CN204982037U - 一种旋转式镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种旋转式镀膜机，属于机械技术领域。它解决了现有的镀膜机镀膜效果不佳的技术问题。该镀膜机包括真空罩、电阻蒸发源、磁控溅射源、等离子源、工件架和能够使真空罩内部保持真空状态的真空装置，磁控溅射源和等离子源均固定在真空罩的内壁上，工件架设置在真空罩内，工件架具有底座，底座固定在真空罩的底部，电阻蒸发源固定在底座上，底座转动设置有齿轮一，齿轮一上转动设置有转轴一，转轴一上固定有齿轮二，底座为圆形且底座的外侧面上设置有与齿轮二相啮合的轮齿。该镀膜机具有镀膜效果良好、生产效率高的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于机械技术领域，涉及一种旋转式镀膜机。
背景技术
真空镀膜机在装饰品、建筑玻璃、汽车玻璃和平板显示器等领域都具有广泛的应用，真空镀膜机可以分为真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等。
授权公告号为CN203613254U的中国实用新型专利公开了一种真空镀膜机，包括真空罩和用于使真空罩内部保持真空状态的真空系统，真空罩内设置有伞架和蒸发源，伞架包括能够周向转动的转盘和若干个工件架，工件架分别与转盘通过各自转轴一相连，工件架沿转盘周向呈伞状分布，该真空镀膜机还包括能使工件架随着转盘周向转动的同时绕转轴一的中心线转动的驱动机构。
上述镀膜机的蒸发源将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到工件架处，附着在温度较低的待镀膜工件上，形成薄膜，该镀膜机的不足之处在于，蒸发源位于真空罩的底部，工件架位于真空罩的顶部，导致工件(或基片)距离蒸发源的距离较远，因此会出现镀膜效果不佳的问题。
发明内容
本实用新型针对现有的技术存在的上述问题，提供一种旋转式镀膜机，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提高镀膜机对工件的镀膜效果。
本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：
一种旋转式镀膜机，该镀膜机包括真空罩、电阻蒸发源、磁控溅射源、等离子源、工件架和能够使真空罩内部保持真空状态的真空装置，其特征在于，所述磁控溅射源和等离子源均固定在真空罩的内壁上，所述工件架设置在真空罩内，所述工件架具有底座，底座固定在真空罩的底部，所述电阻蒸发源固定在底座上，所述底座转动设置有齿轮一，所述齿轮一上转动设置有转轴一，所述转轴一上固定有齿轮二，所述底座为圆形且底座的外侧面上设置有与齿轮二相啮合的轮齿。
本实用新型的工作原理是：
镀膜加工之前，先将待镀膜工件定位在基片架上，基片架上固定有一根圆轴杆，通过圆轴杆与转轴一之间的插接配合，将基片架放置在工件架上，之后真空装置将真空罩内部抽至真空，并使其保持真空状态。镀膜加工开始后，齿轮一带动基片架作圆周转动的同时转轴一带动基片架自转，蒸发源将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后扩散到基片架的工件表面，同时真空罩内壁上的磁控溅射源将镀膜材料喷射出来，附着在工件上，形成厚薄均匀的薄膜。
在上述的一种旋转式镀膜机中，所述工件架还包括顶盖，所述齿轮一和顶盖之间设置有支杆，所述顶盖上设置有通孔，所述通孔与转轴一正对。支杆固定在齿轮一上，顶盖固定在支杆的顶端，顶盖上设置有通孔，通孔与转轴一正对，基片架的圆轴杆的下端与转轴一插接配合的同时，圆轴杆的上端与通孔相配合，使基片架直立放置，基片架在转动的过程中不易晃动。
在上述的一种旋转式镀膜机中，所述转轴一为若干根，所有转轴一沿齿轮一的周向均匀分布在齿轮一上，所述通孔的数量与转轴一的数量相同。转轴一为若干根，例如可以是8-12根，所有转轴一沿齿轮一的周向均匀分布在齿轮一上，可以合理利用空间，平衡工件架的受力。
在上述的一种旋转式镀膜机中，所述转轴一具有端面，所述端面上设置有凹槽一，所述凹槽一具有两个相互平行的侧面，两个侧面对称设置。转轴一的端面上设置有凹槽一，只要在基片架的圆轴杆的下端面上设置与该凹槽一相配合的凸台，就可以方便的实现圆轴杆与转轴一之间的配合，使基片架直立放置在工件架上，凹槽一的两个侧面对称设置，使圆轴杆与转轴一配合之后，圆轴杆的轴线与转轴一的轴线重合，平衡转轴一的受力。
在上述的一种旋转式镀膜机中，所述真空罩包括左壳体和右壳体，所述左壳体和右壳体通过销轴转动连接，所述磁控溅射源固定在左壳体的内壁上，所述等离子源固定在右壳体的内壁上，所述底座固定在左壳体的底部。真空罩包括左壳体和右壳体，左壳体和右壳体通过销轴转动连接，右壳体是活动的，通过转动右壳体，可以实现对真空罩的打开与关闭，方便对工件的放置和取出。
与现有技术相比，本实用新型的优点如下：
1、本实用新型采用磁控溅射和加热蒸发相结合的方式镀膜，且磁控溅射设置在真空罩的内壁上，距离工件很近，能够带来更好的镀膜效果。
2、本实用新型的电阻蒸发源为直立式的，其高度与基片架的高度接近，使基片架上任何高度的工件与电阻蒸发源的距离保持一致，因此，能够达到良好的镀膜效果。
3、本实用新型的齿轮一上可以均匀分布8-12根转轴，即可以同时放置8-12个基片架，增加了可以加工的工件数量，提高了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型转轴一的结构示意图。
图3是本实用新型等离子源的结构示意图。
图4是本实用新型基片架放置在工件架上的示意图。
图中，1、真空罩；11、左壳体；12、右壳体；2、电阻蒸发源；3、磁控溅射源；4、等离子源；5、工件架；51、底座；52、顶盖；521、通孔；53、支杆；6、齿轮一；7；转轴一；71、端面；711、凹槽一；711a、侧面；8、齿轮二；9、基片架；91、圆轴杆；92、凹槽二。
具体实施方式
以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。
如图1-3所示，该镀膜机包括真空罩1、电阻蒸发源2、磁控溅射源3、等离子源4、工件架5和能够使真空罩1内部保持真空状态的真空装置，磁控溅射源3和等离子源4均固定在真空罩1的内壁上，工件架5设置在真空罩1内，工件架5具有底座51，底座51固定在真空罩1的底部，电阻蒸发源2固定在底座51上，底座51转动设置有齿轮一6，齿轮一6上转动设置有转轴一7，转轴一7上固定有齿轮二8，底座51为圆形且底座51的外侧面上设置有与齿轮二8相啮合的轮齿。真空装置包括真空机械泵、增压罗茨泵和高真空扩散泵，高真空扩散泵通过管道与真空罩1连通，增压罗茨泵通过管道与高真空扩散泵连接，真空机械泵通过管道与增压罗茨泵连接。
作为优选，真空罩1包括左壳体11和右壳体12，左壳体11和右壳体12通过销轴转动连接，磁控溅射源3固定在左壳体11的内壁上，等离子源4为网状结构，其固定在右壳体12的内壁上，底座51固定在左壳体11的底部。真空罩1包括左壳体11和右壳体12，左壳体11和右壳体12通过销轴转动连接，右壳体12是活动的，通过转动右壳体12，可以实现对真空罩1的打开与关闭，方便对工件的放置和取出。
如图4所示，工件放置在基片架9的凹槽二92内，基片架9上固定有一根圆轴杆91，圆轴杆91插接在转轴一7的上端，通过圆轴杆91与转轴一7之间的插接配合，将基片架9放置在工件架5上。
如图1所示，在本实施例中，工件架5还包括顶盖52，齿轮一6和顶盖52之间设置有支杆53，顶盖52上设置有通孔，通孔与转轴一7正对。支杆53固定在齿轮一6上，顶盖52固定在支杆53的顶端，顶盖52上设置有通孔521，通孔521与转轴一7正对，基片架9的圆轴杆91的下端与转轴一7配合的同时，圆轴杆91的上端与通孔521相配合，使基片架9直立放置，基片架9在转动的过程中不易晃动。转轴一7可以是若干根，所有转轴一7沿齿轮一6的周向均匀分布在齿轮一6上，通孔521的数量与转轴一7的数量相同。转轴一7为若干根，例如可以是8-12根，所有转轴一7沿齿轮一6的周向均匀分布在齿轮一6上，可以合理利用空间，平衡工件架5的受力。
如图2所示，转轴一7具有端面71，端面71上设置有凹槽一711，凹槽一711具有两个相互平行的侧面711a，两个侧面711a对称设置。转轴一7的端面71上设置有凹槽一711，只要在基片架9的圆轴杆91的下端面71上设置与该凹槽一711相配合的凸台，就可以方便的实现圆轴杆91与转轴一7之间的插接配合，使基片架9直立放置在工件架5上，凹槽一711的两个侧面711a对称设置，使圆轴杆91与转轴一7配合之后，圆轴杆91的轴线与转轴一7的轴线重合，平衡转轴一7的受力。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
Claims (5)
1.一种旋转式镀膜机，该镀膜机包括真空罩(1)、电阻蒸发源(2)、磁控溅射源(3)、等离子源(4)、工件架(5)和能够使真空罩(1)内部保持真空状态的真空装置，其特征在于，所述磁控溅射源(3)和等离子源(4)均固定在真空罩(1)的内壁上，所述工件架(5)设置在真空罩(1)内，所述工件架(5)具有底座(51)，底座(51)固定在真空罩(1)的底部，所述电阻蒸发源(2)固定在底座(51)上，所述底座(51)转动设置有齿轮一(6)，所述齿轮一(6)上转动设置有转轴一(7)，所述转轴一(7)上固定有齿轮二(8)，所述底座(51)为圆形且底座(51)的外侧面上设置有与齿轮二(8)相啮合的轮齿。
2.根据权利要求1所述的旋转式镀膜机，其特征在于，所述工件架(5)还包括顶盖(52)，所述齿轮一(6)和顶盖(52)之间设置有支杆(53)，所述顶盖(52)上设置有通孔(521)，所述通孔(521)与转轴一(7)正对。
3.根据权利要求2所述的旋转式镀膜机，其特征在于，所述转轴一(7)为若干根，所有转轴一(7)沿齿轮一(6)的周向均匀分布在齿轮一(6)上，所述通孔(521)的数量与转轴一(7)的数量相同。
4.根据权利要求3所述的旋转式镀膜机，其特征在于，所述转轴一(7)具有端面(71)，所述端面(71)上设置有凹槽一(711)，所述凹槽一(711)具有两个相互平行的侧面(711a)，两个侧面(711a)对称设置。
5.根据权利要求4所述的旋转式镀膜机，其特征在于，所述真空罩(1)包括左壳体(11)和右壳体(12)，所述左壳体(11)和右壳体(12)通过销轴转动连接，所述磁控溅射源(3)固定在左壳体(11)的内壁上，所述等离子源(4)固定在右壳体(12)的内壁上，所述底座(51)固定在左壳体(11)的底部。
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