CN102280114A - 记录装置和记录方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了记录装置和记录方法。记录装置包括：旋转驱动单元，其以恒定速度旋转具有基准面和记录层的光介质；光照射单元，其经由共同的物镜利用第一光和第二光来照射光记录介质；合焦位置调整单元，其执行调整以聚焦；光接收单元，其接收来自基准面的反射光；再现时钟生成单元，其基于光接收信号来生成再现时钟；半径位置检测单元，其基于光接收信号和再现时钟位置信息来检测半径位置信息；频率调整单元，其改变输入的基准信号的频率；以及记录单元，其利用由频率调整单元获得的信号作为记录时钟对记录层执行标记记录。

Description

记录装置和记录方法

技术领域

本公开涉及对光记录介质执行至少记录的记录装置及其方法，该光记录介质包括基准面(reference face)和形成在与该基准面不同的深度位置处的记录层，在该基准面上，包括半径位置信息在内的信息记录是以CAV(Constant Angular Velocity，恒定角速度)的方式执行的。

背景技术

作为通过光的照射来记录和再现信号的光记录介质，诸如CD(压缩盘)、DVD(数字多功能盘)和BD(蓝光盘：注册商标)之类的所谓光盘已经投入了使用。

关于在与当前普及的CD、DVD和BD之类有关的光介质的下一代中扮演重要角色的光记录介质，申请人提出了一种在日本未实审专利申请公布No.2008-135144和2008-176902中描述的所谓体记录型(bulk recordingtype)(也简称为体型)光记录介质。

例如，如图21所示，体记录是过在顺次改变合焦(infocus)位置的同时执行激光束照射来在体层102上执行多层记录，是一种用于实现大容量记录的技术，并且涉及至少具有覆盖层101和体层(记录层)102的光记录介质(体型记录介质100)。

关于这种体记录，在日本未实审专利申请公布No.2008-135144中，公开了一种记录技术，即所谓的微全息图(micro-hologram)方法。在微全息图方法中，所谓的全息图记录材料被用作体层102的记录材料。作为全息图记录材料，广泛使用了光聚合型感光树脂等等。

微全息图方法被大体划分成两种方法，即正型微全息图方法和负型微全息图方法。

正型微全息图方法是将两个对向的光通量(光通量A和光通量B)聚集在同一位置处并且形成微型干涉图案(全息图)以使用该干涉图案作为记录标记(recording mark)的方法。

作为与正型微全息图方法相反的概念，负型微全息图方法是通过激光照射擦除预先形成的干涉图案以使用擦除的部分作为记录标记的方法。在负微全息图方法中，必须有预先在体层102上形成干涉图案的处理，作为初始化处理。

作为与微全息图方法不同的体记录方法，申请人还提出了例如在日本未实审专利申请公布No.2008-176902中公开的形成空穴(空孔或空包)作为记录标记的记录方法。

空穴记录方法是对由诸如光聚合型感光树脂之类的记录材料形成的体层102以相对高的功率执行激光照射，以在体层102中记录空穴的方法。如日本未实审专利申请公布No.2008-176902中所述，如上所述形成的空孔部分具有与体层102中的其他部分不同的折射率，并且有可能在这种边界部分提高光的反射率。因此，空孔部分充当记录标记，从而实现了基于空孔标记的形成的信息记录。

由于这种空穴记录方法不形成全息图，所以在记录时可以执行从一侧的光照射。即，不必像正型微全息图方法中那样将两个光通量聚集在同一位置以形成记录标记。

与负微全息图方法相比，有不必进行初始化处理的优点。

在日本未实审专利申请公布No.2008-176902中，描述了在执行空穴记录时在记录前执行预固化光的照射的示例。然而，即使在省略这种预固化光的照射时，空穴的记录也是可能的。

虽然其是如上所述已为其提出了各种记录方法的体记录型(简称为体型)光记录介质，但这种体型光记录介质的记录层(体层)在例如形成多个反射膜这个意义上并不具有明显的多层结构。即，在体层102中，未设有一般的多层盘中设有的用于每个记录层的反射膜和引导槽(guidegroove)。

因此，在图21所示的体型记录介质100的结构的状态中，在进行不形成标记的记录时，可能不执行聚焦伺服(focus servo)或循轨伺服(tracking servo)。

由于此原因，在实践中，体型记录介质100设有如图22所示的具有引导槽的基准反射面(基准面)。

具体而言，例如，通过在覆盖层101的下面侧形成凹坑(pit)或沟槽(groove)来形成螺旋状或同心圆状的引导槽(位置引导(positionguide))，并且在其上形成选择性反射膜103。在如上所述形成了选择性反射膜103的覆盖层101的下层侧，通过作为图中的中间层104的诸如UV固化树脂之类的粘合材料层压体层102。

通过如上所述利用凹坑或沟槽形成引导槽，记录了诸如半径位置信息和旋转角度信息之类的绝对位置信息(地址信息)。在以下描述中，其上形成这种引导槽并且记录绝对位置信息的面(在此情况下是选择性反射膜103的形成面)被称为“基准面Ref”。

在形成如上所述的介质结构之后，在体型记录介质100中，如图23中所示，与用于记录(或再现)标记的激光(以下称为记录再现激光，或简称为记录再现光)分开地，照射作为用于位置控制的激光的伺服激光(简称为伺服光)。

如图所示，经由共同的物镜，用记录再现激光和伺服激光来照射体型记录介质100。

在此情况下，如果伺服激光到达体层102，则对于体层102中的标记记录可能有不利影响。由于此原因，在现有技术的体记录方法中，具有与记录再现激光的波段不同的波段的激光被用作伺服激光，并且设置了具有如下波长选择性的选择性反射膜103作为形成在基准面Ref上的反射膜：该波长选择性使得伺服激光被反射，而记录再现激光则透过。

在上述假设下，将参考图23来描述对体型记录介质100进行标记记录时的操作。

首先，当对其上没有形成引导槽或反射膜的体层102执行多层记录时，预先确定在体层102中的深度方向上何处是用于记录标记的层位置。在图中，作为用于在体层102中形成标记的层位置(标记形成层位置：也称为信息记录层位置)，例示了设定第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5这总共五个信息记录层位置L的情况。如图所示，第一信息记录层位置L1被设定为与其上形成引导槽的选择性反射膜103(基准面Ref)在聚焦方向(深度方向)上相隔第一偏置of-L1的位置。第二信息记录层位置L2、第三信息记录层位置L3、第四信息记录层位置L4和第五信息记录层位置L5被设定为与基准面Ref分别相隔第二偏置of-L2、第三偏置of-L3、第四偏置of-L4和第五偏置of-L5的位置。

在不形成标记的记录期间，可能不会执行基于记录再现激光的反射光的对体层102中的每个层位置的聚焦伺服和循轨伺服。因此，记录期间对物镜的聚焦伺服控制和循轨伺服控制是基于伺服激光的反射光，以使得伺服激光的光斑位置相对于基准面Ref追随引导槽的方式来执行的。

然而，为了记录标记，记录再现激光应当到达比基准面Ref形成在更低侧的体层102。由于此原因，在此情况下的光学系统中，与物镜的聚焦机构分离地设有用于独立调整记录再现激光的合焦位置的记录再现光聚焦机构。

具体而言，这种聚焦机构设有改变输入到物镜的记录再现激光的准直的扩展器(expander)。即，通过改变输入到物镜的记录再现激光的准直，可以独立于伺服激光地调整记录再现激光的合焦位置。

通过设置用于这种记录再现激光的聚焦机构，通过基于来自基准面Ref的伺服激光的反射光执行对物镜的聚焦控制和循轨伺服控制，可以在体层102中的必要的信息记录层位置L处调整记录再现激光的合焦位置，并且可以在紧挨形成于基准面Ref的引导槽下方的位置处控制记录再现激光的合焦位置。

当对已经被执行了标记记录的体型记录介质100执行再现时，不必像记录期间那样基于伺服激光的反射光来控制物镜的位置。即，在再现期间，物镜的聚焦和循轨伺服控制可基于记录再现激光的反射光、对作为再现对象的信息记录层位置L(也称为再现期间的信息记录层L)处形成的标记列(mark row)执行。

现有技术的示例在日本未实审专利申请公布No.2001-118245中公开。

如上所述，在对体型记录介质100进行记录时，通过在用伺服激光对基准面Ref执行聚焦伺服和循轨伺服的同时将记录再现激光合焦在5K中的必要信息记录层位置L，将标记列记录在体层102中的期望位置处。

如上所述，通过形成基于例如凹坑列(pit row)(标记列)或沟槽之类的位置引导来在基准面Ref上记录诸如绝对值位置信息之类的信息。然而，考虑不用CLV(Constant Linear Velocity，恒定线速度)方法而是用CAV(恒定角速度)方法来对基准面Ref执行信息记录。

当如上所述用CAV方法来执行对基准面Ref的信息记录时，自然，体型记录介质100是按CAV旋转的(恒定速度旋转)。当体型记录介质100如上所述按CAV旋转时，体层102上的标记记录也是通过CAV方法执行的。

然而，正如所公知的，基于CAV方法的记录与基于CLV方法的记录相比导致记录密度的减小。由于此原因，难以避免体层102的记录容量的减小。

发明内容

希望对于包括通过CAV方法记录了信息的基准面和设在与基准面不同的深度位置处的记录层的光记录介质，提高记录层上的标记的记录密度并且增大记录层的记录容量。

根据本公开的一个实施例，一种记录装置被如下配置。

记录装置包括旋转驱动单元，该旋转驱动单元以恒定的速度旋转光介质，该光介质具有基准面和记录层，该基准面上通过CAV方法(恒定角速度)记录了包括半径位置信息在内的信息，该记录层形成在与该基准面不同的深度位置处；

记录装置包括光照射单元，该光照射单元经由共同的物镜利用第一光和第二光来照射光记录介质，该第一光将被照射到记录层上，该第二光将被照射到基准面上。

记录装置包括合焦位置调整单元，该合焦位置调整单元执行调整以在第二光合焦在基准面上的情况下使第一光聚焦在记录层中的必要位置处。

记录装置包括光接收单元，该光接收单元接收第二光的来自基准面的反射光。

记录装置包括再现时钟生成单元，该再现时钟生成单元基于由光接收单元获得的光接收信号来生成再现时钟。

记录装置包括半径位置检测单元，该半径位置检测单元基于由光接收单元获得的光接收信号和再现时钟来检测在基准面上记录的半径位置信息。

记录装置包括频率调整单元，该频率调整单元根据由半径位置检测单元检测到的半径位置信息来改变输入的基准信号的频率。

记录装置包括记录单元，该记录单元通过利用由频率调整单元获得的信号作为记录时钟驱动第一光的光源发光来对记录层执行标记记录。

在本公开中，假设具有按CAV记录了包括半径位置信息在内的信息的基准面以及记录层的光记录介质被以恒定的速度旋转以对记录层执行标记记录。在本公开中，在该假设下，基于通过根据在基准面上记录的半径位置信息改变基准信号的频率而生成的记录时钟来对记录层执行标记记录。

如上所述，通过基于通过根据半径位置信息改变频率而生成的记录时钟执行标记记录，与单纯根据光记录介质的恒定速度旋转对记录层执行CAV记录的情况相比，可以提高记录层的标记记录密度。

根据本公开，在具有按CAV记录了包括半径位置信息在内的信息的基准面以及记录层的光记录介质被以恒定速度旋转的假设下，基于通过根据半径位置改变频率而生成的记录时钟来执行记录层上的标记记录，从而可以提高记录层上的标记的记录密度。

结果，可以提高记录层的记录容量。

附图说明

图1是示出根据相关示例和实施例作为记录和再现对象的体型记录介质的截面结构的示图。

图2是示出相关示例和实施例的记录装置的光学系统的配置的示图。

图3A和图3B是示意性地示出由偏斜(skew)导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离(spot position deviation)的示图。

图4A和图4B是示意性地示出由透镜偏移(lens shift)导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离的示图。

图5是示出相关示例和实施例中使用的体型记录介质的基准面的部分放大表面的平面图。

图6是示出整个基准面上的凹坑的形成形态的示图。

图7A、图7B和图7C是示出地址信息格式的示图。

图8是示意性地示出由于体型记录介质的旋转引起的基准面上的伺服激光的光斑的移动以及在此时获得的加和信号(sum signal)、加和差分信号(sum differential signal)和PP(push-pull，推-拉)信号的波形的关系的示图。

图9是示出峰位置检测的具体方法的示图。

图10是示意性地示出根据表示峰定时的定时信号生成的时钟、基于时钟生成的每个选择器信号的波形以及在基准面上形成的凹坑列(的一部分)的关系的示图。

图11A和图11B是示出光斑位置的校正的具体方法的示图。

图12是示出作为相关示例的整个记录装置的内部配置的框图。

图13是示出时钟生成单元的内部配置的示图。

图14是示出选择器信号生成和选择单元的内部配置的示图。

图15是示出相关示例的问题的示图。

图16是示出作为实施例的整个记录装置的内部配置的框图。

图17是示出作为实施例的记录方法的效果的示图。

图18是示出作为修改例的记录装置的配置的示图。

图19是示出作为另一修改例的记录装置的配置的示图。

图20是示出作为修改例的光记录介质的截面结构的示图。

图21是示出体记录方法的示图。

图22是示出具有基准面的实际体型记录介质的截面结构示例的示图。

图23是示出对体型记录介质的标记记录和再现方法的示图。

具体实施方式

下面，将描述用于实现本公开的优选实施例(以下称为实施例)。

在说明书中，在描述实施例之前，首先将描述申请人先前提出的相关示例。

描述将按以下顺序执行。

1.相关示例

1-1.作为记录和再现对象的光记录介质

1-2.光学系统的配置

1-3.光斑位置偏离的问题

1-4.基准面的结构

1-5.地址信息

1-6.循轨伺服的具体方法

1-7.具体的光斑位置偏离校正方法

1-8.记录装置的整体内部配置

2.实施例

2-1.相关示例的问题

2-2.实施例的记录装置的配置

3.修改例

1.相关示例

1-1.作为记录和再现对象的光介质

图1示出了根据相关示例(和实施例)作为记录和再现对象的光记录介质的截面结构示图。

包括相关示例在内，下文中将描述的实施例中作为记录和再现对象的光记录介质是所谓的体记录型光介质，并且以下被称为体型记录介质1。

体型光介质指的是用于所谓的体记录的光记录介质。体记录是通过顺次地改变合焦位置对作为体层5的记录层执行激光照射以执行不具有像一般多层光盘那样形成多个记录膜的多层结构的多层记录的技术。

在图1中，体型记录介质1是盘状光记录介质，并且标记记录(信息记录)是通过对被驱动旋转的体型记录介质1照射激光来执行的。记录信息的再现也是通过对被驱动旋转的体型记录介质1照射激光来执行的。

光记录介质是通过光的照射来记录和再现信息的记录介质的总称。

如图所示，体型记录介质1按照从上层侧起的顺序设有覆盖层2、选择性反射膜3、中间层4和体层5。

在本说明书中，“上层侧”指的是来自下文中将描述的记录装置(记录和再现装置10)一侧的激光的入射面被设为上面时的上层侧。

在本说明书中，使用了“深度方向”。深度方向指的是与基于“上层侧”的定义的上下方向一致的方向(即与来自记录装置侧的激光的入射方向平行的方向：聚焦方向)。

在体型记录介质1中，覆盖层2由诸如聚碳酸酯或压克力之类的树脂形成，并且作为用于引导记录和再现位置的位置引导的、下文中将描述的凹坑列如图所示形成在其下侧，从而形成凹凸的截面形态。覆盖层2是通过使用设有凹坑列的压模进行注压成型来生成的。

体型记录介质1中的凹坑列的具体形成形态将在下文中描述。

选择性反射膜3形成在设有凹坑列的覆盖层2的下面侧。

在参考图23描述的体记录方法中，用于基于诸如凹坑列之类的位置引导获得循轨或聚焦误差信号的光(伺服激光)与用于对作为记录层的体层5执行标记记录和再现的光(记录再现激光)是分开照射的。

在此情况下，如果伺服激光到达体层5，则对于体层5中的标记记录可能有不利影响。由于此原因，具有反射伺服激光并使记录再现激光透过的选择性的反射膜是必要的。

在现有技术中，在体记录方法中，具有不同波段的激光被用于记录再现激光和伺服激光，从而具有反射与伺服激光相同波段的光并且使其他波长的光透过的波长选择性的选择性反射膜被用作选择性反射膜3。

作为记录层的体层5例如通过由诸如UV固化树脂之类的粘合材料形成的中间层4被层压(粘合)到选择性反射膜3的下层侧上。

作为体层5的形成材料(记录材料)，根据所采用的体记录方法，例如上述的正型微全息图方法、负型微全息图方法、空穴记录方法等等，可以采用适当的最佳材料。

对于本公开中对体层的标记记录方法没有特别限制，可以采用体记录方法范围内的任意方法。作为以下描述的示例，例示了采用空穴记录方法的情况。

当对其上没有形成引导槽或反射膜的体层5执行多层记录时，预先确定体层5中的深度方向上的何处是记录标记的层位置(参见图23)。在此情况下，与图23的情况一样，作为在体层5中形成标记的层位置(标记形成位置：也称为信息记录层位置)，也设定了诸如第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5这样的总共5个信息记录层位置L。

在此情况下，从基准面Ref到信息记录层位置L的偏置of-L的信息是由下文中将描述的记录和再现装置10(以及记录和再现装置50)中的控制器40设定的。

1-2.光学系统的配置

图2是主要示出对如上所述的体记录介质1执行记录和再现的记录装置的光学系统的示图。具体而言，主要示出了记录和再现装置10的光学读取头OP的内部配置。

在图4A和4B中，加载在记录和再现装置10上的体型记录介质1被设为其中心孔箝夹在记录和再现装置10中的预定位置处，并且被利用未示出的主轴电机43(图12)保持为可旋转的状态。

光学读取头OP被提供来利用记录再现激光和伺服激光照射被主轴电机43旋转的体型记录介质1。

光学读取头OP中设有记录再现激光器11和伺服激光器24，其中记录再现激光器11是用于执行基于标记的信息记录和对用标记记录的信息的再现的记录再现激光的光源，伺服激光器24是用于利用在基准面Ref上形成的位置引导执行位置控制的伺服激光的光源。

这里，如上所述，记录再现激光和伺服激光具有不同的波长。在此示例的情况下，记录再现激光的波长大约为405nm(所谓的蓝紫激光)，伺服激光的波长大约为640nm(红激光)。

光学读取头OP中设有物镜20，其是向体型记录介质1输出记录再现激光和伺服激光的输出端。

设有用于接收记录再现激光的来自体型记录介质1的反射光的记录再现光接收单元23和用于接收伺服激光的来自体型记录介质1的反射光的伺服光接收单元29。

光学读取头OP中设有一光学系统，用于把从记录再现激光器11输出的记录再现激光导引至物镜20，并且把从体型记录介质1输入到物镜20的记录再现激光的反射光导引至记录再现光接收单元23。

具体而言，从记录再现激光器11输出的记录再现激光经由准直透镜12成为了平行光，然后被输入到偏振分束器13。偏振分束器13允许如上所述从记录再现激光器11侧输入的记录再现激光透过。

透过偏振分束器13的记录再现激光被输入到由固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动单元16形成的扩展器。扩展器对应于记录再现光聚焦机构，扩展器的接近作为光源的记录再现激光器11的一侧被认为是固定透镜14，可移动透镜15设在远离记录再现激光器11的一侧，并且可移动透镜15被透镜驱动单元16在与记录再现激光的光轴平行的方向上驱动，从而对记录再现激光执行独立的聚焦控制。

如下文中将描述的，记录再现聚焦机构中的透镜驱动单元16是由图13中所示的控制器40根据与被设为对象的信息记录层位置L相对应地设定的偏置of-L的值来驱动的。

经过构成记录再现聚焦机构的固定透镜14和可移动透镜15的记录再现激光如图所示被镜子17反射，然后经由1/4波片18被输入到分色棱镜19。

在分色棱镜19中，选择性反射面反射与记录再现激光在相同波段中的光并且允许具有其他波长的光透过。因此，如上所述输入的记录再现激光从分色棱镜19反射。

从分色棱镜19反射的记录再现激光如图所示经由物镜20被照射到体型记录介质1。

物镜20设有2轴致动器21，其将物镜20保持为在聚焦方向(靠近和退离体型记录介质1的方向)和循轨方向(与聚焦方向垂直的方向：体型记录介质1的半径方向)上可改变位置。

2轴致动器21设有聚焦线圈和循轨线圈，它们分别被提供以驱动信号(下文中将描述的驱动信号FD和TD)，从而在聚焦方向和循轨方向上改变物镜20的位置。

在再现期间，如上所述利用记录再现激光照射体型记录介质1，从而可从体型记录介质1(体层5中作为再现对象的信息记录层位置L中记录的标记列)获得记录再现激光的反射光。如上所述获得的记录再现激光的反射光经由物镜20被导引至分色棱镜19，并且从分色棱镜19反射。

从分色棱镜19反射的记录再现激光的反射光经过1/4波片18、镜子17和记录再现聚焦机构(从可移动透镜15到固定透镜14)，然后被输入到偏振分束器13。

如上所述输入到偏振分束器13的记录再现激光的反射光(返回光)的偏振方向由于1/4波片18的作用和从体型记录介质1反射时的作用，相对于从记录再现激光器11侧输入到偏振分束器13的记录再现激光(前向光)改变了90°。结果，如上所述输入的记录再现激光的反射光从偏振分束器13反射。

如上所述从偏振分束器13反射的记录再现激光的反射光经由聚光透镜22被聚集在记录再现光接收单元23的光接收面上。

除了关于记录再现激光的光学系统的配置以外，光学读取头OP中还设有用于把从伺服激光器24输出的伺服激光导引至物镜20并且把从体型记录介质1输入到物镜20的伺服激光的反射光导引至伺服光接收单元29的光学系统。

如图所示，从伺服激光器24输出的伺服激光经由准直透镜25成为平行光，然后被输入到偏振分束器26。偏振分束器26允许如上所述从伺服激光器24侧输入的伺服激光(前向光)透过。

透过偏振分束器26的伺服激光经由1/4波片27被输入到分色棱镜19。

如上所述，由于分色棱镜19反射与记录再现激光在相同波段中的光并且允许具有其他波长的光透过，所以伺服激光透过分色棱镜19并经由物镜20被照射到体型记录介质1。

通过如上所述将伺服激光照射到体型记录介质1可获得的伺服激光的反射光(来自基准面Ref的反射光)在经过物镜20之后经过分色棱镜19，并且经由1/4波片27被输入到偏振分束器26。

与先前的记录再现激光的情况一样，由于如上所述的1/4波片27的作用和体型记录介质1中的反射期间的作用，从体型记录介质1侧输入的伺服激光的反射光(返回光)的偏振方向相对于前向光有90°的不同，从而作为返回光的伺服激光的反射光从偏振分束器26反射。

从偏振分束器26反射的伺服激光的反射光经由聚光透镜28被聚集在伺服光接收单元29的光接收面上。

虽然在图中没有示出，但在实践中，记录和再现装置10设有滑动驱动单元，其驱动上述光学读取头OP整体在循轨方向上滑动，并且激光的照射位置可通过驱动由该滑动驱动单元驱动的光学读取头OP来大幅改变。

在此情况下，光学读取头OP设有位置传感器30和偏斜传感器31，但下文中将再次描述它们。

1-3.光斑位置偏离的问题

当采用上述体记录方法时，由于所谓的偏斜(倾斜)的发生或者由盘偏心(disc eccentricity)导致的物镜的透镜偏移的发生，在记录再现激光与伺服激光之间发生记录面内方向上的光斑位置偏离。

图3A和图3B示意性地示出了由偏斜的发生所导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离。

在图3A所示的无偏斜状态中，伺服激光和记录再现激光的光斑位置在记录面内方向上是一致的。相反，如图3B所示，随着偏斜的发生，在伺服激光与记录再现激光之间发生光轴上的差异，并且图中所示的光斑位置偏离Δx发生。

图4A和图4B示意性地示出了由透镜偏移导致的记录再现激光与伺服激光之间的光斑位置偏离。

在图4A所示的无透镜偏移的状态中，物镜20处于基准位置处，并且物镜20的中心和入射到物镜20的每个激光的光轴c是相互一致的。光学系统被设计成使得，在如上所述物镜处于基准位置的状态中，每个激光的在记录面内方向上的光斑位置是一致的。

相反，当物镜20当如图20所示由于循轨伺服控制而从基准位置偏移以追随盘偏心(在此情况下向纸面上的左方偏移)时，图中所示的光斑位置偏离Δx发生。

由透镜偏移导致的光斑位置偏离是由于伺服激光和记录再现激光相对于物镜的入射形态的差异导致的。具体而言，伺服激光按照基本平行的光入射到物镜，而记录再现激光按照非平行光入射。

随着由偏斜或透镜偏移导致的伺服激光和记录再现激光的光斑位置偏离的发生，体层102中的信息记录位置上的差异发生。即，从以上描述可知，记录期间记录再现激光的光斑位置是通过执行基于伺服激光的反射光对物镜20的循轨伺服控制来控制的，从而记录可能由于上述的光斑位置偏离而不在体层102中的期望位置处执行。

此时，根据偏斜偏心量或轨道间距(位置引导的形成间隔)的设定，信息记录位置在相邻轨道之间可能是重叠的。具体而言，盘偏心或偏斜是由盘被箝夹到主轴电机43的方式引起的并且在每次盘被装载时可能以不同的方式发生。因此，例如，如果对盘执行基于盘切换的重写，则在先前记录时发生的偏斜偏心的形态和在重写时发生的偏斜偏心的形态是不同的。结果，存在这样的问题，即已记录部分的标记列和重写部分的标记列之间发生重叠，或者在一些情况下它们相互交叉。

如果这样，则难以对再现信号进行正确的再现。

作为用于防止标记列的重叠或交叉的发生的一种方法，在基准面Ref上可将轨道间距设定得较宽。

然而，当基准面Ref的轨道间距被加宽时，自然，体层102中的记录容量减小了。

为了防止信息记录位置的偏离的发生，根据对偏斜或透镜偏移的检测结果来校正记录再现激光的光斑位置偏离。

从图3A、图3B、图4A和图4B可知，偏斜发生量和光斑位置偏离量以及透镜偏移量和光斑位置偏离量各自具有关联。据此，根据对偏斜量的检测结果来计算由偏斜导致的光斑位置偏离的校正量，并且根据对透镜偏移量的检测结果来计算由透镜偏移导致的光斑位置偏离的校正量，然后计算其加和，从而可以计算出用于对由偏斜和透镜偏移两者导致的光斑位置偏离进行校正的校正量。此外，可以基一献计献策上出的校正量来校正信息记录位置的偏离。

为了执行对信息记录位置的偏离的校正，记录和再现装置10设有图2所示的位置传感器30和偏斜传感器31。

在图2中，位置传感器30设在物镜20附近，并且检测物镜20在循轨方向上的位置(相对于基准位置的偏离量)。即，检测物镜20的透镜偏移量。

位置传感器30的位置检测信号ps-ol被提供给下文中将描述的控制器41。

除位置传感器30以外，也可以设想其他各种手段来作为用于检测透镜偏移量的手段。

偏斜传感器31检测体型记录介质1的倾斜(偏斜)。例如，在此情况下，偏斜传感器31设有以预定角度的光照射体型记录介质1的光照射单元和接收由光照射单元照射的光的来自体型记录介质1的反射光的光接收单元，并且检测光接收单元的反射光的光接收位置的偏离量来检测体型记录介质1的倾斜量。

由偏斜传感器31检测到的被提供给控制器40检测信号(也称为偏斜检测信号sk)。

检测偏斜的具体配置不限于以上例示的配置。

作为用于基于根据位置传感器30或偏斜传感器31的检测结果获得的信息记录位置的偏离量来校正信息记录位置的一种具体方法，例如有基于检测到的偏离量来改变记录再现激光的光轴的方法。具体而言，可以通过利用例如恒流镜(galvano mirror)之类的改变记录再现激光的光轴来校正信息记录位置的偏离。

然而，为了通过改变记录再现激光的光轴的方法校正信息记录位置的偏离，必须添加诸如恒流镜之类的单独配置，从而增加了组件的数目并且提高了生产成本。

在相关示例(以及下文中将描述的实施例)中，对信息记录位置的偏离的校正是通过使循轨伺服对象位置从原始对象位置(即要记录的轨道)偏移来实现的。即，在如上所述基于伺服激光沿着位置引导对物镜20的循轨伺服控制下，循轨伺服对象位置从要记录的轨道偏移与校正量相对应的程度。结果，可以控制信息记录位置与要记录的轨道位置一致。

如上所述，通过使循轨伺服对象位置从原始对象位置偏移的方法，例如，用于调整记录再现激光的光轴的单独额外配置就不必要了，从而可以减少组件的数目并且降低生产成本。

1-4.基准面的结构

信息记录位置的校正是通过如上所述偏置基于伺服激光的循轨伺服对象位置来执行，从而图1所示的体型记录介质1在基准面Ref上设有下文中将描述的形态的凹坑列。

图5是部分放大体型记录介质1中的基准面Ref(选择性反射膜3)的表面的平面图。

在图5中，纸面上从左到右的方向是凹坑列的形成方向，即轨道的形成方向。在此情况下，由于体型记录介质1的旋转，伺服激光的光斑在纸面上从左到右移动。

与凹坑列的形成方向垂直的方向(纸面的纵向)是体型记录介质1的半径方向。

在图5中，图中的白圆表示的A至F表示凹坑可形成位置。即，在基准面Ref中，凹坑仅形成在凹坑可形成位置处，并且凹坑不形成在除凹坑可形成位置以外的位置处。

图中的A至F的符号的分类表示凹坑列的分类(在半径方向上布置的凹坑列的分类)，而符号A至F所附的数字表示凹坑列上的凹坑可形成位置的分类。

图中的黑粗线表示的间隔表示在现有技术的体型记录介质1中可实现的最小轨道间距(现有技术的轨道间距)。由此可知，在此示例的体型记录介质1中，在半径方向上，在现有技术的极限1轨道宽度内，布置了总共6个凹坑列A至F。

然而，当单纯在1轨道宽度的现有技术极限内布置多个凹坑列时，凹坑的形成位置可能在凹坑列形成方向上重叠，从而在凹坑列形成方向上凹坑的间隔可能超过光学极限。

在此示例中，确定以下条件，以使得在现有技术的极限1轨道宽度内布置的凹坑列A至F之间在凹坑列形成方向上的间隔不超过光学极限，并且设定以下条件：

1)在凹坑列A至F中，将凹坑可形成位置的间隔限制于预定的第一间隔；以及

2)受到上述限制的凹坑列A至F中每一个的凹坑可形成位置的间隔被布置成使得：这些凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上偏离预定的第二间隔(即，凹坑列的相位偏移第二间隔)。

这里，在半径方向上布置的凹坑列A至F中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔(第二间隔)是n。在此情况下，凹坑列A至F全都被布置成满足条件2)，凹坑列A-B、凹坑列B-C、凹坑列C-D、凹坑列D-E、凹坑列E-F和凹坑列F-A的凹坑可形成位置的间隔如图所示全是n。

凹坑列A至F中的凹坑可形成位置的间隔(第一间隔)是6n，因为在此情况下实现了A至F这总共6个凹坑列相位。

在实施例中，基准面Ref上基于伺服激光的信息再现是在波长λ＝640并且数值孔径NA＝0.65的条件下执行的，这与DVD(数字多功能盘)的情况相同。相反，在此示例中，凹坑可形成位置的区间长度与DVD中的最短标记一样是3T的区间长度(T是通道比特)，并且凹坑列形成方向上A至F的凹坑可形成位置的边缘之间的间隔被设定成同样的3T的长度。换言之，是n＝6T。

结果，满足了条件1)和2)。

这里，为了理解整个基准面Ref上的凹坑形成形态，将参考图6来描述更具体的凹坑列形成方法。

在图6中，考虑如图所示的情况，例示了只有三个种类(相位)的凹坑列的A至C的情况。

在图中，黑圆表示凹坑可形成位置。

参考图6可见，在体型记录介质1的基准面Ref上，具有不同相位的多种凹坑列(在图6中是三种A至C，但实际上有六种A至F)是一个集合，并且多种凹坑列的一个集合被形成为螺旋形状。

多种凹坑列中的一个必要凹坑列上的循轨伺服继续，并且光斑位置描绘出螺旋状轨迹。

在基准面Ref上，凹坑是通过CAV(恒定角速度)方法形成的。由此，如图所示，多种凹坑列中的每一种可在半径方向上对齐在凹坑形成位置(凹坑可形成位置)相同的角度位置处。

如上所述以CAV方法在基准面Ref上记录凹坑的原因是因为，在盘上任何中区域都将保持如图5所示的凹坑列A至F的相位关系。

1-5.地址信息

随后，将参考图7A、图7B和图7C来描述在基准面Ref上记录的地址信息的格式的示例。

首先，图6A示意性地示出了具有不同的凹坑列相位的凹坑列(A至F)的凹坑可形成位置的关系。图7A用“*”标记示出了凹坑可形成位置。

如下文中将描述的，在实施例的记录和再现装置10中，从凹坑列A至F中选择一个凹坑列，并且对作为对象的一个所选凹坑列执行循轨伺服。

然而，此情况中的一个问题是，凹坑列A至F在半径方向上是以超过现有技术的光学极限的间隔布置的。即，在此情况下，由于通过在轨道上移动(扫描)束光斑获得的循轨误差信号是反映A至F的所有凹坑的信号，从而即使在基于该循轨误差信号执行循轨伺服时，也难以跟踪一个所选凹坑列。

由于此原因，如上所述，实施例的记录和再现装置10提取在所选凹坑列中的凹坑可形成位置的区间中的循轨误差信号，并且基于所提取的循轨误差信号(即间断地)执行循轨伺服。

以相同的方式，当记录地址信息时，提取所选凹坑列的凹坑可形成位置的区间的加和信号(下文中将描述的加和信号)，从而选择性地仅读取所选凹坑列中记录的信息，并且采用了基于所提取的加和信号来检测地址信息的方法。

为了应对这种检测信息的方法，在实施例中，采用了根据在凹坑可形成位置处是否形成凹坑来表示通道数据(记录标记)的“0”和“1”的格式。即，一个凹坑可形成位置负责一个通道比特的信息。

数据比特的1比特由基于多个通道比特的“0”和“1”的数据模式来表示。

具体而言，在此示例中，如图7B所示，数据比特“0”和“1”由4个通道比特表示，例如，4个通道比特的模式“1011”表示数据比特“0”，并且4个通道比特的模式“1101”表示数据比特“1”。

在此情况下，重要的一点是，通道比特“0”是不连续的。即，通道比特“0”的连续意味着，当如上所述利用循轨误差信号间断地执行伺服时，难以获得误差信号的时段是连续的。因此，很难确保循轨伺服的精度。

由于此原因，在实施例中，例如，通过如上所述地定义数据比特，来满足通道比特“0”不连续的条件。即，通过如上所述地定义数据比特，将循轨伺服的精度降低抑制到最低限度。

图7C示出了sync模式(同步模式)的示例。

例如，在sync模式中，如图所示，该模式由12个通道比特表示，前8个比特是不与数据比特的定义匹配的通道比特模式“11111111”，并且sync的分类(种类)由后4个通道比特的模式表示。具体而言，当8个比特之后的4个通道比特的模式是“1011”时，sync模式是Sync1，而当该模式是“1101”时，sync模式是Sync2。

在体型记录介质1中，如上所述在sync之后记录地址信息。

作为地址信息，至少绝对位置信息(半径位置的信息，以及旋转角度位置的信息)被记录。

确认一下，在此示例中，多个凹坑列A至F被布置在现有技术的极限1轨道宽度内，但是地址信息的记录是如下执行的：为每个凹坑列分配单独的信息，使得该凹坑列的半径位置被单独表示(凹坑列可被识别)。即，不为在现有技术的极限1轨道宽度内布置的A至F的每个凹坑列记录相同的地址信息。

从对图7A、图7B和图7C的描述可知，凹坑被位置记录在体型记录介质1的基准面Ref上。位置记录是这样一种方法，其中凹坑(或标记)形成部分是“1”，其他部分是“0”。

1-6.循轨伺服的具体方法

以下将详细描述对如上所述被形成为在现有技术的1轨道宽度内布置多个凹坑列的凹坑列群组之中的作为对象的任意凹坑列执行循轨伺服的方法。

图8示意性地示出了通过体型记录介质1的旋转而移动基准面Ref上的伺服激光的光斑的状态、此时可获得的加和信号、加和差分信号和推-拉信号PP(也称为PP信号)的波形之间的关系。

加和信号是作为图2所示的伺服光接收单元29的多个光接收元件获得的光接收信号DT-sv的加和信号，并且加和差分信号是通过对该加和信号取差分可获得的信号。

在此图中，为了便于描述，假定凹坑形成在图中的所有凹坑可形成位置处。

如图所示，伺服激光的束光斑由于体型记录介质1的旋转而移动，从而加和信号的信号电平以与A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的布置间隔相对应的周形成峰。即，加和信号表明A至F的凹坑的凹坑列形成方向上的间隔(形成周)。

在此图的示例中，由于伺服激光的光斑沿着凹坑列A移动，所以当加和信号经过凹坑列形成方向上凹坑A的形成位置时，加和信号的峰值变为最大(绝对值)，而在凹坑B至凹坑D的各个形成位置中，该峰值趋向于逐渐减小。然后，该峰值按照凹坑E的形成位置到凹坑F的形成位置的顺序变成增大趋势，并且该峰值在再次到达凹坑A的形成位置时变得最大。即，由于与外周侧相邻的凹坑列E和F中的凹坑对于凹坑E和F在凹坑列形成方向上的形成位置有影响，所以加和信号的峰值按凹坑E和F的各形成位置的顺序增大。

作为通过对加和信号取差分而生成的加和差分信号和作为循轨误差信号的PP信号，可以获得如图所示的波形。

加和差分信号被用于根据凹坑列A至F的凹坑形成位置(严格地说是凹坑可形成位置)在凹坑列形成方向上的间隔来生成时钟CLK。

具体而言，通过使用加和差分信号作为CLK，生成了如下信号：在该信号中，与每个凹坑的中央位置(峰位置)相对应的位置是上升位置(定时)。

作为生成时钟CLK的方法，首先，生成通过按图9所示的预定阈值Th1切削加和信号而获得的信号以及类似地通过按预定阈值Th2切削加和差分信号而获得的信号。通过取这两个信号的“与”运算来生成具有与峰位置相对应的上升定时的定时信号。

时钟CLK是通过执行PLL(锁相环)处理来生成的，在该PLL处理中，如上所述生成的定时信号被认为是输入信号(基准信号)。

图10示意性地示出通过该序列生成的时钟CLK和基于时钟CLK生成的选择器信号的波形和在基准面Ref上形成的每个凹坑列(的一部分)之间的关系。

从图中清楚可见，时钟CLK成为了具有周的信号，所述的周基于凹坑A至F的形成间隔。具体而言，它变成了这样的信号：该信号在凹坑A至F的峰位置处具有上升定时。

在实施例中，从时钟CLK生成6种选择器信号，表示A至F的凹坑可形成位置中每一者的定时。

具体而言，通过对时钟CLK进行1/6分频来生成选择器信号，并且使每个相位偏离1/6周。换言之，每个选择器信号是通过在每个定时将时钟CLK进行1/6分频以使上升定时偏离1/6周来生成的。

选择器信号成为下述信号：这些信号分别表明相应的凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定时。在相关示例和实施例中，在生成这些选择器信号之后，选择任意的选择器信号，并且根据所选的选择器信号表示的时段内的循轨误差信号来执行循轨伺服控制，以跟踪凹坑列A至F中的任意凹坑列上的伺服激光的束光斑。

由于可以对凹坑列A至F中的任意凹坑列进行循轨伺服控制，所以至少可以以凹坑列A至F的间隔来执行伺服激光的光斑位置的偏置，其中基于记录再现激光的信息记录位置的偏离将被校正。即，可以按比现有技术的一个轨道宽度更窄的间隔来精细地调整基于记录再现激光的信息记录位置。具体而言，可以按将现有技术的一个轨道宽度分成6个部分的精度来校正信息记录位置。

1-7.具体的光斑位置偏离校正方法

实际上，当校正光斑位置偏离时，可以进行基于凹坑列的选择的1/6宽度的精度的信息记录位置的校正，于是可以以高精度进行校正。具体而言，偏置被应到到循轨伺服环，例如，偏置被应用到针对所选凹坑列的循轨误差信号，并且超过1/6轨道宽度的额外精细调整成为了可能。

将参考图11A和图11B来描述也包括对循轨伺服环的偏置应用在内的光斑位置偏离校正的具体方法。

图11A和图11B中的每一个示出了布置基准面Ref上在半径方向上布置的凹坑列以及伺服激光和记录再现激光的光斑，其中图11A示出了未校正状态，并且图11B示出了校正后的状态。

在图11A中，在未校正状态中，基于伺服激光的反射光的循轨伺服控制是以使伺服激光的光斑位置在要记录的轨道(凹坑列)上的方式来执行的。

由于偏斜或透镜偏移的发生，记录再现激光的光斑位置如图所示在偏离要记录的轨道的位置。具体而言，在图中，例示了记录再现激光的光斑位置偏离为8.5个凹坑列的情况。

记录再现激光的光斑位置的偏离量可被图2中所示的位置传感30和偏斜传感器31检测。换言之，基于位置传感器30和偏斜传感器31的检测结果来计算用于对如上所述发生的记录再现激光的光斑位置偏离进行校正的校正量。

在此情况下，位置传感器30的位置检测信号ps-ol的值和偏斜传感器31的偏斜检测信号sk的值不直接表明如图11B所示的校正量的量。自然，位置检测信号ps-ol的值和偏斜检测信号sk的值被正规化以计算作为循轨伺服对象位置的偏置量的校正量的值。

具体而言，在此示例中，用于对由偏斜和透镜偏移导致的光斑位置偏离进行校正的校正量(循轨伺服对象位置的偏置量)AD_OFS是基于以下概念来计算的。

首先，分别考虑用于对由偏斜导致的光斑位置偏离进行校正的校正量AD_SK和用于对由透镜偏移导致的光斑位置偏离进行校正的校正量AD_SH。

AD_SK＝(sk-offset_SK)×gain_SK      公式1

AD_SH＝(ps-ol-offset_SH)×gain_SH    公式2

在公式1中，offset_SK和gain_Sk是被设定来基于偏斜检测信号sk的值计算对由偏斜导致的光斑位置偏离进行校正的校正量AD_SK的校正系数。

类似地，在公式2中，offset_SH和gain_SH是被设定来基于位置检测信号ps-ol的值计算对由透镜偏移导致的光斑位置偏离进行校正的校正量AD_SH的校正系数。

分别考虑用于由偏斜导致的光斑位置偏离的校正量AD_SK和用于由透镜偏移导致的光斑位置偏离的校正量AD_SH，并且通过以下的公式3来计算用于对由偏斜和透镜偏移两者导致的光斑位置偏离进行校正的校正量AD_OFS。

AD_OFS＝AD_SK+AD_SH+D_alm    公式3

在公式3中，D_alm是表示记录再现激光和伺服激光的光轴位置的对准偏离的校正系数。

如上所述，通过公式1至公式3的计算，根据偏斜传感器31的偏斜检测信号sk的值和位置传感器30的位置检测信号ps-ol的值来计算经正规化的校正量AD_OFS。

如上所述计算的校正量AD_OFS是距离信息。在上述示例中，由于光斑位置偏离的校正伴随着对循轨伺服对象的凹坑列的选择，必须执行根据如上所述计算的校正量AD_OFS的值来指定作为循轨伺服对象的凹坑列的处理。具体而言，将校正量AD_OFS的值除以凹坑列形成间距的值，以计算从图11A所示的要记录的轨道偏置的凹坑列数。结果，指定了作为循轨伺服对象的凹坑列。

通过除法的结果可获得的值表明为了校正而要向循轨伺服环赋予的偏置的值，并且该值被获取。具体而言，在图11A和图11B的示例中，1/2凹坑列形成间距的值是该偏置的值。

在如上所述根据校正量AD_OFS的值指定作为循轨伺服对象的凹坑列的过程中可获得的偏置的值(为了校正向循轨伺服环应用的偏置的值)被称为偏置ofs。

如上所述根据校正量AD_OFS的值指定的凹坑列(为了校正而要作为循轨伺服对象的凹坑列)被称为校正对象凹坑列。

如上所述基于校正量AD_OFS指定校正对象凹坑列并且获取偏置ofs，然后基于该信息来偏置基于伺服激光的循轨伺服对象位置。具体而言，选择表示校正对象凹坑列的凹坑可形成位置的定时的选择器信号，在所选择的选择器信号所表示的定时执行基于通过对推-拉信号PP进行采样-保持可获得的循轨误差信号的循轨伺服控制，执行针对校正对象凹坑列的循轨伺服控制，在该状态中向循轨伺服环应用所获取的偏置ofs，按校正量AD_OFS来偏置循轨伺服对象位置。

通过对校正对象凹坑列执行循轨伺服控制并且将偏置ofs应用到循轨伺服环中，对伺服激光的循轨伺服控制的目标值被偏置与计算出的校正量AD_OFS的值相对应的程度。因此，如图11B所示，伺服激光的光斑位置从要记录的轨道位置偏置校正量AD_OFS，而记录再现激光的光斑位置与要记录的轨道一致。结果，信息记录位置的偏离得到了校正。

确认一下，超过凹坑列形成间隔的高精度的校正是通过如上所述将根据校正量AD_OFS计算出的偏置ofs应用到循轨伺服环中来实现的。

如图11A和图11B的示例中所示，当校正量AD_OFS是等于或大于现有技术的极限轨道的一半的值时(即，在此情况下，当其是等于或大于3个凹坑列的值时)，应用跳跃脉冲以在校正对象凹坑列的方向上移动伺服激光的光斑位置，从而处于可以基于选择器信号的选择切换来进行循轨伺服对象凹坑列的选择切换的状态中。

参考图8和图10可知，在对任何凹坑列执行循轨伺服的状态中通过选择器信号的选择切换而可选择性地切换作为循轨伺服对象的凹坑列成为了与作为伺服对象的凹坑列的中心的距离小于现有技术的极限轨道的一半(3个凹坑列)的凹坑列。即，如图11A所示，在校正前的伺服对象的凹坑列是凹坑列A的状态中，通过选择器信号的选择性切换而可选择性地切换来作为循轨伺服对象凹坑列成为了凹坑列B、凹坑列C、凹坑列F和凹坑列E。如图11A和图11B的示例中所示，当校正对象凹坑列位于与当前作为循轨伺服对象的凹坑列的距离为现有技术的极限轨道的一半以上的位置时，循轨伺服被瞬时关断，然后在校正对象凹坑列的方向上应用跳跃脉冲，以在校正对象凹坑列的方向上移动伺服激光的光斑位置。跳跃脉冲的幅度根据从作为当前循轨伺服对象的凹坑列到校正对象凹坑列的距离而改变。在应用跳跃脉冲之后，选择校正对象凹坑列的选择器信号以获得针对校正对象凹坑列的循轨误差信号，从而执行基于循轨误差信号的循轨伺服。

这样，即使当校正量AD_OFS等于或大于现有技术的极限轨道的一半时，也可以将循轨伺服对象凹坑列切换到校正对象凹坑列。

当计算出的校正量AD_OFS等于或大于现有技术的极限轨道的一半时对校正对象凹坑列执行循轨伺服的方法不限于上述方法，而是也可以使用另外的方法，例如，作为循轨伺服对象的凹坑列被顺次改变到相邻凹坑列以到达校正对象凹坑列。

在任何情况下，都实现了对光斑位置偏离的校正，并且不变的是，根据计算出的校正量AD_OFS对特定校正对象凹坑列执行循轨伺服。

1-8.记录装置的整体内部配置

图12示出了作为相关示例的记录和再现装置10的整体内部配置，其中通过上述方法执行对光斑位置偏离的校正。

在图12中，通过仅提取图2所示的配置的记录再现激光器11、透镜驱动单元16、2轴致动器21和位置传感器30来示出光学读取头OP的内部配置。

在图12中，记录和再现装置10设有主轴电机43。

主轴电机43设有FG(频率发生器)电机，并且按恒定的速度(恒定的旋转速度)旋转体型记录介质1。

主轴电机43根据来自下文中将描述的控制器41指示来开始或停止旋转。

作为用于对体层5执行记录和再现或者在再现记录标记时执行物镜20的聚焦和循轨控制(即，基于记录再现激光的反射光的位置控制)的信号处理系统的配置，记录和再现装置10设有记录处理单元32、记录再现光矩阵电路33以及再现处理单元34。

要记录在体型记录介质1上的数据(记录数据)被输入到记录处理单元32。记录处理单元32向输入的记录数据添加纠错符号，或者执行预定的记录调制编码，以获得记录调制数据列，其是实际记录在体型记录介质1上的例如“0”和“1”的二值数据列。

记录处理单元32输入时钟生成电路39生成的时钟CLK(再现时钟)作为记录时钟，并且基于该记录时钟根据所生成的记录调制数据列生成记录脉冲RCP。光学读取头OP中的记录再现激光器11的发光驱动是用记录脉冲RCP来执行的。

记录再现矩阵电路33设有与来自作为图2所示的记录再现光接收单元23的多个光接收元件的光接收信号DT-rp(输出电流)相对应的电流电压转换电路和矩阵运算和放大电路，并且通过矩阵运算处理生成必要的信号。

具体而言，生成与通过对记录调制数据列进行再现而获得的再现信号相对应的高频信号(以下称为再现信号RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-rp和用于循轨伺服控制的循轨误差信号TE-rp。

在记录再现矩阵电路33中生成的再现信号RF被提供给再现处理单元34。

聚焦误差信号FE-rp和循轨误差信号TE-rp被提供给记录再现光伺服电路35。

再现处理单元34对再现信号RF执行诸如二值化处理或记录调制符号的解码和纠错处理之类的用于恢复记录数据的再现处理，以获得对记录数据进行再现的再现数据。

记录再现光伺服电路35基于从矩阵电路33提供来的聚焦误差信号FE-rp和循轨误差信号TE-rp生成聚焦伺服信号FS-rp和循轨伺服信号TS-rp，并且基于根据聚焦伺服信号FS-rp和循轨伺服信号TS-rp的聚焦驱动信号FD-rp和循轨驱动信号TD-rp来驱动2轴致动器21的聚焦线圈和循轨线圈，以对记录再现激光执行聚焦伺服控制和循轨伺服控制。

从描述可知，在再现期间执行基于记录再现激光的反射光对2轴致动器21(物镜20)的伺服控制。

根据再现期间来自控制器41的指示，记录再现光伺服电路35在循轨伺服环被设定为OFF的情况下向循轨线圈应用跳跃脉冲，以执行轨道跳跃操作或执行循轨伺服的引入控制。此外，执行循轨伺服引入控制等等。

记录和再现装置10设有伺服光矩阵电路36、地址检测电路37、伺服光伺服电路38、时钟生成电路39、选择器信号生成和选择单元40、采样保持电路SH、以及加法器42。

伺服光矩阵电路36基于来自图2所示的伺服光接收单元29中的多个光接收元件的光接收信号DT-sv生成必要的信号。

具体而言，此情况下的伺服光矩阵电路36生成推-拉信号PP、加和信号和用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-sv。

如图所示，推-拉信号PP被提供到采样保持电路SH1。聚焦误差信号FE-sv被提供到伺服光伺服电路38。

加和信号被提供到地址检测电路37和时钟生成电路39。

地址检测电路37通过输入由选择器信号生成和选择单元40以下文中描述的方式生成的选择器信号，基于在由该选择器信号表示的凹坑可形成位置的定时(在此情况下是在该选择器信号处于高电平的区间)对来自伺服光矩阵电路36的加和信号的值采样的结果，来检测在基准面Ref上记录的地址信息(至少包括半径位置信息或旋转角度位置信息的绝对位置信息)。

如参考图7A、图7B和图7C所述，在实施例的情况下，在每个凹坑列的地址信息中，记录了在该凹坑列中的凹坑可形成位置处是否形成了凹坑，来作为一个通道比特的信息。地址检测电路37识别出在选择器信号的上升定时处加和信号的值，以识别出一个通道比特的“0”或“1”的数据，并且基于该结果根据参考图9描述的格式来执行地址解码处理，以执行对所记录的地址信息的检测(再现)。

由地址检测电路37检测到的地址信息被提供给控制器41。

时钟生成电路39根据上述序列生成时钟CLK。

图13示出了时钟生成电路39的内部配置。

在图13中，时钟生成电路39中设有切削电路39A、加和差分电路39B、切削电路39C、与门电路39D以及PLL电路39E。

加和信号如图所示被输入到切削电路39A和加和差分电路39B。切削电路39A基于所设定的阈值Th1来切削加和信号，并且结果被输入到与门电路39D。

加和差分电路39B对加和信号取差分，以生成上述的加和差分信号。切削电路39C基于所设定的阈值Th2对由加和差分电路39B生成的加和差分信号进行切削，并且将结果输出到与门电路39D。

与门电路39D取来自切削电路39A的输出和来自切削电路39C的输出的“与”，以生成上述的定时信号。

PLL电路39E利用如上所述可由与门电路39D获得的定时信号作为输入信号来执行PLL处理，以生成时钟CLK。

返回图12，由时钟生成电路45生成的时钟CLK被提供给记录处理单元32并且被提供给选择器信号生成和选择单元40。

选择器信号生成和选择单元40基于时钟CLK生成选择器信号，并且选择性地输出所生成的选择器信号中的所指示的选择器信号。

图14示出了选择器信号生成和选择单元40的内部配置。

如图所示，选择器信号生成和选择单元40设有选择器信号生成电路45和选择器信号选择电路46。

选择器信号生成电路45基于时钟CLK生成表示凹坑列A至F的凹坑可形成位置的定时的6种选择器信号。具体而言，选择器信号生成电路45生成相位偏移1/6周的信号，作为通过对时钟CLK进行1/6分频而获得的信号，从而获得6种选择器信号。

6种选择器信号被提供给选择器信号选择电路46。

选择器信号选择电路46在6种输入的选择器信号之中选择性地输出具有从控制器41提供的选择信号SLCT所指示的相位的选择器信号。

描述返回图12。

从选择器信号选择电路46输出的选择器信号如图所示被提供给地址检测电路37并且被提供给采样保持电路SH1。

采样保持电路SH1设有A/D转换器，并且在选择器信号的上升缘对从伺服光矩阵电路36提供来的推-拉信号PP进行采样-保持。

通过由采样保持电路SH1根据选择器信号对推-拉信号PP进行采样-保持可获得的循轨误差信号以下被称为循轨误差信号TE-sv。

由采样保持电路SH1获得的循轨误差信号TE-sv如图所示经由加法器42被提供给伺服光伺服电路38。

循轨误差信号TE-sv被提供给控制器41。

伺服光伺服电路38基于聚焦误差信号FE-sv和经过加法器42的循轨误差信号TE-sv，生成聚焦伺服信号FS-sv和循轨伺服信号TS-sv。

在记录期间，根据来自控制器41的指示，基于根据聚焦伺服信号FS-sv和循轨伺服信号TS-sv生成的聚焦驱动信号FD-sv和循轨驱动信号TD-sv来驱动2轴致动器21的聚焦线圈和循轨线圈，以对伺服激光执行聚焦伺服控制并对必要的凹坑列执行循轨伺服控制。

伺服光伺服电路38根据在记录期间来自控制器40的指示，通过向认为循轨伺服环为OFF的2轴致动器21的循轨线圈应用跳跃脉冲来执行轨道跳跃操作(凹坑列之间的跳跃操作)。

控制器41由设有例如CPU(中央处理单元)和诸如ROM(只读存储器)和RAM(随机访问存储器)之类的存储器(存储装置)的微计算机形成，并且基于例如ROM中存储的程序执行控制处理，以控制整个记录和再现装置10。

例如，控制器41基于如上所述的与每个层位置相对应地设定的偏置of-L的值，来执行对记录再现激光的合焦位置的控制(设定)。具体而言，基于与作为记录对象的信息记录层位置L相对应地设定的偏置of-L的值来驱动光学读取头OP中的透镜驱动单元16，以选择深度方向上的记录位置。

控制器41还执行用于实现如上所述的记录和再现时的物镜20的伺服控制切换的控制。

具体而言，在记录期间，控制器41指示伺服光伺服电路38输出聚焦驱动信号FD-sv和循轨驱动信号TD-sv，并且指示记录再现光伺服电路35停止聚焦驱动信号FD-rp和循轨驱动信号TD-rp的输出。

在再现期间，控制器41指示记录再现光伺服电路35输出聚焦驱动信号FD-rp和循轨驱动信号TD-rp，并且指示伺服光伺服电路38停止聚焦驱动信号FD-sv和循轨驱动信号TD-sv的输出。

控制器41还对伺服光伺服电路38执行搜寻操作控制。即，控制器41对伺服电路38执行指示以将伺服激光的光斑位置移动到基准面Ref上的预定目标地址，并且对选择器信号生成和选择单元40(选择器信号选择电路46)执行基于选择信号SLCT的选择器信号的选择指示。

例如，此情况下的搜寻操作控制基本上是按以下序列执行的：

1)通过利用上述的滑动驱动单元移动整个光学读取头OP来移动到目标地址附近；

2)伺服激光的聚焦伺服ON；

3)生成基于加和信号的时钟CLK并且生成选择器信号；

4)基于任意选择的选择器信号对任意凹坑列执行循轨伺服控制；以及

5)由于通过执行上述4)中的循轨伺服能够读取地址信息(用于识别凹坑列的信息)，因此执行从该地址到目标地址的凹坑列跳跃。

控制器41对伺服电路38执行执行指示，以执行1)和2)的操作。控制器41利用选择信号SLCT对选择器信号生成和选择单元40执行基于预定相位的选择器信号的选择指示，以在上述4)中选择任意的选择器信号。

控制器41根据基于上述4)的循轨伺服输入由地址检测电路37检测到的地址信息以执行5)的操作，基于该地址信息计算目标地址所需要的凹坑列的跳跃数目，并且按照该跳跃数目对伺服电路38执行指示以执行凹坑列跳跃操作。

控制器41执行以下处理来作为与上述的光斑位置偏离校正有关的控制处理。

即，控制器41顺次地获取偏斜传感器31的偏斜检测信号的值和位置传感器30的位置检测信号ps-ol的值，并且利用偏斜检测信号sk的值、位置检测信号ps-ol的值、校正系数offset_SK、gain_SK、offset_SH、gain_SH和D_alm来执行公式1至公式3的计算，以顺次地计算校正量AD_OFS。

基于将计算出的校正量AD_OFS的值除以凹坑列形成间距的值的结果被选择来执行校正量AD_OFS的校正的校正对象凹坑列被指定，并且要应用到循轨误差信号TE-sv的偏置ofs的值被获取。

利用选择信号SLCT向选择器信号生成和选择单元40指示对表示指定的校正对象凹坑列的凹坑可形成位置的定时的选择器信号的选择，并且向加法器42输出所获取的偏置ofs的值以将偏置ofs应用到循轨误差信号TE-sv。

如上所述，当计算出的校正量AD_OFS等于或大于现有技术的极限轨道的一半时，在形成校正凹坑列的方向上向伺服光伺服电路38应用跳跃脉冲。

控制器41还执行用于对地址信息的误差进行校正的处理，该误差是随着通过光斑位置偏离校正操作将伺服激光的光斑位置从作为原始对象的凹坑列偏置而生成的。具体而言，在执行光斑位置偏离校正操作的同时，根据伺服激光光斑位置的偏置量(从要记录的轨道到实际作为伺服对象的凹坑列的凹坑列数目)来校正在地址检测电路37中可获得的地址信息

2.实施例

2-1.相关示例的问题

在如上所述的相关示例中，当通过使循轨伺服对象位置从原始位置偏置来执行如图3A、图3B、图4A和图4B中所述的对信息记录位置的偏离的校正时，在基准面Ref上形成了基于图6(和图5)所示的格式的凹坑列，以执行更高精度的校正。

如上所述，在图6所示的格式的情况下，通过CAV方法来记录凹坑列，以在盘上的任何区域中保持图5中所述的凹坑列A至F的相位关系。

如上所述在基准面Ref上通过CAV记录凹坑列，从而在对相关示例中的体层5进行记录时，以恒定的速度旋转体型记录介质1。即，在相关示例中，体层5上的标记记录是按CAV方法执行的。

然而，如上所述，在CAV记录中，标记记录密度与CLV记录相比趋向于减小。具体而言，如图15所示，由于记录标记长度趋向于延伸到外周侧，所以标记记录密度也有相同程度的减小。

如上所述，难以避免体层5的记录容量的减小。

2-2.作为实施例的记录装置的配置

在实施例中，提出了通过改进记录和再现装置10而获得的图16所示的记录和再现装置50来解决上述问题。

在图16中，向图12中已经描述的部分赋予相同的参考数字和符号，并且省略对其的描述。

通过比较图16与图12可知，与作为相关示例的记录和再现装置10相比，实施例的记录和再现装置50额外地设有图中的记录时钟调整单元51。

由地址检测电路37检测到的地址信息(包括半径位置信息)和在时钟生成电路39中生成的时钟CLK被输入到记录时钟调整单元51。

记录时钟调整单元51基于作为地址信息而输入的半径位置信息来改变时钟CLK的频率。通过基于半径位置信息改变时钟CLK的频率而获得的信号被输出到记录处理单元32作为记录时钟。

具体而言，随着根据半径位置信息指定的当前半径位置变得更靠近外周侧，记录时钟调整单元51使时钟CLK的频率变高。

更具体而言，当记录时钟的频率是f_r，时钟CLK的频率是f₀，最内周半径位置是r₀，并且当前半径位置是r时，通过按以下公式改变时钟CLK的频率来生成记录时钟：

f_r＝f₀×r/r₀        公式4。

记录处理单元32根据按照公式4生成的记录时钟来执行标记记录操作，并且体层5变得好像标记列是按CLV记录的那样。换言之，如图17所示，在盘上的任何位置处，标记记录密度可保持固定。

根据如上所述的实施例的记录和再现装置50，当通过CAV方法根据基准面Ref上的信息记录以恒定的角度旋转体型记录介质1时，可以以固定的记录密度在体层5中记录标记。结果，可以将体层5中的标记的记录密度提高到高于执行CAV记录的情况。

由于可以提高标记的记录密度，所以可以增大体层5的记录容量。

3.修改例

以上已经描述了本公开的实施例，但是本公开并不限于以上描述的具体示例。

在描述示例时，根据半径位置来连续改变时钟频率，但是体型记录介质1可被划分成多个半径区域，并且可以对每个半径区域以台阶方式改变频率。

在任何情况下，当根据半径位置改变时钟频率时，与单纯对体层5执行CAV记录(即，利用诸如时钟CLK之类的固定频率的信号作为记录时钟来执行记录)的情况相比，可以提高标记记录密度，从而可以增大记录容量。

在描述中，利用FG电机以恒定速度旋转体型记录介质1，但是也可通过执行基于时钟CLK(再现时钟)的旋转速度控制来以恒定速度执行旋转。

图18示出了作为如上所述基于时钟CLK以恒定速度执行旋转的修改例的记录和再现装置60的内部配置。在图18中，向图12或图16中已经描述的部分赋予相同的参考数字和符号，并且省略对其的描述。

通过比较图18与图16可知，在作为修改例的记录和再现装置60中，向记录和再现装置50添加了主轴伺服电路62，并且取代由FG电机形成的主轴电机43设有可变速度型主轴电机61。

主轴伺服电路62通过输入来自时钟生成电路39的时钟CLK作为当前盘旋转速度信息来控制主轴电机61的旋转速度，以使得时钟CLK的频率固定，从而以恒定速度旋转体型记录介质1。

在此情况下，控制器41指示主轴伺服电路62停止或开始旋转，或者起动(kick)或制动，并且主轴伺服电路62根据这种指示来控制主轴电机61的旋转。

在描述中，记录时钟是通过根据半径位置改变基于来自基准面Ref的反射光生成的时钟CLK来生成的，但记录时钟也可通过根据半径位置改变由单独设置的信号生成器生成的基于固定频率的信号来生成。

图19示出了作为如上所述生成记录时钟的修改例(另一修改例)的记录和再现装置65的内部配置。在图19中，向图12或图16中已经描述的部分赋予相同的参考数字和符号，并且省略对其的描述。

通过比较图19与图16可知，在作为修改例的记录和再现装置65中，向记录和再现装置50添加了信号生成器66，并且取代记录时钟调整单元51设有记录时钟调整单元67。

信号生成器66生成基于固定频率的信号。记录时钟调整单元67对于由信号生成器66生成的固定频率的信号根据半径位置改变频率，以向记录处理单元32给出记录时钟。

作为如上所述的本公开中的生成记录时钟的方法，可根据半径位置改变被生成为固定频率的基准信号(例如由信号生成器66生成的基于固定频率的信号或者实施例中的时钟CLK(再现时钟))的频率，从而可以提高记录层中的标记记录密度。

在描述中，例示了在基准面Ref中形成螺旋状的凹坑列的情况，但是凹坑列也可形成为同心圆状。

当以同心圆状记录凹坑列时，执行体层5上的标记记录以获得适当的记录密度间距。

例如，当标记列的记录密度上的适当形成间距是现有技术的极限轨道间距(6个凹坑列)，有这样一种方法，即在完成一周凹坑列的记录之后在顺次跳跃6个凹坑列的同时执行标记列的记录。即，标记列记录是按如下顺序执行的：任何凹坑列的一周记录、跳跃6个凹坑列、跳跃目标凹坑列的一周记录、跳跃6个凹坑列……，换言之，接收同心圆状。

即使在同心圆状的情况下，也可以通过逐渐跳跃凹坑列来实现螺旋状记录。具体而言，如下来执行螺旋状记录。

首先，在实现螺旋状记录时，在对任何凹坑列的循轨伺服的执行期间，同时获得伺服对象的凹坑列的外周侧相邻的凹坑列的循轨误差信号TE-sv。在此情况下，设有在根据选择器信号的定时对加和信号采样以获得循轨误差信号TE-sv的至少两个配置，并且可以将任何一方的输出选择性地输出到加法器41。

此外，在对任何凹坑列的循轨伺服的执行期间，值逐渐变大的偏置被应用到伺服环中。通过应用这样的偏置，使光斑位置向外周侧逐渐偏移。

通过应用该偏置，光斑位置到达对象凹坑列和外周侧相邻的凹坑列之间的适当位置(例如中间位置)，伺服对象凹坑列被切换到外周侧相邻的凹坑列，并且应用到伺服环中的偏置的极性被逆转。

在偏置的极性逆转之后，偏置的值逐渐变大(绝对值逐渐变小)，并且光斑位置逐渐变得靠近切换后的对象凹坑列(因为从切换后的凹坑列来看，光斑位置位于偏向内周侧的位置)。然后，当持续应用偏置时，光斑位置经过切换后的对象凹坑列(此时，偏置为零)，然后到达该凹坑列与更在外周侧相邻的凹坑列之间的适当位置。如上所述，光斑位置到达凹坑列和外周侧相邻的凹坑列之间的适当位置，如上所述作为伺服对象的凹坑列被切换成外周侧相邻的凹坑列，并且偏置的极性被逆转。

如上所述，基于应用偏置和将伺服对象凹坑列切换到外周侧相邻的凹坑列的所谓“凹坑列跳跃”被重复，以实现基于偏置的倾斜率(其值的增大率)的任何间距的螺旋状记录。

在上述说明中，设定了总共6个凹坑列A至F作为具有不同凹坑列相位的多个凹坑列，并且在半径方向上重复地形成基于6个模式(凹坑列相位)的凹坑列，但是凹坑列的数目并不限于6个，而可以是更多数目和更少数目的凹坑列。

上文例示了这样的情况：凹坑列中的每个凹坑可形成位置的区间长度是3T的区间长度，并且凹坑形成方向上凹坑可形成位置的边缘之间的间隔被设定为3T(即n＝6T)的长度；但它们只是示例。每个凹坑可形成位置的区间长度和凹坑列形成方向上凹坑可形成位置的边缘之间的间隔可被设定为满足上述的1)和2)的条件。

在上述说明中，在具有不同凹坑列相位的多个凹坑列中，这些凹坑列被布置成使得凹坑列相位前进达到外周侧的程度并且凹坑列相位偏离达到内周侧的程度。然而，多个凹坑列的布置模式可在不超过凹坑列形成方向上的光学极限的条件下被设定成各种模式，例如，凹坑列相位前进达到内周侧的程度，并且凹坑列相位偏离达到外周侧的程度。

基准面上的位置引导是用凹坑形成的，但基准面上的位置引导也可通过标记的记录来形成。

基准面上的信息记录的格式不限于图5或图6所示的格式，本公开的基准面上的信息记录(至少包括半径位置信息)可通过CAV方法来执行。

例如，当不采用图5或图6所示的格式时，可以用摆动沟槽(wobbiling groove)来记录半径位置信息。本公开可以很适当地应用于用摆沟槽来在基准面上记录半径位置信息的情况。

在上述说明中，例示了光记录介质(作为本发明的记录对象)是体型记录介质1的情况，但是本公开也可很适当地应用于例如如图20所示的光记录介质(多层记录介质70)，其中，取代体层5而设有具有带多个记录膜的多层结构的记录层。

在图20中，多层记录介质70与图1所示的体型记录介质1的相同之处在于，按从上层侧起的顺序形成了覆盖层2、选择性反射膜3和中间层4，但在此情况下，取代体层5，层压了具有如下层结构的记录层：在该层结构中，半透明的记录膜71和中间层4被反复层压预定次数。如图所示，形成在最低层上的半透明记录膜71被层压在基板72上。全反射记录膜可用作形成在最低层上的记录膜。

注意，半透明记录膜71没有由凹坑列或沟槽形成的位置引导。即，在多层记录介质70的情况下，螺旋状或同心圆状位置引导只形成在作为基准面Ref的一个层位置处。

在多层记录介质70的记录层中，由于形成了充当反射膜的半透明记录膜71，所以即使在记录期间也可以利用记录再现激光的反射光来执行聚焦控制。

即，在此情况中的记录期间，对于记录再现激光的聚焦伺服控制是通过基于记录再现激光的反射光驱动可移动透镜15(透镜驱动单元16)以聚焦在作为记录对象的半透明记录膜71上来执行的。

同时，即使在此情况下，记录期间的记录再现激光的循轨伺服控制也是利用伺服激光执行的。即，即使在此情况下的记录期间，循轨伺服控制也是以如下方式来执行的：基于伺服激光的来自基准面Ref的反射光驱动物镜20，并且使伺服激光的合焦位置跟踪到基准面Ref的位置引导。

即使在此情况下，在再现期间也可以基于已经记录的标记列来执行记录再现激光的循轨伺服控制。从描述可知，在再现期间，可以利用来自作为对象的半透明记录膜71(信息记录层L)的反射光来执行记录再现激光的聚焦伺服控制。

在此情况下，再现期间的伺服控制是以与实施例的情况相同的方法来执行的。即，再现期间的记录再现激光的聚焦伺服控制是通过基于记录再现激光的反射光驱动物镜20以聚焦到作为记录再现激光伺服光的对象的信息记录层L来执行的，并且记录再现激光的循轨伺服控制是通过基于记录再现激光的反射光驱动物镜20以使得记录再现激光的合焦位置跟踪已完成记录的标记列来执行的。

在上述说明中，基准面被设在比记录层的上层侧，但是基准面也可设在记录层的下层侧。

在本公开中，光记录介质可具有其上通过CAV方法执行包括半径位置信息在内的信息的记录的基准面，以及形成在与基准面不同的深度位置处的记录层。

在上述说明中，具有不同波长的光被用作伺服激光和记录再现激光，但它们也可具有相同的波长。在此情况下，反射光可被另一光接收单元分光和导引，这例如可通过利用光的偏振执行分束来进行，其中经过了分色棱镜19的分光。

当记录再现激光和伺服激光如上所述具有相同波长时，只提供一个光源即可。

在上述说明中，例示出将本公开应用到对光记录介质既执行记录也执行再现的记录和再现装置的情况，但本公开也可很适当地应用于仅能够对光记录介质(记录层)进行记录的记录专用装置(记录装置)。

本公开包含与2010年6月10日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP 2010-132743中公开的主题相关的主题，特此通过引用并入该申请的全部内容。

本领域的技术人员应当理解，取决于设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和变更，只要它们处于所附权利要求或其等同物的范围之内即可。

Claims (8)

1.一种记录装置，包括：

旋转驱动单元，其以恒定的速度旋转光介质，该光介质具有基准面和记录层，该基准面上通过恒定角速度方法记录了包括半径位置信息在内的信息，该记录层形成在与该基准面不同的深度位置处；

光照射单元，其经由共同的物镜利用第一光和第二光来照射所述光记录介质，该第一光将被照射到所述记录层上，该第二光将被照射到所述基准面上；

合焦位置调整单元，其执行调整，以在所述第二光合焦在所述基准面上的情况下使所述第一光聚焦在所述记录层中的必要位置处；

光接收单元，其接收所述第二光的、来自所述基准面的反射光；

再现时钟生成单元，其基于由所述光接收单元获得的光接收信号，来生成再现时钟；

半径位置检测单元，其基于由所述光接收单元获得的光接收信号和所述再现时钟，来检测所述基准面上记录的半径位置信息；

频率调整单元，其根据由所述半径位置检测单元检测到的半径位置信息，来改变要输入的基准信号的频率；以及

记录单元，其通过利用由所述频率调整单元获得的信号作为记录时钟来驱动所述第一光的光源发光，从而对所述记录层执行标记记录。

2.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述半径位置信息指示的半径位置越靠外周侧，所述频率调整单元越使所述基准信号的频率变高。

3.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述频率调整单元通过输入所述再现时钟作为所述基准信号，来根据所述半径位置信息改变所述再现时钟的频率。

4.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述旋转驱动单元基于由所述再现时钟生成单元生成的再现时钟，来以恒定的速度旋转所述记录介质。

5.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述记录层是体层并且在所述体层中预先设有多个层位置，所述记录装置还包括控制单元，该控制单元控制所述合焦位置调整单元将所述第一光聚焦在所述体层中的一个必要层位置处。

6.根据权利要求1所述的记录装置，其中，所述记录层是具有多层结构的记录层，在该多层结构中，多个记录膜被形成在深度方向上的不同位置处，还设有控制单元，该控制单元控制所述合焦位置调整单元将所述第一光聚焦在所述记录层中的一个必要记录层处。

7.根据权利要求5所述的记录装置，其中，所述基准面上以螺旋状或同心圆状形成凹坑列，在这些凹坑列中，一周中的凹坑可形成位置的间隔限于第一间隔，在半径方向上布置的这些凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔被设定在偏离了预定的第二间隔的位置以具有多个凹坑列相位，通过在各个凹坑列上的凹坑可形成位置处是否形成凹坑的模式来把所述半径位置信息记录在每个所述凹坑列上，并且

其中，所述半径位置检测单元包括：

定时选择信号生成单元，该定时选择信号生成单元基于由所述再现时钟生成单元生成的再现时钟来生成多个定时选择信号，对于在所述基准面上形成的、具有不同凹坑列相位的多个凹坑列，这些定时选择信号表示每个凹坑列的凹坑可形成位置的定时；

定时选择信号选择单元，该定时选择信号选择单元从由所述定时选择信号生成单元生成的多个定时选择信号中选择所指示的定时选择信号；以及

信息检测单元，该信息检测单元确定在由所述定时选择信号选择单元选择的定时选择信号所表示的凹坑列的定时基于所述光接收信号获得的再现信号的通道数据值，并且基于该结果来检测所述半径位置信息。

8.一种记录方法，包括：

以恒定的速度旋转光介质，该光介质具有基准面和记录层，该基准面上通过恒定角速度方法记录了包括半径位置信息在内的信息，该记录层形成在与该基准面不同的深度位置处；

经由共同的物镜利用第一光和第二光来照射所述光记录介质，该第一光将被照射到所述记录层上，该第二光将被照射到所述基准面上；

执行调整，以在所述第二光合焦在所述基准面上的情况下使所述第一光聚焦在所述记录层中的必要位置处；

接收所述第二光的、来自所述基准面的反射光；

基于通过光接收可获得的光接收信号，来生成再现时钟；

基于通过光接收可获得的光接收信号和所述再现时钟，来检测在所述基准面上记录的半径位置信息；

根据通过半径位置检测所检测到的半径位置信息，来改变输入的基准信号的频率；

通过利用通过频率调整可获得的信号作为记录时钟来驱动所述第一光的光源发光，从而对所述记录层执行标记记录。

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