CN205893384U - 连续式真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种连续式真空镀膜设备，包括：真空室装置，包括真空腔室及用于维持真空腔室处于预定真空度状态的抽真空机构，真空腔室至少包括镀膜室；镀膜装置，包括设置于镀膜室内的镀膜机构及电感耦合机构；传送装置，用于连续循环传送工件，所述传送装置包括闭环设计的传送带机构以及由传送带机构进行循环传送的用于装载工件的载板，所述传送带机构包括位于真空腔室内的真空传送段和位于真空腔室外部且与真空传送段对应衔接的大气传送段；以及控制装置，用于控制所述抽真空机构、镀膜装置及传送带机构协同工作。本实用新型采用真空传送段与大气传送段相结合，并配套相应的镀膜装置和控制装置，可实现连续、批量化投片生产，生产效率高。

Description

连续式真空镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜生产设备技术领域，尤其涉及一种连续式真空镀膜设备。

背景技术

现有的智能电子产品基本都上是触摸显示屏作为人机交互界面，触摸显示屏的盖板或视窗需要具有高透过率、低反射光学性能，才能确保消费者获得舒适的视觉体验。而在盖板或视窗上磁控溅射分子层各类光学膜是获得上述光学性能最有效的方法，已被广泛应用于生产。

目前，所有光学镀膜机采用单真空腔体结构，装卸片时，真空腔体须停机破空开腔。由此而导致了光学膜的生产过程为间断式投片生产模式。单真空腔体成本大且产能低，导致光学膜成本居高不下，直接影响了光学膜的推广应用。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种连续式真空镀膜设备，能有效提升生产效率。

为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种连续式真空镀膜设备，包括：

真空室装置，包括真空腔室以及用于维持所述真空腔室处于预定真空度状态的抽真空机构，所述真空腔室至少包括镀膜室；

镀膜装置，包括均设置于镀膜室内的镀膜机构及电感耦合机构；

传送装置，用于连续循环传送工件，所述传送装置包括闭环设计的传送带机构以及由传送带机构进行循环传送的用于装载工件的载板，所述传送带机构包括位于真空腔室内的真空传送段和位于真空腔室外部且与真空传送段对应衔接的大气传送段；以及

控制装置，用于控制所述抽真空机构、镀膜装置及传送带机构协同工作。

进一步地，所述真空腔室还包括分别设置于镀膜室的进片端和出片端的进片室和出片室。

进一步地，所述大气传送段自出片室到进片室依次包括：用于与真空传送段的位于出片室出口的一端相衔接以接收真空传送段输出的装载有已镀膜工件的载板的第一平移台、用于对自第一平移台传送来的载板进行装卸工件操作的装卸站以及与真空传送段的位于进片室入口的一端相衔接以将在装卸站装载上待镀膜工件的载板传送至真空传送段的第二平移台。

进一步地，所述大气传送段还包括设置于第一平移台和装卸站之间、用于暂存第一平移台送来的装载有已镀膜工件的载板的第一存储站。

进一步地，所述大气传送段还包括设置于装卸站和第二平移台之间、用于暂存装载有待镀膜工件的载板的第二存储站。

进一步地，所述控制装置包含：

控制面板，用于设定和显示运行参数；

数据处理模块，用于进行数据运算及发出控制指令以协调控制所述抽真空机构、镀膜机构、电感耦合机构以及传送带机构的工作状态。

采用上述技术方案后，本实用新型至少具有如下有益效果：本实用新型采用真空传送段与大气传送段相结合，并配套相对应的镀膜装置和控制装置，可以实现连续（In-line）、批量化（Batch）投片生产，生产效率高。而且，本实用新型还有利于工件（基板）的装卸，有效降低设备成本。本实用新型可广泛应用于单层及多层光学膜、多层应力超硬膜、光学装饰膜、隔热膜、商标防伪膜等真空镀膜薄膜的镀膜工艺。

附图说明

图1为本实用新型连续式真空镀膜设备的结构示意图。

图2为本实用新型连续式真空镀膜设备的控制装置的控制原理方框图。

图3为本实用新型连续式真空镀膜设备的载板与基板结合平面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定，而且，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。

如图1至图3所示，本实用新型实施例提供一种连续式真空镀膜设备，包括：

真空室装置（图未标示），包括真空腔室10以及用于维持所述真空腔室10处于预定真空度状态的抽真空机构12（如图2所示），所述真空腔室10至少包括镀膜室100；

镀膜装置2，包括均设置于镀膜室100内的镀膜机构20及电感耦合机构（ICP机构）22；

传送装置（图未标示），用于连续循环传送工件，所述传送装置包括闭环设计的传送带机构30以及由传送带机构进行循环传送的用于装载工件5的载板31（如图3所示），所述传送带机构30包括位于真空腔室10内的真空传送段（图未标示）和位于真空腔室10外部且与真空传送段对应衔接的大气传送段32；以及

控制装置4，用于控制所述抽真空机构12、镀膜装置2及传送带机构30协同工作。

本实用新型采用真空传送段与大气传送段32相结合，并配套相对应的镀膜装置2和控制装置4，可以实现连续（In-line）、批量化（Batch）投片生产，生产效率高。连续式（In-line）投片生产模式相比较间断式投片生产模式，节拍大幅度缩短，产能提高至3倍；工件（基板）存储净化室需求缩小至1/4，极大地降低了光学膜生产成本。

为有效保持镀膜室100的真空环境，所述真空腔室10还可包括分别设置于镀膜室100的进片端和出片端的进片室102和出片室104。从而，在装载有工件（基板）5的载板31进出镀膜室100时都是处于真空环境下，能更好地保持镀膜室100内的真空环境，提升镀膜品质。

所述大气传送段32用于在真空传送段的输出端和输出端之间传送载板31以实现载板31的循环传送。在一个实施例中，所述大气传送段32自真空传送段的输出端到真空传送段的输入端依次包括：用于与真空传送段的输出端相衔接以接收真空传送段输出的装载有已镀膜工件的载板31的第一平移台320、用于对载板31进行装卸工件操作的装卸站322以及与传送机构30的进片端相衔接以将第二存储站322中存放的装载有待镀膜工件的载板31传送至真空传送段的输入端的第二平移台324。

为了提升处理效率，避免设备空转，以及方便在设备维护时能方便存放载板，在一个实施例中，所述大气传送段32还可包括设置于第一平移台320和装卸站322之间、用于暂存第一平移台320送来的装载有已镀膜工件的载板31的第一存储站321。而在另一个实施例，所述大气传送段32也还包括设置于装卸站322和第二平移台324之间、用于暂存装载有待镀膜工件的载板31的第二存储站323。

所述控制装置4用于实现控制功能，结合图2所示，所述控制装置4通常包含：

控制面板40，用于设定和显示运行参数；

数据处理模块42，用于进行数据运算及发出控制指令以协调控制所述抽真空机构12、镀膜机构20、电感耦合机构22、传送带机构30的工作状态。

结合图1~图3所示，采用本实用新型连续式镀膜生产设备对基板（即：工件）进行镀膜的具体工作过程如下：当设备启动后，操作人员在操作面板40上进行必要的设置，如无需更改预定设置，则可跳过本步骤；然后，在控制装置4的控制下，抽真空机构12工作以使各真空腔室10分别处于预定真空度状态；在装卸站322将需要镀膜基板装载在载板31上，传送带机构30将载板31连同所装载的基板一起传送依次经过第二存储站323、第二平移站324、进片室102、镀膜室100、出片室104、第一平移站320、第一存储站321，最终再返回到装卸站322。在经过镀膜室100时，镀膜室100内部的镀膜机构20、ICP机构22对基板进行镀膜操作；而在返回到装卸站322后，即可将已镀膜的基板从载板31上取下，再装上新的待镀膜基板，继而进入下一个连续循环镀膜周期。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同范围限定。

Claims (6)

1.一种连续式真空镀膜设备，其特征在于，包括：

真空室装置，包括真空腔室以及用于维持所述真空腔室处于预定真空度状态的抽真空机构，所述真空腔室至少包括镀膜室；

镀膜装置，包括均设置于镀膜室内的镀膜机构及电感耦合机构；

传送装置，用于连续循环传送工件，所述传送装置包括闭环设计的传送带机构以及由传送带机构进行循环传送的用于装载工件的载板，所述传送带机构包括位于真空腔室内的真空传送段和位于真空腔室外部且与真空传送段对应衔接的大气传送段；以及

控制装置，用于控制所述抽真空机构、镀膜装置及传送带机构协同工作。

2.如权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述真空腔室还包括分别设置于镀膜室的进片端和出片端的进片室和出片室。

3.如权利要求2所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述大气传送段自真空传送段的输出端至输入端依次包括：用于与真空传送段的位于出片室出口的一端相衔接以接收真空传送段输出的装载有已镀膜工件的载板的第一平移台、用于对自第一平移台传送来的载板进行装卸工件操作的装卸站以及与真空传送段的位于进片室入口的一端相衔接以将在装卸站装载上待镀膜工件的载板传送至真空传送段的第二平移台。

4.如权利要求3所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述大气传送段还包括设置于第一平移台和装卸站之间、用于暂存第一平移台送来的装载有已镀膜工件的载板的第一存储站。

5.如权利要求3所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述大气传送段还包括设置于装卸站和第二移台之间、用于暂存装载有待镀膜工件的载板的第二存储站。

6.如权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述控制装置包含：

控制面板，用于设定和显示运行参数；

数据处理模块，用于进行数据运算及发出控制指令以协调控制所述抽真空机构、镀膜机构、电感耦合机构以及传送带机构的工作状态。