CN201695080U - 一种磁控溅射镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例公开了一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。使得磁控溅射镀膜机不仅能生产平板玻璃还能生产弯弧玻璃，且能有效防止窜气，通过设置变频器，使得平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，能够保证弯弧玻璃在传输时更加平稳。

Description

一种磁控溅射镀膜机

技术领域

本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，更具体地说，涉及一种磁控溅射镀膜机。

背景技术

镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。低辐射玻璃(Low-E)是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系，产品对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能，主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具。

磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色的玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的产品之一。

目前，磁控溅射镀膜玻璃生产线只能生产平板镀膜玻璃，可以生产出质量达到国家标准的弧高小于25mm的大面积弯弧磁控溅射LOW-E镀膜玻璃还没有，若需要大面积弯弧磁控溅射LOW-E镀膜玻璃必须在镀膜后再热弯，这样会造成LOW-E镀膜玻璃的辐射率大大变高，节能性能降低。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种磁控溅射镀膜机，以实现能够生产弯弧玻璃。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。

优选的上述磁控溅射镀膜机，所述防窜气屏蔽系统具体为设置在传输辊道上的防窜气夹缝底板和与防窜气夹缝底板平行的防窜气夹缝上盖板。

优选的上述磁控溅射镀膜机，还包括用于控制玻璃传输速度的变频器，当平板玻璃镀膜时，由入/出口室进入传输室的传输速度设定为30米/分，弯弧玻璃镀膜时，将该传输速度设定为10米/分。

从上述的技术方案可以看出，本实用新型实施例中通过将传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm，并将传输室设置为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，使得磁控溅射镀膜机不仅能生产平板玻璃还能生产弯弧玻璃，通过在入/出口室和传输室设置防窜气屏蔽系统，使得能够有效得防止窜气，通过添加变频器，使得平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，能够保证弯弧玻璃在传输时更加平稳。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为镀膜机的真空仓室排列图；

图2为本实用新型实施例入\出口室结构图；

图3为图2的俯视图；

图4为本实用新型实施例传输室的结构图；

图5为图4的俯视图。

具体实施方式

为了引用和清楚起见，下文中使用的技术名词、简写或缩写总结如下：

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例公开了一种磁控溅射镀膜机，以实现能够生产弯弧玻璃。

请参阅图1，图1为镀膜机的真空仓室排列图，镀膜过程中，玻璃基片由大气状态的入/出口室进入，入/出口室抽真空至3×10^-2mbar时，传输室锁阀开启，玻璃基片进入传输室，此时传输室和溅射室的气压约为2×10^-3mbar；玻璃基片进入传输室后，传输室锁阀关闭，玻璃进入溅射室进行镀膜，镀完一层膜后到过渡室转向回来再镀膜，然后到达传输室、入出口室，在入/出口室充气至大气状态时，入/出口室锁阀开启，镀膜后的玻璃从入/出口室中传出，完成一次镀膜过程。

在镀膜过程中，玻璃从入/出口室进入传输室时，两个仓室的气压差一个数量级，这样会导致入/出口室的气体向传输室和溅射室扩散及流动，也就是我们常说的窜气，特别是为了镀制弯弧玻璃必须把过片缝加高，进一步增加了窜气的数量，窜气会直接影响到溅射镀膜工艺的稳定性和产品质量，为此，我们设计了五级夹缝和四级缓冲配合的防窜气结构

请参阅图2，图3，图2为本实用新型实施例入\出口室结构图；图3为图2的俯视图。

其中1为锁阀一，2为传输辊道，3为真空泵接口1(接主真空泵组)，4为真空泵接口2(按辅助真空泵组)，5为防窜气夹缝上盖板，6为防窜气夹缝底板，7为真空室壁，8为过片缝。

为了能够镀弯弧玻璃，将过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度调整至35mm，这样玻璃基片的最大厚度由原来的19mm提高至33mm，弯弧玻璃以6mm基片计算内弧高可达25mm。由于入/出口室的气压高于传输室和溅射室的气压，过片缝开口高度调整至35mm以后，就增大了入/出口室到溅射室的窜气量，从而会对溅射室的镀膜过程造成影响，影响最终的镀膜质量。为了防止窜气在入/出口室设置了防窜气屏蔽系统，其高度和过片缝开口高度相同均为35mm，防窜气屏蔽系统具体为防窜气夹缝上盖板5和防窜气夹缝底板6，防窜气夹缝底板6设置在传输辊道2上，防窜气夹缝上盖板5设置在防窜气夹缝底板6的上方且两者平行，夹缝上盖板5和防窜气夹缝底板6之间的空间为夹缝，通过添加了这个夹缝，使得空气不容易进入传输室，大部分空气被真空泵抽走，减少由入/出口室窜入传输室的气体。传输辊道2用于运送玻璃片，真空泵接口1(接主真空泵组)和真空泵接口2(按辅助真空泵组)接真空泵用于抽走室内的空气，过片缝8为在各室间传输玻璃片的夹缝，入/出口室气压为1000mbar时锁阀一可以自动开启关闭。

请参阅图4，图5，图4为本实用新型实施例传输室的结构图，图5为图4的俯视图。

1为传输室一室，2为传输室二室，3为传输室三室，4为传输室四室，5为锁阀二，6为传输辊道，7为真空泵接口，8为防窜气夹缝上盖板，9为防窜气夹缝底板。

为了防止入/出口室的空气窜到溅射室，影响镀膜工艺的稳定性，将传输室设计为四缓冲室的四级夹缝式防窜气结构。

空气由入/出口室进入传输室一室1，先进入一个较大的空间进行扩散，在真空泵接口7处连接的真空泵组会抽走其中的大部分气体，只有一小部分气体通过由防窜气夹缝上盖板8和防窜气夹缝底板9组成的夹缝进入传输室二室2，从而完成一级防窜气功能，阻挡了气体窜入传输室二室2；随后的传输室二室2、传输室三室2、传输室四室4同传输室一室1的功能一样。通过这样的五级夹缝和四级缓冲配合的防窜气结构就防止了入/出口室的气体窜入溅射室，从而保证的溅射镀膜工艺的稳定性。

该镀膜玻璃机在镀膜区的玻璃传输速度较低，平板玻璃或弯弧玻璃的传动都比较平稳，只是平板玻璃由入/出口室进入传输室的传输速度为30米/分钟，弯弧玻璃的传动不太平稳。因此，我们利用变频器为平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，平板玻璃由入/出口室进入传输室的传输速度设定为30米/分，弯弧玻璃镀膜时，将该传输速度降低为10米/分钟。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (3)

1.一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，其特征在于，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。

2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述防窜气屏蔽系统具体为设置在传输辊道上的防窜气夹缝底板和与防窜气夹缝底板平行的防窜气夹缝上盖板。

3.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜机，其特征在于，还包括用于控制玻璃传输速度的变频器，当平板玻璃镀膜时，由入/出口室进入传输室的传输速度设定为30米/分，弯弧玻璃镀膜时，将该传输速度设定为10米/分。

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