CN102280122A - 记录装置和记录方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了记录装置和记录方法。记录装置对光盘记录介质执行记录，该光盘记录介质具有基准面和记录层，该基准面具有带位置引导的反射膜，该记录层设在与基准面不同深度的位置处并且通过根据光照射的标记形成来执行信息记录。记录装置包括光生成和照射单元、记录单元、循轨机构、第一循轨误差信号生成单元、第二循轨误差信号生成单元、循轨伺服控制单元以及控制单元。

Description

记录装置和记录方法
技术领域
本公开涉及在光记录介质上执行记录的记录装置，更具体而言涉及被配置为经由共同的物镜照射用于执行标记(mark)记录的第一光和用于基于在光记录介质上形成的位置引导(position guide)执行位置控制的第二光的记录装置。
背景技术
作为通过光的照射来记录和再现信号的光记录介质，诸如CD(压缩盘)、DVD(数字多功能盘)和BD(蓝光盘：注册商标)之类的所谓光盘已经投入了使用。
关于在与当前普及的比如CD、DVD和BD之类有关的光介质的下一代中扮演重要角色的光记录介质，申请人提出了一种在日本未实审专利申请公布No.2008-135144和2008-176902中描述的所谓体记录(bulkrecording)型光记录介质。
例如，如图19所示，体记录是针对至少具有覆盖层101和体层(记录层)102的光记录介质(体型记录介质100)，通过在顺次改变焦点位置的同时执行激光束照射，来在体层102上执行多层记录，其是一种实现大容量记录的技术。
关于这种体记录，在日本未实审专利申请公布No.2008-135144中，公开了一种记录技术，即所谓的微全息图(micro-hologram)方法。
在微全息图方法中，所谓的全息图记录材料被用作体层102的记录材料。作为全息图记录材料，例如广泛使用了光聚合型感光树脂等等。
微全息图方法被大体划分成两种方法，即正型微全息图方法和负型微全息图方法。
正型微全息图方法是将两个对向的光通量(光通量A和光通量B)聚集在同一位置处并且形成微型干涉图案(全息图)以使用该干涉图案作为记录标记的方法。
作为与正型微全息图方法相反的概念，负型微全息图方法是用激光照射擦除预先形成的干涉图案以使用擦除的部分作为记录标记的方法。在负微全息图方法中，在执行记录操作之前，预先对体层102执行用于形成干涉图案的初始化处理。具体而言，作为初始化处理，照射由平行光形成的对向光通量，以在整个体层102上形成干涉图案。
在如上所述通过初始化处理形成干涉图案之后，执行基于擦除标记的形成的信息记录。即，在聚焦于任意层位置的状态中执行激光的照射，从而执行基于擦除标记的信息记录。
作为与微全息图方法不同的体记录方法，申请人还提出了例如在日本未实审专利申请公布No.2008-176902中公开的形成空穴(空孔或空包)作为记录标记的记录方法。
空穴记录方法是对由诸如光聚合型感光树脂之类的记录材料形成的体层102以相对高的功率执行激光照射，以在体层102中记录空孔(空穴)的方法。如日本未实审专利申请公布No.2008-176902中所述，如上所述形成的空孔部分具有与体层102中的其他部分不同的折射率，并且有可能在这种边界部分提高反射率。因此，空孔部分充当记录标记，从而实现了基于空孔标记的形成的信息记录。
由于这种空穴记录方法不形成全息图，所以可以从记录的一侧执行光照射。即，不必像正型微全息图方法中那样将两个光通量聚集在同一位置以形成记录标记。
与负微全息图方法相比，有不必进行初始化处理的优点。
在日本未实审专利申请公布No.2008-176902中，描述了在执行空穴记录时在记录前执行预固化光的照射的示例。然而，即使在可省略这种预固化光的照射时，空穴的记录也是可能的。
这种体型光盘记录介质的记录层(体层)虽然是如上所述已为其提出了各种记录方法的体记录型(简称为体型)光盘记录介质，但在例如形成多个反射膜这个意义上，其并不具有明显的多层结构。即，在体层102中，未设有一般的多层盘具有的用于每个记录层的反射膜和引导轨迹(guide trace)。
因此，在图19所示的体型记录介质100的结构的状态中，在进行不形成标记的记录时，可能不执行聚焦伺服(focus servo)和循轨伺服(tracking servo)。
由于此原因，在实践中，体型记录介质100设有如图20所示的具有引导轨迹的基准反射面(基准面(reference face))。
具体而言，例如，通过在覆盖层101的下面侧形成凹坑(pit)或沟槽(groove)来形成螺旋状或同心圆状的引导轨迹(位置引导)，并且在其上形成选择性反射膜103。在覆盖层101的如上所述形成选择性反射膜103的下层侧，通过作为图中的中间层104的诸如UV固化树脂之类的粘合材料层压体层102。
通过如上所述利用凹坑或沟槽形成引导轨迹，记录了诸如半径位置信息和旋转角度信息之类的绝对位置信息(地址信息)。在以下描述中，其上形成这种引导轨迹并且记录绝对位置信息的面(在此情况下是选择性反射膜103的形成面)被称为“基准面Ref”。
在形成如上所述的介质结构之后，在体型记录介质100中，如图21中所示，与用于记录(或再现)标记的激光(以下称为记录再现激光，或简称为记录再现光)分开地，照射作为用于位置控制的激光的伺服激光(简称为伺服光)。
如图所示，经由共同的物镜，用记录再现激光和伺服激光来照射体型记录介质100。
在此情况下，如果伺服激光到达体层102，则对于体层102中的标记记录可能有不利影响。由于此原因，在现有技术的体记录方法中，具有与记录再现激光的波段不同的波段的激光被用作伺服激光，并且设置了具有如下波长选择性的选择性反射膜103作为形成在基准面Ref上的反射膜：该波长选择性使得伺服激光被反射，而记录再现激光则透过。
在上述假设下，将参考图21来描述对体型记录介质100进行标记记录时的操作。
首先，当对其上没有形成引导轨迹或反射膜的体层102执行多层记录时，预先确定在体层102中的深度方向上何处是用于记录标记的层位置。在图中，作为用于在体层102中形成标记的层位置(标记形成层位置：也称为信息记录层位置)，例示了设定第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5这总共五个信息记录层位置L的情况。如图所示，第一信息记录层位置L1被设定为与其上形成引导轨迹的选择性反射膜103(基准面Ref)在聚焦方向(深度方向)上相隔第一偏置of-L1的位置。第二信息记录层位置L2、第三信息记录层位置L3、第四信息记录层位置L4和第五信息记录层位置L5被设定为与基准面Ref分别相隔第二偏置of-L2、第三偏置of-L3、第四偏置of-L4和第五偏置of-L5的位置。
在不形成标记的记录期间，可能不会执行基于记录再现激光的反射光的对体层102中的每个层位置的聚焦伺服和循轨伺服。因此，记录期间对物镜的聚焦伺服控制和循轨伺服控制是基于伺服激光的反射光，以使得伺服激光的光斑位置相对于基准面Ref追随引导轨迹的方式来执行的。
然而，为了记录标记，记录再现激光必须到达比基准面Ref形成在更低侧的体层102。由于此原因，在此情况下的光学系统中，与物镜的聚焦机构分离地设有用于独立调整记录再现激光的聚焦位置的记录再现光聚焦机构。
包括用于独立调整记录再现激光的聚焦位置的机构的用于执行体型记录介质100的记录和再现的光学系统的概要在图22中示出。
在图22中，利用图中所示的2轴致动器，图21中也示出的物镜在体型记录介质100的半径方向(循轨方向)上以及靠近和退离体型记录介质100的方向(聚焦方向)上的位置是可改变的。
在图22中，用于独立调整记录再现激光的聚焦位置的机构对应于图中的聚焦机构(扩展器(expander))。具体而言，作为扩展器的聚焦机构包括固定透镜和被透镜驱动单元保持成在与记录再现激光的光轴平行的方向上的位置可改变的可移动透镜。透镜驱动单元驱动可移动透镜，改变入射到图中的物镜的记录再现激光的准直，从而独立于伺服激光地调整记录再现激光的聚焦位置。
如上所述，记录再现激光和伺服激光具有不同的波段。因此，在此情况下的光学系统中，记录再现激光和伺服激光的来自体型记录介质100的反射光被图中的分色棱镜分离到每个系统中(即，每个反射光检测可独立执行)。
考虑前向光，分色棱镜具有将记录再现激光和伺服激光合成到同一轴上并且将它们输入到物镜中的功能。具体而言，在此情况下，记录再现激光如图所示经由扩展器被镜子反射，然后被分色棱镜的选择性反射面反射，并被输入到物镜。
同时，伺服激光透过分色棱镜的选择性反射面，并且被输入到物镜。
图23是示出在体型记录介质100的再现时的伺服控制的示图。
当对已经被执行了标记记录的记录介质100执行再现时，不必像记录时那样基于伺服激光的反射光来控制物镜的位置。即，在再现时，物镜的聚焦伺服控制和循轨伺服控制可基于记录再现激光的反射光、对作为再现对象的信息记录层位置L(称为再现时的信息记录层L)处形成的标记列(mark row)执行。
在上述体记录方法中，用于标记记录和再现的记录再现激光和作为位置控制光的伺服光经由共同的物镜(合成在同一光轴上)照射体型记录介质100，然后，在记录时，物镜的聚焦伺服控制和循轨伺服控制以使得伺服激光追随基准面Ref的位置引导并且记录再现激光的聚焦位置被记录再现聚焦机构分开调整的方式来执行。因此，即使当在体层102中未形成位置引导时，也可以在体层102中的必要位置处(深度方向和循轨方向)执行标记记录。
在再现时，基于记录再现激光的反射光对物镜的聚焦伺服控制和循轨伺服控制是以使得记录再现激光的聚焦位置追随已经记录的标记列的方式来执行的，从而可以执行对体层102中记录的标记的再现。
当采用上述体记录方法时，由于所谓的偏斜(skew)(倾斜(tilt))的发生或者由盘偏心(disc eccentricity)导致的物镜的透镜偏移(lensshift)的发生，在记录再现激光与伺服激光之间发生记录面内方向上的光斑位置偏离(spot position deviation)。
图24A和图24B示意性地示出了由偏斜的发生所导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离。
在图24A所示的无偏斜状态中，伺服激光和记录再现激光的光斑位置在记录面内方向上是一致的。相反，如图24B所示，随着偏斜的发生，在伺服激光与记录再现激光之间发生光轴上的差异，并且图中所示的光斑位置偏离Δx发生。
图25A和图25B示意性地示出了由透镜偏移导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离。
在图25A所示的无透镜偏移的状态中，物镜处于基准位置处，并且物镜的中心和入射到物镜的每个激光的光轴c是相互一致的。光学系统被设计成使得，在如上所述物镜处于基准位置的状态中，每个激光在记录面内方向上的光斑位置是一致的。
相反，当物镜当如图25B所示由于循轨伺服控制而从基准位置偏移以追随盘偏心(在此情况下向纸面上的左方偏移)时，图中所示的光斑位置偏离Δx发生。
由透镜偏移导致的光斑位置偏离是由于伺服激光和记录再现激光相对于物镜的入射形态的差异导致的。具体而言，这是因为伺服激光按照基本平行的光入射到物镜，而记录再现激光按照非平行光入射。
随着由偏斜或透镜偏移导致的伺服激光和记录再现激光的光斑位置偏离的发生，体层102中的信息记录位置上的差异发生。即，从以上描述可知，记录期间记录再现激光的光斑位置是通过执行基于伺服激光的反射光对物镜的循轨伺服控制来控制的，从而记录可能由于上述的光斑位置偏离而不在体层102中的期望位置处执行。
根据偏斜偏心或轨道间距(形成位置引导的间隔)的设定，信息记录位置在相邻轨道之间可能是重叠的。具体而言，盘偏心或偏斜是由盘被箝夹到主轴电机的方式引起的并且在每次盘被装载时可能以不同的方式发生。因此，例如，如果对盘执行基于盘偏移的重写，则在先前记录时发生的偏斜偏心的形态和在重写时发生的偏斜偏心的形态是不同的。结果，存在这样的问题，即已记录部分的标记列和重写部分的标记列之间发生重叠，或者根据情况相互交叉。
如上所述，难以对再现信号进行正确的再现。
作为用于防止标记列的重叠或交叉的发生的一种方法，在基准面Ref上可将轨道间距设定得较宽。
然而，当基准面Ref的轨道间距被加宽时，显然，体层102的记录容量减小了。
现有技术的示例在日本未实审专利申请公布No.2009-9635、2009-140568和2009-163811中公开。
作为在防止发生上述的由偏斜或透镜偏移导致的记录标记列的重叠或交叉的同时防止体层102的记录容量的减小的一种方法，有一种所谓的自循轨(self-tracking)方法。
自循轨是一种用于防止在未形成有位置引导的记录层上的记录标记列的重叠或交叉的技术，其中，副束(side beam)与负责记录的光束一起被生成并照射在内周侧的某个位置处，并且在第一周记录之后，对已记录的标记列，利用该副束开始循轨伺服以继续记录，使得对于以后周的已完成记录的标记列，标记的标记形成间隔被保持在记录束光斑和副光斑之间的间隔，从而防止标记列的重叠或交叉的发生。
图26A和图26B是示出当这种自循轨方法被应用到体记录时的具体记录操作的示图。
在该图中，基于带图案的圆的光斑S-sv&S-rpM表示伺服激光的光斑S-sv和记录再现激光的主束光斑(记录束光斑)S-rpM。如上所述，由于伺服激光和记录再现激光是以其光轴一致的方式照射的，所以可以表明光斑S-sv和光斑S-rpM在与记录面内方向平行的方向上相互重叠(当不发生偏斜或透镜偏移时)。
由白圆示出光斑S-rpS相对于记录再现激光成为利用例如光栅等等生成的副束光斑。
图中的虚线表示在基准面Ref上形成的轨道(引导轨迹)。
图26A示意性地示出了当执行第一周记录时的形态。
在第一周记录中，在对基准面Ref上形成的轨道执行伺服激光的循轨伺服的同时，执行基于主束光斑S-rpM的标记列的记录。
在图中，基准面Ref上的轨道(虚线)和实际记录的标记列(实线)不一致。这是因为其表明发生了由偏斜或透镜偏移导致的光斑位置偏离。
当如上所述执行了一周轨道的记录时，如图26B所示，在第一周完成位置附近，副束光斑S-rpS位于已记录的标记列(第一周开始位置的标记列)附近。
当盘上的半径位置或旋转角度位置相等时，弯曲状态或盘偏心的发生量相等。因此，从这点来看，在第一周的记录完成时，副束光斑S-rpS如上所述位于第一周的已记录标记列附近。
在第一周的记录完成附近，用副束光斑S-rpS对已完成第一周记录的标记列引入循轨伺服，从而物镜的循轨伺服从基于一般伺服激光的束光斑S-sv的循轨伺服切换到使用副束光斑S-rpS的循轨伺服。
因此，第二周或以后周的标记列形成在相对于形成于其内周侧的已记录标记列远离开一距离的位置处，该距离是主束光斑S-rpM与副束光斑S-rpS之间的距离，以防止标记列的重叠或交叉的发生。
当使用如上所述的自循轨方法时，以下这一点是重要的，即，当第一周记录完成时信息记录层的位置的偏离量在第一周和第二周中是基本相同的。
如上所述，当盘上的半径位置或旋转角度基本相同时，弯曲状态或盘偏心的发生是基本相等的。因此，一般来说，难以认为在第一周记录完成时第一周和第二周的信息记录位置的差异变得更大。
然而，在实践中，伺服激光和记录再现激光之间的位置差异不仅随着盘的偏心或弯曲状态发生，而且还由于滑动整个光学拾取器(opticalpickup)的滑动机构的劣化的发生或者扰动的发生而发生。
当在第一周的记录完成时间点附近，发生由滑动机构的劣化或扰动而导致的光斑位置的相对较大的差异时，第二周的记录标记列如图27A所示可能相对于第一周的记录完成时已记录的标记列朝着外周侧大大偏离，或者相反，如图27B所示，可能发生与已记录的标记列的重叠。
在图27A和图27B的任一种情况下，很难在第一周的记录完成的附近，用副束光斑S-rpS引入对第一周的已记录标记列的循轨伺服。结果，难以切换到基于自循轨的记录。
发明内容
希望当对包括具有形成了位置引导的反射膜的基准面和形成在与基准面深度不同的位置处并通过根据光照射形成标记来执行信息记录的记录层的光盘记录介质，通过经由共同的物镜照射用于标记记录的第一光束和用于根据位置引导执行伺服控制的第二光束来执行记录时，即使在发生由滑动机构的劣化或扰动导致的光斑位置偏离时，也能够通过在记录层中适当地执行基于自循轨的记录，来既防止标记列的重叠或交叉的发生，也防止记录容量的减少。
根据本公开的一个实施例，一种记录装置被如下配置。
实施例的记录装置对光盘记录介质执行记录，该光盘记录介质包括基准面和记录层，该基准面具有带位置引导的反射膜，该记录层设在与该基准面不同深度的位置处并且通过根据光照射的标记形成来执行信息记录。
该记录装置包括光生成和照射单元，该单元生成用于对记录层执行信息记录的第一光束、用于执行基于在基准面上形成的位置引导的位置控制的第二光束、以及第三光束，并且设有物镜，第一光束、第二光束和第三光束入射到该物镜。在该情况下，当就光盘记录介质的半径方向而言，记录的进展方向是记录方向时，第三光束的照射光斑相对于第一光束和第二光束的照射光斑位置位于与记录方向相反方向一侧。第一光束、第二光束和第三光束的照射方式使得第一光束和第三光束聚焦在记录层上，而第二光束聚焦在基准面上。
记录装置包括记录单元，该单元对第一光束执行发光驱动控制以对记录层执行标记记录。
记录装置包括循轨机构，该循轨机构在循轨方向上驱动物镜，循轨方向是与光盘记录介质的半径方向平行的方向。
记录装置包括第一循轨误差信号生成单元，该单元基于接收第二光束的来自基准面的反射光的结果来生成第一循轨误差信号。
记录装置包括第二循轨误差信号生成单元，该单元基于接收第三光束的来自记录层的反射光的结果来生成第二循轨误差信号。
记录装置包括循轨伺服控制单元，该单元通过基于第一循轨误差信号或第二循轨误差信号驱动循轨机构来对物镜执行循轨伺服控制。
记录装置包括控制单元，该控制单元控制记录单元以在循轨伺服控制单元执行基于第一循轨误差信号的循轨伺服控制的状态中开始标记记录并开始对基于第一循轨误差信号的循轨伺服环应用用于使第二光束的照射光斑位置在记录方向上逐渐偏移的正方向偏置，在盘的一周的标记记录的完成位置附近的定时开始应用用于使第二光束的照射光斑在与记录方向相反方向上逐渐偏移的反方向偏置，在应用反方向偏置的情况下监视第二循轨误差信号，并且对于第二循轨误差信号，根据检测到根据第三光束的照射光斑位于已完成第一周记录的标记列附近而表示的改变点来控制循轨伺服控制单元执行的循轨伺服控制切换到基于第二循轨误差信号的循轨伺服控制。
在如上所述的实施例中，在对记录层的最初一周的标记记录时，应用正方向偏置以使第二光束的照射光斑(进一步而言是物镜)在记录方向上偏移，从而在记录方向上避开第一周的标记记录完成位置。因此，即使在第一周的记录完成附近由于滑动机构的劣化或扰动而发生相对较大的光斑位置偏离，也可以防止第一周和第二周的标记列的重叠或交叉的发生。
在避开之后，应用反方向偏置以使第二光束的照射光斑(物镜)在与记录方向相反的方向上偏移。当照射光斑如上所述在与记录方向相反的方向上偏移时，第三光束的照射光斑位于已完成第一周记录的标记列附近，从而在第二循轨误差信号上观察到改变点。在实施例中，根据检测到第二循轨误差信号的改变点，将物镜的循轨伺服控制切换到基于第三循轨误差信号的循轨伺服控制。
因此，标记记录是在对已完成基于第三光的记录的标记列执行循轨伺服的情况下执行的。即，其是在所谓的自循轨下执行的。通过执行基于自循轨的记录，防止了此后标记列的重叠或交叉的发生。此外，由于是自循轨，所以防止了记录层中的记录容量的减小。
根据如上所述的本公开，在包括具有带位置引导的反射膜的基准面和形成在与基准面不同深度的位置处并通过根据光照射的标记形成执行信息记录的记录层的光盘记录介质中，当经由共同的物镜照射用于标记记录的第一光束和用于根据位置引导执行伺服控制的第二光束以执行记录时，即使在发生由滑动机构的劣化或扰动导致的光斑位置差异时，也可以在记录层中适当地执行基于自循轨的记录。
当能够如上所述执行基于自循轨的标记记录时，可以防止记录层上的标记的重叠或交叉的发生。根据自循轨，可以填满记录层上的标记列的形成间距，从而可以防止在记录层中记录容量减小。
结果，根据本公开，既可以防止标记列的重叠或交叉的发生，又可以防止记录层中的记录容量减小。
附图说明
图1是根据实施例作为记录和再现对象的光盘记录介质的截面结构视图。
图2是主要示出实施例的记录装置的光学系统的配置的示图。
图3是示出记录再现光接收单元的内部配置的示图。
图4是示出实施例的光盘记录介质的基准面的部分放大表面的平面图。
图5是示出整个基准面上的凹坑的形成形态的示图。
图6A、图6B和图6C是示出地址信息格式的示图。
图7是示意性地示出由于记录介质的旋转引起的基准面上的伺服激光的光斑的移动以及在此时可获得的加和信号、加和差分信号和PP(推-拉)信号的波形的关系的示图。
图8是示出当生成时钟时基于加和差分信号和加和信号生成的定时信号的示图。
图9是示意性地示出根据定时信号生成的时钟、基于时钟生成的每个选择器信号的波形以及在基准面上形成的凹坑列(pit row)(的一部分)的关系的示图。
图10是示出实施例的整个记录装置的内部配置的框图。
图11是示出选择器信号生成和选择单元的内部配置的示图。
图12是示出时钟生成单元的内部配置的示图。
图13是示出作为实施例的记录方法的示图。
图14是示出用于使伺服对象位置向外周侧或内周侧偏移的方法的示图。
图15A和图15B是示出切换到(引入)基于副束的循轨伺服的示图。
图16是示出通过作为实施例的记录方法记录的标记列的轨迹的示图。
图17是示出为实现作为实施例的记录方法要执行的具体处理序列的流程图。
图18是多层记录介质的截面结构示图。
图19是示出体记录方法的示图。
图20是示出设有基准面的实际体型记录介质的截面结构示例的示图。
图21是示出在向体型记录介质进行标记记录时的操作的示图。
图22是示出用于执行体型记录介质的记录和再现的光学系统的概要的示图。
图23是示出在对体型记录介质的再现时的伺服控制的示图。
图24A和图24B是示意性地示出由偏斜导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离的示图。
图25A和图25B是示意性地示出由透镜偏移导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离的示图。
图26A和图26B是示出当自循轨方法被应用到体记录时的具体记录操作的示图。
图27A和图27B是示出当自循轨方法被应用到体记录时发生的问题的示图。
具体实施方式
下面，将描述用于实现本公开的优选实施例(以下称为实施例)。
该描述将按以下顺序执行。
1.记录介质和光学系统
1-1.实施例中作为记录和再现对象的光盘记录介质的截面结构
1-2.光学系统的配置
2.可变轨道间距格式
2-1.基准面的结构
2-2.地址信息
2-3.循轨伺服的具体方法
3.记录装置的整体内部配置
4.实施例的记录方法
5.处理序列
6.修改例
1.记录介质和光学系统
1-1.实施例中作为记录和再现对象的光盘记录介质的截面结构
图1示出了根据实施例作为记录和再现对象的光盘记录介质的截面结构示图。
根据实施例作为记录和再现对象的光盘记录介质是所谓的体记录型光记录介质，并且以下被称为体型记录介质1。
体型记录介质1是盘状光记录介质，并且标记记录(信息记录)是通过对被驱动旋转的体型记录介质1照射激光来执行的。记录信息的再现也是通过对被驱动旋转的体型记录介质1照射激光来执行的。
光记录介质是通过光的照射来记录和再现信息的记录介质的总称。
如图1所示，体型记录介质1按照从上层侧起的顺序设有覆盖层2、选择性反射膜3、中间层4和体层5。
在本说明书中，“上层侧”指的是：在来自作为下文中将描述的实施例的记录装置(下文中将描述的记录和再现装置10)那侧的激光的入射面是上面时的上层侧。
在本说明书中，使用了“深度方向”，深度方向指的是与基于“上层侧”的定义的上下方向一致的方向(即与来自记录装置侧的激光的入射方向平行的方向：聚焦方向)。
在体型记录介质1中，覆盖层2由诸如聚碳酸酯或压克力之类的树脂形成，并且作为用于引导记录和再现位置的位置引导的、下文中将描述的凹坑列如图所示形成在其下侧，从而形成凹凸的截面形态。覆盖层2是通过使用设有凹坑列的压模进行注压成型来生成的。
作为实施例的体型记录介质1中的凹坑列的具体形成形态将在下文中描述。
选择性反射膜3形成在设有凹坑列的覆盖层2的下面侧。
在如上所述的体记录方法中，用于基于诸如凹坑列之类的位置引导获得循轨或聚焦的误差信号的光(伺服激光)与用于对作为记录层的体层5执行标记记录和再现的光(记录再现激光)是分开照射的。
在此情况下，如果伺服激光到达体层5，则对于体层5中的标记记录可能有不利影响。由于此原因，具有反射伺服激光并使记录再现激光透过的选择性的反射膜是必要的。
在现有技术中，作为体记录方法，具有不同波段的激光被用于记录再现激光和伺服激光，从而具有反射与伺服激光相同波段的光并且使其他波长的光透过的波长选择性的选择性反射膜被用作选择性反射膜3。
作为记录层的体层5通过由诸如UV固化树脂之类的粘合材料形成的中间层4被层压(粘合)到选择性反射膜3的下层侧上。
作为体层5的形成材料(记录材料)，根据所采用的体记录方法，例如上述的正型微全息图方法、负型微全息图方法和空穴记录方法，可以采用适当的最佳材料。
对于作为本公开的对象的光盘记录介质上的标记记录方法没有特别限制，可以采用体记录方法范围内的任意方法。作为以下描述的示例，将例示采用空穴记录方法的情况。
在具有如上所述的截面结构的体型记录介质1中，设有位置引导的选择性反射膜3可以是一反射面，它在执行下文中将描述的基于伺服激光对记录再现激光的位置控制时作为基准。在这个意义上，以下将设有选择性反射膜3的面称为基准面Ref。
如在图21中所述，在体型光记录介质中，用于预先执行信息记录的每个层位置(信息记录层位置L)被设定来在体层中执行多层记录。在体型记录介质1中，在信息记录层位置L中，与图21的情况一样设定了第一信息记录层位置L1、第二信息记录层位置L2、第三信息记录层位置L3、第四信息记录层位置L4和第五信息记录层位置L5，它们与基准面Ref在深度方向上相隔第一偏置of-L1、第二偏置of-L2、第三偏置of-L3、第四偏置of-L4和第五偏置of-L5。
每个层位置激光相对于基准面Ref的偏置of-L的信息是由下文中将描述的记录和再现装置10的控制器40设定的。
在体层5中，每个信息记录层位置L中的信息的记录方向可以是相同或不同的。即，记录方向可以每当经过一层时就交替改变，这被用作所谓的相反轨道通过，并且每层中的记录方向可以都在相同的方向上，就像平行轨道通过(parallel track pass)那样。
以下，为了便于描述，假定平行轨道通过被用作记录方向。
具体而言，在每个层位置L中，记录方向可以是相同的，例如从内周到外周。
在这里，“记录方向”是在盘半径方向上记录的进展方向。
1-2.光学系统的配置
图2是用于主要说明作为对具有如图1所示的截面结构的体型记录介质1执行记录和再现的实施例的记录装置(称为记录和再现装置10)的光学系统的示图。具体而言，示出了实施例的记录和再现装置10的光学拾取器OP的内部配置。
在图2中，加载在记录和再现装置10上的体型记录介质1被设为其中央孔箝夹在记录和再现装置10中的预定位置处，并且被主轴电机(未示出)保持为可旋转的状态。
光学拾取器OP被提供来利用记录再现激光、伺服激光以及实现下文中将描述的自循轨所必需的副束照射被主轴电机旋转的体型记录介质1。
光学拾取器OP中设有记录再现激光器11和伺服激光器24，其中记录再现激光器11是用于执行基于标记的信息记录和对用标记记录的信息的再现的激光的光源，伺服激光器24是用于利用在基准面Ref上形成的位置引导执行位置控制的伺服激光的光源。
这里，如上所述，记录再现激光和伺服激光具有不同的波长。在此示例的情况下，记录再现激光的波长大约为405nm(所谓的蓝紫激光)，伺服激光的波长大约为650nm(红激光)。
光学拾取器OP中设有物镜20，其是向体型记录介质1输出记录再现激光和伺服激光的输出端。
设有用于接收记录再现激光的来自体型记录介质1的反射光的记录再现光接收单元23和用于接收伺服激光的来自体型记录介质1的反射光的伺服光接收单元29。
光学拾取器OP中设有一光学系统，用于把从记录再现激光器11输出的记录再现激光导引至物镜20，并且把从体型记录介质1输入到物镜20的记录再现激光的反射光导引至记录再现光接收单元23。
首先，从记录再现激光器11输出的记录再现激光经过光栅GR，通过衍射被分割成多个束。
光栅GR的0阶光成分被称为主束，而±1阶光成分被称为副束。在副束中，以体型记录介质1的主束的照射位置为基准，照射在内周侧的副束是内周副束，照射在外周侧的副束是外周副束。
经过光栅GR的记录再现激光经由准直透镜12成为了平行光，然后被输入到偏振分束器13。偏振分束器13允许如上所述从记录再现激光器11侧输入的记录再现激光透过。
透过偏振分束器13的记录再现激光被输入到由固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动单元16形成的扩展器。扩展器的接近作为光源的记录再现激光器11的一侧被认为是固定透镜14，可移动透镜15被设在远离记录再现激光器11的一侧，并且可移动透镜15被透镜驱动单元16在与记录再现激光的光轴平行的方向上驱动，以对记录再现激光执行独立的聚焦控制。扩展器对应于以上所述的记录再现光聚焦机构(参见图22)。
如下文中将描述的，记录再现聚焦机构中的透镜驱动单元16是由图10中所示的控制器40根据与作为对象的信息记录层位置L相对应地设定的偏置of-L的值来驱动的。
经过构成记录再现聚焦机构的固定透镜14和可移动透镜15的记录再现激光如图所示被镜子17反射，然后经由1/4波长板18被输入到分色棱镜19。
在分色棱镜19中，选择性反射面反射与记录再现激光在相同波段中的光并且允许具有其他波长的光透过。因此，如上所述输入的记录再现激光从分色棱镜19反射。
从分色棱镜19反射的记录再现激光如图所示经由物镜20被照射到体型记录介质1。
物镜20设有2轴致动器21，其将物镜20保持为在聚焦方向(靠近和退离体型记录介质1的方向)和循轨方向(与聚焦方向垂直的方向：体型记录介质1的半径方向)上可改变位置。
2轴致动器21设有聚焦线圈和循轨线圈，它们分别被提供以驱动信号(下文中将描述的驱动信号FD和TD)，从而在聚焦方向和循轨方向上改变物镜20的位置。
在再现时，如上所述利用记录再现激光照射体型记录介质1，从而可从体型记录介质1(体层5中作为再现对象的信息记录层位置L中记录的标记列)获得记录再现激光的反射光。如上所述可获得的记录再现激光的反射光经由物镜20被导引至分色棱镜19，并且从分色棱镜19反射。
从分色棱镜19反射的记录再现激光的反射光经过1/4波长板18、镜子17和记录再现聚焦机构(从可移动透镜15到固定透镜14)，然后被输入到偏振分束器13。
如上所述输入到偏振分束器13的记录再现激光的反射光(后向光)的偏振方向由于1/4波长板18的作用和体型记录介质1中的反射期间的作用，相对于从记录再现激光器11侧输入到偏振分束器13的记录再现激光(前向光)改变了90°。结果，如上所述输入的记录再现激光的反射光从偏振分束器13反射。
如上所述从偏振分束器13反射的记录再现激光的反射光经由聚光透镜22被聚集在记录再现光接收单元23的光接收面上。
图3示出了图2所示的记录再现光接收单元23的内部配置。
如图3所示，记录再现光接收单元23设有主束检测器23M和副束检测器23S。
主束检测器23M设在能够接收主束的反射光的位置处。在此示例中，在内周副束与外周副束之间，副束检测器23S设在能够接收内周副束的位置处。
在此示例中，主束检测器23M和副束检测器23S都是4分割检测器。如图所示，主束检测器23M的四个光接收元件由光接收元件AM、BM、CM和DM表示，而副束检测器23S的光接收元件由光接收元件AS、BS、CS和DS表示。
以下，可由主束检测器23M的光接收元件AM、BM、CM和DM获得的光接收信号的总称是光接收信号DT-rpM。如上所述，可由副束检测器23S的光接收元件AS、BS、CS和DS获得的光接收信号的总称是光接收信号DT-rpS。
描述返回图2。
光学拾取器OP中设有用于把从伺服激光器24输出的伺服激光导引至物镜20并且把从体型记录介质1输入到物镜20的伺服激光的反射光导引至伺服光接收单元29的光学系统。
如图所示，从伺服激光器24输出的伺服激光经由准直透镜26成为平行光，然后被输入到偏振分束器26。偏振分束器26允许如上所述从伺服激光器24侧输入的伺服激光(前向光)透过。
透过偏振分束器26的伺服激光经由1/4波长板27被输入到分色棱镜19。
如上所述，由于分色棱镜19反射与记录再现激光在相同波段中的光并且允许具有其他波长的光透过，所以伺服激光透过分色棱镜19并经由物镜20被照射到体型记录介质1。
通过如上所述将伺服激光照射到体型记录介质1可获得的伺服激光的反射光(来自基准面Ref的反射光)经由物镜20透过分色棱镜19，并且经由1/4波长板27被输入到偏振分束器26。
与记录再现激光的情况一样，由于1/4波长板27的作用和体型记录介质1中的反射时的作用，如上所述从体型记录介质1侧输入的伺服激光的反射光(后向光)的偏振方向相对于前向光有90°的不同，从而作为后向光的伺服激光的反射光从偏振分束器26反射。
从偏振分束器26反射的伺服激光的反射光经由聚光透镜28被聚集在伺服光接收单元29的光接收面上。
虽然在图中没有示出，但在实践中，记录和再现装置10设有滑动驱动单元，其驱动上述光学拾取器OP整体在循轨方向上滑动，并且激光的照射位置可通过驱动由该滑动驱动单元驱动的光学拾取器OP来大幅改变。
2.可变轨道间距格式
2-1.基准面的结构
在作为下文中将描述的实施例的记录方法中，执行了使基于记录再现激光的记录位置向着外周侧(记录方向侧)或内周侧(记录方向的相反方向侧)逐渐偏移的操作。
使记录位置逐渐偏移的操作可通过如下方式来实现：在根据基于伺服激光的基准面Ref的位置引导对物镜20的循轨伺服控制下，在伺服环中给出随着时间的流逝增大和减小其值的偏置。
然而，当采用单纯向伺服环应用偏置的方法时，存在这样的问题，即当偏置的量超过轨道间距的1/2时，循轨伺服偏离。当循轨伺服偏离时，难以准确地控制记录位置，并且难以准确地控制记录位置的偏置的量。
考虑到这种问题，在此示例中，利用以下描述的结构作为体型记录介质1的基准面Ref的结构，可以稳定地执行超过轨道间距的1/2的偏置的应用。
图4是部分放大体型记录介质1中的基准面Ref(选择性反射膜3)的表面的平面图。
在图4中，纸面上从左到右的方向是凹坑列的形成方向，即轨道的形成方向。在此情况下，由于体型记录介质1的旋转，伺服激光的光斑在纸面上从左到右移动。
与凹坑列的形成方向垂直的方向(纸面的纵向)是体型记录介质1的半径方向。
在图4中，图中的白圆表示的A至Fs表示凹坑可形成位置。即，在基准面Ref中，凹坑仅形成在凹坑可形成位置处，并且凹坑不形成在除凹坑可形成位置以外的位置处。
图中的A至F的符号的分类表示凹坑列的分类(在半径方向上布置的凹坑列的分类)，而符号A至F所附的数字表示凹坑列上的凹坑可形成位置的分类。
图中的黑粗线表示的间隔表示在现有技术的体型记录介质1中可实现的最小轨道间距(不超过光学极限的轨道间距：称为现有技术中的极限轨道间距)。由此可知，在此示例的体型记录介质1中，在半径方向上，在现有技术的极限1轨道宽度内，布置了总共6个凹坑列A至F。
然而，当单纯在现有技术的极限1轨道宽度内布置多个凹坑列时，凹坑的形成位置可能在凹坑列形成方向上重叠，从而在凹坑列形成方向上凹坑的间隔可能超过光学极限。
在此示例中，确定以下条件，以使得在现有技术的极限1轨道宽度内布置的凹坑列A至F之间在凹坑列形成方向上的间隔不超过光学极限：
1)在凹坑列A至F中，将凹坑可形成位置的间隔限制于预定的第一间隔；以及
2)其凹坑可形成位置的间隔如上所述受到限制的凹坑列A至F被布置成使得凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上偏离预定的第二间隔(即，凹坑列的相位偏移第二间隔)。
这里，在半径方向上布置的凹坑列A至F中的凹坑可形成位置的凹坑列形成方向上的间隔(第二间隔)是n。在此情况下，凹坑列A至F全都被布置成满足条件2)，凹坑列A-B、凹坑列B-C、凹坑列C-D、凹坑列D-E、凹坑列E-F和凹坑列F-A的凹坑可形成位置的间隔如图所示是n。
凹坑列A至F中的凹坑可形成位置的间隔(第一间隔)是6n，因为在此情况下实现了A至F这总共6个凹坑列相位。
在实施例中，基准面Ref上基于伺服激光的信息再现是在波长λ＝650并且数值孔径NA＝0.65的条件下执行的，这与DVD(数字多功能盘)的情况相同。相反，在此示例中，凹坑可形成位置的区间长度与DVD中的最短标记一样是3T的区间长度，并且凹坑列形成方向上A至F的凹坑可形成位置的边缘之间的间隔被设定成同样的3T的长度。换言之，是n＝6T。
结果，满足了条件1)和2)。
这里，为了理解整个基准面Ref中的凹坑形成形态，将参考图5来描述更具体的凹坑列形成方法。
在图5中，考虑如图所示的情况，例示了凹坑列的种类(相位)只有三种A至C的情况。
在图中，黑圆表示凹坑可形成位置。
参考图5可见，在体型记录介质1的基准面Ref上，具有不同相位的多种凹坑列(在图5中是三种A至C，但实际上有六种A至F)是一个集合，并且多种凹坑列的一个集合被形成为螺旋形状。
多种凹坑列中的一个必要凹坑列上的循轨伺服继续，并且光斑位置描绘出螺旋状轨迹。
在基准面Ref上，凹坑是通过CAV(恒定角速度)方向形成的。由此，如图所示，多种凹坑列中的每一种可在半径方向上对齐在凹坑形成位置(凹坑可形成位置)相同的角度位置处。
如上所述以CAV方向在基准面Ref上记录凹坑的原因是因为，无论盘上的区域如何，都将保持如图4所示的凹坑列A至F的相位关系。
2-2.地址信息
然后，将参考图6A、图6B和图6C来描述在基准面Ref上记录的地址信息的格式的示例。
首先，图6A示意性地示出了具有不同的凹坑列相位的凹坑列(A至F)的凹坑可形成位置的关系。图6A用“*”标记示出了凹坑可形成位置。
如下文中将描述的，在实施例的记录和再现装置10中，从凹坑列A至F中选择一个凹坑列，并且对作为对象的一个所选凹坑列执行循轨伺服。
然而，此情况中的一个问题是，凹坑列A至F在半径方向上是以超过现有技术的光学极限的间隔布置的。即，在此情况下，由于在轨道上移动(扫描)束光斑可获得的循轨误差信号是A至F的凹坑所都适用的信号，从而即使在基于该循轨误差信号执行循轨伺服时，也难以跟踪一个所选凹坑列。
由于此原因，如上所述，实施例的记录和再现装置10提取在所选凹坑列的凹坑可形成位置的区间中的循轨误差信号，并且基于所提取的循轨误差信号(即间断地)执行循轨伺服。
以相同的方式，当记录地址信息时，提取所选凹坑列的凹坑可形成位置的区间的加和信号(下文中将描述的加和信号)，从而选择性地仅读取所选凹坑列中记录的信息，并且采取了基于所提取的加和信号来检测地址信息的方法。
为了应对这种检测信息的方法，在实施例中，采用了根据在凹坑可形成位置处是否形成凹坑来表示通道数据的“0”和“1”的格式。即，一个凹坑可形成位置负责一个通道比特的信息。
在实施例中，数据比特的1比特由基于多个通道比特的“0”和“1”的数据模式来表示。
具体而言，在此示例中，如图6B所示，每4个通道比特表示数据比特“0”和“1”，例如，4个通道比特的模式“1011”表示数据比特“0”，并且4个通道比特的模式“1101”表示数据比特“1”。
在此情况下，重要的一点是，通道比特“0”是不连续的。即，通道比特“0”的连续意味着，当如上所述利用循轨误差信号间断地执行伺服时，难以获得误差信号的时段是连续的。因此，很难确保循轨伺服的精度。
由于此原因，在实施例中，例如，通过如上所述地定义数据比特，来满足通道比特“0”不连续的条件。即，通过如上所述地定义数据比特，将循轨伺服的精度降低抑制到最低限度。
图6C示出了sync模式(同步模式)的示例。
例如，在sync模式中，如图所示，该模式由12个通道比特表示，前8个比特是不与数据比特的定义匹配的通道比特模式“11111111”，并且sync的分类(种类)由后4个通道比特的模式表示。具体而言，当8个比特之后的4个通道比特的模式是“1011”时，sync模式是Sync1，而当该模式是“1101”时，sync模式是Sync2。
在实施例的体型记录介质1中，如上所述在sync之后记录地址信息。
作为地址信息，至少绝对位置信息(半径位置的信息，以及旋转角度位置的信息)被记录。
确认一下，在此示例中，多个凹坑列A至F被布置在现有技术的极限1轨道宽度内，但是地址信息的记录是如下执行的：为每个凹坑列分配单独的信息，使得该凹坑列的半径位置被单独表示(凹坑列可被识别)。即，不为在现有技术的极限1轨道宽度内布置的A至F的每个凹坑列记录相同的地址信息。
2-3.循轨伺服的具体方法
以下将详细描述对如上所述被形成为在现有技术的1轨道宽度内布置多个凹坑列的凹坑列群组之中的任意凹坑列执行循轨伺服的方法。
图7示意性地示出了由于体型记录介质1的旋转而引起的基准面Ref上的伺服激光的光斑的移动、此时可获得的加和信号、加和差分信号和推-拉信号PP(也称为PP信号)的波形之间的关系。
加和信号是作为图2所示的伺服光接收单元29的多个光接收元件可获得的光接收信号DT-sv的加和信号，并且加和差分信号是通过对该加和信号取差分可获得的信号。
在此图中，为了便于描述，假定凹坑形成在图中的所有凹坑可形成位置处。
如图所示，伺服激光的束光斑由于体型记录介质1的旋转而移动，从而加和信号的信号电平以与A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的布置间隔相对应的周形成峰。即，加和信号表明A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的间隔(形成周)。
在此图的示例中，由于伺服激光的光斑沿着凹坑列A在其上移动，所以当加和信号经过凹坑列形成方向上凹坑A的形成位置时，加和信号的峰值变为最大，而在凹坑B至凹坑D的各个形成位置中，该峰值趋向于逐渐减小。然后，该峰值按照凹坑E的形成位置到凹坑F的形成位置的顺序变成增大趋势，并且该峰值在再次到达凹坑A的形成位置时变得最大。即，由于与外周侧相邻的凹坑列E和F中的凹坑对于凹坑E和F在凹坑列形成方向上的形成位置有影响，所以加和信号的峰值按凹坑E和F的各形成位置的顺序增大。
作为通过对加和信号取差分而生成的加和差分信号和作为循轨误差信号的PP信号，可以获得如图所示的波形。
加和差分信号被用于根据下文中将描述的凹坑列A至F的凹坑形成位置(严格地说是凹坑可形成位置)在凹坑列形成方向上的间隔来生成时钟CLK。
图8是示出在生成时钟CLK时基于加和差分信号和加和信号生成的定时信号的示图。
在实施例中，如下信号被生成作为时钟CLK：在该信号中，与每个凹坑的中央位置(峰值)相对应的位置(定时)是上升位置(定时)。具体而言，生成通过按图7所示的预定阈值Th1切削加和信号而获得的信号以及类似地通过按预定阈值Th2切削加和差分信号而获得的信号，并且通过这两个信号的AND来生成具有与峰位置相对应的上升定时的定时信号。
图9示意性地示出从通过该序列生成的定时信号生成的时钟CLK和基于时钟CLK生成的选择器信号的波形，以及在基准面Ref上形成的凹坑列(的一部分)。
如图中所示，时钟CLK在与每个凹坑(凹坑可形成位置)的峰位置相对应的定时上升，并且上升位置之间的中间点成为了被认为是下降位置的信号。
时钟CLK是通过执行PLL(锁相环)处理来生成的，在该PLL处理中，如上所述生成的定时信号被认为是输入信号(基准信号)。
在实施例中，从如上所述具有与凹坑列A至F的形成间隔相对应的周的时钟CLK生成表示A至F的凹坑可形成位置中每一个的定时的6种选择器信号。具体而言，通过对时钟CLK进行1/6分频来生成选择器信号，并且将每个相位偏离1/6周。换言之，选择器信号是通过在每个定时将时钟CLK进行1/6分频以使上升定时偏离1/6来生成的。
选择器信号成为了分别表明相应的凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定时的信号。
在实施例中，在生成选择器信号之后，选择任意的选择器信号，并且根据所选的选择器信号表示的时段内的循轨误差信号执行循轨伺服控制，以跟踪凹坑列A至F中的任意凹坑列上的伺服激光的束光斑。即，以这种方式，可以跟踪A至F中的任意凹坑列上的伺服激光的束光斑位置。
由于可以对凹坑列A至F中的任意凹坑列进行循轨伺服控制，所以可以稳定地执行超过轨道间距(现有技术的极限轨道间距)的1/2的偏置的应用。
即，在此情况下，即使当向循轨伺服环应用偏置并且将束光斑的位置定位在例如相邻的凹坑列上时，循轨伺服也不会偏离。其原因是因为，相邻凹坑列的间隔小于现有技术的极限轨道间距的1/2。利用此属性，向伺服环应用偏置和把作为循轨伺服器的对象的凹坑列顺次切换到相邻凹坑列的操作被一起执行，从而伺服激光的光斑位置(还有记录再现激光的光斑位置)可被逐渐偏置，同时保持能够执行循轨伺服的状态。即使当光斑位置被偏置到某个程度时，也保持能够通过如上所述切换作为循轨伺服的对象的凹坑列来执行循轨伺服的状态。结果，能够稳定地执行超过现有技术的极限轨道间距的1/2的任意量的光斑位置偏移。
下文中将再次描述在顺次切换作为伺服对象的凹坑列的同时使光斑位置偏移的具体方法。
3.记录装置的整体内部配置
图10示出了记录和再现装置10的整体内部配置。
在图10中，通过仅提取图2所示的配置的记录再现激光器11、透镜驱动单元16和2轴致动器21来示出光学拾取器OP的内部配置。
在图10中，作为用于对体层5执行记录和再现或者在再现记录标记时执行物镜20的聚焦和循轨控制(即，基于记录再现激光的反射光的位置控制)的信号处理系统的配置，记录和再现装置10设有记录处理单元32、记录再现光矩阵电路33以及再现处理单元34。
要记录在体型记录介质1上的数据(记录数据)被输入到记录处理单元32。记录处理单元32向输入的记录数据添加纠错符号，或者执行预定的记录调制编码，以获得记录调制数据列，其是实际记录在体型记录介质1上的例如“0”和“1”的二值数据列。
记录处理单元32利用基于如上所述生成的记录调制数据列的记录脉冲RCP，对光学拾取器OP中的记录再现激光器11执行发光驱动。
记录再现光矩阵电路33设有与来自图3所示的记录再现光接收单元23中的主束检测器23M的光接收信号DT-rpM(输出电流)相对应的电流电压转换单元和矩阵运算和放大电路，并且通过矩阵运算处理生成必要的信号。
具体而言，生成与通过对记录调制数据列进行再现而获得的再现信号相对应的高频信号(以下称为再现信号RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-rpM和用于循轨伺服控制的循轨误差信号TE-rpM。
从对图23的描述可知，基于来自体层5中的标记列的反射光可获得的聚焦误差信号FE-rpM和循轨误差信号TE-rpM在再现时被使用。
在记录再现光矩阵电路33中生成的再现信号RF被提供给再现处理单元34。
聚焦误差信号FE-rpM和循轨误差信号TE-rpM被提供给记录再现光伺服电路35。
再现处理单元34对再现信号RF执行诸如二值化处理或记录调制符号的解码和纠错处理之类的用于恢复记录数据的再现处理，以获得对记录数据进行再现的再现数据。
记录再现光伺服电路35基于从记录再现光矩阵电路33提供来的聚焦误差信号FE-rpM和循轨误差信号TE-rpMs生成聚焦伺服信号FS-rpM和循轨伺服信号TS-rpM，并且基于聚焦伺服信号FS-rpM和循轨伺服信号TS-rpM生成用于驱动2轴致动器21的聚焦线圈和循轨线圈的聚焦驱动信号FD-rpM和循轨驱动信号TD-rpM。
如图所示，聚焦驱动信号FD-rpM被提供到选择器Sf，而循轨驱动信号TD-rpM被提供到选择器St。
记录和再现装置10设有伺服光矩阵电路36、地址检测电路37、伺服光伺服电路38、选择器信号生成和选择电路39、采样保持电路SH1、采样保持电路SH2、选择器S1、选择器S2、以及加法器41，作为用于伺服激光的反射光的信号处理系统。
伺服光矩阵电路36基于来自图2所示的伺服光接收单元29中的多个光接收元件的光接收信号DT-sv生成必要的信号。
具体而言，此情况下的伺服光矩阵电路36生成推-拉信号PP、加和信号和用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-sv。
如图所示，推-拉信号PP被提供到采样保持电路SH1和采样保持电路SH2。聚焦误差信号FE-sv被提供到伺服光伺服电路38。
加和信号被提供到地址检测电路37和选择器信号生成和选择电路39。
地址检测电路37通过输入由选择器S2在由选择器信号生成和选择电路39以下文中将描述的方式生成、选择和输出的两个选择器信号之间选择的一个选择器信号，基于在由该选择器信号表示的凹坑可形成位置的定时(在此情况下是在该选择器信号处于高电平的区间)对来自伺服光矩阵电路36的加和信号的值采样的结果，来检测在基准面Ref上记录的地址信息(至少包括半径位置信息或旋转角度位置信息的绝对位置信息)。
如参考图6A、图6B和图6C所述，在实施例的情况下，在每个凹坑列的地址信息中，记录了在该凹坑列的凹坑可形成位置处是否形成了凹坑，来作为一个通道比特的信息。地址检测电路37识别出在选择器信号的上升定时处加和信号的值，以识别出一个通道比特的“0”或“1”的数据，并且基于该结果根据参考图6A、图6B和图6C描述的格式来执行地址解码处理，以检测(再现)所记录的地址信息。
由地址检测电路37检测到的地址信息(即作为循轨伺服的对象的凹坑列的地址信息)被提供给控制器40。
选择器信号生成和选择电路39基于加和信号生成时钟CLK，基于时钟CLK生成选择器信号，并且选择性地输出所生成的选择器信号。
图11示出了选择器信号生成和选择电路39的内部配置。
如图所示，选择器信号生成和选择电路39设有时钟生成电路45、选择器信号生成电路46以及选择器信号选择电路47。
来自伺服光矩阵电路36的加和信号被输入到时钟生成电路45。时钟生成电路45根据上述序列生成时钟CLK。
时钟生成电路45的内部配置在图12中示出。
在图12中，时钟生成电路45中设有切削电路45A、加和差分电路45B、切削电路45C、与门电路45D以及PLL电路45E。
加和信号如图所示被输入到切削电路45A和加和差分电路45B。切削电路45A基于所设定的阈值Th1来切削加和信号，并且结果被输入到与门电路45D。
45B对加和信号取差分，以生成上述的加和差分信号。切削电路45C基于所设定的阈值Th2对由加和差分电路45B生成的加和差分信号进行切削，并且将结果输出到与门电路45D。
与门电路45D取来自切削电路45A的输出和来自切削电路45C的输出的AND，以生成上述的定时信号。
PLL电路45E利用如上所述可由与门电路45D获得的定时信号作为输入信号来执行PLL处理，以生成时钟CLK。
返回图11，由时钟生成电路45生成的时钟CLK被提供给选择器信号生成电路46。
选择器信号生成电路46基于时钟CLK生成表示凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定时的6种选择器信号。具体而言，选择器信号生成电路46生成相位偏移1/6的信号，作为通过对时钟CLK进行1/6分频而获得的信号，从而获得6种选择器信号。
6种选择器信号被提供给选择器信号选择电路47。
选择器信号选择电路47在6种输入的选择器信号之中选择性地输出从控制器40提供的选择信号SLCT所指示的相位的选择器信号以及在由该所指示的选择器信号表示凹坑可形成位置的凹坑列的外周侧或内周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
在此情况下，选择器信号选择电路47根据从控制器40提供来的切换信号SC，来改变是选择在外周侧相邻的凹坑列的选择器信号还是选择在内周侧相邻的凹坑列的选择器信号作为与选择信号SLCT所指示的选择器信号一起选择的选择器信号。
选择器信号选择电路47如上所述把在外周侧或内周侧相邻的凹坑列的选择器信号与选择信号SLCT所指示的选择器信号一起选择性的输出与在作为下文中将描述的实施例的记录方法中把作为循轨伺服对象的凹坑列顺次改变成在外周侧或内周侧相邻的凹坑列的执行有关。
描述返回图10。
在从选择器信号选择电路47输出的两个选择器信号之间，一个被提供给采样保持电路SH1，另一个被提供给给采样保持电路SH2。
采样保持电路SH1和采样保持电路SH2中的每一个设有A/D转换器，并且在输入的选择器信号的上升缘对从伺服光矩阵电路36提供来的推-拉信号PP进行采样-保持。
通过采样保持电路SH1和采样保持电路SH2对推-拉信号PP的采样-保持可获得的循轨误差信号分别由循轨误差信号TE1-sv和循轨误差信号TE2-sv表示。
循轨误差信号TE1-sv和循轨误差信号TE2-sv被提供给选择器S1。
选择器S1在循轨误差信号TE1-sv和循轨误差信号TE2-sv之间，选择性地输出控制器40所指示的那一方。
从选择器信号选择电路47输出的两个选择器信号是针对作为循轨伺服的对象的凹坑列的选择器信号和针对凹坑列之中在外周侧或内周侧相邻的凹坑列的选择器信号。即，由此可知，输入到选择器S1的两个循轨误差信号TE1-sv和TE2-sv是表明作为循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差的信号和表明该凹坑列的外周侧或内周侧相邻的凹坑列的循轨误差的信号。
选择器S1基于控制器40的指示，在两个循轨误差信号TE1-sv和TE2-sv之中，选择性地输出表明要被认为是循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差的那一方的信号。
下面，被选择器S1选择性输出的循轨误差信号，换言之，表明要被认为是循轨伺服对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号，由循轨误差信号TE-sv表示。
循轨误差信号TE-sv经由加法器41被提供给伺服光伺服电路38。
伺服光伺服电路38基于聚焦误差信号FE-sv和经过加法器41的循轨误差信号TE-sv，生成聚焦伺服信号FS-sv和循轨伺服信号TS-sv。
聚焦驱动信号FD-sv和循轨驱动信号TD-sv是基于聚焦伺服信号FS-sv和循轨伺服信号TS-sv来生成和输出的。
如图所示，聚焦驱动信号FD-sv被提供给上述的选择器Sf。循轨误差信号TE-sv被提供给选择器St。
伺服光伺服电路38根据在记录时来自控制器40的指示，通过向认为循轨伺服环为OFF的2轴致动器21的循轨线圈应用跳跃脉冲来执行轨道跳跃操作(凹坑列之间的跳跃操作)。
从上述的选择器信号生成和选择电路39(选择器信号选择电路47)输出的两个选择器信号如图所示也被输入到选择器S2。
选择器S2基于控制器40的指示在所提供的两个选择器信号之间选择一选择器信号，并且将该选择器信号输出到上述的地址检测电路37。
如上所述，从选择器信号选择电路47输出的两个选择器信号是针对被认为是循轨伺服对象的凹坑列的选择器信号和针对该凹坑列的外周侧或内周侧相邻的凹坑列的选择器信号。选择器S2基于来自控制器40的指示，对选择器信号进行选择以将用于作为循轨伺服对象的凹坑列的选择器信号提供给地址检测电路37。即，地址检测电路37检测被认为是循轨伺服的对象的凹坑列中记录的地址信息。
记录和再现装置10设有误差信号生成电路42和副束伺服电路43，作为用于上述的内周副束的反射光的信号处理系统。
误差信号生成电路42通过输入来自图3所示的副束检测器23S中的多个光接收元件(AS、BS、CS和DS)的光接收信号DT-rpS来生成循轨误差信号TE-rpS。
具体而言，此示例中的误差信号生成电路42生成基于DPD(差分相位检测)方法的循轨误差信号作为基于内周副束的反射光的循轨误差信号TE-rpS。即，当图3所示的副束检测器23S中的光接收元件AS和BS这一组和光接收元件CS和DS这一组分别是在与盘半径方向相对应的方向上相邻的组时，按TE-rpS＝Ph(ASi+CSi)-Ph(BSi+DSi)来计算循轨误差信号TE-rpS。然而，在该公式中，ASi、BSi、CSi和DSi表示光接收元件AS、BS、CS和DS的光接收信号，并且Ph表示信号相位。
在误差信号生成电路42中生成的循轨误差信号TE-rpS被提供给副束伺服电路43，并且被提供给控制器40。
副束伺服电路43基于循轨误差信号TE-rpS生成循轨伺服信号TS-rpSs，并且基于循轨伺服信号TS-rpS生成循轨驱动信号TD-rpS。
如图所示，循轨驱动信号TD-rpS被提供给选择器St。
控制器40由设有例如CPU(中央处理单元)和诸如ROM(只读存储器)和RAM(随机访问存储器)之类的存储器(存储装置)微计算机形成，并且基于例如ROM中存储的程序执行控制处理，以控制整个记录和再现装置10。
例如，控制器40基于如上所述的与每个层位置相对应地设定的偏置of-L的值，来执行对记录再现激光的聚焦位置的控制(设定)。具体而言，基于与作为记录对象的信息记录层位置L相对应地设定的偏置of-L的值来驱动光学拾取器OP中的透镜驱动单元16，以选择深度方向上的记录位置。
控制器40还执行用于实现如在图21至图23中所述的在记录和再现时对物镜20的伺服控制切换的控制。
具体而言，在记录时，控制器40控制选择器Sf选择来自伺服光伺服电路38的聚焦驱动信号FD-sv，并且控制选择器St选择来自伺服光伺服电路38的循轨驱动信号TD-sv，以使得聚焦驱动信号FD-sv和循轨驱动信号TD-sv被提供给2轴致动器21中的聚焦线圈和循轨线圈。即，在记录时，作为对物镜20的伺服控制，基于伺服激光的来自基准面Ref的反射光的伺服控制被执行。
在此示例中，在记录时，控制器40控制选择器St选择来自副束伺服电路43的循轨驱动信号TD-rpS，以执行基于内周副束的反射光进行物镜20的循轨伺服的控制，这将在下文中描述。
在再现时，控制器40控制选择器Sf选择来自记录再现光伺服电路35的聚焦驱动信号FD-rpM，并且控制选择器St选择来自记录再现光伺服电路35的循轨驱动信号TD-rpS，以使得聚焦驱动信号FD-rpM和循轨驱动信号TD-rpM被提供给2轴致动器21中的聚焦线圈和循轨线圈。即，对应于再现时，执行基于来自基于主束的记录已完成的标记列的反射光对物镜20的伺服控制。
控制器40还对伺服光伺服电路38执行搜寻操作控制。即，控制器40对伺服电路38执行指示以将伺服激光的光斑位置移动到基准面Ref上的预定目标地址，并且对选择器信号生成和选择电路39(选择器信号选择电路47)执行基于选择信号SLCT的选择器信号选择指示。
例如，此情况下的搜寻操作控制基本上是按以下序列执行的：
1)通过利用上述的滑动驱动单元移动整个光学拾取器OP来移动到目标地址附近；
2)伺服激光的聚焦伺服ON；
3)生成基于加和信号的时钟CLK并且生成选择器信号；
4)基于任意选择的选择器信号对任意凹坑列执行循轨伺服控制；以及
5)由于通过执行上述4)中的循轨伺服能够读取地址信息(用于识别凹坑列的信息)，因此执行从该地址到目标地址的凹坑列跳跃。
控制器40对伺服电路38执行执行指示，以执行1)和2)的操作。控制器40利用选择信号SLCT对选择器信号生成和选择电路39执行基于预定相位的选择器信号的选择指示，以在上述4)中选择任意的选择器信号。
控制器40根据基于上述4)的循轨伺服输入由地址检测电路37检测到的地址信息以执行5)的操作，基于该地址信息计算目标地址所需要的凹坑列的跳跃数目，并且按照该跳跃数目对伺服电路38执行指示以执行凹坑列跳跃操作。
控制器40执行向选择器信号生成和选择电路39提供选择信号SLCT和切换信号SC、对选择器S1进行切换控制、对选择器St进行切换控制、以及向加法器41应用偏置值，以实现作为实施例的记录方法，这将在下文中再次描述。
4.作为实施例的记录方法
在实施例的记录方法中，作为其目的，对体层5执行基于自循轨的记录，以防止标记列的重叠或交叉的发生，并且还防止记录层中的记录容量减小。
然而，如参考图26A至图27B所述，当自循轨方法被应用到体记录时，存在这样的问题，即，当由于滑动机构的劣化的发生或扰动的发生而在伺服激光的光斑位置与记录再现激光的光斑位置之间发生相对较大的差异时，不能从基于伺服激光的来自基准面Ref的反射光的循轨伺服切换到基于来自副束记录已完成的标记列的反射光的循轨伺服。
在实施例中，即使当如上所述由于滑动机构的劣化或扰乱而导致记录再现激光的光斑位置相对较大地偏离伺服激光的光斑位置时，也提出了以下方法，以适当地执行到自循轨的切换。
图13是示出作为实施例的记录方法的示图。
在图13中，图中的虚线示出当对在基准面Ref上形成的6种凹坑列A至F的任何一种凹坑列连续执行循轨伺服时描绘的轨迹。换言之，虚线在半径方向上的间距与现有技术的极限轨道间距相同。
实线示出当通过作为实施例的方法执行记录时记录标记列的轨迹。
在图13中，图中带图案的圆表示伺服激光的照射光斑S-sv和主束的照射光斑S-rpM(图中的S-sv和S-rpM)，而白圆表示内周副束的照射光斑S-rpS。
在图13中，考虑图中的情况，不发生由偏斜或透镜偏移导致的记录再现激光一方相对于伺服激光的光斑位置差异，并且光斑S-sv和光斑S-rpM在与记录面内方向平行的方向上重叠。
首先，作为图中的<1>，基于主束对体层5的记录在用伺服激光对基准面Ref上的任何凹坑列执行循轨伺服的状态中开始。
在用户伺服激光对基准面Ref的位置引导执行循轨伺服的状态中对体层5的记录的开始点与图26A和图26B中描述的方法相同。
在实施例中，在用伺服激光执行循轨伺服的状态中开始对体层5的记录之后，作为循轨伺服的对象的位置从原始位置逐渐向外周侧偏移，直到图中的<2>，其中一个盘周的记录已完成(结束)。
具体而言，在此情况下，直到一个盘周的记录完成为止伺服对象位置的偏移量被设定成与光斑位置偏离量的最大值相对应的量，该最大值是考虑到根据偏斜或盘偏心以及滑动机构的劣化或扰动导致的光斑位置偏离量来估计的。
例如，当偏斜可导致的光斑位置偏离的最大量是±dskew，盘偏心可导致的光斑位置偏离的量是±dshift，滑动机构的劣化可导致的光斑位置偏离的最大量是±dslider，并且扰动可导致的光斑位置偏离的最大量是±ddisturb时，光斑位置偏离量的最大值可由|dskew|+|dshift|+|dslider|+|ddisturb|表示。
为了简化对图13的描述，假定光斑位置偏离量的最大值正好是一个轨道(现有技术的极限轨道中的一个轨道：相同相位的凹坑列的半径方向间距)。
在第一周的记录完成位置附近，仅考虑防止记录标记与已记录标记列的重叠或交叉发生这一点，伺服对象位置的偏离量可至少是光斑位置偏离量的最大值。即，例如，当光斑位置偏离的最大值如上所述是一个轨道，并且伺服对象位置向外周侧偏移了不止一个轨迹时，则即使在内周侧发生最大光斑位置偏离(即在此情况下发生一个轨道的差异)，也能够防止第一周和第二周的标记列的重叠的发生。
然而，即使当能够防止第一周和第二周的标记列的重叠时，第一周和第二周的标记列也接近到超过标记再现光的光学极限的程度，从而难以适当地再现所记录的标记列。
因此，考虑到这一点，在一个盘周使伺服对象位置向外周侧偏移的量至少必须被设定得大于“基准面Ref上的1个轨道宽度”+“体层5侧的最小轨道间距”。
在此示例中，基准面Ref的记录和再现条件是激光波长λ＝650nm并且物镜20的数值孔径NA(在此情况下是有效数值孔径)＝0.65，并且体层5的记录和再现条件是波长λ＝405并且NA＝0.85。从而，体层5侧的轨道间距可被设定得较窄。然而，在此示例中，在一个盘周伺服对象位置的偏移量被设定成基准面Ref上的2个轨道，以确保足够的裕量。
通过设定偏移量，第一周和第二周的标记列的间隔不超过标记记录光的光学极限，同时防止了在第一周记录完成位置附近第一周和第二周的标记列的重叠或交叉，从而可以适当地执行后续的标记再现。
例如，当伺服对象位置如上所述在一个盘周被偏移一个轨道时，只要通过向循轨伺服环应用偏置，就可以稳定地控制实际光斑偏置的量。
在此示例中，如在图4至图6C中所述的格式(以下也称为可变轨道间距格式)被用作基准面Ref上的凹坑列的记录格式，伴随着顺次改变作为伺服对象的凹坑列的操作执行伺服对象位置的偏移，从而可以更准确地控制伺服对象位置的偏移量。
图14是示出随着作为循轨伺服对象的凹坑列的改变，对伺服对象位置的具体偏移方法的示图，并且示出了为了实现伺服对象位置的偏移而要被应用到循轨伺服环的偏置、要被选择为伺服对象的凹坑列的分类和光斑S-sv的移动轨迹的关系。
在图14中，只示出了从记录开始位置到第二伺服对象凹坑列改变的区间。
从图14清楚可见，当伺服对象位置逐渐向外周侧偏移时，在如图所示的锯齿状波形偏置被应用到伺服环的同时，作为伺服对象的凹坑列被顺次切换到与外周侧相邻的凹坑列。
首先，作为锯齿状波形偏置，使伺服激光的光斑S-sv的位置向外周侧(即记录方向侧)逐渐偏移的倾斜方向的设定被用作倾斜方向。例如，在此示例中，在伺服激光的循轨伺服系统中，物镜20根据正循轨误差信号TE-sv被从基准位置向外周侧驱动，物镜20根据负循轨误差信号TE-sv被从基准位置向内周侧驱动。因此，作为此情况中的锯齿状波形偏置，使用了如图中所示的具有倾斜的偏置，倾斜值随着时间的流逝而逐渐变大。
锯齿状波形偏置的倾斜的大小(角度)决定了当执行了一个盘周记录时伺服对象位置的偏离量。在如上所述的此示例中，由于伺服对象位置在一个盘周向外周侧偏移了2个轨道，所以锯齿状波形偏置的倾斜大小被设定来实现这种偏移量。
在应用该锯齿状波形偏置的同时，作为伺服对象的凹坑列被顺次切换到外周侧相邻的凹坑列。换言之，用于获得循轨误差信号TE-sv(该信号表示作为伺服对象的凹坑列的循轨误差)的选择器信号被切换到与在外周侧相邻的凹坑列相对应的选择器信号。
当采用如上所述的顺次改变伺服对象凹坑列的方法时，显然，需要预先确定伺服对象凹坑列的改变位置(定时)。
在实施例中，伺服对象凹坑列的切换位置被设定为相邻伺服对象凹坑列之间的中间点的位置。
确认一下，在实施例中，执行伺服对象凹坑列的切换，从而在使伺服对象位置偏移时应用的偏置是如上所述的锯齿状波形偏置。即，是这样一种波形：在作为伺服对象的凹坑列的切换定时，该波形的极性逆转。
如图所示，当光斑S-sv的位置在作为对象的凹坑列上时，偏置的值是“0”。然后，当该值增大并且光斑S-sv向外周侧偏移，从而到达与在外周侧相邻的凹坑列之间的中间点并且到达切换定时时，该值从正值逆转为负值。此时，切换前后的绝对值是相同的。这是因为切换定时被设定成如上所述相邻的凹坑列之间的中间点。
如上所述，在向循轨伺服环应用锯齿状偏置的同时，重复作为伺服对象的凹坑列的顺次切换，从而可以在保持执行循轨伺服的状态的同时，使光斑S-sv的位置向外周侧逐渐偏移。
根据这种方法，即使当光斑S-sv被偏移了超过轨道宽度的1/2时，伺服也不会偏离，从而可以准确地控制偏移量。
描述返回到图13。
在根据上述方法在一个盘周期间使伺服对象位置向外周侧偏移之后，换言之，在一个盘周的记录完成之后，相反地，使伺服对象位置向内周侧逐渐偏移(见图中的<2>与<3>之间的轨迹)。
向内周侧的偏移是用与在图14中描述的方法相同的方法来执行的。
具体而言，在把锯齿状波形偏置(其具有与向外周侧的偏移相反方向的倾斜)应用到伺服环的同时，可以将作为伺服对象的凹坑列顺次切换到在内周侧相邻的凹坑列。
在此情况下，使伺服对象位置向内周侧返回的速度可以不被设定成与向外周侧偏移的速度相同。在此示例中，以更高的速度返回(例如大约1/4盘周)。
由于此原因，与向外周侧偏移时的锯齿状波形偏置的情况相比，在此情况下应用到伺服环的锯齿状波形偏置的倾斜大小被设定得较大(绝对值较大)。
当使伺服对象位置向内周侧逐渐返回时，使由图中的白圆表示的内周副束的照射光斑S-rpS更逐渐地向内周侧偏移。当使伺服对象位置向内周侧逐渐返回的操作继续时，光斑S-rpS位于已完成第一周记录的标记列附近(图中的<3>的状态)。
在实施例中，在如上所述根据第一周记录的完成而开始使伺服对象位置逐渐向内周侧返回的操作之后，开始对基于内周副束的反射光可获得的循轨误差信号TE-rpS(见图10)的监视。
在循轨误差信号TE-rpS中，检测当光斑S-rpS位于已完成第一周记录的标记列附近时可获得的改变点，然后将物镜20的循轨伺服控制切换到基于内周副束的反射光的伺服控制。即，执行到使用内周副束的自循轨的切换。
图15A和图15B是示出切换到(引入)基于这种副束的循轨伺服的具体示例的示图。
图15A示意性地示出了当伺服对象位置不断地向内周侧偏移时观察到的循轨误差信号TE-rpS的波形。
当如上所述使伺服对象位置不断地向内周侧偏移时，当时大约为0电平的循轨误差信号TE-rpS的电平随着光斑S-rpS越来越接近已完成第一周记录的标记列的中央而逐渐上升，并到达峰。然后，在光斑S-rpS与已完成记录的标记列的中央一致的定时，该电平过零。当光斑S-rpS向内周侧进一步偏移，越来越远离已完成记录的标记列的中央时，循轨误差信号TE-rpS到达负峰，并且变为上升，然后它转变到大约0电平。
在此示例中，对于如上所述获得的循轨误差信号TE-rpS，到基于内周副束的伺服控制的切换是通过如图15B所示的方法来执行的。
首先，对于循轨误差信号TE-rpS，预设了如图所示的两个阈值th1和th2。在此情况下，所有的阈值th1和th2如图所示都是正值，其中这些值是th1＞th2。
在伺服控制切换中，如上所述开始对循轨误差信号TE-rpS的监视，然后判定误差信号TE-rpS的值是否超过了阈值th1。当误差信号TE-rpS的值超过阈值th1时，判定误差信号TE-rpS的值是否小于阈值th2。通过此判定，当判定误差信号TE-rpS小于阈值th2时，在图10所示的副束伺服电路43中执行伺服的引入操作，并且选择器St选择由副束伺服电路43输出的循轨驱动信号TD-rpS。
因此，2轴致动器21的循轨线圈被循轨驱动信号TD-rpS驱动，从而物镜20的循轨伺服控制被切换到基于副束的反射光的伺服控制。即，过程转变到使用副束的自循轨。
从以上描述可知，在实施例中，伺服对象位置在一周的标记记录完成时向外周侧(即与记录方向相反的方向)偏移了预定的量。
因此，可以避开标记记录位置，防止在第一周的记录完成位置附近第一周和第二周的记录标记列的重叠或交叉。即，由于可如上所述避开标记记录位置，因此即使当在第一周的记录完成位置附近发生由滑动机构的劣化或扰动导致的相对较大的光斑位置偏离时，也可以防止第一周和第二周的记录标记列的重叠和交叉的发生。
在如上所述避开记录位置之后，使伺服对象位置在与记录方向相反的方向上偏移，获得此时可获得的循轨误差信号TE-rpS。当在循轨误差信号TE-rpS中检测到当光斑S-rpS位于已完成第一周记录的标记列附近时的改变点时，将物镜20的循轨伺服控制切换到基于内周副束的反射光的伺服控制。
因此，在避开记录位置后，可以适当地执行到基于自循轨的标记记录的切换。
通过采用作为实施例的记录方法，即使当在第一周的记录完成位置附近发生由滑动机构的劣化或扰动导致的相对较大的光斑位置偏离时，也可以适当地执行到使用副束的自循轨的切换，以实现基于自循轨的标记记录。因此，可以防止体层5上标记列的重叠或交叉的发生并且防止记录容量的减小。
图16示出了当通过上述作为实施例的方法执行标记记录时记录标记列的轨迹。
参考图16可见，根据实施例的记录方法，标记列的间隔仅在从第一周到第二周的一部分的很小区间中被加宽，而从整个盘来看，标记列形成间距在体层5中基本上是固定的。确认一下，在此情况下，标记形成间距与主束与内周副束之间的部署间隔一致。
根据如上所述的作为实施例的记录方法，可以理解基本上不会牺牲记录容量。
5.处理序列
然后，将参考图17的流程图来描述实现上述作为实施例的记录方法要执行的具体处理的序列。
在图17中，实现作为实施例的记录方法的具体处理的序列被表示为由图10所示的控制器40执行的处理的序列。
控制器40根据存储在控制器40的诸如ROM之类的存储器中的程序，根据图中所示的序列来执行处理操作。
首先，在步骤S101中，执行对伺服光伺服电路38的搜寻指示。
即，在伺服光伺服电路38中执行对作为目标地址的记录开始地址的搜寻操作控制。已经描述了搜寻操作控制的细节，从而省略重要描述。
确认一下，在步骤S101的时间点，控制器40控制图10中所示的选择器St选择来自伺服光伺服电路38的聚焦驱动信号FD-sv。
在随后的步骤S102中，等待直到到达记录开始地址。
当到达记录开始地址时，在步骤S103中执行标记记录开始指示。即，记录处理单元32开始标记记录操作。
在随后的步骤S104中，开始外周偏移控制。
即，如在图14中所述开始向加法器41施加锯齿状波形偏置，用于使伺服对象位置向外周侧偏移，并且执行顺次改变作为伺服对象的凹坑列的处理。
从以上描述可知，作为伺服对象的凹坑列的切换是通过向选择器信号生成和选择电路39(选择器信号选择电路47)提供选择信号SLCT和切换信号SC以及选择器S1的选择性切换控制来执行的。
具体而言，通过前次的选择信号SLCT，控制器40在上述相邻凹坑列之间的中间点的定时，对选择器信号选择电路47执行与前次选择信号SLCT所指示的凹坑列(选择器信号)在外周侧相邻的凹坑列的选择器信号的选择指示。
如在图10中所述，在此示例中，选择器信号选择电路47把针对切换信号SC所指示的相位一侧(外周侧或内周侧)相邻的凹坑列的选择器信号与从选择信号SLCT指示的相位的选择器信号一起选择性地输出。控制器40发送在初始状态中指示选择在外周侧相邻的凹坑列的信号作为切换信号SC。因此，此情况中的选择器信号选择电路47输出选择信号SLCT所指示的选择器信号，以及针对与该选择器信号相对应的凹坑列在外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
作为假设，通过在步骤S101中执行搜寻操作控制，从控制器40利用选择信号SLCT向选择器信号选择电路47执行任何相位的选择器信号的选择指示。作为如上所述的切换信号SC，在初始状态中给出指示选择在外周侧相邻的凹坑列的信号，从而选择器信号选择电路47从这个点起通过执行步骤S101的处理，输出该相位的选择器信号和与该选择器信号相对应的凹坑列在外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
在此情况下，对于根据由步骤S101的搜寻操作控制引起的来自控制器40的第一指示而输出的选择器信号，选择器信号选择电路47向采样保持电路SH1输出在选择信号SLCT所指示的那侧的选择器信号，并且向采样保持电路SH2输出与该选择器信号相对应的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
如上所述，选择器S1被控制为根据来自控制器40的指示，在采样保持电路SH1和SH2输出的循轨误差信号TE1-sv和TE2-sv之间，选择性地输出表示被认为是循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差那一方的信号。换言之，当通过步骤S101中的搜寻操作控制执行利用选择信号SLCT对选择器信号选择电路47的第一选择指示时，控制器40指示选择器S1选择性地输出来自采样保持电路SH1的循轨误差信号TE1-sv。因此，表示要作为循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号TE-sv被提供给伺服光伺服电路38。
当利用选择信号SLCT执行第一选择指示时，选择器信号选择电路47向采样保持电路SH1输出所指示的选择器信号，并且向采样保持电路SH2输出与所指示的选择器信号相对应的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。此外，采样保持电路SH1侧的输出信号(TE1-sv)被选择器S1选择，并且表示作为循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号TE-sv被提供给伺服光伺服电路38。
利用新的选择信号SLCT，将第一状态改变到将作为伺服对象的凹坑列切换到外周侧相邻的凹坑列的状态，执行以下操作。
即，当新的选择器信号(即，在此情况下是与前次指示的选择器信号相对应的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的选择器信号)的选择指示被从控制器40利用选择信号SLCT指示选择时，选择器信号选择电路47继续把正提供给采样保持电路SH2的选择器信号提供给采样保持电路SH2，并且把提供给采样保持电路SH1的选择器信号切换到针对与正提供给采样保持电路SH2的选择器信号相对应的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
控制器40如上所述利用选择信号SLCT执行新的选择指示，并且利用对选择器S1的选择切换指示选择性地输出来自采样保持电路SH2的循轨误差信号TE2-sv。因此，表示要新作为循轨伺服的对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号TE-sv可被输出到伺服光伺服电路38一侧。
然后，选择器信号选择电路47重复以下操作：每当利用选择信号SLCT执行新的选择器信号的选择指示时，在采样保持电路SH1和采样保持电路SH2之间，对于改变前次选择器信号的那一方的采样保持电路SH，保持前次选择器信号的提供状态，并且对于不改变前次选择器信号而是按原样提供的采样保持电路SH，则将所提供的选择器信号切换成针对与提供给保持方的采样保持电路SH的选择器信号相对应的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
每当利用选择信号SLCT执行对选择器信号选择电路47的选择指示时，控制器40就执行选择器S1的选择切换指示。
结果，表示要作为伺服对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号TE-sv通常被提供给伺服光伺服电路38，并且采样保持电路SH1和SH2中的任何一个可获得生成表示与伺服对象凹坑列相邻的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号的状态。
返回描述。
在步骤S104中，控制器40在对选择器信号选择电路47利用选择信号SLCT顺次执行对外周侧相邻的凹坑列的选择器信号的选择指示的同时，对于每个选择指示，对选择器S1执行选择切换指示，从而执行将作为伺服对象的凹坑列逐渐切换到外周侧相邻的凹坑列的操作。
在外周侧偏移控制在步骤S104中开始之后，在步骤8105中等待直到1周记录完成。基于来自图10所示的地址检测电路37的地址信息(特别是旋转角度信息)来判定1周记录是否完成。
在步骤8105中，当判定1周记录已完成时，在步骤S106中开始内周侧偏移控制。即，开始使循轨伺服的对象位置向内周侧逐渐偏移的处理。作为内周侧控制，提供给选择器信号选择电路47的切换信号SC可被切换到指示选择内周侧相邻的凹坑列的选择器信号的信号，然后可以执行与步骤S104中描述的外周侧偏移控制相同的处理。
然而，在此情况下，考虑到以下所述的点，选择器信号选择电路47被配置为执行如下所述的操作。
当设想就在步骤S106中即将开始内周侧偏移控制之前利用选择信号SLCT执行选择指示的时间点时，向选择器信号选择电路47在该时间点保持选择器信号而不改变选择器信号的那一方的采样保持电路SH给出针对伺服对象凹坑列的选择器信号，并且向另一方(即改变选择器信号的那方)的采样保持电路SH提供针对伺服对象凹坑列的更在外周侧相邻的凹坑列的选择器信号。在此情况下，在选择器S1中，来自前者的采样保持电路SH(伺服对象凹坑列的选择器信号被提供到的那一方)的输出被选择。
在如上所述即将开始内周侧偏移控制前的时间点，由于针对伺服对象凹坑列的内周侧相邻的凹坑列的选择器信号未被提供给采样保持电路SH1和SH2中的任何一个，所以必须根据到内周侧相邻的凹坑列的第一切换指示，由采样保持电路SH1和SH2获得提供针对伺服对象凹坑列的选择器信号和针对内周侧相邻的凹坑列的选择器信号的状态。
由于此原因，此情况下的选择器信号选择电路47被配置为，当切换信号SC的指示内容被改变(即切换到内周侧偏移控制)时，根据此后执行的利用选择信号SLCT的选择指示来执行以下操作。即，选择器信号选择电路47在切换信号SC切换指示内容之后，当利用新的选择信号SLCT执行选择指示时，向在利用紧挨该新的选择信号SLCT之前的选择信号SLCT执行选择指示时改变所提供的选择器信号的那一方的采样保持电路SH输出选择器信号(即伺服对象凹坑列的内周侧相邻的凹坑列的选择器信号)，并且向另一采样保持电路SH输出针对与该新的选择信号SLCT所指示的选择器信号相对应的凹坑列的更在内周侧相邻的凹坑列的选择器信号。
在此状态中，控制器40利用新的LSCK执行选择指示，并且执行选择器S1的选择切换指示，以向伺服光伺服电路38提供表示新作为伺服对象的凹坑列的循轨误差的循轨误差信号TE-sv。此外，可以获得一起生成作为伺服对象的凹坑列的内周侧相邻的凹坑列的循轨误差信号的状态。
确认一下，在此示例中，在一个盘周伺服对象位置向外周侧的偏移量是两个轨道，从而光斑S-sv在一周记录完成时位于任何凹坑列上。由于此原因，在步骤S106的内周侧偏移控制中向加法器41给出的锯齿状波形偏置从0电平开始。
在如上所述在步骤S106中开始内周侧偏移控制之后，在步骤S107中开始对循轨误差信号TE-rpS的监视。
在步骤S108中，首先，等待直到循轨误差信号TE-rpS的电平超过阈值th1(即，关于该电平是否超过阈值th1的判定被重复执行，直到该电平超过阈值th1)。
在步骤S108中，当循轨误差信号TE-rpS的电平超过阈值th1时，在步骤S109中等待直到循轨误差信号TE-rpS的电平小于阈值th2。
在步骤S109中，当循轨误差信号TE-rpS的电平小于阈值th2时，在步骤S110中执行切换到基于副束的循轨伺服的处理。
即，对副束伺服电路43执行循轨伺服的引入指示，并且对于选择器St执行选择性地输出来自副束伺服电路43的循轨驱动信号TD-rpS的指示，以使得对于物镜20的循轨伺服控制被切换到基于内周副束的反射光的循轨伺服控制。
通过执行步骤S110的处理，此后，在自循轨下执行对体层5的标记记录。
在执行步骤S110的处理之后，图中所示的一系列处理结束。
6.修改例
以上已经描述了本公开的实施例，但是本公开并不限于以上描述的具体示例。
例如，在以上描述中，当伺服对象位置向记录方向偏移预定的偏移量以避开记录位置时，该位置是在一个盘周期间逐渐偏移的。然而，伺服对象位置的偏移也可在一周完成位置按预定量执行，而不必在一周间逐渐使该位置偏移。例如，所设定的偏移量可在1/2周时间点执行，并且该偏移量可被保持直到一周完成。
在以上描述中，在伺服对象位置偏移时，针对伺服对象凹坑列的循轨误差信号和针对相邻凹坑列的循轨误差信号是一起获得的，从而设有两个采样保持电路SH。然而，可以设置一个采样保持电路SH，通过瞬时切换向采样保持电路SH给出的选择器信号来执行作为伺服对象的凹坑列的切换。
在此情况下，显然选择器S1和选择器S2是不必要的。
在以上描述中，例示了执行基于与多层记录有关的平行轨道通过的记录的情况，但是也可采用相反轨道通过。
在相反轨道通过中，相邻层位置L之间的记录方向是相互不同的。因此，为了在每个层位置L适当地执行自循轨，在相邻的层位置L之间必须交替分开使用作为副束的内周副束和外周副束。
具体而言，作为与相反轨道通过相对应的情况的配置，设有用于接收内周副束的反射光的内周侧光接收单元(在实施例中对应于副束检测器23S)和用于接收外周侧的反射光的光接收单元。在记录方向是从内周到外周的层位置L中，自循轨是基于根据来自内周侧光接收单元的光接收信号生成的循轨误差信号执行的。另一方面，在记录方向是从外周到内周的层位置L中，自循轨是基于根据基于外周侧光接收单元的光接收信号生成的循轨误差信号执行的。
在记录方向是从外周到内周的层位置L中，在内周侧执行记录位置的避开。即，记录位置的避开可在记录方向的正方向上执行。
在以上描述中，例示了共同使用用于获得负责标记记录的记录光的光源和用于获得作为用于执行自循轨的副束的光的光源的情况，但它们可以是分开的光源。
然而，要注意，为了执行基于自循轨的记录，标记记录光和副束必须被聚焦在相同的层位置L。因此，即使分开设置标记记录光和副束的光源时，标记记录光和副束也必须聚焦在相同的层位置L，例如标记记录光和副束全都被配置为通过扩展器(固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动单元16)调整聚焦位置。
在以上描述中，例示了使伺服对象位置向记录方向偏移、然后开始使伺服对象位置向与记录方向相反一侧返回的定时是一个盘周的记录完成定时的情况，但是开始使伺服对象位置向与记录方向相反的方向返回的定时可以是一个盘周的记录完成位置附近的定时，而不必与一周的记录完成定时严格一致。
在以上描述中，在利用副束对已完成第一周记录的标记列的伺服引入操作中，例示了按照利用阈值th1和阈值th2的定时判定来执行引入的情况，引入的定时可以在基于副束的反射光的循轨误差信号的过零附近的定时执行，并且对于其具体方法没有特别限制。
在以上描述中，例示了通过DPD方法生成基于副束的反射光的循轨误差信号的情况，但是生成该循轨误差信号的方法并不限于此，例如，可以通过诸如DPP(差分推-拉)方法之类的其他方法来生成。
在以上描述中，例示了基于从光盘记录介质读取的地址信息来判定一个盘周记录是否完成的情况，但是，例如，可设置检测旋转光盘记录介质的主轴电机的旋转角度的旋转角度检测单元，并且可以基于由该旋转角度检测单元检测到的旋转角度信息来判定一个盘周记录是否完成。
在以上描述中，例示了将本公开应用到对作为对象的体型记录介质1执行信息记录的情况的情况，但是本公开也可很适当地应用于对如图18所示的多层记录介质50执行记录的情况。
在图18中，多层记录介质50与图1所示的体型记录介质1的相同之处在于，按从上层侧起的顺序形成了覆盖层2、选择性反射膜3和中间层4，但在此情况下，取代体层5，层压了具有如下层结构的记录层：在该层结构中，半透明的记录膜51和中间层被反复层压预定次数。如图所示，形成在最低层上的半透明记录膜51被层压在基板52上。全反射记录膜被用作形成在最低层上的记录膜。
注意，半透明记录膜51不应设有由凹坑列或沟槽形成的位置引导。即，在多层记录介质50的情况下，如图4或图5所示的位置引导只形成在作为基准面Ref的一个层位置上。
在多层记录介质50的记录层中，由于形成了充当反射膜的半透明记录膜51，所以即使在记录时也可以利用记录再现激光的反射光来执行聚焦控制。
即，在此情况中的记录时，对于记录再现激光的聚焦伺服控制是通过基于记录再现激光的反射光驱动透镜驱动单元16以聚焦在作为记录对象的半透明记录膜51上来执行的。
确认一下，即使在对多层记录介质50执行记录时，记录方法也可以是以上描述的方法。
在以上描述中，例示了在比记录层更上层侧形成基准面Ref的情况，但是本公开也可很适当地应用于在比记录层更低层侧形成基准面Ref的情况。
在以上描述中，在基准面Ref上设置了作为具有不同凹坑列相位的多个凹坑列的总共6个凹坑列A至F，在半径方向上反复形成基于6个模式(凹坑列相位)的凹坑列，但是多个凹坑列的数目并不限于6个，凹坑列的数目可以是更多个或更少个。
在以上描述中，例示了凹坑列中的每个凹坑可形成位置的区间长度是3T的区间长度并且凹坑形成方向上凹坑可形成位置的边缘之间的间隔被设定为3T的长度的情况，但是它们只是示例。每个凹坑可形成位置的区间长度和凹坑列形成方向上凹坑可形成位置的边缘之间的间隔可被设定为满足上述的1)和2)的条件。
在以上描述中，在具有不同凹坑列相位的多个凹坑列中，凹坑列被布置成使得凹坑列相位前进达到外周侧的程度并且凹坑列相位偏离达到内周侧的程度，多个凹坑列的布置模式可在不超过凹坑列形成方向上的光学极限的条件下被设定成各种模式，例如，凹坑列相位前进达到内周侧的程度，并且凹坑列相位偏离达到外周侧的程度。
在以上描述中，例示了形成螺旋状的凹坑列的情况，但是凹坑列也可形成为同心圆状。
在以上描述中，在基准面Ref中，例示了采用如图4或图5所示的可变轨道间距格式，并且通过向伺服环应用锯齿状波形偏置并切换伺服对象凹坑列来执行避开记录位置或转变到自循轨时的伺服对象位置偏移的情况，但是凹坑列或沟槽可以按大于现有技术的极限轨道间距的预定轨道间距形成在基准面Ref上，并且伺服对象位置的偏移可以仅通过向伺服环应用偏置来执行。
在以上描述中，没有特别设置用于校正由偏斜或物镜20的透镜偏移导致的记录再现激光相对于伺服激光的光斑位置差异的装置，但是也可设置这种校正装置。具体而言，设置检测偏斜的偏斜检测单元和检测物镜20的透镜偏移量的透镜偏移检测单元，根据检测信号计算由偏斜或透镜偏移导致的光斑位置偏离，并且例如根据计算出的差异量来校正记录再现激光的光轴。
在以上描述中，例示出将本公开应用到对光盘记录介质既执行记录也执行再现的记录和再现装置的情况，但本公开也可很适当地应用于仅能够对光盘记录介质进行记录的记录专用装置(记录装置)。
本申请包含与2010年6月9日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP 2010-132208中公开的主题相关的主题，特此通过引用并入该申请的全部内容。
本领域的技术人员应当理解，取决于设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和变更，只要它们处于所附权利要求或其等同物的范围之内即可。

Claims (6)

1.一种对光盘记录介质执行记录的记录装置，该光盘记录介质具有基准面和记录层，该基准面具有位置引导并形成反射膜，该记录层设在与该基准面不同深度的位置处并且通过与光照射相对应的标记形成来执行信息记录，该记录装置包括：
光生成和照射单元，其生成用于对所述记录层执行信息记录的第一光束、用于基于在所述基准面上形成的位置引导而执行位置控制的第二光束、以及第三光束，并且设有物镜，所述第一光束、第二光束和第三光束入射到该物镜，当就所述光盘记录介质的半径方向而言，记录的进展方向是记录方向时，所述第三光束的照射光斑相对于所述第一光束和第二光束的照射光斑位置位于与所述记录方向相反方向那侧，并且所述第一光束、第二光束和第三光束的照射方式使得所述第一光束和第三光束聚焦在所述记录层上，而所述第二光束聚焦在所述基准面上；
记录单元，其对所述第一光束执行发光驱动控制以对所述记录层执行标记记录；
循轨机构，其在循轨方向上驱动所述物镜，所述循轨方向是与所述光盘记录介质的半径方向平行的方向；
第一循轨误差信号生成单元，其基于接收所述第二光束的来自所述基准面的反射光的结果，来生成第一循轨误差信号；
第二循轨误差信号生成单元，其基于接收所述第三光束的来自所述记录层的反射光的结果，来生成第二循轨误差信号；
循轨伺服控制单元，其通过基于所述第一循轨误差信号或第二循轨误差信号驱动所述循轨机构，来对所述物镜执行循轨伺服控制；以及
控制单元，
其中，所述控制单元：控制所述记录单元以在所述循轨伺服控制单元执行基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服控制的状态中开始标记记录，并开始对基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服环应用用于使所述第二光束的照射光斑位置在所述记录方向上逐渐偏移的正方向偏置；在盘的一周的标记记录的完成位置附近的定时，开始对所述循轨伺服环应用用于使所述第二光束的照射光斑在与所述记录方向相反的方向上逐渐偏移的反方向偏置；在应用所述反方向偏置的情况下监视所述第二循轨误差信号；并且，对于所述第二循轨误差信号，根据检测到根据所述第三光束的照射光斑位于已完成第一周记录的标记列附近而表示的改变点，来控制所述循轨伺服控制单元执行的循轨伺服控制切换到基于所述第二循轨误差信号的循轨伺服控制。
2.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述控制单元根据所述第二循轨误差信号大于第一阈值、然后小于第二阈值，来控制所述循轨伺服控制单元执行的循轨伺服控制切换到基于所述第二循轨误差信号的循轨伺服控制。
3.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述光生成和照射单元设有聚焦位置调整单元并通过所述聚焦位置调整单元将所述第一光束和所述第三光束聚焦在所述记录层上，其中，所述聚焦位置调整单元改变入射到所述物镜的所述第一光束和第三光束的准直，以独立于所述第二光束而改变所述第一光束和第三光束的聚焦位置。
4.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述基准面被配置成使得：一周中的凹坑可形成位置的间隔限于第一间隔的凹坑列被形成为螺旋状或同心圆状，并且，在半径方向上布置的凹坑列中，所述凹坑可形成位置的凹坑列形成方向上的间隔被设定成按每个预定的第二间隔偏离的位置，从而具有多个凹坑列相位，所述记录装置包括：
时钟生成单元，其基于通过接收所述第二光束的来自所述基准面的反射光可获得的光接收信号，来生成根据凹坑的形成间隔的时钟，
定时选择信号生成单元，其基于由所述时钟生成单元生成的时钟，来生成多个定时选择信号，所述多个定时选择信号表示形成在所述基准面上的具有不同凹坑列相位的多个凹坑列的凹坑可形成位置的定时，以及
定时选择信号选择单元，其从所述定时选择信号生成单元生成的所述多个定时选择信号之中选择所指示的定时选择信号，
其中，在由所述定时选择信号选择单元选择的定时选择信号所表示的凹坑可形成位置的定时，所述第一循轨误差信号生成单元对通过接收所述第二光束的反射光可获得的信号执行采样，以生成下述信号作为所述第一循轨误差信号：该信号表示所述多个凹坑列之中由所选择的定时选择信号表示凹坑可形成位置的定时的凹坑列的循轨误差，并且
其中，所述控制单元：在给出为实现所述记录方向上的偏移而给锯齿状波形的倾斜所设定的偏置的同时，通过指示所述定时选择信号选择单元选择定时选择信号以使得作为基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服的对象的凹坑列被在所述记录方向上相邻的凹坑列顺次替换，来使所述第二光束的照射光斑在所述记录方向上逐渐偏移，作为所述正方向偏置；并且，在给出为实现与所述记录方向相反的方向上的偏移而给锯齿状波形的倾斜所设定的偏置的同时，通过指示所述定时选择信号选择单元选择定时选择信号以使得作为基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服的对象的凹坑列被在与所述记录方向相反的方向上相邻的凹坑列顺次替换，来使所述第二光束的照射光斑在与所述记录方向相反的方向上逐渐偏移，作为所述反方向偏置。
5.根据权利要求4所述的记录装置，其中，在所述基准面上，通过在每个凹坑列上的凹坑可形成位置处形成或不形成凹坑的模式来针对每个凹坑列记录所述盘上的位置信息，
其中，所述基准面设有位置信息检测单元，该位置信息检测单元判定在由所述定时选择信号选择单元选择的定时选择信号所表示的凹坑可形成位置的定时基于所述光接收信号可获得的再现信号的通道数据值，以基于判定结果来检测所述位置信息，并且
其中，所述控制单元基于由所述位置信息检测单元检测到的位置信息来检测所述盘的一周的标记记录的完成定时。
6.一种对光盘记录介质执行记录的记录方法，该光盘记录介质具有基准面和记录层，该基准面具有位置引导并形成反射膜，该记录层设在与该基准面不同深度的位置处并且通过与光照射相对应的标记形成来执行信息记录，该记录方法包括：
生成用于对所述记录层执行信息记录的第一光束、用于基于在所述基准面上形成的位置引导而执行位置控制的第二光束、以及第三光束，所述第一光束、第二光束和第三光束入射到物镜，当就所述光盘记录介质的半径方向而言，记录的进展方向是记录方向时，所述第三光束的照射光斑相对于所述第一光束和第二光束的照射光斑位置位于与所述记录方向相反方向那侧，并且所述第一光束、第二光束和第三光束的照射方式使得所述第一光束和第三光束聚焦在所述记录层上，而所述第二光束聚焦在所述基准面上；
基于根据接收所述第二光束的来自所述基准面的反射光的结果而生成的第一循轨误差信号或根据接收所述第三光束的来自所述记录层的反射光的结果而生成的第二循轨误差信号，来驱动在循轨方向上驱动所述物镜的循轨机构，以控制对所述物镜执行循轨伺服控制的循轨伺服控制单元，从而在执行基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服控制的状态中对所述记录层执行基于所述第一光束的标记记录，并且对基于所述第一循轨误差信号的循轨伺服环开始应用用于使所述第二光束的照射光斑位置在所述记录方向上逐渐偏移的正方向偏置，所述循轨方向是与所述光盘记录介质的半径方向平行的方向；以及
在盘的一周的标记记录的完成位置附近的定时，开始对所述循轨伺服环应用用于使所述第二光束的照射光斑在与所述记录方向相反的方向上逐渐偏移的反方向偏置，并且在应用所述反方向偏置的情况下监视所述第二循轨误差信号，从而对于所述第二循轨误差信号，根据检测到根据所述第三光束的照射光斑位于已完成第一周记录的标记列附近而表示的改变点，来控制所述循轨伺服控制单元执行的循轨伺服控制切换到基于所述第二循轨误差信号的循轨伺服控制。
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