CN102260866A - 轴瓦免镀钝化处理防锈工艺 - Google Patents

轴瓦免镀钝化处理防锈工艺 Download PDF

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易书新
赵加兵
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Abstract

本发明公开了一种轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,包括下述步骤:a、酸性处理、b、碱性中和、c、浸泡钝化。该轴瓦免镀钝化处理防锈工艺既环保又经济,节能降耗、环保减污、节约锡资源、避免氢脆发生,提高了产品质量,不需高温清洗、高温烘干,保证了产品的精度。

Description

轴瓦免镀钝化处理防锈工艺
技术领域
本发明涉及轴瓦的生产工艺,尤其涉及轴瓦的一种防锈处理工艺。
背景技术
现在国内生产轴瓦厂家对轴瓦产品一般进行镀锡处理,其作用一是对轴瓦产品经各道生产过程中,产生的油污进行清洁处理防锈,二是镀锡对产品外观起装饰作用。目前内燃机轴瓦多数是双金属材料,外层一般为08、10钢,内工作表面由各种合金组成,镀锡后内工作表面还镗削加工到产品要求的尺寸。所以,镀锡对轴瓦的使用性能没有多大的作用,仅是对轴瓦钢背防锈。常规的镀锡工艺首先要进行酸处理,钢板在酸液中易产生吸氢作用而引起氢脆,这对于轴瓦产品的品质是有影响的。其次,轴瓦在镀锡过程中,需高温清洗,高温烘干易引起轴瓦的变形,这对轴瓦的尺寸的稳定是有影响的。镀锡所产生的废液对环境的影响也非常大,镀锡必须进行废水处理。镀锡的生产费用较大,消耗资源锡,每万片轴瓦电镀耗锡为2.2公斤。
发明内容
本发明提供一种既环保又经济且能提高产品质量和稳定产品精度的轴瓦免镀钝化处理防锈工艺。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案如下:
轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,包括下述步骤:
a、酸性处理:用浓度20-40%的稀硫酸对轴瓦浸泡,时间为2-4分钟,进行去锈、去氧化皮、油污处理;
b、碱性中和:用10-12%浓度的碱溶液对轴瓦浸泡中和;
c、浸泡钝化:用3-7%浓度的XH-33型水基防锈粉浸泡轴瓦,时间为3-5分钟,使轴瓦钢表面分子作用形成钝化保护层。
所述的酸性处理是用浓度20-40%的稀硫酸加入OP-21乳化剂对轴瓦浸泡,所述的OP-21乳化剂的加入量占总溶积的8-12%。
所述的碱性中和是用10%-12%浓度的烧碱对轴瓦浸泡中和。
本发明用免镀钝化处理防锈工艺代替镀锡处理轴瓦外表面,使轴瓦钢表面分子作用形成钝化保护层,能有效地预防轴瓦的锈蚀,以达到防锈的目的。使用钝化防锈处理的轴瓦,尺寸稳定,外观质量防锈效果好。
本发明与现有镀锡工艺相比具有如下有益效果:
一是节能降耗,钝化处理不需锅炉供气,镀锡电镀不仅需锅炉供气,而且镀锡电镀又是耗能大户。
二是环保减污,钝化处理环保减污,对环境不产生影响,而镀锡电镀产生的废水量较大。
三是增效,镀锡电镀耗锡每万片需2.2公斤,钝化处理可节约锡资源。
四是能提高产品质量和稳定产品精度,避免氢脆发生,提高了产品质量;不需高温清洗、高温烘干,保证了产品的精度。
具体实施方式
实施例1一种轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,包括下述步骤:
a、酸性处理:用浓度20-40%的稀硫酸加入OP-21乳化剂对轴瓦浸泡,所述的OP-21乳化剂的加入量占总溶积的8-12%,浸泡时间2分钟,进行去锈、去氧化皮、油污处理;
b、碱性中和:用10-12%浓度的烧碱对轴瓦浸泡中和;
c、浸泡钝化:用5%浓度的XH-33型水基防锈粉浸泡轴瓦,时间为5分钟,使轴瓦钢表面分子作用形成钝化保护层,能有效地预防轴瓦的锈蚀。使用钝化防锈处理的轴瓦,尺寸稳定,外观质量防锈效果更好。
实施例只是为了便于理解本发明的技术方案,并不构成对本发明保护范围的限制,凡是未脱离本发明技术方案的内容或依据本发明的技术实质对以上方案所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明保护范围之内。

Claims (3)

1.轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,包括下述步骤:
a、酸性处理:用浓度20-40%的稀硫酸对轴瓦浸泡,时间为2-4分钟,进行去锈、去氧化皮、油污处理;
b、碱性中和:用10-12%浓度的碱溶液对轴瓦浸泡中和;
c、浸泡钝化:用3-7%浓度的XH-33型水基防锈粉浸泡轴瓦,时间为3-5分钟,使轴瓦钢表面分子作用形成钝化保护层。
2.根据权利要求1所述的轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,其特征在于:所述的酸性处理是用浓度20-40%的稀硫酸加入OP-21乳化剂对轴瓦浸泡,所述的OP-21乳化剂的加入量占总溶积的8-12%。
3.根据权利要求1或2所述的轴瓦免镀钝化处理防锈工艺,其特征在于:所述的碱性中和是用10%-12%浓度的烧碱对轴瓦浸泡中和。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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