CN102226266A - Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 - Google Patents
Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102226266A CN102226266A CN2011101501719A CN201110150171A CN102226266A CN 102226266 A CN102226266 A CN 102226266A CN 2011101501719 A CN2011101501719 A CN 2011101501719A CN 201110150171 A CN201110150171 A CN 201110150171A CN 102226266 A CN102226266 A CN 102226266A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- negative pressure
- pressure chamber
- low
- glass
- pressure room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及Low-E玻璃的真空镀膜操作中的设备，特别是一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统。它包括负压室，其特征在于：该负压室具有一入口闸门，该入口闸门前具有基片输送带；该负压室上具有进气阀和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。它主要解决现有将基片人工输入负压室并进行抽真空操作的工作效率较低，影响生产效率的技术问题，它可将该工位的工作节拍提高到28秒/节拍，提高了生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及Low-E玻璃的真空镀膜操作中的设备，特别是一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统。
背景技术
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异个隔热效果和良好的透光性。
对于Low-E玻璃上镀膜的方式主要采用真空镀膜的方式，而真空镀膜的操作主要是在真空室（或负压室）中进行。目前，将Low-E玻璃基片输送到负压室的操作主要采用人工搬运输送操作，并在基片输送到位后再采用抽真空的方式来实现镀膜操作的真空环境。这种操作方式的工作效率十分低，即便是在操作非常熟练的情况下，该工位的工作节拍也要达到45秒/节拍，以致于降低了生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，主要解决现有将基片人工输入负压室并进行抽真空操作的工作效率较低，影响生产效率的技术问题，它可将该工位的工作节拍提高到28秒/节拍，提高了生产效率。
为实现上述目的，本发明是这样实现的。
一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，它包括负压室，其特征在于：该负压室具有一入口闸门，该入口闸门前具有基片输送带；该负压室上具有进气阀和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。
所述的Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，其特征在于：该负压形成装置包括与负压室上真空抽气口连接的管线，管线上具有抽气阀和储气罐，管线的另一端则连接有真空泵。
本发明系统的主要优点在于：本发明装置通过其结构设置，可将基片输入负压室并制造真空镀膜环境这个工位的工作节拍提升为28秒／节拍，达到提高工作效率的目的。
附图说明
图1是本发明系统的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1，它是本发明一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统得结构示意图。如图所示：它包括负压室1，其特征在于：该负压室1具有一入口闸门10，该入口闸门10前具有基片输送带2；该负压室1上具有进气阀11和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。该负压形成装置包括与负压室1上真空抽气口连接的管线，管线上具有抽气阀3和储气罐4，管线的另一端则连接有真空泵5。
本发明使用过程如下。
1、在基片输送带2上建立按照不同进片规格的量适当控制调节设定进片速度。
2、在基片即将进入负压室时，由于负压的作用入口闸门10暂时无法开启，因此必须先打开进气阀11，当负压室1的气压达到正常大气压后即能够自动打开入口闸门10，当与完成进片量并与传递速度达到一致的情况下，自动关闭入口闸门10和进气阀11，同时打开负压形成装置上的抽气阀3，当负压形成装置上的真空泵5的工作达到设定负压值时才关闭抽气阀3。
所述的负压形成装置上可设置两路抽真空管路，两路管路之间可通过三通6连接并共同通向真空抽气口。其中一路抽真空管路上还连接有负压储气罐4连接。在配置负压储气罐4时，按照负压室1的负压要求提高1/2的负压要求配置，当负压室中各部分的负压一致时自动关闭抽气阀3。
通过以上的结构，可将该工位的工作节拍提升为28秒／节拍，就能够达到提高工作效率的目的。
综上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明的实施范围，即凡依本发明申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰，都应为本发明的技术范畴。
Claims (2)
1.一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，它包括负压室（1），其特征在于：该负压室（1）具有一入口闸门（10），该入口闸门（10）前具有基片输送带（2）；该负压室（1）上具有进气阀（11）和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。
2.根据权利要求1所述的Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，其特征在于：该负压形成装置包括与负压室（1）上真空抽气口连接的管线，管线上具有抽气阀（3）和储气罐（4），管线的另一端则连接有真空泵（5）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011101501719A CN102226266A (zh) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011101501719A CN102226266A (zh) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102226266A true CN102226266A (zh) | 2011-10-26 |
Family
ID=44807262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011101501719A Pending CN102226266A (zh) | 2011-06-07 | 2011-06-07 | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102226266A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2422291Y (zh) * | 2000-06-07 | 2001-03-07 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心 | 真空镀膜装置 |
| CN1607367A (zh) * | 2003-07-08 | 2005-04-20 | 柯煜阳 | 一种常温保鲜柜 |
| CN1718849A (zh) * | 2005-08-11 | 2006-01-11 | 孙卓 | 多功能复合磁控等离子体溅射装置 |
| CN101139699A (zh) * | 2007-08-07 | 2008-03-12 | 北京实力源科技开发有限责任公司 | 一种量产真空镀膜系统结构及其工件传输系统 |
| CN202131362U (zh) * | 2011-06-07 | 2012-02-01 | 福莱特光伏玻璃集团股份有限公司 | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 |
-
2011
- 2011-06-07 CN CN2011101501719A patent/CN102226266A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2422291Y (zh) * | 2000-06-07 | 2001-03-07 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心 | 真空镀膜装置 |
| CN1607367A (zh) * | 2003-07-08 | 2005-04-20 | 柯煜阳 | 一种常温保鲜柜 |
| CN1718849A (zh) * | 2005-08-11 | 2006-01-11 | 孙卓 | 多功能复合磁控等离子体溅射装置 |
| CN101139699A (zh) * | 2007-08-07 | 2008-03-12 | 北京实力源科技开发有限责任公司 | 一种量产真空镀膜系统结构及其工件传输系统 |
| CN202131362U (zh) * | 2011-06-07 | 2012-02-01 | 福莱特光伏玻璃集团股份有限公司 | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN205241783U (zh) | 一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线 | |
| CN104694903A (zh) | 连续式物理真空镀膜设备 | |
| CN205893384U (zh) | 连续式真空镀膜设备 | |
| CN201275518Y (zh) | 适用于板件的帘幕式自动化涂装机 | |
| CN107841725A (zh) | 一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统及其作业方法 | |
| CN202131362U (zh) | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 | |
| CN108677160B (zh) | 一种基于公自转装载托盘的连续镀膜生产线 | |
| CN204151409U (zh) | 线性溅射源分段供气系统 | |
| CN102226266A (zh) | Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统 | |
| CN109665726A (zh) | 一种真空玻璃的封边方法 | |
| CN104890322A (zh) | 一种耐划伤可钢化双银低辐射镀膜玻璃 | |
| US10590528B2 (en) | Device for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system | |
| CN103451614B (zh) | 车灯玻璃连续镀膜装置及方法 | |
| CN203602502U (zh) | 一种low-e节能夹层安全玻璃 | |
| CN215668193U (zh) | 一种管道传输连续式真空镀膜生产线结构 | |
| CN212199020U (zh) | 一步法真空玻璃合片生产线 | |
| CN207685340U (zh) | 一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统 | |
| CN205542906U (zh) | 一种烧结设备、有机发光二极管器件用封装系统 | |
| CN201695080U (zh) | 一种磁控溅射镀膜机 | |
| CN203700510U (zh) | 抗反射导电ito膜连续镀膜生产线 | |
| CN104230385A (zh) | 新型转臂式自动浸釉装置 | |
| CN111662004B (zh) | 薄膜太阳能电池钢化炉及钢化方法 | |
| CN203462126U (zh) | 车灯玻璃连续镀膜装置 | |
| CN103613292A (zh) | 一种low-e节能夹层安全玻璃 | |
| CN208632384U (zh) | 车用纳米隔热玻璃镀膜进架室抽真空机构 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20111026 |