CN102290326B - 盖体保持夹具 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种盖体保持夹具，其能够稳定地保持处理室的盖体并使其反转。该盖体保持夹具(1)将设置于处理室(81)的上部的盖体(83)以从该盖体(83)卸下的状态进行保持，其中，保持部(2)保持盖体(83)的周缘部，基体(31、34、53)为了使保持于上述保持部(2)的盖体(83)反转而以围绕水平的旋转轴(52)旋转自如的方式支承该保持部(2)。固定机构(4)使固定部件(44)在相对上述保持部(2)固定盖体(83)的固定位置与开放该盖体(83)的固定的开放位置之间移动。

Description

盖体保持夹具

技术领域

本发明涉及在处理被处理基板的处理室中设置的用于保持盖体的夹具。

背景技术

将在平板显示器(FPD：Flat Panel Display)中使用的玻璃基板、形成有半导体器件的半导体基板(半导体晶片)作为被处理体，进行蚀刻处理、灰化处理、或者CVD(Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积)等成膜处理的基板处理装置，具有进行这些处理的处理室。处理室是通过在真空气氛等下向这些基板供给活性化的处理气体，对基板进行各种处理的处理容器。

举出对基板进行蚀刻处理的处理室的一个例子，在处理室的内部设置有：载置基板并且构成下部电极的载置台；和以与上述载置台上下相对的方式设置，向处理室内供给氯气等蚀刻气体，并且构成上部电极的气体喷淋头等。然后，通过对载置台侧施加高频电力等，使供给至处理室内的蚀刻气体等离子体化，利用生成的活性种进行基板的蚀刻。

这样的处理室具有用于对基板进行处理的各种设备，在维护等时发生开放该处理室的操作。例如，在图12(a)中表示了处理室81，该处理室81构成为，收纳基板并构成进行处理的空间的处理室主体82，和用于堵塞设置于该处理室主体82的上部的开口部而载置在处理室主体82的上部的盖体83，能够上下分离。图中，803是在真空气氛下搬送基板的真空搬送室，G是气密地密封处理室81与真空搬送室803之间，并且构成为能够开闭的闸阀。

在维护时，如图12(b)所示利用起重装置等将盖体83提起，使盖体83与处理室主体82分离，将该盖体83搬送至其它场所，之后进行维护。在从处理室主体82分离的盖体83，可能具有用于供给处理气体的气体喷淋头等内部设备，如果从卸下时的状态使盖体83的上下反转，则提高维护这些内部设备时的操作性。

在专利文献1中，记载有盖体开闭机构，在处理室的盖体的相对的两个侧面设置支轴，向这些支轴架设轨道，使构成为能够在该轨道上移动的可动轴承部移动至上述支轴并与该支轴嵌合。根据该机构，可动轴承部在抬起盖体之后后退，在从处理室主体的上方位置退避之后，以上述支轴为中心使盖体反转。但是在该专利文献1中，没有公开在上述可动轴承稳定地保持盖体的具体的设备结构。

专利文献1：日本特开2006-128714号公报：0067段～0073段，图6、图7

发明内容

本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于提供稳定地保持处理室的盖体并能够使其反转的盖体保持夹具。

本发明的盖体保持夹具将在处理作为被处理体的基板的处理室设置的盖体，以从该处理室卸下的状态进行保持，该盖体保持夹具的特征在于，包括：

用于保持上述盖体的周缘部的保持部；

为了使保持于上述保持部的上述盖体反转而将该保持部以围绕水平的旋转轴旋转自如的方式支承的基体；和

设置于上述保持部，具有相对上述保持部固定上述盖体的固定部件的固定机构，

上述固定部件在固定上述盖体的固定位置与开放上述盖体的固定的开放位置之间移动。

上述盖体保持夹具可以具有以下的特征。

(a)包括：使上述保持部围绕旋转轴旋转的第一驱动部；使上述固定部件在固定位置与开放位置之间移动的第二驱动部；设置于上述保持部，检测上述盖体保持于该保持部的情况的检测部；和控制部，其以由该检测部检测到盖体的保持为条件，驱动上述第二驱动部，使上述固定部件从开放位置移动至固定位置，以该固定部件移动至固定位置为条件，驱动上述第一驱动部，使上述保持部旋转。

(b)上述检测部沿着上述盖体的周缘部设置于多个位置。

(c)与设置于上述多个位置的检测部的各个对应地设置有多个固定机构，上述控制部以这些多个固定机构全部的固定部件移动至固定位置为条件，驱动上述第一驱动部。

(d)上述固定机构构成为，在将上述盖体以底面朝向下方侧的状态交接至上述保持部的情况下，能够将该盖体固定于上述保持部。

(e)上述保持部保持上述盖体的侧面。

(f)上述处理室对基板进行真空处理。

(g)在上述基体，设置有用于在用于使盖体反转的上方位置与该上方位置的下方侧的下方位置之间使上述保持部升降的升降机构。

根据本发明，在以周缘部保持处理室的盖体的保持部设置有盖体的固定机构，该固定机构具有在相对于上述保持部固定盖体的固定位置与开放盖体的固定的开放位置之间移动的固定部件，因此，能够在保持部稳定地保持盖体，并且容易进行盖体对该保持部的装卸。而且，该保持部为了使上述盖体反转而以围绕水平的旋转轴自如旋转的方式被支承，因此，能够使盖体反转，提高对设置于盖体的下表面侧的设备进行维护时的操作性。

附图说明

图1是表示本实施方式的盖体保持夹具的结构的立体图。

图2是表示设置于上述盖体保持夹具的固定机构的结构的立体图。

图3是表示设置于上述盖体保持夹具的固定机构和其旋转机构的电结构的框图。

图4是表示设置于上述盖体保持夹具的固定机构的结构和作用的纵截侧面图。

图5是表示上述盖体保持夹具的作用的立体图。

图6是表示具有升降机构的盖体保持夹具的例子的立体图。

图7是表示具有装卸自如的桥的盖体保持夹具的例子的立体图。

图8是表示第二实施方式的盖体保持夹具的例子的立体图。

图9是表示设置于上述第二实施方式的盖体保持夹具的固定机构的作用的纵截侧面图。

图10是表示利用上述盖体保持夹具的基板处理装置的一个例子的立体图。

图11是上述基板处理装置的平面图。

图12是构成为能够卸下盖体的处理室的示意图。

附图标记

1、1a、1b 盖体保持夹具

2 反转框架

4、4a 固定机构

44 锁定轴

45 气缸机构

46 接近传感器

5 旋转机构

6 控制部

81、81a～81d 处理室

82 处理室主体

83 盖体

846 被固定部件

具体实施方式

以下，参照图1～图4说明本发明的实施方式的盖体保持夹具1的结构例。如图1的立体图所示，本例的盖体保持夹具1包括：作为保持处理室81的盖体83的保持部的反转框架2；设置于该反转框架2，相对于该反转框架2固定盖体83的固定机构4；将上述反转框架2以围绕旋转轴52旋转自如的方式进行保持的支承台31；和设置在该支承台31的底部侧，在上述底面上支承支承台31的底座板32。

本例的盖体保持夹具1构成为，例如能够保持处理一边为2.2m、另一边为2.5m左右的大小的矩形FPD基板(以下简称为基板S)的处理室81的盖体83。对盖体83例如是在俯视时一边为3.0m、另一边为3.5m左右的大小的情况进行说明。

如图1所示，反转框架2构成为，组合四根框架材料201、202而成的平面形状为四边形的框体，各框架材料201、202的长度为，在将盖体83保持在反转框架2上时，反转框架2的内周缘位于盖体83的外周缘的外侧的程度的长度。

反转框架2在相互相对的两边的框架材料201的中央部，经由矩形板形状的保持部53与旋转轴52连接。这两根旋转轴52沿与上述两根框架材料201正交的方向水平延伸，在其基端部与反转电机51连接。反转电机51是能够向正转方向和反转方向这两个方向切换，使旋转轴52旋转180°，并且能够使保持部53的旋转停止在任意的旋转角度的带减速机的电机。通过这些结构，反转框架2能够使保持在该反转框架2上的盖体83的上下反转，并且能够使盖体83旋转停止在任意的倾斜角度。

各反转电机51配置在二脚型的支承台31上，在比底面高的位置支承旋转轴52，由此在使旋转轴52旋转时，反转框架2、保持于反转框架2的盖体83不会与底面干涉。在各支承台31的下端部，设置有从支承台31看时向左右两侧沿宽度方向延伸的板状的底座板32，这两根底座板32在左右的两端位置，利用由方木构成的连结部件33连结。其结果，利用底座板32和连结部件33这四根部件形成构成为四边形的平面形状的底座部34，在该底座部34的上方位置支承反转框架2。

如图1所示，在本例中，底座部34形成得比反转框架2大一圈，能够稳定地保持配置在该底座部34的上方的反转框架2。图1中，341是将上述底座部34支承在底面上的支脚，在该支脚341上切割有螺纹，通过使支脚341从设置在底座部34的底面侧的螺纹孔拧进拧出，能够调整支脚341的高度，将底座部34相对于底面水平支承。此外，如在图3中示意性表示其一部分那样，在底座板32的底面设置有多个小脚轮342，通过将支脚341收容在螺纹孔内，由小脚轮支承底座部34，能够容易地移动盖体保持夹具1的整体。

以上所说明的支承台31、底座部34、保持部53等相当于本实施方式的基体，旋转机构5相当于第一驱动部。

接着，说明固定机构4的结构。在从使旋转轴52与框架材料201连接的保持部53看的左右两侧，用于相对反转框架2固定盖体83的固定机构4分别各配置有一个。即，本例的反转框架2具有共计四个固定机构4，这些固定机构4相互间具有同样的结构。以下，参照图2、图4说明其详细结构。

如图2、图4(a)所示，固定机构4包括：具有游隙槽(clearancegroove)411的承受板41，该游隙槽411用于插入设置于盖体83侧的被固定部件846；设置于承受板41的下表面侧的两块固定板42；贯通上述被固定部件846和两块固定板42，在反转框架2上固定盖体83的锁定轴44；驱动该锁定轴44的气缸机构45；设置在承受板41的上表面侧，将载置在反转框架2上的盖体83引导至预先设定的保持位置的引导轴43；和检测盖体83向承受板41的接近的接近传感器46。

承受板41是形成为长边十几厘米～几十厘米、短边几厘米～十几厘米、厚度为几厘米左右的厚板材，以其上表面与反转框架2的上表面为相同朝向的方式牢固地固定于反转框架2的侧面。如果令长边为纵方向、令短边为宽度方向，则在承受板41的纵方向中央位置设置有用于插入设置于盖体83侧的被固定部件846的游隙槽411，该游隙槽411从上表面朝向下表面贯通承受板41。

而且，在承受板41，从保持部53看时在游隙槽411的外方侧的位置，设置有从承受板41的上表面朝向上方侧延伸的圆柱状的引导轴43。

此处说明设置于盖体83侧的被固定部的结构，在盖体83的侧壁的外表面，在使盖体83移动至反转框架2的上方位置时与各固定机构4的承受板41上下相对的位置，设置有托架841。本例的托架841是如图2所示的由底板842和侧板843构成的纵截面为L字状的部件，在其左右两端部设置有用于强度加强的加固板844。托架841的侧板843相对于盖体83的侧壁的外表面牢固地固定，底板842的底面与盖体83的侧壁的下端面为相同朝向。

板状的被固定部件846从设置于托架841的底板842的底面向下方侧延伸，该被固定部件846，在将盖体83载置在反转框架2上的正确保持位置时，能够进入承受板41侧的游隙槽411内。在被固定部件846设置有从保持部53看时从内侧到外侧地横向贯通被固定部件846的贯通孔847。在本例中被固定部件846的侧面和贯通孔847的内面由加入填充剂的树脂等覆盖，在使被固定部件846进入游隙槽411内时，以及使后述的锁定轴44进入贯通孔847内时，使得难以由于这些部件的滑动动作而导致颗粒(particle)的产生。

此外，在托架841的底板842，设置有用于使上述引导轴43贯通的圆筒状的套筒845。于是，通过以设置于四个固定机构4的各引导轴43进入套筒845内的方式，将盖体83载置在反转框架2的上表面，能够正确进行盖体83的定位，将被固定部件846向设置于各承受板41的游隙槽411内引导。

而且，如上所述反转框架2形成为内周缘位于盖体83的外周缘的外侧的大小，因此，盖体83经由四个托架841保持于反转框架2，盖体83的下端面与反转框架2不接触。在进行真空处理的处理室81中，与处理室主体82接触的盖体83的下端面成为维持处理室81内的真空的密封面，因此在本例中通过经由托架841保持盖体83的侧面，抑制由与反转框架2的接触等引起的盖体83下端面的损伤。

回到固定机构4的说明，在承受板41的下表面侧，从保持部53看时，在夹着游隙槽411的内侧位置和外侧位置，两块板状的固定板42向下方侧伸出。在各固定板42设置有从保持部53看时从内侧向外侧地横向贯通固定板42的贯通孔421。这些固定板42形成为，在使盖体83侧的被固定部件846进入游隙槽411内时，该被固定部件846的贯通孔847和固定板42侧的贯通孔421相连配置，形成能够贯通锁定轴44的贯通路。

锁定轴44是本实施方式的固定部件，在将盖体83载置在反转框架2上的正确保持位置时，其通过贯通相连配置的上述贯通孔421、847，使被固定部件846与该锁定轴44卡止。锁定轴44构成为圆柱状的部件，其基端侧经由连结部件453和气缸轴452，例如与气缸451连接，构成气缸机构45。气缸机构45相当于本实施方式的第二驱动部。

利用该气缸机构45，锁定轴44能够在卡止被固定部件846而将盖体83固定于反转框架2的固定位置与从该固定位置撤离而从反转框架2开放盖体83的开放位置之间自如地移动。图4(a)、图4(b)所示的454是用于检测锁定轴44伸至前端位置的气缸451的上限开关，455是用于检测锁定轴44后退至后端位置地下限开关。

进一步，在承受板41，从保持部53看时在引导轴43的进一步的外侧位置，设置有作为检测部的接近传感器46，该检测部用于检测盖体83保持在反转框架2上的情况。接近传感器46配置在盖体83载置在反转框架2上时，被底板842的底面覆盖的位置。接近传感器46在底板842相对于接近传感器46接近至比预先设定的高度位置更靠近接近传感器46侧时，检测到该底板842的接近。

于是，上述预先设定的高度位置设定为，底板842的底面与承受板41的上表面接触，盖体83保持在反转框架2上时检测到底板842的接近的高度位置。作为接近传感器46的具体结构能够使用红外线方式、静电电容方式、磁性方式等，并不限定于特定方式。

此外，在配置有固定机构4的框架材料201与支承台31之间，为了在使反转框架2旋转时固定机构4与支承台31不干涉，设置有用于通过固定机构4的间隙(图1)。

具有以上说明的结构的盖体保持夹具1，如图3所示与控制部6连接。控制部6由具有未图示的CPU和存储部的计算机构成，在存储部记录有编组有关于下述控制的步骤(命令)组的程序：检测到盖体83保持在反转框架2上，使四个固定机构4动作，将盖体83固定在反转框架2上之后使反转框架2旋转的动作；和与上述动作相反地使反转后的反转框架2正转，之后开放固定机构4对盖体83的固定的动作。该程序例如存储在硬盘、光盘、磁光盘、存储卡等存储介质中，从它们安装到计算机中。

进一步，关于上述盖体保持夹具1的动作，控制部6达到执行下述控制的功能：以由接近传感器46检测到在反转框架2上保持有盖体83(盖体83保持在反转框架2上)为条件，驱动气缸机构45，使锁定轴44移动至固定位置，以锁定轴44移动至固定位置为条件，驱动旋转机构5，使反转框架2旋转。因此，控制部6与接近传感器46、气缸451、上限开关454、下限开关455、反转电机51连接(图3)。

以下，参照图4、图5和图12说明本实施方式的盖体保持夹具1的作用。当处理室81需要维护时，关闭图12所示的闸G，解除处理室81内的真空状态，进行从处理室主体82卸下盖体83的准备。之后，利用起重装置等搬送部件将盖体83抬起到处理室主体82上，将该盖体83搬送至盖体保持夹具1待机的位置。

此时盖体保持夹具1在以固定机构4的引导轴43朝向上方侧的方式调节了反转框架2的朝向的状态下待机，如图1所示，搬送部件使盖体83进入反转框架2的上方位置。然后，以盖体83侧的各托架841配置在反转框架2侧的各固定机构4的上方位置的方式调节盖体83的朝向之后，使盖体83下降。

结果，如图4(a)所示，在各套筒845与引导轴43上下相对、各被固定部件846与游隙槽411上下相对的状态下，盖体83下降。于是，当引导轴43进入套筒845内时，盖体83一边被这些引导轴43引导一边进一步下降，由此进行盖体83的定位。当使盖体83进一步向下方侧移动时，被固定部件846进入游隙槽411内，在托架841的底面与承受板41的上表面接触时，盖体83的下降停止，盖体83成为载置在反转框架2上的状态。

当像这样盖体83被保持于反转框架2，被固定部件846的整体进入游隙槽411内时，被固定部件846的贯通孔847和其两侧的固定板42的贯通孔421成为连通的状态，能够使锁定轴44进入这些贯通孔847、421内并移动至固定位置。这样，能够由各接近传感器46检测锁定轴44能够移动的情况，即盖体83保持于反转框架2的情况。

当由接近传感器46检测到盖体83保持于反转框架2时，各气缸机构45动作，通过使锁定轴44进入贯通孔847、421内并移动至固定位置，将盖体83固定于反转框架2(图4(b))。作为此时使气缸机构45动作的条件，可以在由各固定机构4的接近传感器46检测到盖体83的保持之后，使相同的固定机构4内的气缸机构45动作，也可以在确认了由全部的接近传感器46进行检测之后使各气缸机构45动作。

然后，当各固定机构4的锁定轴44到达固定位置时，气缸451的上限开关454动作，因此能够确认该固定机构4的盖体83的固定。然后，在确认全部的锁定轴44移动至固定位置之后，驱动旋转机构5，使反转框架2旋转预先设定的倾斜角度，进行盖体83的维护。在图5(b)所示的例子中表示从图5(a)的状态开始使盖体83旋转180°的情况下的例子，气体喷淋头831成为朝向上面的状态。图中，832是处理气体的喷出孔。盖体83的维护可以在盖体83移至盖体保持夹具1的位置进行，也可以利用小脚轮342移动盖体保持夹具1，搬送至专用的维护室后进行维护。

在利用以上说明的盖体保持夹具1进行将盖体83载置在反转框架2上的动作时，盖体83的朝向可能从图1所示的状态围绕铅直轴偏移90°。在该情况下，设置于盖体83侧的托架841位于没有设置固定机构4的反转框架2的框架材料202的上方位置。结果，即使使盖体83下降，固定机构4的接近传感器46也不能够检测到托架841的接近，因此各锁定轴44不会向固定位置移动，旋转机构5也不驱动。因此，不会进行在盖体83没有固定于反转框架2的状态下开始反转框架2的旋转的动作。

此外，在盖体83的围绕铅直轴的偏移量为小于90°或大于90°的情况下，如果四个托架841和固定机构4没有正确地上下相对，则托架841与引导轴43干涉，不能够到达承受板41的上表面，或者托架841载置在从接近传感器46的设置位置偏移的位置。在该情况下，各锁定轴44也不会向固定位置移动，反转框架2的旋转动作也不开始。

此外，即使四个托架841和固定机构4正确地上下相对，在盖体83以上下预先反转的状态载置在反转框架2上的情况下，接近传感器46不会成为被底板842覆盖的状态，因此，接近传感器46不动作，锁定轴44的移动和反转框架2的旋转动作也不进行。

图6表示具有反转框架2的升降机构311的盖体保持夹具1a的例子。在该情况下，在使保持于反转框架2的盖体83反转时，在旋转动作时使反转框架2上升至反转框架2、盖体83与底面不干涉的上方位置。然后，在进行反转之前或之后的时刻使反转框架2下降至下方位置，使盖体保持夹具1a的重心变低，以更稳定的状态保持盖体83，而且维护员也能够更容易地处理盖体83。

进一步，如图7所示，能够将在使盖体83反转时，维护员进行操作的装卸自如的桥10架设于反转框架2。

接着，参照图8、图9说明第二实施方式的盖体保持夹具1b。这些图中，对与上述盖体保持夹具1相同的构成要素标注与图1～图5所示的符号相同的符号。本例的盖体保持夹具1b中，反转框架2的内周缘伸出至比盖体83的下端面的外周缘更靠内侧的位置。于是，盖体83的下端面的一部分载置在图8所示的点划线的范围内(参照图9(b))。

在盖体83，在相对的两个侧壁的外表面，在各侧壁的两个位置即合计4个位置，设置有用于嵌入锁定轴44的嵌入孔830。在反转框架2侧，相对于这些嵌入孔830的各个，设置有使锁定轴44嵌入而固定盖体83的固定机构4a，锁定轴44能够在固定盖体83的固定位置(图9(b))与从该固定位置避开而开放盖体83的固定的开放位置(图9(a))之间移动。如图8所示，固定机构4a沿与盖体83的侧壁面正交的方向使锁定轴44移动，因此，在本例中，固定机构4a配置于没有与旋转轴52连接的框架材料202，固定机构4a不与支承台31干涉。各图中21是引导盖体83的载置位置的引导部件。

此外，如图9(a)所示，接近传感器46设置在配置有固定机构4a的位置的反转框架2内，接近传感器46检测盖体83的下端面载置在反转框架2的上表面的情况。然后，在检测到盖体83的保持之后，如图9(b)所示使锁定轴44移动至固定位置而固定盖体83，在确认四个位置的所有的固定机构4a的动作之后使反转框架2旋转而反转盖体83。

在本例的盖体保持夹具1b中，在将盖体83载置于反转框架2上时，当盖体83的朝向从图8所示的状态围绕铅直轴偏移90°时，如果盖体83的平面形状为长方形，则与引导部件21干涉，盖体83的下端不能够到达反转框架2的上表面，因此接近传感器46不动作。但是，在盖体83接近正方形的情况下，在盖体83的朝向改变的状态下，盖体83可能载置在图8所示的点划线所示的范围内。假设此时接近传感器46动作，固定机构4的动作开始，各锁定轴44也在没有设置嵌入孔830的侧壁面停止，不会到达固定位置。因此，旋转机构5的旋转动作不开始。因此不会在盖体83没有固定于反转框架2的状态下开始盖体83的反转。

根据以上说明的各实施方式的盖体保持夹具1、1a、1b，具有以下的效果。在以周缘部保持处理室81的盖体83的反转框架2上设置有盖体83的固定机构4、4a，该固定机构4、4a具有锁定轴44，该锁定轴44在盖体83相对于反转框架2固定的固定位置与盖体83的固定被开放的开放位置之间移动，因此，能够将盖体83稳定地保持于反转框架2，而且容易进行盖体83向该反转框架2的装卸。而且，该反转框架2为了使盖体83反转而以围绕水平的旋转轴52旋转自如的方式被支承，因此，能够使盖体83反转，提高对设置于盖体83的下表面侧的气体喷淋头831等设备进行维护时的操作性。

此处，将盖体83固定于反转框架2的固定机构，并不限定于图4、图9所示的固定机构4、4a的结构例。例如也可以以将盖体83从上面侧向反转框架2按压的机械卡盘机构作为固定机构并配置于反转框架2。

此外，在盖体保持夹具1、1a、1b中，也可以不设置使反转框架2旋转的第一驱动部(旋转机构5)、使锁定轴44移动的第二驱动部(气缸机构45)，而通过手动操作进行这些动作。

而且，在设置有第一驱动部、第二驱动部的情况下，也可以手动设定锁定轴44的移动动作、反转框架2的旋转动作的开始时刻。例如能够考虑下述等的情况，在由接近传感器46检测到盖体83载置在反转框架2上之后，解除联锁，经由与控制部6连接的控制面板接受来自操作员的锁定轴44的移动动作的开始指示。然后，在反转框架2的旋转动作时也是同样，可以在全部的锁定轴44移动至固定位置之后，解除联锁，接受来自用操作员的反转框架2的旋转动作的开始指示。

进一步，反转框架2的形状并不限定于各实施方式所示的四边形的框体形状，例如也可以将图1所示的设置有固定机构4的两根框架材料201由在旋转轴52的延长线上延伸的一根连结部件连结。此外，在盖体83的平面形状为圆形等四边形以外的形状的情况下，可以与此配合地形成框体的形状。

此外，检测盖体83保持于反转框架2的检测部的结构并不限于使用接近传感器46的例子。例如也可以采用下述结构：在图2所示的固定机构4，使能够相对于承受板41的上表面突出没入的开关突出，在该开关被底板842的下表面按下至预先设定的位置时，检测到盖体83向反转框架2的保持。

而且，在处理室81中进行处理的基板S的种类并不限于实施方式所示的角型的FPD基板，当然也能够应用于例如半导体晶片等圆形基板，在处理室81实施的处理除了真空处理之外，还可以是在常压气氛下进行的处理，该情况也包含于本发明的技术范围。

最后对利用实施方式的盖体保持夹具1、1a、1b(以下简称为盖体保持夹具1)进行盖体83的卸下的基板处理装置8的应用例进行简单说明。在图10、图11所示的基板处理装置8中，搬送至大气装载器801的基板S经由负载锁定室802被搬入具有基板搬送机构804的真空搬送室803内。真空搬送室803的平面形状例如为六边形，在其一个侧面与负载锁定室802连接，在另外的四个侧面与处理室81a～81d连接。而且，在真空搬送至803的剩余的一个侧面的外侧区域，如图11所示设置有用于配置盖体保持夹具1的维护区域806。在本例中，一个维护区域806由四个处理室81a～81d共用。

需要维护的处理室81a～81d关闭闸阀G而从真空搬送室803隔离，利用设置于真空搬送室803的上部的盖体搬送机构805握持盖体83上表面的把手部85，该盖体83被抬起至处理室主体82的上方。然后，使盖体搬送机构805向维护区域806旋转，在盖体83到达反转框架2的上方位置后使盖体83下降，进行盖体83向盖体保持夹具1的交接。之后，由盖体保持夹具1固定盖体83，执行进行反转的动作。

此处，能够利用本发明的盖体保持夹具1的基板处理装置当然并不限于图10、图11所示的例子，与真空搬送室803连接的处理室81的数量可以为1个，可以为4个，也可以为这之外的数量。此外，关于配置盖体保持夹具1的维护区域806，除了在与共用的真空搬送室803连接的多个处理室81a～81d间共用维护区域806的例子之外，也可以对各处理室81a～81d设置专用的维护区域806。进一步，基板处理装置8可以不具有专用的盖体搬送机构805，而使用工场的起重装置进行盖体83的搬送。

Claims (8)

1.一种盖体保持夹具，其将设置在处理作为被处理体的基板的处理室的盖体，以从该处理室卸下的状态进行保持，该盖体保持夹具的特征在于，包括：

用于保持所述盖体的周缘部的框体；

为了使保持于所述框体的所述盖体反转而将框体以围绕水平的旋转轴旋转自如的方式支承的基体；和

设置于所述框体，具有将所述盖体固定于所述框体的固定部件的固定机构，

所述固定部件在固定所述盖体的固定位置与开放所述盖体的固定的开放位置之间移动。

2.如权利要求1所述的盖体保持夹具，其特征在于，包括：

使所述框体围绕旋转轴旋转的第一驱动部；

使所述固定部件在固定位置与开放位置之间移动的第二驱动部；

设置于所述框体，检测所述盖体保持于该框体的检测部；和

控制部，其以由所述检测部检测到盖体的保持为条件，驱动所述第二驱动部，使所述固定部件从开放位置向固定位置移动，以该固定部件移动至固定位置为条件，驱动所述第一驱动部，使所述框体旋转。

3.如权利要求2所述的盖体保持夹具，其特征在于：

所述检测部沿着所述盖体的周缘部设置于多个位置。

4.如权利要求3所述的盖体保持夹具，其特征在于：

与设置于所述多个位置的检测部逐一对应地设置有多个固定机构，所述控制部以所述多个固定机构全部的固定部件移动至固定位置为条件，驱动所述第一驱动部。

5.如权利要求1～4中任一项所述的盖体保持夹具，其特征在于：

所述固定机构构成为，在将所述盖体以底面朝向下方一侧的状态交接至所述框体的情况下，能够将所述盖体固定于所述框体。

6.如权利要求1～4中任一项所述的盖体保持夹具，其特征在于：

所述框体保持所述盖体的侧面。

7.如权利要求1～4中任一项所述的盖体保持夹具，其特征在于：

所述处理室对基板进行真空处理。

8.如权利要求1～4中任一项所述的盖体保持夹具，其特征在于：

在所述基体设置有：用于在用于使盖体反转的上方位置和所述上方位置的下方一侧的下方位置之间使所述框体升降的升降机构。

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