CN109252138B - 真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本发明属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。该真空镀膜设备，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，第一真空腔室排、真空回转装置、第二真空腔室排及大气回转装置顺次排布以形成循环，第一真空腔室排及第二真空腔室排均位于大气回转装置与真空回转装置之间，第一真空腔室排包括多个沿第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室，第二真空腔室排包括沿第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室，后缓冲真空室设有多个，且沿第二方向顺次排布，各第一前缓冲真空室在第一方向上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向上的延伸长度之和。

Description

真空镀膜设备

技术领域

本发明属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面形成镀膜层的一种技术。

真空镀膜技术应用在众多领域，如平板显示器领域内的透明电极镀膜、家电制造领域内的塑料装饰镀膜以及建筑材料领域内的玻璃陶瓷装饰镀膜等。

未经镀膜的基片表面通常会预先进行设计图案的印刷，待印刷图案烘干形成印刷涂层后再进行真空镀膜。但是，印刷涂层内残留的水分和其他化学药剂成分，在真空条件下会很大程度上影响镀膜层的附着性能及致密性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：针对现有的印刷涂层内的水分和化学药剂成分影响镀膜层的附着性能及致密性的技术缺陷，提供一种真空镀膜设备。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种真空镀膜设备，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，所述第一真空腔室排、所述真空回转装置、所述第二真空腔室排及所述大气回转装置顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述大气回转装置与所述真空回转装置之间，由所述大气回转装置至所述真空回转装置的方向为第一方向，由所述真空回转装置至所述大气回转装置的方向为第二方向；

所述第一真空腔室排包括多个沿所述第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室，所述后缓冲真空室设有多个，且沿所述第二方向顺次排布，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和大于各所述后缓冲真空室在所述第二方向上的延伸长度之和；

所述第一驱动机构用于驱动承载基片的基片车沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，所述第二驱动机构用于驱动所述基片车沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排；

所述真空回转装置用于将所述基片车在真空条件下由所述第一真空腔室排转动至所述第二真空腔室排，所述大气回转装置用于将所述基片车由所述第二真空腔室排转动至所述第一真空腔室排。

可选地，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和等于所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度。

可选地，所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度等于所述第二真空腔室排在所述第二方向上的延伸长度。

可选地，所述第二真空腔室排与所述第一真空腔室排并排且对齐设置。

可选地，所述第一方向及所述第二方向均为线性方向。

可选地，多个所述第一前缓冲真空室分别为沿所述第一方向顺次排布的第一低真空室及第一高真空室，所述第一高真空室内的真空度高于所述第一低真空室内的真空度；

所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第二高真空室及第二低真空室，所述第二高真空室内的真空度高于所述第二低真空室内的真空度。

可选地，所述第一低真空室为进口真空室，所述第一高真空室包括沿所述第一方向排布且真空度逐渐增高的进口真空锁定室及进口真空过渡室；

第二高真空室包括真空镀膜室及沿第二方向排布且真空度逐渐降低的出口真空过渡室及出口真空锁定室，所述第二低真空室为出口真空室。

可选地，所述进口真空过渡室包括沿所述第一方向顺次排布的第一真空过渡室及第二真空过渡室，所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室并排且对齐设置。

可选地，所述真空镀膜设备还包括第一箱体、第二箱体、第三箱体、第四箱体、第一隔板、第二隔板、第三隔板及第四隔板，所述第一箱体、所述第二箱体、所述第三箱体及所述第四箱体沿所述第一方向顺次排布；

所述第一隔板将所述第一箱体分隔成所述进口真空室与所述出口真空室；

所述第二隔板将所述第二箱体分隔成所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室；

所述第三隔板将所述第三箱体分隔成所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室；

所述第四隔板将所述第四箱体分隔成所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室。

可选地，所述第二真空腔室排还包括第二前缓冲真空室，所述第二前缓冲真空室及所述真空镀膜室沿所述第二方向顺次排布；

所述进口真空过渡室还包括第三真空过渡室，所述第二真空过渡室及所述第三真空过渡室沿所述第一方向顺次排布，所述第二前缓冲真空室与所述第三真空过渡室并排且对齐设置。

可选地，所述真空镀膜设备还包括第五箱体及第五隔板，所述第五隔板将所述第五箱体分隔成所述第三真空过渡室与所述第二前缓冲真空室。

可选地，所述真空镀膜设备还包括真空泵组，所述真空泵组用于抽取所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排内的空气；

所述真空泵包括多个真空泵，多个所述真空泵位于所述第一真空腔室排的同一侧。

可选地，所述真空泵组包括第一扩散泵、第二扩散泵、第一粗真空泵、第二粗真空泵、第三粗真空泵及第四粗真空泵；

所述真空镀膜设备还包括第一真空管道、第二真空管道、第一圆形高阀及第二圆形高阀，所述第一扩散泵与所述第一粗真空泵配合以抽取所述第一高真空室内的空气，所述第一真空管道及所述第一圆形高阀用于连通所述第一扩散泵与所述第一高真空室，所述第一真空管道位于所述第一高真空室的中部；

所述第二扩散泵与所述第二粗真空泵配合以抽取所述第二高真空室内的空气，所述第二真空管道及所述第二圆形高阀用于连通所述第二扩散泵与所述第二高真空室，所述第二真空管道位于所述第二高真空室的中部；

所述第三粗真空泵用于抽取所述第一低真空室内的空气，所述第四粗真空泵用于抽取所述第二低真空室内的空气。

实施本发明实施例，将具有如下有益效果：

上述实施例提供的真空镀膜设备，第一驱动机构驱动基片车沿第一方向穿过第一真空腔室排，以使基片车上的基片在镀膜前完成真空脱气，从而去除基片及其印刷涂层内残余的水分及其他化学成分。然后，真空回转装置将位于第一真空腔室排的末端的基片车转动至第二真空腔室排的初端，基片车在第二驱动机构的驱动下穿过第二真空腔室排，基片车上的基片在真空镀膜室内完成镀膜，经后缓冲真空室到达大气回转装置，人工或者自动卸载基片车上的完成镀膜的基片后，大气回转装置带动空载的基片车进入第一真空腔室排，重新装载后进行下一个循环。

由于各第一前缓冲真空室在第一方向上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向上的延伸长度之和，因此，该真空镀膜设备增加了基片在镀膜前的脱气程度，避免了基片在镀膜过程中持续释放水分等杂质而影响金属或者金属化合物在基片上的沉积，进而保证了镀膜的一致性和致密性。另外，由于真空镀膜室设置在第二真空腔室排上，因此，第一真空腔室排可全部用于镀膜前的真空缓冲，即，真空脱气，这样能增加基片车的传输速度，提高镀膜效率。

另外，基片车仅在卸载和装载基片，以及由第二真空腔室排转动至第一真空腔室排时暴露在大气中，大大减少了基片车暴露在大气中的时间，从而大大减少了基片车吸收大气中的水分及杂质的数量，减轻了真空脱气的负担，稳定了该真空镀膜设备的镀膜功能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的真空镀膜设备的示意图；

图2是本发明实施例提供的真空镀膜设备的立体示意图；

图3是图2所示的真空镀膜设备的另一视角的示意图；

图4是图2所示的真空镀膜设备的剖视图；

图5是图4中a处的放大图；

图6是图4中b处的放大图；

图7是图4中c处的放大图；

图8是图2所示的真空镀膜设备的基片车的示意图；

图9是图2所示的真空镀膜设备的第二圆形高阀的示意图。

说明书中的附图标记如下：

1、第一真空腔室排；11、进口真空室；12、进口真空锁定室；13、进口真空过渡室；131、第一真空过渡室；132、第二真空过渡室；133、第三真空过渡室；

2、第二真空腔室排；21、第二前缓冲真空室；22、真空镀膜室；23、出口真空过渡室；24、出口真空锁定室；25、出口真空室；

3、大气回转装置；31、上片台；311、第一上片齿轮；3111、第五环形凹槽； 312、第二上片齿轮；3121、第六环形凹槽；

4、真空回转装置；41、真空回转室；42、第一转动架；421、第一架体； 422、转动连接座；431、蜗轮；432、蜗杆；433、第一锥齿轮；434、第二锥齿轮；435、第三带轮；4351、第三环形凹槽；

5、第一驱动机构；51、第一带轮；511、第一环形凹槽；52、第一同步带；

6、第二驱动机构；61、第二带轮；61 1、第二环形凹槽；62、第二同步带；

7、基片车；71、基片传动轴；72、基片架；

81、第一箱体；82、第二箱体；83、第三箱体；84、第四箱体；85、第一隔板；86、第二隔板；87、第三隔板；88、第四隔板；

101、电控柜；102、电源柜；

201、第一扩散泵；202、第二扩散泵；203、第一粗真空泵； 204、第二粗真空泵；205、第三粗真空泵；206、第四粗真空泵；

301、第一真空管道；302、第二真空管道；303、第一圆形高阀；304、第二圆形高阀；3041、第一圆形管道；3042、第二圆形管道。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1至图9所示，本发明实施例提供一种真空镀膜设备，包括第一真空腔室排1、第二真空腔室排2、大气回转装置3、真空回转装置4、第一驱动机构5及第二驱动机构6，第一真空腔室排1、真空回转装置4、第二真空腔室排 2及大气回转装置3顺次排布以形成循环，第一真空腔室排1与第二真空腔室排 2均位于大气回转装置3与真空回转装置4之间。为方便描述，在此定义大气回转装置3至真空回转装置4的方向为第一方向a，真空回转装置4至大气回转装置3的方向为第二方向b，也即，第一方向a与第二方向b相反。

第一真空腔室排1包括多个沿第一方向a顺次排布的第一前缓冲真空室，第二真空腔室排2包括沿第二方向b顺次排布的真空镀膜室22及后缓冲真空室，后缓冲真空室设有多个，且沿第二方向b顺次排布，各第一前缓冲真空室在第一方向a上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向b上的延伸长度之和。

基片车7用于承载基片，第一驱动机构5用于驱动基片车7沿第一方向a 穿过第一真空腔室排1，第二驱动机构6用于驱动基片车7沿第二方向b穿过第二真空腔室排2。真空回转装置4用于将基片车7在真空条件下由第一真空腔室排1转动至第二真空腔室排2，大气回转装置3用于将基片车7由第二真空腔室排2转动至第一真空腔室排1。

上述实施例提供的真空镀膜设备，第一驱动机构5驱动基片车7沿第一方向a穿过第一真空腔室排1，以使基片车7上的基片在镀膜前完成真空脱气，从而去除基片及其印刷涂层内残余的水分及其他化学成分。然后，真空回转装置4 将位于第一真空腔室排1的末端的基片车7转动至第二真空腔室排2的初端，基片车7在第二驱动机构6的驱动下穿过第二真空腔室排2，基片车7上的基片在真空镀膜室22内完成镀膜，经后缓冲真空室到达大气回转装置3，人工或者自动卸载基片车7上的完成镀膜的基片后，大气回转装置3带动空载的基片车7 进入第一真空腔室排1，重新装载后进行下一个循环。

由于各第一前缓冲真空室在第一方向a上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向b上的延伸长度之和，因此，该真空镀膜设备增加了基片在镀膜前的脱气程度，避免了基片在镀膜过程中持续释放水分等杂质而影响金属或者金属化合物在基片上的沉积，进而保证了镀膜的一致性和致密性。另外，由于真空镀膜室22设置在第二真空腔室排2上，因此，第一真空腔室排1可全部用于镀膜前的真空缓冲，即，真空脱气，这样能增加基片车7的传输速度，提高镀膜效率。

另外，基片车7仅在卸载和装载基片，及由第二真空腔室排2转动至第一真空腔室排1的过程中暴露在大气中，大大减少了基片车7暴露在大气中的时间，从而大大减少了基片车7吸收大气中的水分及杂质的数量，减轻了真空脱气的负担，稳定了该真空镀膜设备的镀膜功能。

具体到本实施例中，各第一前缓冲真空室在第一方向a上的延伸长度之和等于第一真空腔室排1在第一方向a上的延伸长度。即，第一真空腔室排1全部用于镀膜前的真空脱气，与同样延伸长度的传统的真空镀膜设备相比，该真空镀膜设备大大增加了镀膜前的真空脱气程度。第一真空腔室排1在第一方向a 上的延伸长度等于第二真空腔室排2在第二方向b上的延伸长度。第二真空腔室排2与第一真空腔室排1并排设置，且以图2所示为观察视角，第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正后方。即，第二真空腔室排2与第一真空腔室排1对齐设置。

在其他实施例中，可以是，第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正前方，还可以是，第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正上方，也可以是，第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正下方。

具体地，如图1所示，多个第一前缓冲真空室分别为沿第一方向a顺次排布的第一低真空室及第一高真空室，第一高真空室的真空度高于第一低真空室的真空度，更为具体地，第一低真空室为进口真空室11，第一高真空室包括沿第一方向a顺次排布且真空度逐渐增大的进口真空锁定室12及进口真空过渡室 13，其中，进口真空过渡室13包括沿第一方向a顺次排布的第一真空过渡室131、第二真空过渡室132及第三真空过渡室133。

具体地，如图1所示，第二真空腔室排2包括沿第二方向b顺次排布的第二高真空室及第二低真空室，第二高真空室的真空度高于第二低真空室的真空度。其中，第二高真空室包括真空镀膜室22及沿第二方向b顺次排布且真空度逐渐降低的出口真空过渡室23及出口真空锁定室24，第二低真空室为出口真空室25。第二真空腔室排2还包括第二前缓冲真空室21，第二前缓冲真空室21 与真空镀膜室22沿第二方向b顺次排布。

本实施例中，第一真空过渡室131、第二真空过渡室132及第三真空过渡室 133内的真空度一致，且三者之间相互连通。第二前缓冲真空室21、真空镀膜室22及出口真空过渡室23内的真空度一致，且三者相互连通。进口真空室11 的首端、进口真空室11与进口真空锁定室12之间、进口真空锁定室12与第一真空过渡室131之间均通过阀门连接。出口真空过渡室23与出口真空锁定室24 之间、出口真空锁定室24与出口真空室25之间以及出口真空室25的末端通过阀门连接。以基片车7进入进口真空室11为例，基片车7到达进口真空室11的首端时，进口真空室11首端的阀门打开，待基片车7完全进入进口真空室11 后，进口真空室11内的空气被抽走以形成负压，完成低真空抽气后，进口真空室11与进口真空锁定室12之间的阀门打开，基片车进入进口真空锁定室12，进行高真空抽气。

在如图2所示的实施例中，第三真空过渡室133与第二前缓冲真空室21还可以省略。

在其他实施例中，第一真空腔室排1还包括位于第二真空过渡室132与第三真空过渡室133之间的至少一个真空过渡室。同样地，第二前缓冲真空室21 与真空镀膜室22之间也可以设置至少一个真空过渡室。并且，位于第二真空过渡室132与第三真空过渡室133之间的真空过渡室的数量及在第一方向a上的延伸的长度与第二前缓冲真空室21与真空镀膜室22之间的真空过渡室的数量及在第二方向b上的延伸的长度一致，以使第一真空腔室排1在第一方向a上的延伸长度与第二真空腔室排2在第二方向b上的延伸长度一致。

如图1所示，进口真空室11与出口真空室25并排且对齐设置，进口真空锁定室12与出口真空锁定室24并排且对齐设置，第一真空过渡室131与出口真空过渡室23并排且对齐设置，第二真空过渡室132与真空镀膜室22并排且对齐设置，第三真空过渡室133与第二前缓冲真空室21并排且对齐设置。

在其他实施例中，进口真空室11的初端与出口真空室25的末端对齐，第三真空过渡室133的末端与第二前缓冲真空室21的初端对齐，而对于第一真空腔室排1的其他第一前缓冲真空室与第二真空腔室排2的真空镀膜室22及其他后缓冲真空室是否对齐不做具体的限制。

当第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正后方时，出口真空室25位于进口真空室11的正后方，出口真空锁定室24位于进口真空过渡室13的正后方，出口真空过渡室23位于第一真空过渡室131的正后方，真空镀膜室22位于第二真空过渡室132的正后方，第二前缓冲真空室21位于第三真空过渡室133 的正后方。

类似地，当第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正前方时，出口真空室25位于进口真空室11的正前方，出口真空锁定室24位于进口真空过渡室 13的正前方，出口真空过渡室23位于第一真空过渡室131的正前方，真空镀膜室22位于第二真空过渡室132的正前方，第二前缓冲真空室21位于第三真空过渡室133的正前方。当第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正上方，或者第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正下方时，第二前缓冲真空室 21、真空镀膜室22、各第一前缓冲真空室及各后缓冲真空室的位置关系与第二真空腔室排2位于第一真空腔室排1的正后方时的情况类似。在此，不再赘述。

如图2、图3及图4所示，真空镀膜设备还包括沿第一方向a顺次排布的第一箱体81、第二箱体82、第三箱体83及第四箱体84，第一箱体81被第一隔板 85分隔成进口真空室11与出口真空室25，第二箱体82被第二隔板86分隔成进口真空过渡室13及出口真空锁定室24，第三箱体83被第三隔板87分隔成第一真空过渡室131及出口真空过渡室23，第四箱体84被第四隔板88分隔成第二真空过渡室132及真空镀膜室22。其中，进口真空室11与出口真空室25用于对基片进行粗真空抽气，进口真空锁定室12及出口真空锁定室24用于对及基片进行高真空抽气，进口真空过渡室13及出口真空过渡室23用于对基片进行高真空脱气。优选地，第二真空过渡室132内设置有等离子灰光烘机，用于增强高真空脱气的程度。

本实施例中，第一箱体81、第二箱体82、第三箱体83及第四箱体84呈线性排布，第一方向a及第二方向b均为线性方向。第一隔板85、第二隔板86、第三隔板87及第四隔板88沿第一方向a顺次布置且呈线性排布。

在其他实施例中，第一隔板85、第二隔板86、第三隔板87及第四隔板88 也可以沿第一方向a顺次布置，但交错布置。此时，第一方向a及第二方向b 仍然为线性方向。

如图1及图2所示，真空镀膜设备还包括用于抽取第一真空腔室排1及第二真空腔室排2内的空气的真空泵组，真空泵组包括第一扩散泵201、第二扩散泵202、第一粗真空泵203、第二粗真空泵204、第三粗真空泵205及第四粗真空泵206，第一扩散泵201、第二扩散泵202、第一粗真空泵203、第二粗真空泵204、第三粗真空泵205及第四粗真空泵206位于第一真空腔室排1的同一侧。这样，真空泵组20产生的噪音可以被第一真空腔室排1及第二真空腔室排2阻隔，从而有利于减小噪音。检修时，不需要在第一真空腔室排1的两侧来回反复，有利于检修。第一真空腔室排1的两侧指的是以图4为视角的第一真空腔室排1的前后两侧。

真空镀膜设备还包括第一真空管道301、第二真空管道302、第一圆形高阀 303及第二圆形高阀304，第一扩散泵201与第一粗真空泵203配合以抽取第一高真空室内的空气，第一真空管道301及第一圆形高阀303用于连通第一扩散泵201与第一高真空室，第一真空管道301位于第一高真空室的中部。第二扩散泵202与第二粗真空泵204配合以抽取第二高真空室内的空气，第二真空管道302及第二圆形高阀304用于连通第二扩散泵202与第二高真空室，第二真空管道302位于第二高真空室的中部。第三粗真空泵205用于抽取第一低真空室内的空气，第四粗真空泵206用于抽取第二低真空室内的空气。

以第二圆形高阀304为例，第二圆形高阀304具有第一圆形管道3041及第二圆形管道3042，第一圆形管道3041与第二圆形管道3042连通，第一圆形管道3041与第二高真空室连通，第二圆形管道3042与第二扩散泵202连通，第二圆形管道3042的尺寸与第二扩散泵202的抽气口的尺寸一致，从而有利于抽气流导的提高，并减少焊缝漏气几率。第一圆形高阀303的结构与第二圆形高阀304的结构相同。

本发明将圆形高阀用于该真空镀膜设备，替代了传统的扁形阀，借助于第一真空管道301及第二真空管道302，将第一真空管道301及第二真空管道302 分别连接在第一高真空室的中部及第二高真空室的中部，这样，保证第一高真空室及第二高真空室内的压强分布均匀，保证镀膜的均匀性。

需要说明的是，当第二真空腔室排2包括第二前缓冲真空室21时，第二前缓冲真空室21也属于第二高真空室。

在本实施例中，第一驱动机构5包括第一电机及第一传动机构，第一传动机构包括多个第一带轮51及多个第一同步带52，多个第一带轮51沿第一方向 a顺次排布在第一真空腔室排1内且与基片车7配合，第一同步带52套设在任意相邻的两个第一带轮51上，第一电机的驱动轴与任意一个第一带轮51连接，其余的第一带轮51在多个第一同步带52的传动作用下实现同步转动，当基片车7与第一带轮51配合时，基片车7能够沿第一方向a移动。

如图6及图8所示，基片车7包括基片传动轴71及连接在基片传动轴71 的基片架72，第一带轮51上设置有第一环形凹槽511，基片传动轴71与第一环形凹槽511配合。多个第一环形凹槽511位于同一直线上。

类似地，第二驱动机构6包括第二电机及第二传动机构，第二传动机构包括多个第二带轮61及多个第二同步带62，多个第二带轮61沿第二方向b顺次排布在第二真空腔室排2内且与基片车7配合，第二同步带62套设在任意相邻的两个第二带轮61上，第二电机的驱动轴与任意一个第二带轮61连接，其余第二带轮61在多个第二同步带62的传动作用下实现同步转动，其中第一电机的输出轴的转动方向与第二电机的输出轴的转动方向相反，从而使得当基片车7 与第二带轮61配合时，能够沿第二方向b移动。具体地，第二带轮61上设置有第二环形凹槽61 1，基片传动轴71与第二环形凹槽61 1配合。多个第二环形凹槽61 1位于同一直线上。

然而，在其他实施例中，第一传动机构及第二传动机构还可以是齿条传动等其他传动类型，第一传动机构的类型与第二传动机构的类型可以相同也可以不同。

如图1、图4、图6及图7所示，真空回转装置4包括真空回转室41、第三电机、第三传动机构及第一转动架42，第三传动机构及第一转动架42设置在真空回转室41内，第三电机能够带动第一转动架42转动，第三传动机构设置在第一转动架42上，第三传动机构包括第四电机、蜗轮431、蜗杆432、多个第一锥齿轮433、多个第二锥齿轮434及多个第三带轮435，蜗轮431连接在第四电机的输出轴上，第一转动架42包括第一架体421及连接在第一架体421上的第一转动连接座422，蜗杆432转动连接在第一转动连接座422上且与蜗轮431 啮合，多个第一锥齿轮433固定连接在蜗杆432上，第二锥齿轮434转动连接在第一架体421上且与第一锥齿轮433啮合，第三带轮435与第二锥齿轮434 固定连接，第三带轮435上设置有与基片传动轴71配合的第三环形凹槽4351。这样，当基片车7全部由第一真空腔室排1进入真空回转室41时，第三电机转动，带动第一转动架42转动180度后，第三电机停止转动，第四电机开始转动，通过蜗轮431与蜗杆432的啮合以及第一锥齿轮433与第二锥齿轮434的啮合带动第三带轮435转动，从而使得基片车7能够在第四电机的驱动下驶出真空回转室41，进而能够使基片车7在真空回转室41内由第一真空腔室排1转动至第二真空腔室排2。为了保证镀膜效果，真空回转室41内的真空度与第三真空锁定室内的真空度一致，与第二前缓冲真空室21的真空度一致，且第一扩散泵 201配合第一粗真空泵203，通过第二真空管道302用于抽取真空回转室41内的空气。

类似地，大气回转装置3包括回转机构及上片台31，其中回转机构包括第五电机、第四传动机构及第二转动架，第五电机带动第二转动架转动，第四传动机构设置在第二转动架上，第四传动机构包括第六电机、多个第四带轮及多个第三同步带，第三同步带套设在任意相邻的两个第四带轮上，第六电机的驱动轴与任意一个第四带轮连接，其余的多个第四带轮在第三同步带的传动作用下实现同步转动，第四带轮上设置有多个第四环形凹槽，基片传动轴71与第四环形凹槽配合，多个第四环形凹槽位于同一直线上。这样，基片车7由第二真空腔室排2进入大气回转装置3后，第五电机转动，带动基片车7转动180度后，第五电机停止转动，第六电机转动，以使基片车7能够在第六电机的驱动下驶出回转机构。

如图1、图4及图5所示，上片台31位于进口真空室11与回转机构之间。上片台31包括第一上片机构及第二上片机构，第一上片机构包括第七电机、多个第一上片齿轮311及多个第四同步带，其中一个第一上片齿轮311与第七电机的输出轴连接，第四同步带套设在任意相邻的两个第一上片齿轮311上，第一上片齿轮311上设置有第五环形凹槽3111，第二上片机构包括第八电机、多个第二上片齿轮312及多个第五同步带，其中一个第二上片齿轮312与第八电机的输出轴连接，第五同步带套设在任意相邻的两个第二上片齿轮312上，第二上片齿轮312上设置有第六环形凹槽3121，第五环形凹槽3111位于第一方向 a上，第六环形凹槽3121位于第二方向b上，第五环形凹槽3111及第六环形凹槽3121均与基片车7的基片传动轴71匹配，从而使得基片车7能够由上片台 31到达第一真空腔室排1，也能够由第二真空腔室排2到达上片台31。当基片车7由第二真空腔室排2到达上片台31上后，人工或者自动将基片车7上的镀膜成品卸片。卸片后空载的基片车7由第二上片机构到达第二转动架。第二转动架转动180度后，空载的基片车7由第二转动架移动至第一上片机构，重新装载后进入第一真空腔室排1，从而使得基片车7由第二真空腔室排2转动至第一真空腔室排1。

在其他实施例中，上片台31还可以省略。

如图2所示，真空镀膜设备还包括电控柜101及电源柜102，电源柜102用于向真空镀膜设备提供电力，电控柜101用于控制真空镀膜设备的参数调节。

以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (9)

1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，所述第一真空腔室排、所述真空回转装置、所述第二真空腔室排及所述大气回转装置顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述大气回转装置与所述真空回转装置之间，由所述大气回转装置至所述真空回转装置的方向为第一方向，由所述真空回转装置至所述大气回转装置的方向为第二方向；

所述第一真空腔室排包括多个沿所述第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室，所述后缓冲真空室设有多个，且沿所述第二方向顺次排布，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和大于各所述后缓冲真空室在所述第二方向上的延伸长度之和；

所述第一驱动机构用于驱动承载基片的基片车沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，所述第二驱动机构用于驱动所述基片车沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排；

所述真空回转装置用于将所述基片车在真空条件下由所述第一真空腔室排转动至所述第二真空腔室排，所述大气回转装置用于将所述基片车由所述第二真空腔室排转动至所述第一真空腔室排；

多个所述第一前缓冲真空室分别为沿所述第一方向顺次排布的第一低真空室及第一高真空室，所述第一高真空室内的真空度高于所述第一低真空室内的真空度；

所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第二高真空室及第二低真空室，所述第二高真空室内的真空度高于所述第二低真空室内的真空度；

所述第一低真空室为进口真空室，所述第一高真空室包括沿所述第一方向排布且真空度逐渐增高的进口真空锁定室及进口真空过渡室；

第二高真空室包括真空镀膜室及沿第二方向排布且真空度逐渐降低的出口真空过渡室及出口真空锁定室，所述第二低真空室为出口真空室；

所述进口真空过渡室包括沿所述第一方向顺次排布的第一真空过渡室及第二真空过渡室，所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室并排且对齐设置；

所述真空镀膜设备还包括第一箱体、第二箱体、第三箱体、第四箱体、第一隔板、第二隔板、第三隔板及第四隔板，所述第一箱体、所述第二箱体、所述第三箱体及所述第四箱体沿所述第一方向顺次排布；

所述第一隔板将所述第一箱体分隔成所述进口真空室与所述出口真空室；

所述第二隔板将所述第二箱体分隔成所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室；

所述第三隔板将所述第三箱体分隔成所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室；

所述第四隔板将所述第四箱体分隔成所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和等于所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度等于所述第二真空腔室排在所述第二方向上的延伸长度。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二真空腔室排与所述第一真空腔室排并排且对齐设置。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一方向及所述第二方向均为线性方向。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二真空腔室排还包括第二前缓冲真空室，所述第二前缓冲真空室及所述真空镀膜室沿所述第二方向顺次排布；

所述进口真空过渡室还包括第三真空过渡室，所述第二真空过渡室及所述第三真空过渡室沿所述第一方向顺次排布，所述第二前缓冲真空室与所述第三真空过渡室并排且对齐设置。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括第五箱体及第五隔板，所述第五隔板将所述第五箱体分隔成所述第三真空过渡室与所述第二前缓冲真空室。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括真空泵组，所述真空泵组用于抽取所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排内的空气；

所述真空泵包括多个真空泵，多个所述真空泵位于所述第一真空腔室排的同一侧。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空泵组包括第一扩散泵、第二扩散泵、第一粗真空泵、第二粗真空泵、第三粗真空泵及第四粗真空泵；

所述真空镀膜设备还包括第一真空管道、第二真空管道、第一圆形高阀及第二圆形高阀，所述第一扩散泵与所述第一粗真空泵配合以抽取所述第一高真空室内的空气，所述第一真空管道及所述第一圆形高阀用于连通所述第一扩散泵与所述第一高真空室，所述第一真空管道位于所述第一高真空室的中部；

所述第二扩散泵与所述第二粗真空泵配合以抽取所述第二高真空室内的空气，所述第二真空管道及所述第二圆形高阀用于连通所述第二扩散泵与所述第二高真空室，所述第二真空管道位于所述第二高真空室的中部；

所述第三粗真空泵用于抽取所述第一低真空室内的空气，所述第四粗真空泵用于抽取所述第二低真空室内的空气。