CN102208229B - 透明导电膜的制造方法、导电性薄膜以及透明发热体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供透明导电膜的制造方法、导电性薄膜以及透明发热体。从规定的二维图像区域(200)中选择多个位置(种子点SD),根据所选择的上述多个位置(种子点SD),生成表示具有多个开口部(52)的网格图案M的纹样的图像数据Img,针对经由多个开口部(52)产生的光干涉的指向性,根据所生成的图像数据Img,计算针对相交的2轴方向定量化后的第1评价值EV1,根据计算出的第1评价值EV1和规定的评价条件,确定一个图像数据Img作为输出用图像数据ImgOut,根据所确定的输出用图像数据ImgOut,在透明薄膜基材(56)上输出形成线材。
Description
技术领域
本发明涉及在透明基材上设有由线材构成的网格图案(mesh pattern)的透明导电膜的制造方法、导电性薄膜、透明发热体及记录介质。
背景技术
最近,开发出了在透明基材上设有由线材构成的网格图案的透明导电膜。该透明导电膜可作为电极或发热片来使用。例如,不仅可以应用于触摸面板用电极、无机EL元件、有机EL元件或太阳能电池的电极,还可以应用于车辆的除霜器(除霜装置)、车窗玻璃等的一部分。
对于上述各种物品的使用者而言,从其用途的性质上讲,所述网格图案的纹样相当于妨碍观察对象物的视觉确认性的粒状噪声。因此,提出了实现以下目的的各种技术,即:通过规则或不规则地配置相同或不同的网格形状,来抑制粒状噪声,提高观察对象物的视觉确认性。
例如,在日本特开2009-137455号公报中,揭示了如下所述的载人移动体用的窗户,即:呈格子状、重复地配置切去圆的一部分后的圆弧状的、具有导电性的线材,并且,在上述圆弧状的线材的端部,设有与相邻的圆弧状的线材的中央部附近连接的网格层。并且,记载了通过上述方式不仅能够提高视觉确认性、还能够提高电磁波的屏蔽性及耐损耗性的情况(参照日本特开2009-137455号公报的[0029]及图3)。
并且,在日本特开2003-062208号公报中记载了如下这样的离散图案的生成方法,即:以数学方式将离散图案的差异(discrepancy)公式化,确定使其值减小的初始位置,通过斥力缓和法消除点之间的重叠。并且,记载了通过这种方式能够降低因点的一致性引起的面内不均匀和粒状感的情况(参照日本特开2003-062208号公报的[0068]~[0073]等)。
另外,根据透明导电膜的用途不同,有时除了上述粒状噪声以外,还要求实现其他的光学特性。例如对于车辆用的前玻璃(front glass),光的干涉性尤其成为问题。下面进行详细说明。
来自车外的外光经由设置在前玻璃上的网格图案的各开口部而入射到车内。当来自各开口部的入射光(衍射光)相互干涉时,有时会在前玻璃上产生干涉条纹的光像。根据产生该干涉条纹的部位的不同,有时会显著遮挡驾驶员的前方视野,影响车辆的驾驶操作。
针对于此,本发明人制作了日本特开2009-137455号公报中记载的形成有网格图案的导电性薄膜,并在玻璃的一面上贴附该导电性薄膜而隔着该玻璃透视地观察外光。于是确认到:在视野的全方位上产生了一致的弱的干涉条纹。而且,视觉确认到玻璃前方的视野朦胧,因此发现反而降低了观察对象物的视觉确认性。另外,在使用日本特开2003-062208号公报记载的离散图案来形成网格图案的情况下,也得到了同样的结果。
这样,在透明导电膜的一部分的用途中,显然存在这样的问题:除粒状噪声以外,还要考虑光干涉的指向性而形成网格图案。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而完成的,其目的在于,提供透明导电膜的制造方法、导电性薄膜、透明发热体及记录介质,它们能够恰当地控制因由网格图案形成的多个开口部引起的光干涉的指向性。
本发明的透明导电膜的制造方法的特征在于,包括:位置选择步骤,从规定的二维图像区域中选择多个位置;图像数据生成步骤,根据所选择的所述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据;评价值计算步骤,针对经由所述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;图像数据确定步骤,根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据;以及制造步骤,根据所确定的所述输出用图像数据,在透明基材上输出并形成线材,制造具有所述网格图案的透明导电膜。
如上所述,设置了以下步骤:评价值计算步骤,针对经由多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;以及图像数据确定步骤,根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个图像数据作为输出用图像数据。因此,能够确定出产生满足所述规定的评价条件的光干涉的网格图案的形状。换言之,能够恰当地控制经由由网格图案形成的多个开口部产生的光干涉的指向性。
并且优选的是,该制造方法包括:第1输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述线材的视觉确认信息;第2输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述透明基材的视觉确认信息;以及图像信息估计步骤,根据所输入的所述线材及所述透明基材的视觉确认信息,估计与所述网格图案对应的图像信息,其中,在所述图像数据生成步骤中,根据估计出的所述图像信息生成所述图像数据。
进而,优选的是,所述线材的视觉确认信息包含该线材的种类、颜色值、光透过率或光反射率、或者配线的截面形状或粗细中的至少一项,所述透明基材的视觉确认信息包含该透明基材的种类、颜色值、光透过率、光反射率、膜厚中的至少一项。
进而,优选所述第1评价值是使用所述图像数据的二维功率谱计算出的评价值。
进而,优选所述第1评价值是使用所述二维功率谱的针对所述2轴方向的各力矩计算出的评价值。
进而,优选所述第1评价值是使用针对所述2轴方向的所述力矩之比计算出的评价值。
进而,优选所述第1评价值是使用所述二维功率谱的空间频域的一部分计算出的评价值。
进而,优选在所述评价值计算步骤中,还根据所述图像数据计算针对所述网格图案的噪声特性进行定量化后的第2评价值,在所述图像数据确定步骤中,根据计算出的所述第1评价值、所述第2评价值及规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据。因此,不仅考虑了经由由网格图案形成的多个开口部产生的光干涉的指向性,而且还考虑了上述网格图案的噪声特性,由此,能够进行恰当的控制。
进而,优选所述第2评价值是表示粒度的评价值。
进而,优选所述第2评价值是RMS粒度。
进而,优选所述第2评价值是利用人的视觉响应特性函数进行校正后的RMS粒度。
进而,优选所述人的视觉响应特性函数是Dooley-Shaw函数。
进而,优选在所述图像数据生成步骤中,使用德洛内三角形分割法根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
进而,优选在所述图像数据生成步骤中,使用维诺图根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
进而,优选所述方法包括位置更新步骤,在该位置更新步骤中,根据所述第1评价值和/或所述第2评价值,将所述多个位置中的一部分分别更新为其他的位置,在所述位置更新步骤中,依次重复所述图像数据生成步骤及所述评价值计算步骤,通过所述图像数据确定步骤确定所述输出用图像数据。
进而,优选在所述位置更新步骤中,使用模拟退火法,将所述多个位置中的一部分分别更新为其他的位置。
本发明的导电性薄膜的特征在于,该导电性薄膜是使用上述任意一个制造方法制造的。
本发明的透明发热体的特征在于,具有上述导电性薄膜。
本发明的记录介质存储有使计算机执行的程序,其特征在于,所述程序使计算机作为以下单元发挥功能:位置选择部,其从规定的二维图像区域中选择多个位置;图像数据生成部,其根据所选择的所述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据;评价值计算部,其针对经由所述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;图像数据确定部,其根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据;以及输出形成部,其根据所确定的所述输出用图像数据,在透明基材上输出并形成线材。
根据本发明的透明导电膜的制造方法及记录介质,从规定的二维图像区域中选择多个位置,根据所选择的上述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据,针对经由上述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的上述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值,根据计算出的上述第1评价值和规定的评价条件,确定一个上述图像数据作为输出用图像数据,根据所确定的上述输出用图像数据在透明基材上输出并形成线材,制造具有上述网格图案的透明导电膜,因此,能够确定出产生满足上述规定的评价条件的光干涉的网格图案的形状。换言之,能够恰当地控制经由由网格图案形成的多个开口部产生的光干涉的指向性。
根据本发明的导电性薄膜及透明发热体,关于光干涉的指向性,能够作为具有与用途对应的恰当的光学特性的部件而使用。
根据与附图相结合的以下优选实施方式的说明,能够更加清楚上述目的、特征及优点。
附图说明
图1是用于制造本实施方式的导电性薄膜的制造装置的概略结构框图。
图2A是图1的导电性薄膜的局部放大平面图。图2B是示出将图1的导电性薄膜作为透明发热体时的一个结构例的平面图。
图3是图2A的导电性薄膜的概略截面图。
图4是图1的网格纹样评价部及数据更新指示部的功能框图。
图5是示出图像数据生成条件的设定画面的一例的图。
图6是图1的制造装置的动作的流程图。
图7A是使表示网格图案的纹样的图像数据可视化后的概略说明图。图7B是对图7A的图像数据实施FFT而得到的二维功率谱的分布图。图7C是图7B所示的二维功率谱分布的沿着VIIC-VIIC线的截面图。
图8是表示计算二维功率谱的规定的轴方向上的力矩(moment)时的运算范围的概略说明图。
图9是Dooley-Shaw函数(观察距离300mm)的曲线图。
图10是说明输出用图像数据的生成方法的流程图。
图11是表示种子点(seed point)的配置密度与整体透过率之间的关系的一例的曲线图。
图12A及图12B是使用维诺图(Voronoi diagram)划分出分别围绕着8个点的8个区域后的结果的说明图。
图13A及图13B是使用德洛内(Delaunay)三角形分割法划分出将8个点分别作为顶点的8个三角形状区域后的结果的说明图。
图14A是表示图像数据中的图像地址的定义的说明图。图14B是表示图像数据中的像素值的定义的说明图。
图15A是种子点的初始位置的示意图。图15B是将图15A的种子点作为基准的维诺图。
图16是图10所示的步骤S26的详细流程图。
图17A是表示图像区域内的第1种子点、第2种子点及候选点的位置关系的说明图。图17B是对第2种子点与候选点进行交换而更新了种子点的位置后的结果的说明图。
图18A是使表示设定为γ=0.5而得到的网格图案的纹样的图像数据可视化后的概略说明图。图18B是对图18A的图像数据实施FFT而得到的二维功率谱的分布图。
图19A~图19E是示出本实施方式的导电性薄膜的第1制造方法的工序图。
图20A及图20B是示出本实施方式的导电性薄膜的第2制造方法的工序图。
图21A及图21B是示出本实施方式的导电性薄膜的第3制造方法的工序图。
图22是示出本实施方式的导电性薄膜的第4制造方法的工序图。
图23A是具有第1网格图案的导电性薄膜的局部放大平面图。图23B及图23C是示出具有第1网格图案的导电性薄膜的观察照片的图。
图24A是具有第2网格图案的导电性薄膜的局部放大平面图。图24B及图24C是示出具有第2网格图案的导电性薄膜的观察照片的图。
图25A是具有第3网格图案的导电性薄膜的局部放大平面图。图25B及图25C是示出具有第3网格图案的导电性薄膜的观察照片的图。
具体实施方式
下面,关于本实施方式的透明导电膜的制造方法,列举在与实施该方法的制造装置之间的关系中优选的实施方式,并参照附图详细地进行说明。
图1是用于制造本实施方式的导电性薄膜14的制造装置10的概略结构框图。
制造装置10基本上具有:图像处理装置12,其生成表示与网格图案M对应的纹样的图像数据Img(包含输出用图像数据ImgOut);曝光部18(输出形成部),其根据由该图像处理装置12生成的上述输出用图像数据ImgOut,向制造工序下的导电性薄膜14(透明导电膜)上照射光16而进行曝光;输入部20,其将用于生成上述图像数据Img的各种条件(包含网格图案M的视觉确认信息)输入到图像处理装置12;以及显示部22,其显示用于辅助该输入部20的输入作业的GUI图像、和所存储的输出用图像数据ImgOut等。
图像处理装置12具有:存储部24,其存储图像数据Img、输出用图像数据ImgOut、候选点SP的位置数据SPd、以及种子点SD的位置数据SDd;随机数产生部26,其产生伪随机数而生成随机数值;初始位置选择部28(位置选择部),其使用由该随机数产生部26生成的上述随机数值,从规定的二维图像区域中选择种子点SD的初始位置;更新候选位置确定部30(位置选择部),其使用上述随机数值从上述二维图像区域中确定候选点SP的位置(除了种子点SD的位置);曝光数据变换部32,其将输出用图像数据ImgOut变换为曝光部18的控制信号(曝光数据);以及显示控制部34,其进行在显示部22上显示各种图像的控制。
另外,种子点SD由不是更新对象的第1种子点SDN、和作为更新对象的第2种子点SDS构成。换言之,种子点SD的位置数据SDd由第1种子点SDN的位置数据SDNd、和第2种子点SDS的位置数据SDSd构成。
图像处理装置12还具有:图像信息估计部36,其根据从输入部20输入的视觉确认信息(之后将详细叙述),估计与网格图案M对应的图像信息;图像数据生成部38,其根据从该图像信息估计部36提供的上述图像信息及从存储部24提供的种子点SD的位置,生成表示与网格图案M对应的纹样的图像数据Img;网格纹样评价部40(评价值计算部),其根据由该图像数据生成部38生成的图像数据Img,计算用于评价网格状的纹样的评价值EVP;以及数据更新指示部42,其根据由该网格纹样评价部40计算出的评价值EVP,指示种子点SD及评价值EVP等的数据的更新/不更新。
本实施方式的制造装置10如以上方式构成,上述的各图像处理功能可使用基本是在软件(操作系统)上工作的、例如存储在存储部24(计算机可读记录介质)中的应用软件(程序)来实现。
如图2A所示,图1的导电性薄膜14具有多个导电部50和多个开口部52。多个导电部50形成由多个金属细线54相互交叉而成的网格图案M(网格状的配线)。即,一个开口部52与围着该一个开口部52的至少两个导电部50的组合形状成为网格形状。该网格形状随每个开口部52而不同,并且分别不规则地(即,非周期地)排列。以下,有时将构成导电部50的材料称为“线材”。
金属细线54的线宽可以从5μm以上200μm(0.2mm)以下的范围中选择。当然,在希望提高透光性的情况下,也可以从5μm以上50μm以下的范围中选择。并且,开口部52的面积优选为0.02mm2以上40mm2以下,更优选为0.1mm2以上1mm2以下。
由于如以上所述构成,因此导电性薄膜14的整体透光率可以实现70%以上99%以下、80%以上99%以下,进一步可以实现85%以上99%以下。
该导电性薄膜14是可作为车辆的除霜器(除霜装置)、窗户玻璃等的一部分来使用的导电性薄膜。该导电性薄膜14还可以作为随电流流过而发热的透明发热体而发挥功能,如图3所示,该导电性薄膜14具有透明薄膜基材56(透明基材)、和形成在该透明薄膜基材56上的上述导电部50及开口部52。
如图2B所示,在将该导电性薄膜14作为透明发热体58来使用时,在导电性薄膜14的相对的端部(例如,图2B的左右两端)上形成有第1电极60a及第2电极60b,且从第1电极60a向第2电极60b流入电流。由此,透明发热体58发热,与透明发热体58接触或装有透明发热体58的加热对象物(例如建筑物的窗户玻璃、车辆用的窗户玻璃、车辆用灯具的前罩等)受到加热。其结果,除掉了附着在加热对象物上的雪等。
图4是图1所示的网格纹样评价部40及数据更新指示部42的详细功能框图。
网格纹样评价部40具有:FFT运算部100,其对从图像数据生成部38提供的图像数据Img实施高速傅里叶变换(Fast Fourier Transformation;以下称为FFT)而取得二维频谱数据(以下,简称为“频谱Spc”);第1评价值计算部102;其根据从该FFT运算部100提供的频谱Spc,计算第1评价值EV1;第2评价值计算部104,其根据从该FFT运算部100提供的频谱Spc计算第2评价值EV2;以及加权相加部106,其对从第1评价值计算部102提供的第1评价值EV1和从第2评价值计算部104提供的第2评价值EV2进行加权并相加,取得评价值EVP。
数据更新指示部42具有:计数器108,其对由网格纹样评价部40执行的评价次数进行向上计数;模拟温度管理部110,其管理在后述的模拟退火法中使用的模拟温度T的值;更新概率计算部112,其根据从网格纹样评价部40提供的评价值EVP及从模拟温度管理部110提供的模拟温度T,计算种子点SD的更新概率;位置更新判定部114,其根据从该更新概率计算部112提供的上述更新概率,判定种子点SD的位置数据SDd等的更新/不更新;以及输出用图像数据确定部116,其根据来自模拟温度管理部110的通知,确定一个图像数据Img作为输出用图像数据ImgOut。
图5是示出图像数据生成条件的设定画面的一例的图。
设定画面120从上方依次具有:左侧的下拉菜单122、左侧的显示栏124、右侧的下拉菜单126、右侧的显示栏128、7个文本框130、132、134、136、138、140、142、显示为“设定”、“中止”的按钮144、146。
在下拉菜单122、126的左方部分中显示有“种类”的字符串。通过输入部20(例如鼠标)的规定操作,在下拉菜单122、126的下方部分中一览显示出未图示的选择栏,可自由选择其中的项目。
显示栏124由5个栏148a、148b、148c、148d、148e构成,并且在它们的左方部分中分别显示有“光透过率”、“光反射率”、“颜色值L*”、“颜色值a*”、“颜色值b*”的字符串。
显示栏128与显示栏124同样,由5个栏150a、150b、150c、150d、150e构成,并且在它们的左方部分中分别显示有“光透过率”、“光反射率”、“颜色值L*”、“颜色值a*”、“颜色值b*”的字符串。
在文本框130的左方部分中显示为“整体透过率”,在其右方部分中显示为“%”。在文本框132的左方部分中显示为“膜厚”,在其右方部分中显示为“μm”。在文本框134的左方部分中显示为“配线的宽度”,在其右方部分中显示为“μm”。在文本框136的左方部分中显示为“配线的厚度”,在其右方部分中显示为“μm”。在文本框138的左方部分中显示为“图案尺寸H”,在其右方部分中显示为“mm”。在文本框140的左方部分中显示为“图案尺寸V”,在其右方部分中显示为“mm”。在文本框142的左方部分中显示为“图像分辨率”,在其右方部分中显示为“dpi”。
另外,通过输入部20(例如键盘)的规定操作,可以在7个文本框130、132、134、136、138、140、142中的任意一个中自由输入计算用的数字。
参照图6的流程图来说明基本上如上构成的制造装置10的动作。
首先,在生成表示与网格图案M对应的纹样的图像数据Img(包含输出用图像数据ImgOut)时,输入必要的各种条件(步骤S1)。
作业者通过显示在显示部22上的设定画面120(参照图5),输入适当的数值等。由此,可以输入与网格图案M的视觉确认性有关的视觉确认信息。这里,所谓视觉确认信息,是指对网格图案M的形状或光学密度有贡献的各种信息,包含线材(金属细线54)的视觉确认信息和透明基材(透明薄膜基材56)的视觉确认信息。作为线材的视觉确认信息,例如包含该线材的种类、颜色值、光透过率、光反射率,或金属细线54的截面形状、粗细中的至少一项。作为透明基材的视觉确认信息,例如包含该透明基材的种类、颜色值、光透过率、光反射率或膜厚中的至少一项。
针对所要制造的导电性薄膜14,作业者使用下拉菜单122选择线材的一个种类。在图5的例子中,选择了“银(Ag)”。当选择了线材的一个种类后,即时地更新显示栏124,根据该线材的物性而重新显示已知的数值。在栏148a、148b、148c、148d、148e中,分别显示具有100μm厚度的银的光透过率(单位:%)、光反射率(单位:%)、颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*(CIELAB)。
并且,针对所要制造的导电性薄膜14,作业者使用下拉菜单126选择膜材(透明基材)的一个种类。在图5的例子中,选择了“PET薄膜”。当选择了膜材的一个种类后,即时地更新显示栏128,根据该膜材的物性重新显示已知的数值。在栏150a、150b、150c、150d、150e中,分别显示具有1mm厚度的PET薄膜的光透过率(单位:%)、光反射率(单位:%)、颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*(CIELAB)。
另外,也可以通过选择下拉菜单122、126的未图示的“手动输入”的项目,从显示栏124、128直接输入各个物性值。
接着,针对所要制造的导电性薄膜14,作业者使用文本框130等分别输入网格图案M的各种条件。
文本框130、132、134、136的输入值分别对应于整体的光透过率(单位:%)、透明薄片基材56的膜厚(单位:μm)、金属细线54的线宽(单位:μm)、金属细线54的厚度(单位:μm)。
文本框138、140、142的输入值相当于网格图案M的横向尺寸、网格图案M的纵向尺寸、输出用图像数据ImgOut的图像分辨率(图像尺寸)。
响应于作业者对“设定”按钮144的点击动作,图像信息估计部36估计与网格图案M对应的图像信息。该图像信息是在生成图像数据Img(包含输出用图像数据ImgOut)时所要参照的。
例如,可根据网格图案M的横向尺寸(文本框138的输入值)和输出用图像数据ImgOut的图像分辨率(文本框142的输入值),计算出输出用图像数据的横向的像素数量,并且,可根据配线宽度(文本框134的输入值)和上述图像分辨率,计算出相当于金属细线54的线宽的像素数量。
并且,可根据线材的光透过率(栏148a的显示值)和配线的厚度(文本框136的输入值),估计金属细线54单体的光透过率。除此之外,还可根据膜材的光透过率(栏150a的显示值)和膜厚(文本框132的输入值),估计在透明薄膜基材56上层叠着金属细线54的状态下的光透过率。
而且,可根据线材的光透过率(栏148a的显示)、膜材的光透过率(栏150a的显示)、整体透过率(文本框130的输入值)以及配线的宽度(文本框132的输入值),估计开口部52的个数和种子点SD的个数。另外,还可以根据用于确定开口部52的区域的算法,估计种子点SD的个数。
接着,生成用于形成网格图案M的输出用图像数据ImgOut(步骤S2)。
在说明输出用图像数据ImgOut的生成方法之前,首先说明图像数据Img的评价方法。在本实施方式中,根据针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值EV1、和对网格图案M的噪声特性(例如粒状噪声)进行定量化后的第2评价值EV2,对经由多个开口部52产生的光干涉的指向性进行评价。
图7A是使表示网格图案M的纹样的图像数据Img可视化后的概略说明图。以下,将该图像数据Img作为例子进行说明。
对第1评价值EV1的计算方法进行说明。首先,对图7A所示的图像数据Img实施FFT。由此,能够得到透过开口部52的光的衍射像。这里,可以考虑为:开口部52的形状是极微小的,连续地配置了无数个开口部52。因此,上述衍射像的特性可以说是具有与经由多个开口部52产生的干涉条纹的产生区域呈高相关度的关系。
图7B是针对图7A的图像数据Img实施FFT而得到的频谱Spc的分布图。这里,该分布图的横轴表示针对X轴方向的空间频率,其纵轴表示针对Y轴方向的空间频率。并且,每个空间频带的显示浓度越浅,强度级别(频谱Spc的值)越小,并且显示浓度越深,强度级别越大。在该图的例子中,该频谱Spc的分布为各向同性的,且具有两个环状的峰值。
图7C是图7B所示的频谱Spc的分布的X轴截面图。由于频谱Spc是各向同性的,因此图7C相当于针对所有角度方向的矢径方向分布。从该图可知,具有所谓带通型的特性,即:低空间频带及高空间频带中的强度级别小,仅中间的空间频带的强度级别高。即,根据图像工学领域的技术用语,图7A所示的图像数据Img可以说是表现出具有“绿噪声(green noise)”的特性的纹样。
为了计算第1评价值EV1,接着计算频谱Spc的任意角度θ方向上的m维力矩Mom(θ,m)。这里,θ为0≤θ<2π的范围内的值,m为1以上的整数。具体地讲,用下式(1)来计算。
【式1】
这里,参照图8来说明计算频谱Spc在规定的轴方向上的力矩时的积分范围。如式(1)所示,将-umax≤u≤umax作为积分范围。这里,umax是确定积分计算的上限值/下限值的参数。例如,在整个空间频带中进行计算的情况下,相当于umax=∞。由于图像数据Img是离散数据,因此,可以将umax的值设定为0umax≤unyq/2范围内的任意值。另外,unyq是图像数据Img的奈奎斯特(Nyquist)频率。
例如,在本实施方式中,将相互正交的X轴及Y轴方向上的一维力矩之比作为评价值。即,用下式(2)来表示第1评价值EV1。
EV1=|Mom(π/2,1)/Mom(0,1)-γ|····(2)
该第1评价值EV1中的第1项相当于干涉条纹的产生区域的X轴-Y轴的纵横比(aspect ratio)。这里,γ相当于纵横比的目标值。作为一例,当γ=0时,频谱Spc越局部地存在于X轴附近,第1评价值EV1的值越小。另一方面,当频谱Spc在二维方向上呈均匀分散时,第1评价值EV1的值变大。
例如,对于车辆用的前玻璃中产生的干涉条纹,相比于在二维区域上大范围地产生该干涉条纹,更希望是以在X轴附近局部地存在的方式产生该干涉条纹。这是因为,能够确保驾驶员的远方(Y轴上方)或近方(Y轴下方)的视野。此时,只要选择第1评价值EV1小的网格图案M即可。
另外,可根据针对网格图案M的评价内容(目标特性),任意地确定力矩的维数m、轴方向、以及积分范围等。例如,也可以设定为使得2轴方向是不正交的。此时,可以求出特定的角度方向中的频谱Spc的各向异性度。
接着,对第2评价值EV2的计算方法进行说明。该第2评价值EV2是用于评价网格图案M的噪声特性的评价值。
作为评价噪声特性的例子,可以确定图像数据Img的规定的区域范围,并针对该区域范围内的像素值求出RMS(Root Mean Square)。在本实施方式中,在评价中导入了人的视觉响应特性,使用了进一步改进后的评价值EV2。
首先,与计算第1评价值EV1的情况相同,针对图像数据Img实施FFT。由此,关于网格图案M的形状,可以把握整体的趋势(空间频率分布)而不是局部的形状。
另外,第1评价值EV1的关注部位为开口部52,与此相对,第2评价值EV2的关注部位为导电部50。即,第1评价值EV1与第2评价值EV2的不同之处仅仅在于相同的图像数据Img内的关注部位不同。其结果,在评价值的计算中使用的频谱Spc是相同的。
图9是表示Dooley-Shaw函数(观察距离300mm)的曲线图。
Dooley-Shaw函数是VTF(Visual Transfer Function)的一种,并且是模拟人的视觉响应特性的代表性的函数。具体地讲,相当于亮度的对比度特性的平方值。另外,曲线图的横轴为空间频率(单位:cycle/mm,周期/毫米),纵轴为VTF的值(单位没有量纲)。
当设观察距离为300mm时,在0~1.0cycle/mm的范围中VTF的值是恒定的(等于1),并且具有随着空间频率变高VTF的值逐渐减小的趋势。即,该函数作为阻断中~高空间频带的低通滤波器发挥功能。
另外,实际的人的视觉响应特性在0cycle/mm附近为比1小的值,具有所谓的带通滤波器的特性。但是,在该实施方式中,如图9所示,即使是极低的空间频带,也使VFT的值成为1,由此提高了针对第2评价值EV2的贡献度。由此,能够得到这样的效果:抑制了因网格图案M的重复配置引起的周期性。
在将频谱Spc的值设为F(Ux,Uy)时,用下式(3)来计算第2评价值EV2。
【式2】
根据维纳-辛钦(Wiener Khintchine)定理,在整个空间平带中对频谱Spc进行积分后的值与RMS的平方值一致。对该频谱Spc乘上VTF,在整个空间频带中对该新的频谱Spc进行积分后的值成为与人的视觉特性大致一致的评价指标。该第2评价值EV2可以称为用人的视觉响应特性进行了校正后的RMS。与通常的RMS相同,第2评价值EV2始终取0以上的值,且可以说越接近0,噪声特性越良好。
并且,也可以对图9所示的VTF实施逆傅里叶变换(例如IFFT),由此计算与VTF对应的实际空间上的掩膜(mask),使该掩膜作用于所要评价的图像数据Img而进行卷积运算,针对新的图像数据Img求出RMS。由此,能够得到与使用了式(3)的上述方法同等的运算结果。
可以组合以上说明的第1评价值EV1与第2评价值EV2,计算针对网格图案M的纹样的评价值EVP。下式(4)给出了作为评价值EVP的一例。
EVP=α×EV1+β×EV2····(4)
例如,假设第1评价值EV1、第2评价值EV2都必须取0以上的值,并且最好接近于0。于是,α及β都为正的值,由此,可以根据各评价的重要度来确定各个值。并且,在仅使用第1评价值EV1时,只要设β=0即可,而在仅使用第2评价值EV2时,只要设α=0即可。而且,α、β可以是根据理论确定的值、或者是根据经验发现的值。
另外,显然,可以根据用于确定网格图案M的目标级别(容许范围)、评价函数,对评价值EVP的计算式进行各种变更。
以下,对根据上述的评价值EVP确定输出用图像数据ImgOut的具体方法进行说明。例如,可以使用依次重复进行纹样不同的图像数据Img的生成和基于评价值EVp的评价的方法。此时,作为确定输出用图像数据ImgOut的优化问题,可以使用结构性算法、迭代改进算法等各种搜索算法。
在本实施方式中,主要参照图10的流程图及图1的功能框图,说明基于模拟退火法(Simulated Annealing;以下称为SA法)的网格图案M的优化方法。另外,SA法是模拟了在高温状态下敲打铁来得到坚固的铁的“退火法”的随机搜索算法。
首先,初始位置选择部28选择种子点SD的初始位置(步骤S21)。
在选择初始位置之前,随机数产生部26使用伪随机数的产生算法产生随机数值。这里,作为伪随机数的产生算法,可以使用梅森旋转算法(Mersenne Twister)、SFMT(SIMD-oriented Fast Mersenne Twister)或Xorshift法等各种算法。并且,初始位置选择部28使用从随机数产生部26提供的随机数值,随机地确定种子点SD的初始位置。这里,初始位置选择部28选择种子点SD的初始位置,作为图像数据Img上的像素地址,分别设定为种子点SD相互不重复的位置。
另外,初始位置选择部28根据从图像信息估计部36提供的图像数据Img的纵向/横向的像素数量,预先确定二维图像区域的范围。并且,初始位置选择部28从图像信息估计部36预先取得种子点SD的个数,确定其个数。
图11是表示种子点SD的配置密度与网格图案M的整体透过率之间的关系的一例的曲线图。该图示出了这样的情况:随着配置密度变高,配线的覆盖面积增加,其结果是网格图案M的整体透过率下降。
该曲线图特性随膜材的光透过率(图5的栏150a的显示)、配线的宽度(图5的文本框132的输入值)及区域确定算法(例如维诺图)而变化。由此,可以用函数或表等各种数据形式,将与配线的宽度等各参数对应的特性数据预先存储在存储部24中。
并且,还可以预先取得种子点SD的配置密度与网格图案M的电阻值之间的对应,根据该电阻值的指定值来确定种子点SD的个数。这是因为,电阻值是表示导电部50的通电性的一个参数,在网格参数M的设计中是不可欠缺的。
另外,初始位置选择部28也可以不使用随机数值而是选择种子点SD的初始位置。例如,可以参照从包含未图示的扫描仪、存储装置在内的外部装置获取的数据来确定初始位置。该数据例如可以是规定的二值图像数据,具体地讲,可以是印刷用的网点数据。
接着,图像数据生成部38生成初始图像数据(以下简称为图像数据ImgInit)(步骤S22)。图像数据生成部38根据从存储部24提供的种子点SD的个数、位置数据SDd、以及从图像信息估计部36提供的图像信息,生成表示与网格图案M对应的纹样的图像数据ImgInit(初始数据)。
根据多个种子点SD确定网格状的纹样的算法可以采用各种方法。以下,参照图12A~13B进行详细说明。
如图12A所示,例如在正方形状的二维图像区域200内随机选择8个点P1~P8。
图12B是示出使用维诺图划分出分别围绕着8个点P1~P8的8个区域V1~V8后的结果的说明图。另外,作为距离函数使用了欧几里得(euclid)距离。从该图可知,示出了这样的情况:在区域Vi(i=1~8)内的任意点中,点Pi是最接近的点。
并且,在图13B中示出了使用德洛内三角形分割法划分出分别以图13A(与图12A相同的图)的点P1~P8为顶点的8个三角形状的区域后的结果。
所谓德洛内三角形分割法,是指将点P1~P8中相邻的点彼此相连来划分区域的方法。利用该方法,也能够确定与点P1~P8的个数相同个数的区域V1~V8。
另外,在生成图像数据Img(包含图像数据ImgInit)之前,预先确定像素的地址及像素值的定义。
图14A是表示图像数据Img中的像素地址的定义的说明图。例如,像素尺寸为10μm,图像数据的纵横的像素数量分别为8192个。为了方便进行后述的FFT的运算处理,设为2的阶乘(例如2的13次方)。此时,图像数据Img的图像区域整体对应于大致82平方毫米的矩形区域。
图14B是表示图像数据Img中的像素值的定义的说明图。例如,将每个像素的灰度值设为8比特(256灰度)。使光学密度0对应于像素值0(最小值),使光学密度4.5对应于像素值255(最大值)。对于它们中间的像素值1~254,以相对于光学密度呈线性关系的方式来确定它们的值。这里,所谓光学密度,显然不仅仅是指透过密度,还可以指反射密度,并且,可以根据导电性薄膜14的使用状态等来恰当地进行选择。并且,除了光学密度以外,即使是三刺激值XYZ、颜色值RGB、L*a*b*等,也可以与上述同样地定义各像素值。
由此,图像数据生成部38根据图像数据Img的数据定义和由图像信息估计部36估计的图像信息(参照步骤S1的说明),生成与网格图案M对应的图像数据ImgInit(步骤S22)。图像数据生成部38使用以种子点SD的初始位置(参照图15A)为基准的维诺图,确定图15B所示的网格图案M的初始状态。另外,针对图像的端部,以在上下方向、左右方向上进行重复排列的方式进行处理。例如,对于图像的左端(或右端)附近的种子点SD,在与图像的右端(或左端)附近的种子点SD之间得到区域Vi。同样地,对于图像的上端(或下端)附近的种子点SD,在与图像的下端(上端)附近的种子点SD之间得到Vi。
以下,设图像数据Img(包含图像数据ImgInit)为具有光学密度OD、颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*这4个通道(channel)的各个数据的图像数据。
接着,网格纹样评价部40计算评价值EVPInit(步骤S23)。另外,在SA法中,评价值EVP承担代价函数(Cost Function)的作用。
具体地讲,图4所示的FFT运算部100对图像数据ImgInit实施FFT。并且,第1评价值计算部102根据从FFT运算部100提供的频谱Spc,计算第1评价值EV1。针对图像数据Img中的光学密度OD的通道,计算上述的第1评价值EVP1。另外,也可以使用颜色值L*来代替光学密度OD。
由于已经对第1评价值EV1进行了说明,因此省略详细的说明(参照式(1)及式(2))。
然后,第2评价值计算部104根据从FFT运算部100提供的频谱Spc,计算第2评价值EV2。针对图像数据Img中的、颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*这各个通道,分别计算上述评价值EVP2(L*)、EVP2(a*)、EVP2(b*)(参照式(3))。然后,使用规定的权重系数进行积和运算,得到评价值EVP2。
另外,也可以使用光学密度OD来代替颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*。关于第2评价值EV2,可以根据观察状态的类别,具体地讲,可根据辅助光源是透过光处支配地位、还是反射光处支配地位、或者是透过光/反射光的混合光,来恰当选择更适合于人的视觉敏感度的运算方法。
然后,如式(4)所示,加权相加部106将用系数α加权后的第1评价值EV1和用系数β加权后的第2评价值EV2相加,得到评价值EVPInit。另外,当然也可以根据用于确定网格图案M的目标级别(容许范围)、评价函数,对评价值EVP的计算式进行各种变更。
网格纹样评价部40通过这种方式来计算评价值EVPInit(步骤S23)。
接着,存储部24临时存储在步骤S22中生成的图像数据ImgInit、和在步骤S23中计算出的评价值EVPInit(步骤S24)。同时,在模拟温度T中代入初始值nΔT(n为自然数、ΔT为正的实数值)。
接着,计数器108对变量K进行初始化(步骤S25)。即,在K中代入0。
接着,在将种子点SD的一部分(第2种子点SDS)置换为候选点Sp的状态下,生成图像数据ImgTemp,计算出评价值EVPTemp,之后,判断种子点SD的“更新”或“不更新”(步骤S26)。在该步骤S26中,参照图1、图4的功能框图及图16的流程图,进一步详细地进行说明。
首先,更新候选位置确定部30从规定的二维图像区域200中确定候选点SP(步骤S261)。更新候选位置确定部30例如使用从随机数产生部26提供的随机数值,确定与种子点SD的任何位置都不重叠的位置。另外,候选点SP的个数可以是1个、也可以是多个。在图17A所示的例子中,与当前的种子点SD为8个(点P1~P8)对应地,候选点SP为2个(点Q1和点Q2)。
接着,对种子点SD的一部分与候选点SP进行随机的交换(步骤S262)。更新候选位置确定部30将各候选点SP与所交换(或更新)的各种子点SD随机地对应起来。在图17A中,将点P1与点Q1对应起来,将点P3与Q2对应起来。如图17B所示,对点P1与点Q1进行交换,并且对点P3与点Q2进行交换。这里,将不是交换(或更新)对象的点P2、点P4~P8称为第1种子点SDN,将作为交换(或更新)对象的点P1及点P3称为第2种子点SDS。
接着,图像数据生成部38使用交换后的新的种子点SD(参照图17B),生成图像数据ImgTemp(步骤S263)。此时,由于是使用与步骤S22(参照图10)的情况相同的方法,因此省略说明。
接着,网格纹样评价部40根据图像数据ImgTemp,计算评价值EVPTemp(步骤S264)。由于是使用与步骤S23(参照图10)的情况相同的方法,因此省略说明。
接着,更新概率计算部112计算种子点SD的位置的更新概率Prob(步骤S265)。这里,所谓“位置更新”,是指将步骤S262中进行暂时交换而得到的种子点SD(即,第1种子点SDN及候选点SP)确定为新的种子点SD。
具体地讲,根据Metropolis标准,分别计算更新种子点SD的概率或不更新的概率。更新概率Prob由下式(5)给出。
【式3】
这里,T表示模拟温度,随着接近绝对温度(T=0),更新规则从概率性的变化为确定性的。
接着,位置更新判定部114根据由更新概率计算部112计算出的更新概率Prob,判断是否更新种子点SD的位置(步骤S266)。例如,可以使用从随机数产生部26提供的随机数值,进行概率性的判断。
在更新种子点SD的情况下,向存储部24侧指示“更新”,在不更新的情况下,向存储部24侧指示“不更新”。(步骤S267、S268)。
由此,完成步骤S26。
回到图10,根据“更新”或“不更新”中的任意一方的指示,判断是否更新种子点SD(步骤S27)。在不更新种子点SD的情况下,不进行步骤S28,而进入下一步骤S29。
另一方面,在更新种子点SD的情况下,存储部24针对当前存储的图像数据Img,改写并更新为在步骤S263中求出的图像数据ImgTemp(步骤S28)。并且,存储部24针对当前存储的评价值EVP,改写并更新为在步骤S264中求出的评价值EVPTemp(步骤S28)。并且,存储部24针对当前存储的第2种子点SDS的位置数据SDSd,改写并更新为在步骤S261中求出的候选点SP的位置数据SPd(步骤S28)。之后,进入到下一步骤S29。
接着,计数器108对当前时刻的K值加上1(步骤S29)。
接着,计数器108对当前时刻的K的值与预先确定的Kmax的值之间的大小关系进行比较(步骤S30)。在K的值小的情况下,回到步骤S26,重复以下步骤S26~S30。另外,为了充分确保该优化运算中的收敛性,例如可定为Kmax=10000。
在除此以外的情况下,模拟温度管理部110从模拟温度T减去ΔT(步骤S31),进入到下一步骤S32。另外,对于模拟温度T的变化量,不仅可以是减去ΔT的运算,还可以是乘上常数δ(0<δ<1)的运算。此时,从式(5)所示的概率Prob(下段)减去一定值。
接着,模拟温度管理部110判定当前时刻的模拟温度T是否等于0(步骤S32)。当T不等于0时,回到步骤S25,重复以下的步骤S25~S32。
另一方面,当T等于0时,模拟温度管理部110向输出用图像数据确定部116通知基于SA法的网格纹样的评价已经结束。然后,存储部24将在步骤S28中最后更新的图像数据Img的内容改写并更新为输出用图像数据ImgOut(步骤S33)。
由此,结束输出用图像数据ImgOut的生成(步骤S2)。另外,该输出用图像数据ImgOut是之后提供到曝光数据变换部32侧、并被变换为曝光部18的控制信号的图像数据。
另外,为了使作业者进行目视确认,可以将所得到的输出用图像数据ImgOut显示在显示部22上,以模拟的形式使网格图案M可视化。
图18A是使表示式(2)中设定为γ=0.5而得到的网格图案M的纹样的图像数据ImgOut可视化的概略说明图。图18B是对图18A的图像数据实施FFT而得到的频谱Spc的分布图。这样,频谱Spc的分布是各向异性的,且具有两个大致椭圆状的峰值。该椭圆的长边与短边之比大致为2∶1,并且X轴方向、Y轴方向上的一维力矩之比也是2∶1。即,对应于式(2)中的γ=0.5的值。
回到图6,曝光部18进行网格图案M的曝光处理(步骤S3),之后进行显影处理(步骤S4)。
这里,参照图19A~图22来说明在透明薄板基材56上形成由金属细线54构成的网格图案M的几个方法(第1方法~第4方法)。
第1方法是:对设置在透明薄膜基材56上的银盐感光层进行曝光、显影、定影,利用由此形成的金属银部构成网格图案M。
具体地讲,如图19A所示,在透明薄膜基材56上涂布银盐感光层66,该银盐感光层66是将卤化银62(例如溴化银颗粒、溴化银盐颗粒或碘溴化银颗粒)混合到明胶64中而形成的。另外,在图19A~图19C中,虽然将卤化银62描述为“颗粒”,但这只是帮助理解本发明而进行的夸张表示,而并不表示大小及浓度等。
之后,如图19B所示,对银盐感光层66进行导电部50的形成中所需的曝光。即,隔着与经过如图10所示的图案生成处理而得到的曝光图案对应的掩膜图案,将光16照射到银盐感光层66上。或者,进行针对银盐感光层66的数字写入曝光,由此在银盐感光层66上曝光形成由上述图案生成处理生成的曝光图案。卤化银62在接收到光能时进行感光,生成被称为“潜影”的肉眼无法观察到的微小的银核。
之后,为了将潜影放大到可用肉眼观察的可视化的图像,如图19C所示,进行显影处理。具体地讲,通过显影液(虽然碱性溶液和酸性溶液两者都存在,但通常碱性溶液较多)对形成了潜影的银盐感光层66进行显影处理。该显影处理是指:通过显影液中的被称为显影主剂的还原剂,将显影银核作为催化剂核,将从卤化银颗粒或显影液提供的银离子还原为金属银,其结果,显影银核被放大而形成可视化的银图像(显影银68)。
在结束显影处理之后,在银盐感光层66中残留有可感光的卤化银62,因此,为了将其除去,如图19D所示,利用定影处理液(虽然酸性溶液和碱性溶液两者都存在,但通常酸性溶液较多)进行定影。
通过进行该定影处理,在曝光的部位上形成了金属银部70,在未曝光的部位仅残留有明胶64,成为透光部72。即,在透明薄膜基材56上形成由金属银部70与透光部72的组合构成的网格图案M。
以下示出了使用溴化银作为卤化银62、并用硫代硫酸盐进行定影处理时的定影处理的反应式。
AgBr(固体)+两个S2O3离子→Ag(S2O3)2
(易水溶性络合物)
即,两个硫代硫酸离子S2O3与明胶64中的银离子(来自AgBr的银离子)生成硫代硫酸银络合物。由于硫代硫酸银络合物的水溶性高,因此从明胶64中溶析出。其结果,显影银68被定影为金属银部70而留下。由该金属银部70构成网格图案M。
因此,显影工序是使还原剂与潜影反应而析出显影银68的工序,定影工序是将没有成为显影银68的卤化银62溶析到水中的工序。详细内容请参照T.H.James,TheTheory of the photographic Process,4th ed.,Macmillian Publishing Co.,Inc,NY,Chapter15,pp.438-442.1977。
另外,显影处理多是在碱性溶液中进行的,因此,在从显影处理工序进入定影处理工序时,显影处理中附着的碱溶液会被带入到定影处理溶液(多为酸性溶液)中,因而存在定影处理液的活性发生了改变等的问题。并且,离开显影处理槽之后,残留在膜上的显影液可能会进一步进行不希望的显影反应。因此,在显影处理之后,在进入定影处理工序之前,优选用醋酸(醋)溶液等终止液对银盐感光层40进行中和或酸性化。
并且,如图19E所示,例如可以进行镀敷处理(单独使用非电解镀或电镀,或者将两者组合使用),仅使导电性金属74载有金属银部70,由此,由金属银部70和载在该金属银部70上的导电性金属74形成网格图案M。
这里,对上述使用银盐感光层66的方法(银盐照相技术)与使用光致抗蚀剂的方法(抗蚀技术)的不同点进行说明。
在抗蚀技术中,通过曝光处理,光聚合引发剂吸收光而开始反应,光致抗蚀剂膜(树脂)自身发生聚合反应,使显影液中的溶解性增大或减小,通过显影处理,去除曝光部分或未曝光部分的树脂。需要说明的是,抗蚀技术中被称为显影液的液体不含还原剂,例如是溶解未反应的树脂成分的碱性溶液。另一方面,在本发明的银盐照相技术的曝光处理中,如上所述,由在接收到光的部位的卤化银62内产生的光电子和银离子,形成被称为所谓“潜影”的微小的银核,该潜影银核通过显影处理(该情况下的显影液一定含有被称为显影主剂的还原剂)被放大,形成可视化的银图像。这样,对于抗蚀技术与银盐照相技术彼此而言,从曝光处理至显影处理的反应完全不同。
在抗蚀技术的显影处理中,曝光部分或未曝光部分的未发生聚合反应的树脂部分被去除。另一方面,在银盐照相技术的显影处理中,将潜影作为催化剂核,通过显影液中含有的被称为显影主剂的还原剂而产生还原反应,显影银68长大至肉眼能够看到的大小,不进行未曝光部分的明胶38的去除。这样,对于抗蚀技术与银盐照相技术彼此而言,显影处理中的反应也完全不同。
需要说明的是,未曝光部分的明胶64中含有的卤化银36通过之后的定影处理而被溶析出来,不进行明胶38自身的去除。
这样,在银盐照相技术中反应(感光)主体是卤化银,与此相对,在抗蚀技术中反应(感光)主体是光聚合引发剂。另外,对于显影处理,在银盐照相技术中粘合剂(明胶64)将留下来,但在抗蚀技术中粘合剂不再存在。在这点上,银盐照相技术与光致抗蚀剂技术差别很大。
作为其他制造方法(第2制造方法),如图20A所示,例如形成铜箔75上的光致抗蚀剂膜76,得到感光材料,其中,该铜箔75形成在透明薄膜基材56上。然后,对感光材料进行曝光。即,隔着与经过图10所示的图案生成处理而得到的曝光图案对应的掩模图案,对光致抗蚀剂膜76照射光。或者,利用针对光致抗蚀剂膜76的数字写入曝光,在光致抗蚀剂膜76上曝光形成由图案生成装置生成的曝光图案。然后,进行显影处理,由此在透明薄膜基材56上形成与导电部50对应的抗蚀剂图案78,如图20B所示,对从抗蚀剂图案78露出的铜箔75进行蚀刻。在该阶段,在透明薄膜基材56上形成由铜箔75构成的导电部50(网格图案M)。
另外,作为第3制造方法,可以如图21A所示,在透明薄膜基材56上印刷含有金属微粒的糊料80,并如图21B所示,通过在印刷的糊料80上进行金属镀敷82,来形成导电部50(网格图案M)。
或者,作为第4制造方法,可以如图22所示,利用丝网印刷版或凹版印刷版,在透明薄膜基材56上印刷金属薄膜84而形成网格图案M。
接着,在本实施方式的导电性薄膜14中,以尤其优选的方式、即采用了卤化银照片感光材料的导电性金属薄膜的制作方法为中心进行说明。
如上所述,本实施方式的导电性薄膜14可以如下制造:对在透明薄膜基材56上具有含感光性卤化银盐的乳剂层的感光材料进行曝光,实施显影处理,由此,在曝光部和未曝光部中分别形成金属银部70和透光部72,接着对金属银部70实施物理显影和/或镀敷处理,从而使金属银部70载有导电性金属74,由此来制造本实施方式的导电性薄膜14。
根据感光材料和显影处理的方式,本实施方式的导电性薄膜14的形成方法包含以下三种方式。
(1)将不含物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料进行化学显影或物理显影,在该感光材料上形成金属银部70。
(2)将在卤化银乳剂层中含有物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料进行物理显影,在该感光材料上形成金属银部70。
(3)将不含物理显影核的感光性卤化银黑白感光材料、与具有含物理显影核的非感光性层的显影片重叠,进行扩散转印显影,在非感光性显影片上形成金属银部70。
上述(1)的方式为一体型黑白显影型,在感光材料上形成透光性电磁波屏蔽膜或光透过性导电膜等透光性导电膜。所得到的显影银为化学显影银或物理显影银,由于是高比表面的细丝,因而在后续的镀敷或物理显影过程中活性很高。
上述(2)的方式为,在曝光部中,与物理显影核相近的卤化银颗粒溶解,在显影核上沉积,从而在感光材料上形成透光性导电膜。该方式也是一体型黑白显影型。由于显影作用是在物理显影核上的析出,因此活性高,而显影银是比表面积小的球形。
上述(3)的方式为,在未曝光部中卤化银溶解并扩散,在显影片上的显影核上沉积,从而在显影片上形成透光性导电膜。该方式为所谓的分离型,将显影片从感光材料上剥离后使用。
所有的方式均可以选择负型显影处理和反转显影处理中的任意一种显影(在扩散转印方式的情况下,通过使用直接阳图(autopositive)型感光材料作为感光材料,能够进行负型显影处理)。
这里所述的化学显影、热显影、溶解物理显影、扩散转印显影的含义为本领域中通常使用的用语的含义,在照片化学的一般教科书中有所说明,例如菊地真一著“写真化学(照片化学)”(共立出版社、1955年发行)、C.E.K.Mees编“The Theory ofPhotographic Process(照相法原理),4th ed.”(Macmillan社、1977年发行)。本案为与液体处理相关的发明,但也可以参考应用热显影方式作为其他显影方式的技术。例如,可以应用日本特开2004-184693号、日本特开2004-334077号、日本特开2005-010752号的各公报、日本特愿2004-244080号、日本特愿2004-085655号的各说明书中记载的技术。
(感光材料)
作为被镀材料的感光材料(感光板(web))例如是在透明薄膜基材56上设置有含银盐(例如卤化银)的含银盐层的长的柔性基材。另外,还可以在含银盐层上设置有保护层,该保护层是指例如由明胶或高分子聚合物等粘合剂构成的层,其形成在含银盐层上,以表现出防擦伤或改进力学特性的效果。保护层的厚度优选为0.02~20μm。
这些含银盐层或保护层的组成等可以适当应用适用于银盐照片胶片、相纸、印刷制版用薄膜、光掩模用乳液掩模等中的卤化银乳剂层(含银盐层)或保护层。
特别是作为感光材料,优选为银盐照片胶片(银盐感光材料),最优选为黑白银盐照片胶片(黑白银盐感光材料)。另外,作为应用于含银盐层的银盐,尤其最优选为卤化银。需要说明的是,感光材料的宽度例如优选为20cm以上,厚度优选为50~200μm。
[透明薄膜基材56]
作为在本实施方式的制造方法中使用的透明薄膜基材56,可以使用柔性的塑料薄膜。
作为上述塑料薄膜的原料,例如可以使用:聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚酰胺、聚醚、聚砜、聚醚砜、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚醚、聚醚醚酮、EVA等聚烯烃类;以及聚碳酸酯、三醋酸纤维素(TAC)、丙烯树脂、聚酰亚胺、或偏芳香族聚酰胺(aramid)等。
在本实施方式中,从透光性、耐热性、易处理性及价格的方面出发,上述塑料薄膜优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜或三醋酸纤维素(TAC)薄膜。
由于在窗户玻璃用的透明发热元件中要求透光性,因此希望透明薄膜基材56的透光性高。该情况下的塑料薄膜的全可见光透过率优选为70~100%,进一步优选为85~100%,特别优选为90~100%。另外,在本发明中,作为上述塑料薄膜,也可以使用以不妨碍本发明的目的的程度着色的塑料薄膜。
本实施方式中的塑料薄膜可以单层使用,也可以作为将两层以上组合而成的多层薄膜使用。
[保护层]
所使用的感光材料可以在后述的乳剂层上设置保护层。本实施方式中,“保护层”是指由明胶或高分子聚合物等粘合剂构成的层,其形成于具有感光性的乳剂层上,以表现出防擦伤或改进力学特性的效果。从镀敷处理的方面出发,优选不设置上述保护层,即使设置也优选是较薄的保护层。其厚度优选为0.2μm以下。上述保护层的涂布方法的形成方法没有特别限定,可以适当选择公知的涂布方法。
[乳剂层]
本实施方式的制造方法中使用的感光材料优选为在透明薄膜基材56上具有含银盐的乳剂层(银盐感光层66)作为光敏器件。本实施方式中的乳剂层除了可以含有银盐以外,根据需要也可以含有染料、粘合剂、溶剂等。
<银盐>
作为本实施方式中使用的银盐,优选为卤化银等无机银盐,尤其是优选是以卤化银照片感光材料用卤化银颗粒的形式使用银盐。卤化银的作为光敏器件的特性优异。
对以卤化银照片感光材料的照片乳剂的形式优选使用的卤化银进行说明。
本实施方式中,为了作为光敏器件发挥功能,优选使用卤化银,与卤化银相关的银盐照片胶片、相纸、印刷制版用薄膜、光掩模用乳液掩模等中使用的技术也可以在本实施方式中使用。
上述卤化银中含有的卤素元素可以是氯、溴、碘和氟中的任一种,也可以将它们组合。例如,优选使用以AgCl、AgBr、AgI为主体的卤化银,进一步优选使用以AgBr、AgCl为主体的卤化银。还优选使用氯溴化银、碘氯溴化银、碘溴化银。更优选为氯溴化银、溴化银、碘氯溴化银、碘溴化银,最优选使用含有50摩尔%以上氯化银的氯溴化银、碘氯溴化银。
需要说明的是,这里,“以AgBr(溴化银)为主体的卤化银”是指,在卤化银组成中所占的溴化物离子的摩尔百分率为50%以上的卤化银。该以AgBr为主体的卤化银颗粒除了溴化物离子之外还可以含有碘化物离子、氯化物离子。
本实施方式中使用的卤化银乳剂可以含有属于VIII族、VIIB族的金属。尤其是,为了获得4以上的灰度或为了实现低灰雾,优选含有铑化合物、铱化合物、钌化合物、铁化合物、锇化合物等。
另外,为了实现高灵敏化,进行K4〔Fe(CN)6〕、K4〔Ru(CN)6〕、K3〔Cr(CN)6〕那样的六氰化金属络合物的掺杂是有利的。
这些化合物的添加量相对于每1摩尔卤化银优选为10-10~10-2摩尔/摩尔Ag,进一步优选为10-9~10-3摩尔/摩尔Ag。
除此之外,本实施方式中,还可以优选使用含有Pd(II)离子和/或Pd金属的卤化银。Pd可以在卤化银颗粒内均匀分布,但优选在卤化银颗粒的表层附近含有Pd。这里“在卤化银颗粒的表层附近含有Pd”是指,在深度方向上距卤化银颗粒的表面50nm以内处,具有与其他层相比钯的含有率更高的层。
这种卤化银颗粒可以通过在形成卤化银颗粒的过程中添加Pd而进行制作,优选在分别添加了总添加量的50%以上的银离子和卤素离子后添加Pd。另外,还优选通过在后熟时添加Pd(II)离子等方法使其存在于卤化银表层。
该含Pd卤化银颗粒有助于加快物理显影或非电解镀的速度,提高所期望的发热体的生产效率,降低生产成本。Pd作为非电解镀催化剂被广泛所知并使用,而在本发明中,由于能够使Pd偏向地位于卤化银颗粒的表层,因此能够节约极其昂贵的Pd。
本实施方式中,卤化银中含有的Pd离子和/或Pd金属的含有率相对于卤化银的、银的摩尔数优选为10-4~0.5摩尔/摩尔Ag,进一步优选为0.01~0.3摩尔/摩尔Ag。
作为所使用的Pd化合物的例子,可以举出PdCl4、Na2PdCl4等。
本实施方式中,为了进一步提高作为光敏器件的灵敏度,还可以实施利用照片乳剂进行的化学增感。作为化学增感的方法,可以使用硫增感、硒增感、碲增感等硫族增感、金增感等贵金属增感、以及还原增感等。它们可以单独或组合使用。在组合上述化学增感的方法而使用时,例如,优选为:硫增感法与金增感法的组合;硫增感法、硒增感法与金增感法的组合;以及硫增感法、碲增感法与金增感法等的组合。
<粘合剂>
为了使银盐颗粒均匀分散、并且辅助于乳剂层与支撑体之间的密合,乳剂层可以使用粘合剂。在本发明中,作为上述粘合剂,可以使用非水溶性聚合物和水溶性聚合物中的任一者,但优选使用水溶性聚合物。
作为上述粘合剂,例如,可以列举出:明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类;纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、多糖、聚乙烯胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚藻酸(polyalginic acid)、聚透明质酸、羧基纤维素等。它们根据官能团的离子性具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。
乳剂层中含有的粘合剂的含量没有特别限定,可以在能够发挥分散性和密合性的范围内恰当地确定。例如作为乳剂层中含有的粘合剂的含量,可以调节为使得银盐感光层66中的Ag/粘合剂体积比为1/4以上,或者调节为使得银盐感光层66中的Ag/粘合剂体积比为1/2以上。
<溶剂>
上述乳剂层的形成中使用的溶剂没有特别限定,例如,可以列举出水、有机溶剂(例如,甲醇等醇类、丙酮等酮类、甲酰胺等酰胺类、二甲基亚砜等亚砜类、乙酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体、和它们的混合溶剂。
相对于所述乳剂层中含有的银盐、粘合剂等的总质量,本发明的乳剂层中使用的溶剂的含量为30~90质量%的范围,优选为50~80质量%的范围。
接着,对用于形成导电部50(网格图案M)的各工序进行说明。
[曝光]
在本实施方式中,通过曝光部18向设置在透明薄膜基材56上的具有银盐感光层66的感光材料进行曝光。可以使用电磁波来进行曝光。作为电磁波,例如可列举出可见光线、紫外线等光线、X线等放射线等。而且,在曝光中既可以使用具有波长分布的光源,也可以使用特定波长的光源。
作为形成图案像的曝光方式,包括以下方式:面曝光方式,隔着掩膜图案将均匀的光照射到感光面上而形成掩膜图案的像;以及扫描曝光方式,进行激光等的光束的扫描而在感光性面上形成图案状的照射部。
可以使用各种激光束来进行曝光。例如,本实施方式中的曝光可以优选使用扫描曝光方式,该扫描曝光方式使用了气体激光器、发光二极管、半导体激光器、或第2谐波发光光源(SHG)等的单色高密度光,其中,在第2谐波发光光源中,是将半导体激光器或在激励光源中使用了半导体激光器的固定激光器与非线性光学晶体相组合,而且,本实施方式中的曝光还可以使用KrF激元激光器、ArF激元激光器、F2激光器等。为了使系统小型化而便宜,使用半导体激光器、或者半导体激光器或固体激光器与非线性光学晶体相组合的第2谐波产生光源(SHG)进行曝光更为优选。特别是为了设计出小型、便宜、寿命长、且稳定性高的装置,最优选使用半导体激光器进行曝光。
关于按图案状对银盐感光层66进行曝光的方法,优选采用基于激光束的扫描曝光。特别优选日本特开2000-39677号公报所记载的绞盘(capstan)方式的激光扫描曝光装置,而且在该绞盘方式中,还优选在光束扫描系统中使用日本特开2004-1224号公报记载的DMD来代替基于多面镜旋转的光束扫描方式。特别是在制作3m以上的长的柔性薄膜型加热器时,优选在弯曲的曝光台上,一边输送感光材料一边用激光束进行曝光。
如后所述,网格图案M没有特别限定,只要是在被施加电压的电极之间流过电流的构造即可,例如由实质上平行的直线状细线交叉而成的三角形、四角形(菱形、正方形等)、六角形等格子状纹理、或平行的直线、折线、波浪线等。
[显影处理]
在本实施方式中,在对乳剂层进行曝光后,进一步进行显影处理。显影处理可以使用针对银盐照片胶片、相纸、印刷制版用薄膜、光掩模用乳液掩模等使用的通常的显影处理的技术。对于显影液没有特别限定,也可以使用PQ显影液、MQ显影液、MAA显影液等,在市场上销售的商品中,例如,可以使用富士胶片公司配方的CN-16、CR-56、CP45X、FD-3、PAPITOL、KODAK公司配方的C-41、E-6、RA-4、D-19、D-72等显影液、或其试剂盒中所含的显影液。
还可以使用高反差显影液。作为高反差显影液,可以使用KODAK公司配方的D85等。本发明中,通过进行上述曝光和显影处理,在曝光部上形成金属银部70、优选形成图案状金属银部,并且在未曝光部上形成后述的透光部72。
为了提高画质,显影处理中使用的显影液可以含有画质提高剂。作为画质提高剂,例如可以举出苯并三唑等含氮杂环化合物。另外,在利用高反差显影液的情况下,尤其还优选使用聚乙二醇。
显影处理后的曝光部中含有的金属银的质量的含有率优选为曝光前的曝光部中含有的银的质量的50质量%以上,进一步优选为其80质量%以上。若曝光部中含有的银的质量是曝光前的曝光部中含有的银的质量的50质量%以上,则能够得到高导电性,因此是优选的。
本实施方式中的显影处理后的灰度没有特别限定,优选超过4.0。若显影处理后的灰度超过4.0,则能够较高地保持透光部的透光性,同时能够提高导电性金属部的导电性。作为使灰度成为4.0以上的方法,例如,可以举出上述的铑离子、铱离子的掺杂。
[物理显影及镀敷处理]
在本实施方式中,为了提高通过上述曝光及显影处理形成的金属银部70的导电性,还可以进行用于使金属银部70载有导电性金属颗粒的物理显影和/或镀敷处理。在本实施方式中,可以仅利用物理显影或镀敷处理中的任意一方使金属银部70载有导电性金属颗粒,不过还可以进一步组合物理显影和镀敷处理而使金属银部70载有导电性金属颗粒。
本实施方式中的“物理显影”是指,在金属或金属化合物的核上,用还原剂对银离子等金属离子进行还原而析出金属颗粒。该物理显影被用于即时黑白胶片、即时幻灯胶片、或印刷版制造等,在本发明中可以使用该技术。
[压光(calender)处理]
可以对显影处理后的金属银部70(全面金属银部、金属网格图案部或金属配线图案部)实施压光处理而使其平滑化。由此,金属银部70的导电性显著增大。压光处理可以利用压光辊来进行。压光辊通常由一对辊构成。
作为压光处理中使用的辊,可使用环氧树脂、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰亚胺酰胺等的塑料辊或金属辊。尤其是在两面均具有乳剂层的情况下,优选在金属辊彼此之间进行处理。在单面具有乳剂层的情况下,从防止褶皱的方面出发,还可以为金属辊与塑料辊的组合。线压力的下限值为1960N/cm(200kgf/cm,换算为面压力为699.4kgf/cm2)以上,进一步优选为2940N/cm(300kgf/cm,换算为面压力为935.8kgf/cm2)以上。线压力的上限值为6880N/cm(700kgf/cm)以下。
以压光辊为代表的平滑化处理的适用温度优选为10℃(无温度调节)~100℃,虽然随金属网格图案、金属配线图案的扫描线密度或形状、粘合剂种类而异,但更优选的温度约在10℃(无温度调节)~50℃的范围。
[蒸汽接触处理]
若在即将进行压光处理前或刚进行完压光处理后与蒸气接触,则能够进一步提升压光处理所带来的效果。即,能够显著提高导电性。所使用的蒸气的温度优选为80℃以上,进一步优选为100℃以上且140℃以下。与蒸气接触的时间优选为10秒至5分钟左右,进一步优选为1分钟至5分钟。
这里,本发明可以将下述表1和表2中记载的公开公报和国际公开小册子的技术适当组合而使用。省略了“日本特开”、“号公报”、“号小册子”等表述。
[表1]
[表2]
【实施例】
以下,举出本发明的实施例来更具体地说明本发明。需要说明的是,以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的主旨则可以适当变更。因此,本发明的范围不应限定性地解释成以下所示的具体例子。
(卤化银感光材料)
制备乳剂,该乳剂相对于水介质中的60g Ag含有10.0g明胶,且含有球当量直径平均0.1μm的碘溴氯化银颗粒(I=0.2摩尔%、Br=40摩尔%)。
另外,在该乳剂中添加浓度为10-7(摩尔/摩尔银)的K3Rh2Br9和K2IrCl6,在溴化银颗粒中掺杂Rh离子和Ir离子。在该乳剂中添加Na2PdCl4,进而使用氯金酸和硫代硫酸钠进行金硫增感,之后,以银的涂布量为1g/m2的方式,与明胶坚膜剂一起涂布到聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上。此时,Ag/明胶体积比为1/2。
在宽度30cm的PET支撑体上以25cm的宽度进行20m的涂布,将两端分别切掉3cm而保留涂布的中央部24cm,得到辊状的卤化银感光材料。
[曝光图案的生成]
分别生成表示三种网格图案M1~M3的输出用图像数据ImgOut。
如图23A所示,由在上下方向或左右方向上延伸的直线状的配线构成的网格图案M1为正方格子状。
如图24A所示,由正弦波状的多个配线构成的网格图案M2为竖条纹状。这些正弦波不彼此相交而是在向上下方向上平行地行进,但中心线的间隔距离、正弦波的振幅/相位分别不同。例如,它们的值是根据均匀分布而随机确定的。
如图25A所示,由不规则地配置的配线构成的网格图案M3为随机的形状。该网格图案M3是使用本实施方式中说明的SA法(参照图10等)而实际得到的纹样。
网格图案M3的设定条件为:整体透过率为93%、透明薄膜基材56的厚度为20μm、金属细线54的宽度为20μm、金属细线54的厚度为10微米。且设图案尺寸的纵横都为5mm、图像分辨率为3500dpi(dot per inch)。使用梅森旋转算法随机地确定种子点SD的初始位置,使用维诺图划分出多角形状的各网格区域。根据图像数据Img的颜色值L*计算出第1评价值EV1,根据图像数据Img的颜色值L*、颜色值a*、颜色值b*计算出第2评价值EV1。并且,在上下方向及左右方向上并列地配置相同的输出图像数据ImgOut,由此形成周期性的曝光图案。
[曝光]
针对卤化银感光材料的曝光图案的曝光是如下这样进行的:将使用了日本特开2004-1224号公报的发明的实施方式中记载的DMD(数字微镜器件)的曝光头排列成25cm宽,弯曲地配置曝光头及曝光台,以在感光材料的感光层上使激光成像,在安装了感光材料送出机构及卷绕机构之后,以使曝光面的张力控制及卷绕、送出机构的速度变动不影响曝光部分的速度的方式,由设置有具有缓冲作用的挠曲部的连续曝光装置进行曝光。曝光的波长为400nm,光束形状为12μm的大致正方形,且激光光源的输出为100μJ。
[显影液的组成]
在1升显影液中包含有以下化合物。
对苯二酚 20g
亚硫酸钠 50g
碳酸钾 40g
乙二胺四乙酸 2g
溴化钾 3g
聚乙二醇2000 1g
氢氧化钾 4g
pH 调整为10.3
[定影液的组成]
在1升定影液中包含有以下化合物。
硫代硫酸铵溶液(75%) 300ml
亚硫酸铵一水盐 25g
1,3-二氨基丙烷四乙酸 8g
乙酸 5g
氨水(27%) 1g
pH 调整为6.2
[显影处理]
使用富士胶片公司制的自动显影机FG-710PTS,在显影35℃30秒、定影34℃23秒、水洗涤水(5L/分)20秒的处理条件下,使用上述处理剂对曝光后的感光材料进行处理。
作为运行条件,设感光材料的处理量为100m2/天、显影液的补充为500ml/m2、定影液为640ml/m2,进行3天。此时,确认到镀敷处理后的铜的图案为线宽12μm、间距300μm。
进而,使用镀敷液(含有硫酸铜0.06摩尔/L、福尔马林0.22摩尔/L、三乙醇胺0.12摩尔/L、聚乙二醇100ppm、黄血盐50ppm,α,α’-双吡啶20ppm的、pH=12.5的非电解镀铜液),在45℃的条件下进行非电解镀铜处理,之后,用含有10ppm的Fe(III)离子的水溶液进行氧化处理,得到导电性薄膜的各种样品。
以下,将具有网格图案M1~M3的导电性薄膜称为第1~第3样品。
[摄影]
配置用于设置第1~第3样品的透明板。透明板由厚度为5mm的玻璃构成,模拟了窗户玻璃。在透明板上分别贴附了第1~第3样品,使房间进行成为暗室。
为了确认由网格图案M引起的衍射光的干涉性,在与透明板相距3m的距离处点亮白炽灯(40瓦特的灯泡),隔着透明板使用照相机进行摄影(以下称为第1摄影)。
另外,为了评价网格图案M的噪声特性,在使上述白炽灯熄灭的状态下,使用上述照相机的闪光灯(辅助光),对透明板进行摄影(以下称为第2摄影)。
[结果]
图23B、图24B及图25B是具有网格图案M1、M2及M3的导电性薄膜14的第1摄影照片。
如图23B及图24B所示,可知:对于相对于X轴或Y轴具有周期性的网格图案M1、M2,具有干涉条纹的产生区域窄、且光强度大的趋势。另一方面,如图25B所示,可知:对于具有非周期性的网格图案M3,具有干涉条纹的产生区域大、且光强度小的趋势。
图23C、图24C及图25C是具有网格图案M1、M2及M3的导电性薄膜14的第2摄影照片。
这样,从规定的二维图像区域200中选择多个位置(种子点SD),根据所选择的上述多个位置(种子点SD),生成表示具有多个开口部52的网格图案M的纹样的图像数据Img,针对经由多个开口部52产生的光干涉的指向性,根据所生成的图像数据Img计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值EV1,根据计算出的第1评价值EV1和规定的评价条件,确定一个图像数据Img作为输出用图像数据ImgOut,根据所确定的输出用图像数据ImgOut,在透明薄膜基材56上输出并形成线材,因此,能够确定出产生满足上述规定的评价条件的光干涉的网格图案M的形状。换言之,能够恰当地控制经由由网格图案M形成的多个开口部52产生的光干涉的指向性。
需要说明的是,本发明不限于上述实施方式,当然可以在不脱离本发明主旨的范围内自由地进行变更。
Claims (19)
1.一种透明导电膜的制造方法,其特征在于,该制造方法包括:
位置选择步骤,从规定的二维图像区域中选择多个位置;
图像数据生成步骤,根据所选择的所述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据;
评价值计算步骤,针对经由所述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;
图像数据确定步骤,根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据;以及
制造步骤,根据所确定的所述输出用图像数据,在透明基材上输出并形成线材,制造具有所述网格图案的透明导电膜。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
第1输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述线材的视觉确认信息;
第2输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述透明基材的视觉确认信息;以及
图像信息估计步骤,根据所输入的所述线材及所述透明基材的视觉确认信息,估计与所述网格图案对应的图像信息,
在所述图像数据生成步骤中,根据估计出的所述图像信息生成所述图像数据。
3.根据权利要求2所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述线材的视觉确认信息包含该线材的种类、颜色值、光透过率或光反射率、或者由该线材形成的配线的截面形状或粗细中的至少一项,
所述透明基材的视觉确认信息包含该透明基材的种类、颜色值、光透过率、光反射率或该透明基材的膜厚中的至少一项。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述图像数据的二维功率谱计算出的评价值。
5.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述二维功率谱的针对所述2轴方向的各力矩计算出的评价值。
6.根据权利要求5所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用针对所述2轴方向的所述力矩之比计算出的评价值。
7.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述二维功率谱的空间频域的一部分计算出的评价值。
8.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述评价值计算步骤中,还根据所述图像数据计算用于评价所述网格图案的噪声特性的第2评价值,
在所述图像数据确定步骤中,根据计算出的所述第1评价值、所述第2评价值及规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是表示粒度的评价值。
10.根据权利要求9所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是RMS粒度。
11.根据权利要求9所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是利用人的视觉响应特性函数进行校正后的RMS粒度。
12.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述人的视觉响应特性函数是Dooley-Shaw函数。
13.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述图像数据生成步骤中,使用德洛内三角形分割法根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
14.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述图像数据生成步骤中,使用维诺图根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
15.根据权利要求8所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述方法包括位置更新步骤,在该位置更新步骤中,根据所述第1评价值和/或所述第2评价值,将所述多个位置中的一部分分别更新为其他的位置,
在所述位置更新步骤中,依次重复所述图像数据生成步骤及所述评价值计算步骤,通过所述图像数据确定步骤确定所述输出用图像数据。
16.根据权利要求15所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述位置更新步骤中,使用模拟退火法,将所述多个位置中的一部分分别更新为其他的位置。
17.一种导电性薄膜,其特征在于,该导电性薄膜是使用权利要求1至16中任意一项所述的制造方法制造的。
18.一种透明发热体,其特征在于,所述透明发热体具有权利要求17所述的导电性薄膜。
19.一种透明导电膜的制造装置,其特征在于,该制造装置具有:
位置选择部,其从规定的二维图像区域中选择多个位置;
图像数据生成部,其根据所选择的所述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据;
评价值计算部,其针对经由所述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;
图像数据确定部,其根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据;以及
制造部,其根据所确定的所述输出用图像数据,在透明基材上输出并形成线材,制造具有所述网格图案的透明导电膜。
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