶水；密封胶水固化可以采用紫外密封胶曝光机16进行紫外灯照射，使得紫外密封胶水固化；(5)从所述的紫外密封胶曝光机16输出的硅基液晶屏46进行灌晶制得反射式液晶显示器；灌晶包括以下步骤：(a)将经过所述紫外密封胶曝光机16处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述激光切割标识机17内，且参照所述图案框胶37的位置刻画出所需的切割标识线；(b)接着将刻画有所需的切割标识线的所述硅基液晶屏46输送进入所述硅晶圆切割机18进行切割，且对所述硅晶圆24的切割深度为0.5mm；(c)接着将经过所述硅晶圆切割机18处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述氧化铟锡玻璃划片机19进行划片，且对所述氧化铟锡玻璃40的划片深度为0.2mm；(d)接着将经过所述氧化铟锡玻璃40划片处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述裂片机20进行断裂加工；(e)接着将经过所述裂片机20处理产生的单枚硅基液晶屏46输送进入所述灌晶机21进行灌注液晶；(f)接着将灌注了液晶的单枚硅基液晶屏46输送进入紫外胶封口滴胶机22在液晶灌注口处滴注紫外胶；(g)接着将经过紫外胶封口滴胶机22处理的硅基液晶屏46输送进入所述紫外胶封口曝光机23对所述紫外胶封口滴胶机22滴注的紫外胶进行紫外光照射固化制得反射式液晶显示器。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46贴合加工包括以下步骤：1)所述硅晶圆24直接输送承载到所述硅晶圆承片托30上；2)接着所述硅晶圆承片托真空腔27通过所述真空排气孔A26排气形成真空状态、且通过所述硅晶圆承片托真空孔28将承载的所述硅晶圆24吸附在所述硅晶圆承片托30上并等待所述玻璃架41承载所述氧化铟锡玻璃40；3)将覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40输送承载到所述玻璃架41上；4)所述玻璃架真空腔39通过所述真空排气孔B38排气形成真空状态并且通过所述玻璃架真空孔42将承载的覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40吸附在所述玻璃架41上；5)将后吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41绕所述贴合结构铰链中轴线45逆时针旋转180度以后，且使得所述玻璃架41的一端接触到所述微动台A柱32；6)接着所述硅晶圆承片托气腔34通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30靠近所述吸附着覆盖有图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41；7)在保持所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间没有产生接触的状态下，所述贴合微动台25随着所述x/y/θ动力平台76在所述贴合控制系统88的作用下沿x轴92运动、沿y轴91运动、围绕所述贴合微动台中心点90在x轴92和y轴91构成的平面内做往复旋转，且最后通过所述左摄像头77和所述右摄像头79观察到的图案证明所述硅晶圆24与所述图案框胶37已经对准；8)接着通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30接近所述吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41，直至所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触状态，停止对所述进气孔A33充气；9)当所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆24、图案框胶37、氧化铟锡玻璃40构成的所述硅基液晶屏46，这时首先对真空排气孔B38放气直至解除所述玻璃架41通过所述玻璃架真空孔42对所述氧化铟锡玻璃40的真空吸附，接着将所述玻璃架41再顺时针至少绕所述贴合结构铰链中轴线45转180度后接触到所述微动台C柱44，然后对真空排气孔A26放气直至解除所述硅晶圆承片托30通过所述硅晶圆承片托真空孔28对所述硅晶圆24的真空吸附作用；10)最后将所述硅基液晶屏46从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下完成贴合工艺流程。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46框胶曝光包括以下步骤：(g)将从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下的所述硅基液晶屏46输送进入紫外框胶曝光机13的硅基液晶屏承载盘53上，并且硅基液晶屏46中的硅晶圆24与所述硅基液晶屏承载盘53相接触，接着所述硅基液晶屏承载盘真空腔52通过所述真空排气孔C50排气形成真空状态、且通过所述硅基液晶屏承载盘真空孔51将承载的硅基液晶屏46吸附在所述硅基液晶屏承载盘53上，(h)所述盖板架62在其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61绕所述曝光台铰链中轴线48逆时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台A柱58，且与所述曝光台A柱58保持接触；(i)所述硅基液晶屏承载盘气腔56通过所述进气孔B57充气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53接近所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61直至与所述硅基液晶屏46的氧化铟锡玻璃40与所述透明石英玻璃61紧密接触，保持对所述进气孔B57有1.5个大气压的压力5分钟、且同时通过曝光控制系统89预设程序的控制，使得所述曝光台66受到所述曝光台扫描动力系统86的作用、在点亮的所述紫外灯87照射下沿x轴92运动或者沿y轴91运动，使得所述图案框胶37在所述紫外灯87照射下固化，(j)当所述图案框胶37固化以后，这时对所述进气孔B57放气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53离开所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61一定距离，接着将所述盖板架62绕所述曝光台铰链中轴线48顺时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台C柱63，且同时对真空排气孔C50充气直至解除所述硅基液晶屏承载盘真空孔51对所述硅基液晶屏46的吸附作用，得以完成框胶曝光过程。
经测试，采用本发明系统和方法具有以下优点：
(1)可以保证氧化铟锡玻璃与硅晶圆的准确对位，可以进行硅基液晶屏批量生产；
(2)因为采用紫外框胶代替常规的热固化框胶，所以可以在常温条件下完成框胶固化，避免了高温情况下硅晶圆与氧化铟锡玻璃因材质不同而带来的热膨胀形变现象；
(3)通过采用整片硅晶圆与氧化铟锡玻璃直接封装、涂覆聚酰亚胺取向膜而非真空镀SiO2薄膜，避免了使用成本较高的真空镀膜设备，从而降低了生产线成本。
(4)在硅基液晶屏成盒工艺流程中，实现了一边压挤硅基液晶屏达到规定的硅晶圆与氧化铟锡玻璃之间的间隙值而成型，一边对紫外框胶进行曝光固化的模式，从而得以实现常温条件下完成框胶固化，避免了硅晶圆与氧化铟锡玻璃材质不同带来的形变差异现象，可以提高硅基液晶屏组装品质。
实施例2
(1)基板清洗步骤：氧化铟锡玻璃40在所述氧化铟锡玻璃清洗机2内完成初步清洗，至少一片经过初步清洗的所述氧化铟锡玻璃40与至少一片所述硅晶圆24交替输送进入所述聚酰亚胺涂覆前清洗机3完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃40和硅晶圆24依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；涂覆聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺凸版印刷机4中进行，烘干可以在聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7进行，摩擦聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺摩擦机8中进行，干法超声清洗聚酰亚胺薄膜在干法超声清洗机9进行；在至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片所述硅晶圆上涂覆的聚酰亚胺薄膜的厚度为40nm。(3)将经过干法超声清洗机9清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃40和至少一片硅晶圆24送入玻璃/硅晶圆分流系统10分别将氧化铟锡玻璃40输送进入紫外框胶滴胶机11完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统10输出的硅晶圆24和完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工的氧化铟锡玻璃40输送进入所述基板正压贴合机12进行硅基液晶屏46贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机13完成框胶曝光；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏46依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；框胶再固化在框胶坚膜烘箱14中无尘完成框胶再固化。密封在基板密封滴胶机15沿所述氧化铟锡玻璃40与所述硅晶圆24的边缘滴入紫外密封胶水；密封胶水固化可以采用紫外密封胶曝光机16进行紫外灯照射，使得紫外密封胶水固化；(5)从所述的紫外密封胶曝光机16输出的硅基液晶屏46进行灌晶制得反射式液晶显示器；灌晶包括以下步骤：(a)将经过所述紫外密封胶曝光机16处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述激光切割标识机17内，且参照所述图案框胶37的位置刻画出所需的切割标识线；(b)接着将刻画有所需的切割标识线的所述硅基液晶屏46输送进入所述硅晶圆切割机18进行切割，且对所述硅晶圆24的切割深度为0.65mm；(c)接着将经过所述硅晶圆切割机18处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述氧化铟锡玻璃划片机19进行划片，且对所述氧化铟锡玻璃40的划片深度为0.25mm；(d)接着将经过所述氧化铟锡玻璃40划片处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述裂片机20进行断裂加工；(e)接着将经过所述裂片机20处理产生的单枚硅基液晶屏46输送进入所述灌晶机21进行灌注液晶；(f)接着将灌注了液晶的单枚硅基液晶屏46输送进入紫外胶封口滴胶机22在液晶灌注口处滴注紫外胶；(g)接着将经过紫外胶封口滴胶机22处理的硅基液晶屏46输送进入所述紫外胶封口曝光机23对所述紫外胶封口滴胶机22滴注的紫外胶进行紫外光照射固化制得反射式液晶显示器。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46贴合加工包括以下步骤：1)所述硅晶圆24直接输送承载到所述硅晶圆承片托30上；2)接着所述硅晶圆承片托真空腔27通过所述真空排气孔A26排气形成真空状态、且通过所述硅晶圆承片托真空孔28将承载的所述硅晶圆24吸附在所述硅晶圆承片托30上并等待所述玻璃架41承载所述氧化铟锡玻璃40；3)将覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40输送承载到所述玻璃架41上；4)所述玻璃架真空腔39通过所述真空排气孔B38排气形成真空状态并且通过所述玻璃架真空孔42将承载的覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40吸附在所述玻璃架41上；5)将后吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41绕所述贴合结构铰链中轴线45逆时针旋转180度以后，且使得所述玻璃架41的一端接触到所述微动台A柱32；6)接着所述硅晶圆承片托气腔34通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30靠近所述吸附着覆盖有图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41；7)在保持所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间没有产生接触的状态下，所述贴合微动台25随着所述x/y/θ动力平台76在所述贴合控制系统88的作用下沿x轴92运动、沿y轴91运动、围绕所述贴合微动台中心点90在x轴92和y轴91构成的平面内做往复旋转，且最后通过所述左摄像头77和所述右摄像头79观察到的图案证明所述硅晶圆24与所述图案框胶37已经对准；8)接着通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30接近所述吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41，直至所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触状态，停止对所述进气孔A33充气；9)当所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆24、图案框胶37、氧化铟锡玻璃40构成的所述硅基液晶屏46，这时首先对真空排气孔B38放气直至解除所述玻璃架41通过所述玻璃架真空孔42对所述氧化铟锡玻璃40的真空吸附，接着将所述玻璃架41再顺时针至少绕所述贴合结构铰链中轴线45转180度后接触到所述微动台C柱44，然后对真空排气孔A26放气直至解除所述硅晶圆承片托30通过所述硅晶圆承片托真空孔28对所述硅晶圆24的真空吸附作用；10)最后将所述硅基液晶屏46从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下完成贴合工艺流程。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46框胶曝光包括以下步骤：(g)将从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下的所述硅基液晶屏46输送进入紫外框胶曝光机13的硅基液晶屏承载盘53上，并且硅基液晶屏46中的硅晶圆24与所述硅基液晶屏承载盘53相接触，接着所述硅基液晶屏承载盘真空腔52通过所述真空排气孔C50排气形成真空状态、且通过所述硅基液晶屏承载盘真空孔51将承载的硅基液晶屏46吸附在所述硅基液晶屏承载盘53上，(h)所述盖板架62在其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61绕所述曝光台铰链中轴线48逆时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台A柱58，且与所述曝光台A柱58保持接触；(i)所述硅基液晶屏承载盘气腔56通过所述进气孔B57充气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53接近所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61直至与所述硅基液晶屏46的氧化铟锡玻璃40与所述透明石英玻璃61紧密接触，保持对所述进气孔B57有1.5个大气压的压力5分钟、且同时通过曝光控制系统89预设程序的控制，使得所述曝光台66受到所述曝光台扫描动力系统86的作用、在点亮的所述紫外灯87照射下沿x轴92运动或者沿y轴91运动，使得所述图案框胶37在所述紫外灯87照射下固化，(j)当所述图案框胶37固化以后，这时对所述进气孔B57放气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53离开所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61一定距离，接着将所述盖板架62绕所述曝光台铰链中轴线48顺时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台C柱63，且同时对真空排气孔C50充气直至解除所述硅基液晶屏承载盘真空孔51对所述硅基液晶屏46的吸附作用，得以完成框胶曝光过程。
经测试，采用本发明系统和方法具有以下优点：
(5)可以保证氧化铟锡玻璃与硅晶圆的准确对位，可以进行硅基液晶屏批量生产；
(6)因为采用紫外框胶代替常规的热固化框胶，所以可以在常温条件下完成框胶固化，避免了高温情况下硅晶圆与氧化铟锡玻璃因材质不同而带来的热膨胀形变现象；
(7)通过采用整片硅晶圆与氧化铟锡玻璃直接封装、涂覆聚酰亚胺取向膜而非真空镀SiO2薄膜，避免了使用成本较高的真空镀膜设备，从而降低了生产线成本。
(8)在硅基液晶屏成盒工艺流程中，实现了一边压挤硅基液晶屏达到规定的硅晶圆与氧化铟锡玻璃之间的间隙值而成型，一边对紫外框胶进行曝光固化的模式，从而得以实现常温条件下完成框胶固化，避免了硅晶圆与氧化铟锡玻璃材质不同带来的形变差异现象，可以提高硅基液晶屏组装品质。
实施例3
(1)基板清洗步骤：氧化铟锡玻璃40在所述氧化铟锡玻璃清洗机2内完成初步清洗，至少一片经过初步清洗的所述氧化铟锡玻璃40与至少一片所述硅晶圆24交替输送进入所述聚酰亚胺涂覆前清洗机3完成清洗；(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃40和硅晶圆24依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；涂覆聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺凸版印刷机4中进行，烘干可以在聚酰亚胺坚膜无尘烘箱7进行，摩擦聚酰亚胺薄膜在聚酰亚胺摩擦机8中进行，干法超声清洗聚酰亚胺薄膜在干法超声清洗机9进行；在至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片所述硅晶圆上涂覆的聚酰亚胺薄膜的厚度为20nm。(3)将经过干法超声清洗机9清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃40和至少一片硅晶圆24送入玻璃/硅晶圆分流系统10分别将氧化铟锡玻璃40输送进入紫外框胶滴胶机11完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统10输出的硅晶圆24和完成在氧化铟锡玻璃40上涂布图案框胶37的加工的氧化铟锡玻璃40输送进入所述基板正压贴合机12进行硅基液晶屏46贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机13完成框胶曝光；(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏46依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；框胶再固化在框胶坚膜烘箱14中无尘完成框胶再固化。密封在基板密封滴胶机15沿所述氧化铟锡玻璃40与所述硅晶圆24的边缘滴入紫外密封胶水；密封胶水固化可以采用紫外密封胶曝光机16进行紫外灯照射，使得紫外密封胶水固化；(5)从所述的紫外密封胶曝光机16输出的硅基液晶屏46进行灌晶制得反射式液晶显示器；灌晶包括以下步骤：(a)将经过所述紫外密封胶曝光机16处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述激光切割标识机17内，且参照所述图案框胶37的位置刻画出所需的切割标识线；(b)接着将刻画有所需的切割标识线的所述硅基液晶屏46输送进入所述硅晶圆切割机18进行切割，且对所述硅晶圆24的切割深度为0.45mm；(c)接着将经过所述硅晶圆切割机18处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述氧化铟锡玻璃划片机19进行划片，且对所述氧化铟锡玻璃40的划片深度为0.05mm；(d)接着将经过所述氧化铟锡玻璃40划片处理的所述硅基液晶屏46输送进入所述裂片机20进行断裂加工；(e)接着将经过所述裂片机20处理产生的单枚硅基液晶屏46输送进入所述灌晶机21进行灌注液晶；(f)接着将灌注了液晶的单枚硅基液晶屏46输送进入紫外胶封口滴胶机22在液晶灌注口处滴注紫外胶；(g)接着将经过紫外胶封口滴胶机22处理的硅基液晶屏46输送进入所述紫外胶封口曝光机23对所述紫外胶封口滴胶机22滴注的紫外胶进行紫外光照射固化制得反射式液晶显示器。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46贴合加工包括以下步骤：1)所述硅晶圆24直接输送承载到所述硅晶圆承片托30上；2)接着所述硅晶圆承片托真空腔27通过所述真空排气孔A26排气形成真空状态、且通过所述硅晶圆承片托真空孔28将承载的所述硅晶圆24吸附在所述硅晶圆承片托30上并等待所述玻璃架41承载所述氧化铟锡玻璃40；3)将覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40输送承载到所述玻璃架41上；4)所述玻璃架真空腔39通过所述真空排气孔B38排气形成真空状态并且通过所述玻璃架真空孔42将承载的覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40吸附在所述玻璃架41上；5)将后吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41绕所述贴合结构铰链中轴线45逆时针旋转180度以后，且使得所述玻璃架41的一端接触到所述微动台A柱32；6)接着所述硅晶圆承片托气腔34通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30靠近所述吸附着覆盖有图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41；7)在保持所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间没有产生接触的状态下，所述贴合微动台25随着所述x/y/θ动力平台76在所述贴合控制系统88的作用下沿x轴92运动、沿y轴91运动、围绕所述贴合微动台中心点90在x轴92和y轴91构成的平面内做往复旋转，且最后通过所述左摄像头77和所述右摄像头79观察到的图案证明所述硅晶圆24与所述图案框胶37已经对准；8)接着通过所述进气孔A33充气使得吸附着所述硅晶圆24的所述硅晶圆承片托30接近所述吸附着覆盖有所述图案框胶37的氧化铟锡玻璃40的所述玻璃架41，直至所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触状态，停止对所述进气孔A33充气；9)当所述硅晶圆24与所述图案框胶37之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆24、图案框胶37、氧化铟锡玻璃40构成的所述硅基液晶屏46，这时首先对真空排气孔B38放气直至解除所述玻璃架41通过所述玻璃架真空孔42对所述氧化铟锡玻璃40的真空吸附，接着将所述玻璃架41再顺时针至少绕所述贴合结构铰链中轴线45转180度后接触到所述微动台C柱44，然后对真空排气孔A26放气直至解除所述硅晶圆承片托30通过所述硅晶圆承片托真空孔28对所述硅晶圆24的真空吸附作用；10)最后将所述硅基液晶屏46从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下完成贴合工艺流程。
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏46框胶曝光包括以下步骤：(g)将从所述基板正压贴合机12的硅晶圆承片托30上取下的所述硅基液晶屏46输送进入紫外框胶曝光机13的硅基液晶屏承载盘53上，并且硅基液晶屏46中的硅晶圆24与所述硅基液晶屏承载盘53相接触，接着所述硅基液晶屏承载盘真空腔52通过所述真空排气孔C50排气形成真空状态、且通过所述硅基液晶屏承载盘真空孔51将承载的硅基液晶屏46吸附在所述硅基液晶屏承载盘53上，(h)所述盖板架62在其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃40直径尺寸的透明石英玻璃61绕所述曝光台铰链中轴线48逆时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台A柱58，且与所述曝光台A柱58保持接触；(i)所述硅基液晶屏承载盘气腔56通过所述进气孔B57充气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53接近所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61直至与所述硅基液晶屏46的氧化铟锡玻璃40与所述透明石英玻璃61紧密接触，保持对所述进气孔B57有1.5个大气压的压力5分钟、且同时通过曝光控制系统89预设程序的控制，使得所述曝光台66受到所述曝光台扫描动力系统86的作用、在点亮的所述紫外灯87照射下沿x轴92运动或者沿y轴91运动，使得所述图案框胶37在所述紫外灯87照射下固化，(j)当所述图案框胶37固化以后，这时对所述进气孔B57放气使得吸附着所述硅基液晶屏46的所述硅基液晶屏承载盘53离开所述盖板架62的内嵌所述透明石英玻璃61一定距离，接着将所述盖板架62绕所述曝光台铰链中轴线48顺时针至少旋转180度以后，且使得所述盖板架62的一端接触到所述曝光台C柱63，且同时对真空排气孔C50充气直至解除所述硅基液晶屏承载盘真空孔51对所述硅基液晶屏46的吸附作用，得以完成框胶曝光过程。
经测试，采用本发明系统和方法具有以下优点：
(9)可以保证氧化铟锡玻璃与硅晶圆的准确对位，可以进行硅基液晶屏批量生产；
(10)因为采用紫外框胶代替常规的热固化框胶，所以可以在常温条件下完成框胶固化，避免了高温情况下硅晶圆与氧化铟锡玻璃因材质不同而带来的热膨胀形变现象；
(11)通过采用整片硅晶圆与氧化铟锡玻璃直接封装、涂覆聚酰亚胺取向膜而非真空镀SiO2薄膜，避免了使用成本较高的真空镀膜设备，从而降低了生产线成本。
(12)在硅基液晶屏成盒工艺流程中，实现了一边压挤硅基液晶屏达到规定的硅晶圆与氧化铟锡玻璃之间的间隙值而成型，一边对紫外框胶进行曝光固化的模式，从而得以实现常温条件下完成框胶固化，避免了硅晶圆与氧化铟锡玻璃材质不同带来的形变差异现象，可以提高硅基液晶屏组装品质。
Claims (7)
1.硅基液晶屏生产系统,其特征在于：它包括依次相连的氧化铟锡玻璃上料机架、聚酰亚胺涂覆前清洗机、聚酰亚胺凸版印刷机、聚酰亚胺预烘烤热板传输线、聚酰亚胺坚膜无尘烘箱、聚酰亚胺摩擦机、聚酰亚胺摩擦后干法超声清洗机、玻璃/硅晶圆分流系统、基板正压贴合机、紫外框胶曝光机、框胶坚膜烘箱、基板密封滴胶机、紫外密封胶曝光机、激光切割标识机、硅晶圆切割机、氧化铟锡玻璃划片机、裂片机、灌晶机、紫外胶封口滴胶机，紫外胶封口曝光机，聚酰亚胺涂覆前清洗机的另一进料端与硅晶圆上料机架出料端相连；玻璃/硅晶圆分流系统的另一工件输出端与紫外框胶滴胶机工件输入端相连并且紫外框胶滴胶机工件输出端能够将在紫外框胶滴胶机内涂覆了图案胶框的氧化铟锡玻璃输出到基板正压贴合机的玻璃架上，所述的基板正压贴合机包括贴合控制系统、摄像头集成器、x/y/θ动力平台、贴合微动台辅助系统和贴合微动台，所述摄像头集成器包括左摄像头和右摄像头，所述贴合微动台辅助系统包括贴合结构底座，在所述的贴合结构底座中间固定连接有微动台B柱并且在贴合结构底座两侧分别固定连接有微动台A柱、微动台C柱，在所述的微动台B柱顶面的两端设置有铰链支撑，在所述的铰链支撑上转动的连接有贴合结构铰链转轴，玻璃架架设在微动台B柱和微动台C柱的顶面上并且玻璃架架设在微动台B柱的一端与所述贴合结构铰链转轴固定相连，玻璃架能够绕所述贴合结构铰链中轴线转动并分别与所述微动台C柱、所述微动台A柱的顶面相接触配合，在所述的玻璃架内开有玻璃架真空腔，在所述的玻璃架顶面上开有多个与玻璃架真空腔相连通的玻璃架真空孔，在所述玻璃架上连接有与玻璃架真空腔相连通的真空排气孔B；所述的贴合微动台包括安装在所述x/y/θ动力平台上的硅晶圆承片托气缸，所述的x/y/θ动力平台位于所述微动台A柱与微动台B柱之间，硅晶圆承片托下部插在所述的硅晶圆承片托气缸内，硅晶圆承片托活塞密封圈设置在所述硅晶圆承片托气缸与所述硅晶圆承片托之间并且与所述硅晶圆承片托气缸、硅晶圆承片托的接触面形成紧配合,由硅晶圆承片托气缸、硅晶圆承片托和硅晶圆承片托活塞密封圈形成的封闭空间构成硅晶圆承片托气腔，进气孔A设置在所述硅晶圆承片托气缸上且与所述硅晶圆承片托气腔相连通，在所述的硅晶圆承片托上部开有硅晶圆承片托真空腔，硅晶圆承片托顶面上开有与硅晶圆承片托真空腔相连通的硅晶圆承片托真空孔，连接在硅晶圆承片托上的真空排气孔A与硅晶圆承片托真空腔相连通；所述的贴合微动台能够随着所述的x/y/θ动力平台在所述贴合控制系统的作用下沿x轴、y轴方向移动并且能够围绕所述贴合微动台中心点在x轴和y轴构成的平面内做至少10度的往复旋转，所述的摄像头集成器能够获取设置在所述的硅晶圆承片托上的硅晶圆与设置在玻璃架上的氧化铟锡玻璃的图案胶框的相对位置图像信号并将该图像信号输出给工控机，工控机A通过x/y/θ动力平台驱动总线与x/y/θ动力平台相连接并且通过微动台面板控制总线与微动台面板相连接；所述的紫外框胶曝光机包括曝光台、曝光控制系统、曝光台扫描动力系统和紫外灯集成器，所述曝光台包括其底部固定在曝光台基座上的硅基液晶屏承载盘气缸，在所述的硅基液晶屏承载盘气缸的顶部两侧分别固定有曝光台A柱和曝光台B柱，用于放置硅基液晶屏的硅基液晶屏承载盘的下部插在所述的硅基液晶屏承载盘气缸内，硅基液晶屏承载盘活塞密封圈设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸内壁与所述硅基液晶屏承载盘外壁之间并且与所述硅基液晶屏承载盘气缸和硅基液晶屏承载盘接触面均形成紧配合，由硅基液晶屏承载盘、硅基液晶屏承载盘活塞密封圈与硅基液晶屏承载盘气缸形成的密闭空间构成硅基液晶屏承载盘气腔，进气孔B设置在所述硅基液晶屏承载盘气缸上且与硅基液晶屏承载盘气腔相连通，在所述的硅基液晶屏承载盘的上部开有硅基液晶屏承载盘真空腔，多个硅基液晶屏承载盘真空孔开在硅基液晶屏承载盘顶面上并与硅基液晶屏承载盘真空腔相连通，安装在硅基液晶屏承载盘上的真空排气孔C与硅基液晶屏承载盘真空腔相连通，曝光台铰链转轴的两端分别与固定在所述的曝光台B柱顶面上的两个铰链支撑件转动相连，所述曝光台还包括其中央镶嵌有直径尺寸不小于氧化铟锡玻璃直径尺寸的透明石英玻璃的盖板架，所述盖板架的一侧与所述的曝光台铰链转轴转动相连并且盖板架的另一侧架设在安装在曝光台基座上的曝光台C柱上，所述的盖板架能够绕所述曝光台铰链中轴线逆时针旋转180度后接触到所述曝光台A柱顶面与之相接触配合，所述曝光台基座与曝光台扫描动力系统相连并且在所述曝光台扫描动力系统的驱动下能够沿x轴和y轴方向运动，工控机B通过紫外光源总线与至少由6只紫外灯构成的紫外灯集成器相连，所述曝光台与所述的紫外灯集成器相对设置以使紫外灯能够照射到安装在硅基液晶屏承载盘顶部的氧化铟锡玻璃上的图案框胶，工控机B通过扫描动力系统总线与所述曝光台扫描动力系统相连接并且工控机B通过曝光机面板控制总线与曝光机面板控制器相连接。
2.根据权利要求1所述的硅基液晶屏生产系统,其特征在于：在所述的氧化铟锡玻璃上料机架和聚酰亚胺涂覆前清洗机之间连接有氧化铟锡玻璃清洗机。
3.一种用于硅基液晶屏生产的方法，其特征在于它包括以下步骤：
(1)基板清洗步骤：至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片硅晶圆交替输送进入聚酰亚胺涂覆前清洗机完成清洗；
(2)将清洗后的氧化铟锡玻璃和硅晶圆依次进行涂覆、烘干、摩擦，干法超声清洗；
(3)将经过干法超声清洗机清洗后的至少一片氧化铟锡玻璃和至少一片硅晶圆送入玻璃/硅晶圆分流系统，从玻璃/硅晶圆分流系统输出的氧化铟锡玻璃进入紫外框胶滴胶机完成在氧化铟锡玻璃上涂布图案框胶的加工，从玻璃/硅晶圆分流系统输出的硅晶圆和完成在氧化铟锡玻璃上涂布图案框胶加工的氧化铟锡玻璃输送进入基板正压贴合机进行硅基液晶屏贴合加工，然后通过紫外框胶曝光机完成框胶曝光固化；
(4)经过框胶曝光的硅基液晶屏依次进行框胶再固化、密封、密封胶水固化处理；
(5)经过密封胶水固化处理的硅基液晶屏进行灌晶制得反射式液晶显示器；
所述的步骤(3)中的硅基液晶屏贴合加工包括以下步骤：（a)将硅晶圆输送承载到基板正压贴合机的硅晶圆承片托上并将其真空吸附在硅晶圆承片托上；（b)将覆盖有图案框胶的氧化铟锡玻璃输送承载到所述基板正压贴合机的玻璃架上并将其吸附在所述玻璃架上；（c)将吸附着氧化铟锡玻璃的所述玻璃架逆时针旋转180度后，使硅晶圆正对覆盖有图案框胶的氧化铟锡设置；（d)在保持所述硅晶圆与图案框胶之间没有产生接触的状态下，移动两者之间的相对位置直至到达预定位置要求；（e)使吸附着硅晶圆的所述硅晶圆承片托接近所述吸附着氧化铟锡玻璃的玻璃架，直至所述硅晶圆与图案框胶之间形成紧密接触状态；（f)当所述硅晶圆与图案框胶之间形成紧密接触时就形成了至少由硅晶圆、图案框胶和氧化铟锡玻璃构成的所述硅基液晶屏，这时首先解除所述玻璃架对所述氧化铟锡玻璃的真空吸附，接着将所述玻璃架再顺时针旋转180度后返回到初始位置，然后解除所述硅晶圆承片托对所述硅晶圆的真空吸附作用，将所述硅基液晶屏从基板正压贴合机的硅晶圆承片托上取下；
所述的步骤（3）中的硅基液晶屏框胶曝光包括以下步骤：（g)将从所述基板正压贴合机的硅晶圆承片托上取下的所述硅基液晶屏输送进入紫外框胶曝光机的硅基液晶屏承载盘上，并且硅基液晶屏中的硅晶圆与所述硅基液晶屏承载盘相接触，然后将承载的硅基液晶屏吸附在所述硅基液晶屏承载盘上；（h)将在凹槽内嵌有透明石英玻璃的盖板架旋转设置在硅基液晶屏上方；（i)使所述硅基液晶屏承载盘接近所述盖板架的透明石英玻璃直至与所述硅基液晶屏的氧化铟锡玻璃与透明石英玻璃紧密接触同时使所述图案框胶在紫外灯照射下固化，（j)当所述图案框胶固化以后，通过对气缸的进气孔放气使得吸附着所述硅基液晶屏的所述硅基液晶屏承载盘在自身重力的作用下离开所述盖板架的内嵌所述透明石英玻璃一定距离，接着将所述盖板架旋转离开，同时解除对所述硅基液晶屏的吸附作用完成框胶曝光过程。
4.根据权利要求3所述的用于硅基液晶屏生产的方法，其特征在于：所述的步骤(1)中的基板清洗步骤中所述的至少一片氧化铟锡玻璃在进入聚酰亚胺涂覆前清洗机进行清洗前包括在氧化铟锡玻璃清洗机内完成初步清洗步骤。
5.根据权利要求3所述的用于硅基液晶屏生产的方法，其特征在于：所述的步骤(2)中在至少一片氧化铟锡玻璃与至少一片所述硅晶圆上涂覆的聚酰亚胺薄膜的厚度为20nm～40nm。
6.根据权利要求3所述的用于硅基液晶屏生产的方法，其特征在于：将所述的步骤(2)中涂覆有聚酰亚胺的所述氧化铟锡玻璃、硅晶圆输送进入同一台聚酰亚胺摩擦机进行摩擦处理，每片氧化铟锡玻璃的摩擦方向均相同，每片硅晶圆的摩擦方向均相同，所述的氧化铟锡玻璃与硅晶圆摩擦方向至少存在20度角度的偏差。
7.根据权利要求3所述的用于硅基液晶屏生产的方法，其特征在于：所述的步骤（5）中的灌晶包括以下步骤：（a)将经过紫外密封胶曝光机处理的所述硅基液晶屏输送进入激光切割标识机内，且参照所述图案框胶的位置刻画出所需的切割标识线；（b)接着将刻画有所需的切割标识线的所述硅基液晶屏输送进入硅晶圆切割机进行切割，且对所述硅晶圆的切割深度为0.45mm～0.65mm；（c)接着将经过所述硅晶圆切割机处理的所述硅基液晶屏输送进入氧化铟锡玻璃划片机进行划片，且对所述氧化铟锡玻璃的划片深度为0.05mm～0.25mm；（d)接着将经过所述氧化铟锡玻璃划片处理的所述硅基液晶屏输送进入裂片机进行断裂加工；（e)接着将经过所述裂片机处理产生的单枚硅基液晶屏输送进入灌晶机进行灌注液晶；（f)接着将灌注了液晶的单枚硅基液晶屏输送进入紫外胶封口滴胶机在液晶灌注口处滴注紫外胶；（g)接着将经过紫外胶封口滴胶机处理的硅基液晶屏输送进入紫外胶封口曝光机对所述紫外胶封口滴胶机滴注的紫外胶进行紫外光照射固化制得反射式液晶显示器。
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