KR101686019B1 - 도전 시트의 제조 방법, 도전 시트 및 기록 매체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 패턴에 기인하는 노이즈 입상감을 저감시킴으로써 관찰 대상물의 시인성을 대폭 향상가능하고, 재단 후에도 안정한 통전 성능을 갖는 도전 시트의 제조 방법, 도전 시트 및 기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 메쉬 패턴의 모양을 나타내는 화상 데이터를 작성하는 작성 스텝과, 작성된 상기 화상 데이터에 근거하여 기체 상에 선재를 출력 형성하여 상기 메쉬 패턴을 갖는 도전 시트를 제조하는 출력 스텝을 구비하고, 상기 화상 데이터는 상기 화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서, 상기 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 갖는 도전 시트(14)의 제조 방법에 영향을 미친다.

Description

도전 시트의 제조 방법, 도전 시트 및 기록 매체{METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE SHEET, CONDUCTIVE SHEET, AND RECORDING MEDIUM}
본 발명은 기체 상에 메쉬상의 선재가 형성된 도전 시트의 제조 방법, 도전 시트, 및 상기 도전 시트의 제조용으로 제공되는 프로그램을 저장하는 기록 매체에 관한 것이다.
최근, 기체 상에 메쉬상의 선재가 형성된 도전 시트가 개발되고 있다. 이 도전 시트는 전극이나 발열 시트로서 사용가능하다. 예를 들면, 터치패널용 전극, 무기 EL 소자, 유기 EL 소자 또는 태양전지의 전극뿐만 아니라, 차량의 디프로스터(성에 제거 장치)나 전자파 실드재에도 적용해도 좋다.
상기한 각종 물품의 사용자에 있어서, 그 용도의 성질상 메쉬 패턴의 모양은 관찰 대상물의 시인성을 방해하는 입상 노이즈에 상당하는 경우가 있다. 거기에, 동일한 또는 다른 메쉬 형상을 규칙적, 또는 불규칙적으로 배치함으로써 입상 노이즈(granular noise)을 억제하고, 관찰 대상물의 시인성을 향상시키기 위한 기술이 다양하게 제안되고 있다.
예를 들면, 일본 특허 공개 2009-137455호 공보에는 도 27a에 나타낸 바와 같이, 원의 일부를 컷아웃한 원호상의 도전성을 갖는 선재(2)가 격자상으로 반복 배치되는 동시에, 상기 원호상의 선재(2)의 단부는 인접하는 원호상의 선재(2)의 중앙부 근방에 접속되는 메쉬층(4)이 설치되어 있는 승용 이동체용 창(윈도우) 및 그 패턴(PT1)의 평면시 형상이 개시되어 있다. 이것에 의해, 시인성뿐만 아니라 전자파의 실드성 및 내파손성을 향상시킬 수 있는 취지가 기재되어 있다.
또한, 일본 특허 공개 2009-016700호 공보에는 도 27b에 나타낸 바와 같이, 기판 상에 한면에 도포하여 방치해 두면 자연히 기판 상에 망목상 구조를 형성하는 용액, 즉 자기 조직화하는 금속 미립자 용액을 사용하여 제조한 투명 도전성 기판 및 그 패턴(PT2)의 평면시 형상이 개시되어 있다. 이것에 의해, 무아레 현상이 발생하지 않는 불규칙한 망목상 구조가 얻어지는 취지가 기재되어 있다.
또한, 일본 특허 공개 2009-302439호 공보에는 도 27c에 나타낸 바와 같이, 전자파 실드층(6)이 해도 구조의 해도역 구조를 갖고, 전자파 실드층(6)으로 둘러싸여진 개구부로 이루어지는 도 영역(8)의 형상이 서로 다른 광투과성 전자파 실드재 및 그 패턴(PT3)의 평면시 형상이 개시되어 있다. 이것에 의해, 무아레의 발생이 없고 광투과성 및 전자파 실드성이 향상되는 취지가 기재되어 있다.
그러나, 일본 특허 공개 2009-137455호 공보 및 일본 특허 공개 2009-016700호 공보에 개시된 패턴(PT1, PT2)에서는 입상 노이즈를 더욱 저감시키고 시인성을 개선시키려면 패턴 구조상의 문제가 있다.
예를 들면, 일본 특허 공개 2009-137455호 공보의 메쉬상 패턴(PT1)은 원호상 선재(2)를 격자상으로 반복하여 배치하므로 선재(2)의 주기성은 매우 높다. 즉, 패턴(PT1)의 파워 스펙트럼을 산출하면, 선재(2)의 배치 간격의 역수에 상당하는 공간 주파수 대역에서 날카로운 피크를 갖는다고 예측된다. 여기서, 패턴(PT1)의 시인성을 더욱 개선시키기 위해서는 상기 원호의 사이즈(지름)를 작게 하지 않으면 안된다.
또한, 일본 특허 공개 2009-016700호 공보의 메쉬상 패턴(PT2)은 메쉬 형상이나 사이즈가 고르지 않기 때문에 불규칙성은 매우 높다. 즉, 패턴 PT2의 파워 스펙트럼을 산출하면, 공간 주파수 대역에 의하지 않고 대략 일정한 값(화이트 노이즈 특성에 가까움)이라 예측된다. 여기서, 패턴(PT2)의 시인성을 더욱 개선시키기 위해서는 자기 조직화의 사이즈를 작게 하지 않으면 안된다.
그러면, 일본 특허 공개 2009-137455호 공보에 개시된 승용 이동체용 창(윈도우)나 일본 특허 공개 2009-016700호 공보에 개시된 투명 도전성 기판 모두 시인성을 더욱 개선시키기 위해서는 광투과율이나 생산성이 저하한다는 부적합이 있었다.
또한, 일본 특허 공개 2009-302439호 공보에 개시된 패턴(PT3)은 메쉬 형상을 구성하지 않으므로 이 재단면의 배선 형상에는 불균일이 생긴다. 그러면, 패턴(PT3)을 예를 들면 전극으로서 사용하는 경우에 안정한 통전 성능을 얻을 수 없다는 부적합이 있었다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위해서 이루어지므로, 패턴에 기인하는 노이즈 입상감을 저감시킴으로써 관찰 대상물의 시인성을 대폭 향상 가능하고, 재단 후에도 안정한 통전 성능을 갖는 도전 시트의 제조 방법, 도전 시트 및 기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 의한 도전 시트의 제조 방법은 메쉬 패턴의 모양을 나타낸 화상 데이터를 작성하는 작성 스텝과, 작성된 상기 화상 데이터에 근거하여 기체 상에 선재를 출력 형성하여 상기 메쉬 패턴을 갖는 도전 시트를 제조하는 출력 스텝을 구비하고, 상기 화상 데이터는 상기 화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 갖는 것을 특징으로 한다.
화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 가짐으로, 저공간 주파수 대역측과 비교하여 높은 고공간 주파수 대역측의 노이즈량이 상대적으로 커지고 있다. 인간의 시각은 저공간 주파수 대역에서의 응답 특성은 높지만 중∼고공간 주파수 대역에 있어서 응답 특성은 급격하게 저하하는 성질을 가짐으로, 인간에 있어서 시각적으로 느껴지는 노이즈감은 감소한다. 이것에 의해, 도전 시트가 갖는 패턴에 기인하는 노이즈 입상감은 저감됨으로 관찰 대상물의 시인성은 대폭 향상한다. 또한, 재단 후에 있어서의 각 배선의 단면 형상도 대략 일정하여 안정한 통전 성능을 갖는다.
본 발명에 의한 도전 시트의 제조 방법은 메쉬 패턴과, 상기 메쉬 패턴의 모양과는 다른 모양을 갖는 구조 패턴을 중첩시켜 얻어지는 중첩 화상 데이터의 평가 결과에 기초하고, 상기 메쉬 패턴의 모양을 나타낸 화상 데이터를 작성하는 작성 스텝과, 작성된 상기 화상 데이터에 기초하여 기체 상에 선재를 출력 형성하여 상기 메쉬 패턴을 갖는 도전 시트를 제조하는 출력 스텝을 구비하고, 상기 중첩 화상 데이터는 상기 중첩 화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 중첩 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 갖는 것을 특징으로 한다.
구조 패턴을 중첩시켜 화상 데이터를 작성함으로써, 상기 구조 패턴의 모양을 고려한 메쉬 형상의 최적화가 가능하다. 즉, 실제의 사용 형태에서의 관찰로 노이즈 입상감이 저감되어 관찰 대상물의 시인성은 대폭 향상한다. 도전 시트의 실제 사용 형태가 기지인 경우, 특히 효과적이다.
또한, 상기 구조 패턴은 블랙 매트릭스인 것이 바람직하다.
또한, 상기 메쉬 패턴의 모양이 형성되는 소정의 이차원 화상영역에서 주기적으로 배열된 기하 패턴인 제 1 화상영역과, 상기 소정의 이차원 화상영역 중 상기 제 1 화상영역의 잔여영역을 적어도 포함하는 제 2 화상영역을 각각 컷아웃하는 컷아웃 스텝을 더욱 구비하고, 상기 작성 스텝에서는 컷아웃된 상기 제 1 화상영역에 따른 제 1 화상 데이터와, 컷아웃된 상기 제 2 화상영역에 따른 제 2 화상 데이터를 작성하고, 상기 출력 스텝에서는 작성된 상기 제 1 데이터 및 상기 제 2 화상 데이터에 근거하여 상기 선재를 출력 형성함으로써 상기 기체 상에 있어서 상기 메쉬 패턴의 모양을 합성하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 예를 들면 터치패널 용도와 같이 복수의 도전 시트를 적층하는 구성을 채택하는 경우에도 노이즈 간섭(무아레)의 발생을 방지할 수 있다.
또한, 상기 화상 데이터는 복수의 컬러 채널을 갖고 있고, 상기 적분값은 상기 컬러 채널마다의 가중 총 합계인 것이 바람직하다.
또한, 소정의 이차원 화상영역 중에서 복수의 위치를 선택하는 선택 스텝을 구비하고, 상기 작성 스텝에서는 선택된 상기 복수의 위치에 근거하여 상기 화상 데이터를 작성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 인간의 표준시각응답 특성은 관찰 거리 300mm에서의 둘리-쇼 함수인 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 도전 시트는 상기한 제조 방법 증 어느 하나를 사용하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 도전 시트는 기체 상에 메쉬상의 선재가 형성된 도전 시트로서, 평면시에서의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 선재의 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 도전 시트는 기체 상에 메쉬상의 선재가 형성된 도전 시트로서, 상기 도전 시트 상에 상기 메쉬상과는 다른 모양을 갖는 구조 패턴을 중첩한 상태 하, 평면시에서의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 선재의 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 기록 매체는 메쉬 패턴의 모양을 나타낸 화상 데이터를 작성하기 위한 프로그램을 저장한 기록 매체로서, 상기 프로그램은 컴퓨터를 메쉬 패턴의 시인성에 관련된 시인 정보를 입력하는 입력부, 상기 입력부에 의해 입력된 상기 시인 정보에 근거하여 소정의 공간 주파수 조건을 만족시키도록 상기 화상 데이터를 작성하는 화상 데이터 작성부로서 기능하고, 상기 소정의 공간 주파수 조건은 상기 화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 커지는 조건인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 도전 시트의 제조 방법, 도전 시트 및 기록 매체에 의하면, 기체 상에 선재를 출력 형성하기 위한 화상 데이터는 상기 화상 데이터의 파워 스펙트럼과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서 상기 화상 데이터에 따른 나이퀴스트 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 가짐으로, 저공간 주파수 대역측과 비교하여 고공간 주파수 대역측의 노이즈량은 상대적으로 커지고 있다. 인간의 시각은 저공간 주파수 대역에서의 응답 특성은 높지만 중∼고공간 주파수 대역에 있어서 응답 특성은 급격하게 저하하는 성질을 가짐으로, 인간에 있어서 시각적으로 느껴지는 노이즈감은 감소한다. 이것에 의해, 도전 시트가 갖는 패턴에 기인하는 노이즈 입상감은 저감됨으로, 관찰 대상물의 시인성은 대폭 향상한다. 또한, 재단 후에 있어서의 각 배선의 단면 형상도 대략 일정하여, 안정한 통전 성능을 갖는다.
첨부한 도면과 협동하는 이하의 바람직한 실시형태예의 설명으로부터 상기의 목적, 특징 및 이점은 보다 명백질 것이다.
도 1은 본 실시형태에 따른 도전 시트를 제조하기 위한 제조 장치의 개략 구성 블록도이다.
도 2a는 도 1에 나타낸 도전 시트의 일부 확대 평면도이다.
도 2b는 도 1에 나타낸 도전 시트를 터치패널에 적용했을 경우의 제 1 구성예를 나타낸 개략 분해 사시도이다.
도 3은 도 2a에 나타낸 도전 시트의 개략 단면도이다.
도 4는 도 1에 나타낸 메쉬 모양 평가부 및 데이터 갱신 지시부의 상세 기능 블록도이다.
도 5는 화상 데이터 작성 조건의 설정 화면을 나타내는 도이다.
도 6은 도 1의 제조 장치의 동작 설명에 제공되는 플로우 차트이다.
도 7a는 메쉬 패턴의 모양을 나타낸 화상 데이터를 가시화한 개략 설명도이다.
도 7b는 도 7a에 나타낸 화상 데이터에 대하여 FFT를 실시하여 얻어지는 이차원 파워 스펙트럼의 분포도이다.
도 7c는 도 7b에 나타낸 이차원 파워 스펙트럼 분포의 VIIC-VIIC선에 따른 단면도이다.
도 8은 둘리-쇼(Dooley-Shaw) 함수(관찰 거리 300mm)의 그래프이다.
도 9는 이차원 파워 스펙트럼과 고공간 주파수측으로 시프트시킨 VTF와의 위치 관계를 나타내는 개략 설명도이다.
도 10은 출력용 화상 데이터의 작성 방법을 설명하는 플로우 차트이다.
도 11은 시드점의 배치밀도와 전체 투과율의 관계의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 12a 및 도 12b는 보로노이도를 사용하고, 8개의 점을 각각 위요하는 8개의 영역을 획정한 결과의 설명도이다.
도 13a 및 도 13b는 들로네(Delaunay) 삼각형 분할법을 사용하고, 8개의 점을 각각 정점으로 하는 8개의 삼각형상 영역을 획정한 결과의 설명도이다.
도 14a는 화상 데이터에 있어서의 화소 어드레스의 정의를 나타내는 설명도이다.
도 14b는 화상 데이터에 있어서의 화소값의 정의를 나타내는 설명도이다.
도 15a는 시드점의 초기 위치의 모식도이다.
도 15b는 도 15a의 시드점을 기준으로 하는 보로노이도이다.
도 16은 도 10에 나타낸 스텝 S26의 상세 플로우 차트이다.
도 17a는 화상영역내의 제 1 시드점, 제 2 시드점 및 후보점의 위치 관계를 나타내는 설명도이다.
도 17b는 제 2 시드점과 후보점을 교환하여 시드점의 위치를 갱신한 결과의 설명도이다.
도 18은 최적화된 메쉬 패턴의 모양을 나타내는 출력용 화상 데이터를 가시화한 개략 설명도이다.
도 19는 도 18에 나타낸 출력용 화상 데이터의 스펙트럼에 대하여 인간의 표준시각응답 특성을 콘볼루션한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 20a는 제 1 화상 데이터를 가시화한 개략 설명도이다.
도 20b는 제 2 화상 데이터를 가시화한 개략 설명도이다.
도 21은 도 20a에 나타낸 이차원 화상영역의 부분 확대도이다.
도 22는 본 실시형태의 변형예에 있어서의 화상 데이터 작성 조건의 설정 화면을 나타내는 도이다.
도 23은 본 실시형태의 변형예에 있어서의 출력용 화상 데이터의 작성 방법을 설명하는 플로우 차트이다.
도 24는 도 23에 나타낸 스텝 S27A의 상세 플로우 차트이다.
도 25는 블랙 매트릭스를 중첩하는 상태 하에서 최적화된 메쉬 패턴의 모양을 나타내는 출력용 화상 데이터를 가시화한 개략 설명도이다.
도 26은 도전 시트의 다른예의 개략 단면도이다.
도 27a∼도 27c는 비교예에 관련된 패턴의 확대 평면도이다.
이하, 본 실시형태에 따른 도전 시트의 제조 방법에 대해서 그것을 실시하는 제조 장치와의 관계에 있어서 바람직한 실시형태를 들 수 있고, 첨부된 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
도 1은 본 실시형태에 따른 도전 시트(14)를 제조하기 위한 제조 장치(10)의 개략 구성 블록도이다.
제조 장치(10)는 메쉬 패턴(M)의 모양을 나타내는 화상 데이터(Img)(출력용 화상 데이터(ImgOut)를 포함)를 작성하는 화상 처리 장치(12)와, 상기 화상 처리 장치(12)에 의해 작성된 상기 출력용 화상 데이터(ImgOut)에 근거하여 제조 공정 하의 도전 시트(14)에 광(16)을 조사하여 노광하는 노광부(18)와, 상기 화상 데이터(Img)를 작성하기 위한 각종 조건(메쉬 패턴(M)이나 후술하는 구조 패턴의 시인 정보를 포함)을 화상 처리 장치(12)에 입력하는 입력부(20)와, 상기 입력부(20)에 의한 입력 작업을 보조하는 GUI 화상이나 기억된 출력용 화상 데이터(ImgOut) 등을 표시하는 표시부(22)를 기본적으로 구비한다.
화상 처리 장치(12)는 화상 데이터(Img), 출력용 화상 데이터(ImgOut), 후보점(SP)의 위치 데이터(SPd) 및 시드점(SD)의 위치 데이터(SDd)를 기억하는 기억부(24)(기록 매체)와, 유사난수를 발생하여 난수값을 생성하는 난수 발생부(26)와, 상기 난수 발생부(26)에 의해 생성된 상기 난수값을 사용하여 소정의 이차원 화상영역 중에서 시드점(SD)의 초기 위치를 선택하는 초기 위치 선택부(28)와, 상기 난수값을 사용하여 상기 이차원 화상영역 중에서 후보점(SP)의 위치(시드점(SD)의 위치를 제외)를 결정하는 갱신 후보 위치 결정부(30)와, 출력용 화상 데이터(ImgOut)로부터 제 1 화상 데이터(Img01)와 제 2 화상 데이터(Img02)를 컷아웃하는 화상 컷아웃부(32)와, 제 1 화상 데이터(Img01) 및 제 2 화상 데이터(Img02)를 각각 노광부(18)의 제어 신호(노광 데이터)로 변환하는 노광 데이터 변환부(34)와, 표시부(22)에 각종 화상을 표시하는 제어를 행하는 표시 제어부(36)를 구비한다.
또한, 시드점(SD)은 갱신 대상이 아닌 제 1 시드점(SDN)과 갱신 대상인 제 2 시드점(SDS)으로 이루어진다. 다시 말하면, 시드점(SD)의 위치 데이터(SDd)는 제 1 시드점(SDN)의 위치 데이터(SDNd)와 제 2 시드점(SDS)의 위치 데이터(SDSd)로 구성되어 있다.
화상 처리 장치(12)는 입력부(20)로부터 입력된 시인 정보(상세한 것은 후술함)에 근거하여 메쉬 패턴(M)이나 구조 패턴에 따른 화상 정보를 추정하는 화상 정보 추정부(38)와, 상기 화상 정보 추정부(38)로부터 공급된 상기 화상 정보 및 기억부(24)로부터 공급된 시드점(SD)의 위치에 근거하여 메쉬 패턴(M)이나 구조 패턴에 따른 모양을 나타낸 화상 데이터(Img)를 작성하는 화상 데이터 작성부(40)와, 상기 화상 데이터 작성부(40)에 의해 작성된 화상 데이터(Img)에 근거하여 메쉬상의 모양을 평가하기 위한 평가값(EVP)을 산출하는 메쉬 모양 평가부(42)와, 상기 메쉬 모양 평가부(42)에 의해 산출된 평가값(EVP)에 근거하여 시드점(SD)이나 평가값(EVP) 등의 데이터의 갱신/비갱신을 지시하는 데이터 갱신 지시부(44)를 더욱 구비한다.
또한, CPU 등으로 구성되는 도시되지 않은 제어부는 이 화상 처리에 관한 모든 제어를 행한다. 즉, 제조 장치(10) 내부의 각 구성요소의 제어(예를 들면, 기억부(24)의 데이터 읽기·쓰기)뿐만 아니라, 표시 제어부(36)를 통하여 표시부(22)에 표시 제어 신호를 송신하는 제어나 입력부(20)를 통하여 입력 정보를 취득하는 제어 등도 포함한다.
도 1의 도전 시트(14)는 도 2a에 나타낸 바와 같이, 복수의 도전부(50)와 복수의 개구부(52)를 가지고 있다. 복수의 도전부(50)는 복수의 금속세선(54)이 서로 교차한 메쉬 패턴(M)(메쉬상의 배선)을 형성하고 있다. 즉, 1개의 개구부(52)와, 상기 1개의 개구부(52)를 둘러싸는 적어도 2개의 도전부(50)의 조합 형상이 메쉬 형상으로 되어 있다. 이 메쉬 형상은 개구부(52)마다 다르고, 각각 불규칙(즉, 비주기적)으로 배열되어 있다. 이하, 도전부(50)를 구성하는 재료를 「선재」라고 하는 경우가 있다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 도전 시트(14)는 제 1 도전 시트(14a)와 제 2 도전 시트(14b)가 적층하여 구성되어 있다. 제 1 도전 시트(14a)는 제 1 투명기체(56a)(기체)와, 상기 제 1 투명기체(56a) 상에 형성된 복수의 제 1 도전부(50a) 및 복수의 제 1 개구부(52a)를 구비한다. 또한, 제 2 도전 시트(14b)는 제 2 투명기체(56b)(기체)와, 상기 제 2 투명 기체(56b) 상에 형성된 복수의 제 2 도전부(50b) 및 복수의 제 2 개구부(52b)를 구비한다. 제 1 도전 시트(14a)와 제 2 도전 시트(14b)를 적층함으로써 복수의 제 1 도전부(50a)와 복수의 제 2 도전부(50b)가 중첩하여 복수의 도전부(50)가 형성되는 동시에, 복수의 제 1 개구부(52a)와 복수의 제 2 개구부(52b)가 중첩하여 복수의 개구부(52)가 형성된다. 이것에 의해, 도전 시트(14)의 평면시에서의 모양으로서 랜덤한 메쉬 패턴(M)이 형성된다.
도전 시트(14)는 터치패널의 전극, 전자파 실드 이외에 무기 EL 소자, 유기 EL 소자 또는 태양전지의 전극으로서 사용가능한 도전 시트이다. 이 도전 시트(14)를 터치패널의 전극으로서 사용하는 경우의 개략 분해 사시도를 도 2b에 나타낸다. 도전 시트(14)의 일면측(본 도의 앞측)에는 필터 부재(60)가, 다른면측(본 도의 안측)에는 보호층(61)이 각각 중첩하여 배치되어 있다. 필터 부재(60)는 복수의 적색 필터(62r)와, 복수의 녹색 필터(62g)와, 복수의 청색 필터(62b)와, 블랙 매트릭스(64)(구조 패턴)를 구비한다. 이하, 블랙 매트릭스(64)를 구성하는 재료를 「패턴재」라고 하는 경우가 있다.
필터 부재(60)의 상하 방향으로는 적색 필터(62r)(녹색 필터(62g) 또는 청색 필터(62b))가 각각 병설되어 있다. 또한, 필터 부재(60)의 좌우 방향으로는 적색 필터(62r), 녹색 필터(62g), 청색 필터(62b), 적색 필터(62r)···의 순서로 주기적으로 설치되어 있다. 즉, 1개의 적색 필터(62r), 1개의 녹색 필터(62g), 1개의 청색 필터(62b)가 배치된 평면 영역이 적색광, 녹색광 또는 청색광의 조합에 의해 임의의 색의 표시가 자유자재인 단위 화소(66)를 구성하고 있다.
블랙 매트릭스(64)는 외부로부터의 반사광이나 도시되지 않은 백라이트로부터의 투과광이 인접하는 단위 화소(66)끼리 혼합하는 것을 방지하기 위한 차광재의 기능을 갖는다. 블랙 매트릭스(64)는 좌우 방향으로 연장된 차광재(68h)와, 상하 방향으로 연장된 차광재(68v)로 이루어진다. 이들 차광재(68h, 68v)는 직사각형상의 격자를 형성하고 있고, 단위화소(66)를 구성하는 1조의 컬러필터(즉, 적색 필터(62r), 녹색 필터(62g) 및 청색 필터(62b))를 각각 위요한다.
터치 위치의 검출 방식으로서는 자기 용량 방식이나 상호 용량 방식을 바람직하게 채용할 수 있다. 이들 공지의 검출 방법을 채용함으로써 보호층(61)의 상면에 동시에 2개의 손끝을 접촉 또는 근접시켜도 각 터치 위치를 검출하는 것이 가능해진다. 또한, 투영형 정전 용량 방식의 검출 회로에 관한 선행기술문헌으로서 미국 특허 제4,582,955호 명세서, 미국 특허 제4,686,332호 명세서, 미국 특허 제4,733,222호 명세서, 미국 특허 제5,374,787호 명세서, 미국 특허 제5,543,588호 명세서, 미국 특허 제7,030,860호 명세서, 미국 공개 특허 2004/0155871호 명세서 등이 있다.
도 4는 도 1에 나타낸 메쉬 모양 평가부(42) 및 데이터 갱신 지시부(44)의 상세 기능 블록도이다.
메쉬 모양 평가부(42)는 화상 데이터 작성부(40)로부터 공급된 화상 데이터(Img)에 고속 푸리에 변환(Fast Fourier Transformation; 이하, FFT라고 함)을 실시하여 이차원 스펙트럼 데이터(이하, 「스펙트럼(Spc)」이라고 함)을 취득하는 FFT 연산부(100)와, 상기 FFT 연산부(100)로부터 공급된 스펙트럼(Spc)과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 연산을 실시하여 새로운 스펙트럼(Spcc)을 얻는 콘볼루션 연산부(102)와, 상기 콘볼루션 연산부(102)로부터 공급된 새로운 스펙트럼(Spcc)에 근거하여 평가값(EVP)을 산출하는 평가값 산출부(104)를 구비한다.
데이터 갱신 지시부(44)는 메쉬 모양 평가부(42)에 의한 평가 횟수를 계산하는 카운터(108)와, 후술하는 의사 소둔법으로 사용되는 유사온도(T)의 값을 관리하는 유사온도 관리부(110)와, 메쉬 모양 평가부(42)로부터 공급된 평가값(EVP) 및 유사온도 관리부(110)로부터 공급된 유사온도(T)에 근거하여 시드점(SD)의 갱신 확률을 산출하는 갱신 확률 산출부(112)와, 상기 갱신 확률 산출부(112)로부터 공급된 상기 갱신 확률에 근거하여 시드점(SD)의 위치 데이터(SDd) 등의 갱신/비갱신을 판정하는 위치 갱신 판정부(114)와, 유사온도 관리부(110)로부터 통지에 따라서 1개의 화상 데이터(Img)를 출력용 화상 데이터(ImgOut)로서 결정하는 출력용 화상 데이터 결정부(116)를 구비한다.
도 5는 화상 데이터 작성 조건을 설정하기 위한 제 1 설정 화면을 나타내는 도이다.
설정 화면(120)은 상방으로부터 순서대로 좌측 풀다운 메뉴(122)와, 좌측 표시란(124)와, 우측 풀다운 메뉴(126)와, 우측 표시란(128)과, 7개의 텍스트박스(130, 132, 134, 136, 138, 140, 142)와, [중지], [설정]으로 표시된 버튼(144, 146)을 구비한다.
풀다운 메뉴(122, 126)의 좌방부에는 「종류」라는 문자열이 표시되어 있다. 입력부(20)(예를 들면, 마우스)의 소정의 조작에 의해, 풀다운 메뉴(122, 126)의 하방부에 도시되지 않은 선택란이 아울러 나타내져 있고 그 중의 항목을 선택가능하다.
표시란(124)은 5개의 란(148a, 148b, 148c, 148d, 148e)으로 구성되고 있고, 이들의 좌방부에는 「광투과율」, 「광반사율」, 「색값 L*」,「색값 a*」 및 「색값 b*」라는 문자열이 각각 표시되어 있다.
표시란(128)은 표시란(124)과 동일하게, 5개의 란(150a, 150b, 150c, 150d, 150e)으로 구성되어 있고, 이들의 좌방부에는 「광투과율」, 「광반사율」, 「색값 L*」,「색값 a*」 및 「색값 b*」라는 문자열이 각각 표시되어 있다.
텍스트박스(130)의 좌방부에는 「전체투과율」라고 표시되어 있고, 그 우측부에는 「%」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(132)의 좌방부에는 「막 두께」라고 표시되어 있고, 그 우방부에는 「㎛」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(134)의 좌방부에는 「배선의 폭」이라고 표시되어 있고, 그 우방부에는 「㎛」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(136)의 좌방부에는 「배선의 두께」라고 표시되어 있고, 그 우방부에는 「㎛」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(138)의 좌방부에는 「패턴 사이즈 H」라고 표시되어 있고, 그 우방부에는 「mm」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(140)의 좌방부에는 「패턴 사이즈 V」라고 표시되어 있고, 그 우부에는 「mm」라고 표시되어 있다. 텍스트박스(142)의 좌방부에는 「화상 해상도」라고 표시되어 있고, 그 우부에는 「dpi」라고 표시되어 있다.
또한, 7개의 텍스트박스(130, 132, 134, 136, 138, 140, 142) 중 어느 것에서도, 입력부(20)(예를 들면, 키보드)의 소정의 조작에 의해 산용숫자의 입력이 자유자재이다.
본 실시형태에 따른 제조 장치(10)는 이상과 같이 구성되고, 상술한 각 화상 처리 기능은 기본 소프트웨어(오퍼레이팅 시스템) 상에서 동작하고, 예를 들면 기억부(24)에 기억된 응용 소프트웨어(프로그램)을 사용하여 실현할 수 있다.
이어서, 제조 장치(10)의 동작에 대해서 도 6의 플로우 차트를 참조하여 설명한다.
우선, 메쉬 패턴(M)의 모양을 나타내는 화상 데이터(Img)(출력용 화상 데이터(ImgOut)를 포함)를 작성할 때에 필요한 각종 조건을 입력한다(스텝 S1).
작업자는 표시부(22)에 표시된 설정 화면(120)(도 5 참조)을 통하여 적절한 수치 등을 입력한다. 이것에 의해, 메쉬 패턴(M)의 시인성에 관련된 시인 정보를 입력할 수 있다. 여기서, 메쉬 패턴(M)의 시인 정보란 메쉬 패턴(M)의 형상이나 광학 농도에 기여하는 각종 정보이고, 선재(금속세선(54))의 시인 정보나 기체(제 1 투명기체(56a), 제 2 투명기체(56b))의 시인 정보가 포함된다. 선재의 시인 정보로서, 예를 들면 상기 선재의 종류, 색값, 광투과율 또는 광반사율, 또는 금속세선(54)의 단면 형상 또는 두께 중 적어도 1개가 포함된다. 기체의 시인 정보로서, 예를 들면 상기 기체의 종류, 색값, 광투과율, 광반사율 또는 막 두께 중 적어도 1개가 포함된다.
작업자는 제조하려는 도전 시트(14)에 관해서, 풀다운 메뉴(122)를 사용하여 선재의 종류를 1개 선택한다. 도 5의 예에서는 「은(Ag)」이 선택되어 있다. 선재의 종류를 1개 선택하면, 표시란(124)이 즉시에 갱신되어 상기 선재의 물성에 따른 기지의 수치가 새롭게 표시된다. 란(148a, 148b, 148c, 148d, 148e)에는 100㎛의 두께를 갖는 은의 광투과율(단위: %), 광반사율(단위: %), 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*(CIELAB)이 각각 표시된다.
또한, 작업자는 제조하려는 도전 시트(14)에 관해서, 풀다운 메뉴(126)를 사용하여 막재(제 1 투명기체(56a), 제 2 투명기체(56b))의 종류를 1개 선택한다. 도 5의 예에서는 「PET 필름」이 선택되어 있다. 막재의 종류를 1개 선택하면, 표시란(128)이 즉시에 갱신되어 상기 막재의 물성에 따른 기지의 수치가 새롭게 표시된다. 란(150a, 150b, 150c, 150d, 150e)에는 1mm의 두께를 갖는 PET 필름의 광투과율(단위: %), 광반사율(단위: %), 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*(CIELAB)이 각각 표시된다.
또한, 풀다운 메뉴(122, 126)의 도시되지 않은 「메뉴얼 입력」의 항목을 선택함으로써, 표시란(124, 128)으로부터 각 물성값을 직접 입력해도 좋다.
또한, 작업자는 제조하려는 도전 시트(14)에 관해서, 텍스트박스(130) 등을 사용하여 메쉬 패턴(M)의 각종 조건을 각각 입력한다.
텍스트박스(130, 132, 134, 136)의 입력값은 전체 광투과율(단위: %), 기체의 막 두께(제 1 투명기체(56a)와 제 2 투명기체(56b)의 막 두께의 총 합계)(단위: ㎛), 금속세선(54)의 선폭(단위: ㎛), 금속세선(54)의 두께(단위: ㎛)에 각각 대응한다.
텍스트박스(138, 140, 142)의 입력값은 메쉬 패턴(M)의 횡 사이즈, 메쉬 패턴(M)의 종 사이즈, 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 화상 해상도(화소 사이즈)에 상당한다.
작업자는 설정 화면(120)의 입력 작업을 완료한 후 [설정] 버튼(146)을 클릭한다.
작업자에 의한 [설정] 버튼(146)의 클릭 조작에 따라서 화상 정보 추정부(38)는 메쉬 패턴(M)에 따른 화상 정보를 추정한다. 이 화상 정보는 화상 데이터(Img)(출력용 화상 데이터(ImgOut)를 포함)를 작성할 때에 참조된다.
예를 들면, 메쉬 패턴(M)의 종 사이즈(텍스트박스(138)의 입력값)와 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 화상 해상도(텍스트박스(142)의 입력값)에 근거하여 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 종 방향의 화소수를 산출할 수 있고, 배선의 폭(텍스트박스(134)의 입력값)과 상기 화상 해상도에 근거하여 금속세선(54)의 선폭에 상당하는 화소수를 산출할 수 있다.
또한, 선재의 광투과율(란(148a)의 표시값)과 배선의 두께(텍스트박스(136)의 입력값)에 근거하여 금속세선(54) 단체의 광투과율을 추정할 수 있다. 이것에 추가하여, 막재의 광투과율(란(150a)의 표시값)과 막 두께(텍스트박스(132)의 입력값)에 근거하여 제 1 투명기체(56a), 제 2 투명기체(56b) 상에 금속세선(54)을 적층한 상태에서의 광투과율을 추정할 수 있다.
또한, 선재의 광투과율(란(148a)의 표시)과, 막재의 광투과율(란(150a)의 표시)과, 전체 투과율(텍스트박스(130)의 입력값)과, 배선의 폭(텍스트박스(134)의 입력값)에 근거하여 개구부(52)의 개수를 추정하는 동시에, 시드점(SD)의 개수를 추정할 수 있다. 또한, 개구부(52)의 영역을 결정하는 알고리즘에 따라서 시드점(SD)의 개수를 추정해도 좋다.
이어서, 메쉬 패턴(M)을 형성하기 위한 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 작성한다(스텝 S2).
출력용 화상 데이터(ImgOut)의 작성 방법의 설명에 앞서, 화상 데이터(Img)의 평가 방법에 대해서 우선 설명한다. 본 실시형태에서는 인간의 표준시각응답 특성을 고려한 입상 노이즈 특성에 근거하여 평가를 행한다.
도 7a는 메쉬 패턴(M)의 모양을 나타내는 화상 데이터(Img)를 가시화한 개략 설명도이다. 이하, 이 화상 데이터(Img)를 예를 들어서 설명한다.
우선은 도 7a에 나타낸 화상 데이터(Img)에 대하여 고속 푸리에 변환(이하, FFT라고 함)을 실시한다. 이것에 의해, 메쉬 패턴(M)의 형상에 대해서, 부분적 형상이 아닌 전체 경향(공간 주파수 분포)으로서 파악할 수 있다.
도 7b는 도 7a의 화상 데이터(Img)에 대하여 FFT를 실시하여 얻어지는 스펙트럼(Spc)의 분포도이다. 여기서, 상기 분포도의 횡축은 X축 방향에 대한 공간 주파수를 나타내고, 그 세로축은 Y축 방향에 대한 공간 주파수를 나타낸다. 또한, 공간 주파수 대역별 표시 농도가 얇을수록 강도 레벨(스펙트럼의 값)은 작아지고, 표시 농도가 진할수록 레벨은 커진다. 본 도의 예로서 이 스펙트럼(Spc)의 분포는 등방적임과 동시에 환상의 피크를 2개 가지고 있다.
도 7c는 도 7b에 나타낸 스펙트럼(Spc)의 분포의 VIIC-VIIC선에 따른 단면도이다. 스펙트럼(Spc)은 등방적이므로 도 7c는 모든 각도 방향에 대한 동경 방향 분포에 상당한다. 본 도로부터 양해되도록, 저공간 주파수 대역 및 고공간 주파수 대역에서의 강도 레벨이 작아져 중간의 공간 주파수 대역만 강도 레벨이 높아지는 소위 밴드패스형의 특성을 갖는다. 즉, 도 7a에 나타낸 화상 데이터(Img)는 화상공학 분야의 기술용어에 의하면 「그린 노이즈」의 특성을 갖는 모양을 나타낸다고 할 수 있다.
도 8은 인간의 표준시각응답 특성의 일례를 나타내는 그래프이다.
본 실시형태에서는 인간의 표준시각응답 특성으로서 관찰 거리 300mm에서의 둘리-쇼 함수를 사용하고 있다. 둘리-쇼 함수는 VTF(Visual Transfer Function)의 일종이고, 인간의 표준시각응답 특성을 모방한 대표적인 함수이다. 구체적으로는 휘도의 콘트라스트비 특성의 2승값에 상당한다. 또한, 그래프의 횡축은 공간 주파수(단위: cycle/mm)이고, 종축은 VTF의 값(단위는 무차원)이다.
관찰 거리를 300mm로 하면, 0∼1.0cycle/mm의 범위에서는 VTF의 값은 일정(1과 같음)하고, 공간 주파수가 높아짐에 따라서 점차 VTF의 값이 감소하는 경향이 있다. 즉, 이 함수는 중∼고공간 주파수 대역을 차단하는 로우 패스 필터로서 기능한다.
또한, 실제 인간의 표준시각응답 특성은 0cycle/mm 근방에서 1보다 작은값으로 되어 있고, 소위 밴드패스 필터의 특성을 갖는다. 그러나, 본 실시형태에 있어서 도 8에 예시한 바와 같이, 매우 낮은 공간 주파수 대역에서도 VTF의 값을 1로 함으로써, 후술하는 평가값(EVP)에의 기여도를 높이고 있다. 이것에 의해, 메쉬 패턴(M)의 반복 배치에 기인하는 주기성을 억제하는 효과가 얻어진다.
또한, 화상 데이터(Img)의 공간 대칭성에 비추어 보면, VTF는 공간 주파수의 대칭성 {VTF(U)=VTF(-U)}을 갖는다. 그러나, 본 실시형태에서는 부방향의 공간 주파수 특성에 관하여 고려하지 않는 점에 유의한다. 즉, VTF(-U)=0(U는 정값)이라 한다. 또한, 스펙트럼(Spc)에 대해서도 동일하다.
본 실시형태에 있어서, 노이즈 강도(NP)(Ux, Uy)는 스펙트럼(Spc)의 값 F(Ux, Uy)를 사용하여 다음 (1)식으로 정의된다.
Figure 112013044897460-pct00001
환언하면, 노이즈 강도(NP)(Ux, Uy)는 스펙트럼(Spc)과 인간의 표준시각응답 특성(VTF)의 콘볼루션 적분(Ux, Uy의 함수)에 상당한다. 예를 들면, 나이퀴스트 주파수(Unyq)를 초과한 공간 주파수 대역에 대해서는 항상 F(Ux, Uy)=0로서 계산한다. 이하, 노이즈 강도(NP)(Ux, Uy)를 새로운 스펙트럼(Spcc)이라 하는 경우가 있다.
도 9는 스펙트럼(Spc)과 고공간 주파수측으로 시프트된 VTF의 위치 관계를 나타내는 개략 설명도이다. 여기서, VTF의 시프트량은 (1)식에서의 U=(Ux2+Uy2)1/2(단위는 Cycle/mm)에 대응한다. 파선으로 나타내는 VTF0, VTF1, VTF2 및 VTF3은 시프트량이 각각 0, Unyq/4, Unyq/2 및 3·Unyq/4인 VTF에 상당한다.
그리고, 평가값(EVP)은 다음 (2)식으로 정의된다.
Figure 112013044897460-pct00002
또한, Aj(j=1∼3)는 미리 결정된 임의인 계수(비부 실수)이다. 또한, θ(x)는 x>0의 경우에 θ(x)=1이고, x≤0의 경우에 θ(x)=0인 스텝 함수이다. 또한, Unyq는 화상 데이터(Img)의 나이퀴스트 주파수이다. 예를 들면, 화상 데이터(Img)의 해상도가 1750dpi(dot per inch)인 경우, Unyq=34.4Cycle/mm에 상당한다. 또한, φ은 Ux-Uy 평면 상에서의 각도 파라미터(0≤φ≤2π)이다.
(2)식으로부터 양해된 바와 같이, 나이퀴스트 주파수(Unyq)의 1/4배 공간 주파수보다 높은 공간 주파수 대역에서의 각 노이즈 강도(NP)(Ux, Uy)가 제로 공간 주파수에서의 노이즈 강도(NP)(0,0)보다 큰 경우, 우변의 값은 0이 된다. 이 조건(소정의 공간 주파수 조건)을 만족시키는 경우, 평가값(EVP)은 최소가 된다. 평가값(EVP)이 낮을수록, 메쉬 패턴(M)의 모양이 갖는 스펙트럼(Spc)은 저공간 주파수 영역에서 억제된다. 즉, 메쉬 패턴(M)의 모양이 갖는 입상 노이즈 특성은 고공간 주파수 대역측에 노이즈 강도(NP)(Ux, Uy)가 편재하는, 소위 블루 노이즈에 근접한다. 이것에 의해, 통상 관찰 하에서의 인간의 시각에 있어서 입상감이 눈에 띄지 않는 메쉬 패턴(M)을 얻을 수 있다.
또한, 메쉬 패턴(M)을 결정하기 위한 목표 레벨(허용 범위)이나 평가 함수에 따라서, 평가값(EVP)의 산출식을 다양하게 변경할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
이하, 상기한 평가값(EVP)에 근거하여 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 결정하는 구체적인 방법에 대해서 설명한다. 예를 들면, 모양이 다른 화상 데이터(Img)의 작성과, 평가값(EVP)에 의한 평가를 순차 반복하는 방법을 사용할 수 있다. 이러한 경우, 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 결정하는 최적화 문제로서 구성적 알고리즘이나 순차 개선 알고리즘 등의 각종 탐색 알고리즘을 사용할 수 있다.
본 실시형태에서는 유사 소둔법(Simulated Annealing; 이하, SA법이라 함)에 의한 메쉬 패턴(M)의 최적화 방법에 대해서, 도 10의 플로우 차트 및 도 1의 기능 블록도를 주로 참조하면서 설명한다. 또한, SA법은 고온 상태에서 철을 두드림으로 강건한 철을 얻는 「소둔법」을 모방한 확률적 탐색 알고리즘이다.
우선, 초기 위치 선택부(28)는 시드점(SD)의 초기 위치를 선택한다(스텝 S21).
초기 위치의 선택에 앞서, 난수 발생부(26)는 유사난수의 발생 알고리즘을 사용하여 난수값을 발생한다. 여기서, 유사난수의 발생 알고리즘으로서 메르센느 트위스터(Mersenne Twister), SFMT(SIMD-Oriented Fast Mersenne Twister)나 Xorshift법 등의 각종 알고리즘을 사용해도 좋다. 그리고, 초기 위치 선택부(28)는 난수 발생부(26)로부터 공급된 난수값을 사용하고, 시드점(SD)의 초기 위치를 랜덤으로 결정한다. 여기서, 초기 위치 선택부(28)는 시드점(SD)의 초기 위치를 화상 데이터(Img) 상의 화소의 어드레스로서 선택하고, 시드점(SD)이 서로 중복하지 않는 위치에 각각 설정한다.
또한, 초기 위치 선택부(28)는 화상 정보 추정부(38)로부터 공급되는 화상 데이터(Img)의 종 방향·횡 방향의 화소수에 근거하여 이차원 화상영역의 범위를 미리 결정해둔다. 또한, 초기 위치 선택부(28)는 시드점(SD)의 개수를 화상 정보 추정부(38)로부터 미리 취득하고, 그 개수를 결정해둔다.
도 11은 시드점(SD)의 배치밀도와 메쉬 패턴(M)의 전체 투과율의 관계의 일례를 나타내는 그래프이다. 본 도는 배치밀도가 높아지는 것에 따라서 배선의 피복 면적이 증가하고, 그 결과 메쉬 패턴(M)의 전체 투과율이 저하하는 것을 나타내고 있다.
이 그래프 특성은 막재의 광투과율(도 5의 란(150a)의 표시), 배선의 폭(도 5의 텍스트박스(134)의 입력값) 및 영역 결정 알고리즘(예를 들면, 보로노이도)에 따라서 변화된다. 따라서, 배선의 폭 등의 각 파라미터에 따른 특성 데이터를 함수나 테이블 등의 각종 데이터 형식으로 기억부(24)에 미리 기억해도 좋다.
또한, 시드점(SD)의 배치밀도와 메쉬 패턴(M)의 전기 저항값의 대응을 미리 취득해두고, 상기 전기 저항값의 지정값에 근거하여 시드점(SD)의 개수를 결정해도 좋다. 전기 저항값은 도전부(50)의 통전성을 나타내는 1개의 파라미터이고 메쉬 패턴(M)의 설계에 필수적이기 때문이다.
또한, 초기 위치 선택부(28)는 난수값을 사용하지 않고 시드점(SD)의 초기 위치를 선택해도 좋다. 예를 들면, 도시되지 않은 스캐너나 기억 장치를 포함하는 외부 장치로부터 취득한 데이터를 참조하면서 초기 위치를 결정할 수 있다. 이 데이터는, 예를 들면 소정의 2값 화상 데이터이어도 좋고, 구체적으로는 인쇄용 망점 데이터이어도 좋다.
이어서, 화상 데이터 작성부(40)는 초기 데이터로서의 화상 데이터(ImgInit)를 작성한다(스텝 S22). 화상 데이터 작성부(40)는 기억부(24)로부터 공급된 시드점(SD)의 개수나 위치 데이터(SDd), 및 화상 정보 추정부(38)로부터 공급된 화상 정보에 근거하여 메쉬 패턴(M)의 모양을 나타내는 화상 데이터(ImgInit)(초기 데이터)를 작성한다.
복수의 시드점(SD)으로부터 메쉬상의 모양을 결정하는 알고리즘은 각종 방법을 채택할 수 있다. 이하, 도 12a∼도 13b를 참조하면서 상세하게 설명한다.
도 12a에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 정사각형상의 이차원 화상영역(200)내에 8개의 점(P1∼P8)을 무작위로 선택했다고 한다.
도 12b는 보로노이도를 사용하여 8개의 점(P1∼P8)을 각각 위요하는 8개의 영역(V1∼V8)을 획정한 결과를 나타내는 설명도이다. 또한, 거리함수로서 유클리드 거리(Eclidean Distance) 거리를 사용했다. 본 도로부터 양해된 바와 같이, 영역(Vi)(i=1∼8)내의 임의의 점에 있어서 점(Pi)가 가장 근접하는 점임을 나타내고 있다. 이것에 의해, 각 영역(Vi)은 다각형상으로 각각 구획된다.
또한, 들로네 삼각형 분할법을 사용하여 도 13a(도 12a와 동 도)의 점(P1∼P8)을 각각 정점으로 하는 8개의 삼각형상의 영역을 획정한 결과를 도 13b에 나타낸다.
들로네 삼각형 분할법이란 점(P1∼P8) 중 인접하는 점끼리를 연결시켜 삼각형상의 영역을 획정하는 방법이다. 이 방법에 의해서, 점(P1∼P8)의 개수와 동일한 수의 영역(V1∼V8)을 결정할 수 있다. 이 경우, 각 영역(Vi)은 삼각형상으로 각각 구획된다.
그런데, 화상 데이터(Img)(초기 화상 데이터(ImgInit)를 포함)을 작성하기 전에, 화소의 어드레스 및 화소값의 정의를 미리 결정한다.
도 14a는 화상 데이터(Img)에 있어서의 화소 어드레스의 정의를 나타내는 설명도이다. 예를 들면, 화소 사이즈는 10㎛이고, 화상 데이터의 종횡의 화소수는 각각 8192개로 한다. 후술하는 FFT의 연산 처리의 편의 때문에, 2개의 멱승(예를 들면, 2의 13승)이 되도록 설치한다. 이 때, 화상 데이터(Img)의 화상영역 전체는 약 82mm 사방의 직사각형 영역에 대응한다.
도 14b는 화상 데이터(Img)에 있어서의 화소값의 정의를 나타내는 설명도이다. 예를 들면, 1화소당 계조수를 8비트(256계조)로 한다. 광학농도 0을 화소값 0(최소값)과 대응시키고, 광학농도 4.5를 화소값 255(최대값)과 대응시킨다. 그 중간의 화소값 1∼254에서는 광학농도에 대하여 선형관계가 되도록 값을 정한다. 여기서, 광학농도란 투과 농도뿐만아니라 반사 농도이어도 좋은 것은 물론이고, 도전 시트(14)의 사용 형태 등에 따라서 적당히 선택할 수 있다. 또한, 광학농도 이외에, 삼자극값 XYZ나 색값 RGB, L*a*b* 등이어도, 상기와 동일하게 하여 각 화소값을 정의할 수 있다.
이와 같이 하여, 화상 데이터 작성부(40)는 화상 데이터(Img)의 데이터 정의와, 화상 정보 추정부(38)로 추정된 화상 정보(스텝 S1의 설명을 참조)에 근거하여 메쉬 패턴(M)의 모양을 나타내는 초기의 화상 데이터(ImgInit)를 작성한다(스텝 S22). 화상 데이터 작성부(40)는 시드점(SD)의 초기 위치(도 15a 참조)를 기준으로 하는 보로노이도를 사용하고, 도 15b에 나타낸 메쉬 패턴(M)의 초기 상태를 결정한다. 또한, 화상의 단부에 대해서는 상하 방향, 좌우 방향으로 반복 배열되도록 적절한 처리를 행한다. 예를 들면, 화상의 좌단(또는 우단) 근방의 시드점(SD)에 대해서는 화상의 우단(또는 좌단) 근방의 시드점(SD) 사이에서 영역(Vi)을 얻도록 한다. 동일하게, 화상의 상단(또는 하단) 근방의 시드점(SD)에 대해서는 화상의 하단(상단) 근방의 시드점(SD) 사이에서 영역(Vi)를 얻도록 한다.
이하, 화상 데이터(Img)(화상 데이터(ImgInit)를 포함)는 광학농도(OD), 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*의 4채널의 각 데이터를 구비하는 화상 데이터로 한다.
이어서, 메쉬 모양 평가부(42)는 평가값(EVPInit)을 산출한다(스텝 S23). 또한, SA법에 있어서 평가값(EVP)은 대가 함수(Cost Function)로서의 역할을 맡는다.
구체적으로는, 도 4에 나타낸 FFT 연산부(100)는 화상 데이터(ImgInit)에 대하여 FFT를 실시한다. 그리고, 콘볼루션 연산부(102)는 FFT 연산부(100)로부터 공급된 스펙트럼(Spc)에 대하여 인간의 표준시각응답 특성(도 8 참조)을 콘볼루션하여 새로운 스펙트럼(Spcc)을 산출한다. 그리고, 평가값 산출부(104)는 콘볼루션 연산부(102)로부터 공급된 새로운 스펙트럼(Spcc)에 근거하여 평가값(EVP)을 산출한다.
화상 데이터(Img) 중, 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*의 각 채널에 대하여 상술한 평가값(EVP)(L*), EVP(a*), EVP(b*)를 각각 산출한다{(2)식을 참조}. 그리고, 소정의 중량 계수를 사용하여 적합 연산함으로써 평가값(EVP)을 얻는다.
또한, 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*을 대신하여 광학농도(OD)를 사용해도 좋다. 평가값(EVP)에 관해서는 관찰 형태의 종류별, 구체적으로 보조 광원은 투과 광이 지배적이지만, 반사광이 지배적이거나 또는 투과광·반사광의 혼합광인지에 따라서, 인간의 시감도에 의해 적합한 연산 방법을 적당히 선택할 수 있다.
또한, 메쉬 패턴(M)을 결정하기 위한 목표 레벨(허용 범위)이나 평가 함수에 따라서, 평가값(EVP)의 산출식을 다양하게 변경할 수 있는 것은 물론이다.
이와 같이 하여, 메쉬 모양 평가부(42)는 평가값(EVPInit)을 산출한다(스텝 S23).
이어서, 기억부(24)는 스텝 S22에서 작성된 화상 데이터(ImgInit)와, 스텝 S23에서 산출된 평가값(EVPInit)을 일시적으로 기억한다(스텝 S24). 아울러, 유사온도(T)에 초기값(nΔT)(n은 자연수, ΔT는 정수)을 대입한다.
이어서, 카운터(108)는 변수(K)를 초기화한다(스텝 S25). 즉, K에 0을 대입한다.
이어서, 시드점(SD)의 일부(제 2 시드점(SDS))를 후보점(SP)으로 치환한 상태에서 화상 데이터(ImgTemp)을 작성하고, 평가값(EVPTemp)을 산출한 후에 시드점(SD)의 「갱신」 또는 「비갱신」을 판단한다(스텝 S26). 이 스텝 S26에 대해서, 도 1, 도 4의 기능 블록도 및 도 16의 플로우 차트를 참조하면서 더욱 상세하게 설명한다.
우선, 갱신 후보 위치 결정부(30)는 소정의 이차원 화상영역(200)으로부터 후보점(SP)을 추출하여 결정한다(스텝 S261). 갱신 후보 위치 결정부(30)는, 예를 들면 난수 발생부(26)로부터 공급된 난수값을 사용하고, 시드점(SD)의 어느 위치와도 중복하지 않는 위치를 결정한다. 또한, 후보점(SP)의 개수는 1개이어도 복수이어도 좋다. 도 17a에 나타낸 예에서는 현재 시드점(SD)이 8개(점(P1∼P8))인 것에 대하여 후보점(SP)은 2개(점(Q1)과 점(Q2))이다.
이어서, 시드점(SD)의 일부와 후보점(SP)을 무작위로 교환한다(스텝 S262). 갱신 후보 위치 결정부(30)는 각 후보점(SP)과 교환(또는 갱신)되는 각 시드점(SD)을 무작위로 대응시킨다. 도 17a에서는 점(P1)과 점(Q1)이 대응시키고, 점(P3)과 점(Q2)를 대응시켰다. 도 17b에 나타낸 바와 같이, 점(P1)과 점(Q1)이 교환되는 동시에, 점(P3)과 점(Q2)가 교환된다. 여기서, 교환(또는 갱신) 대상이 아닌 점(P2), 점(P4∼P8)을 제 1 시드점(SDN)이라 하고, 교환(또는 갱신) 대상인 점(P1) 및 점(P3)을 제 2 시드점(SDS)이라 한다.
이어서, 화상 데이터 작성부(40)는 교환된 새로운 시드점(SD)(도 17b 참조)을 사용하여 화상 데이터(ImgTemp)을 작성한다(스텝 S263). 이 때, 스텝 S22(도 10 참조)의 경우와 동일한 방법을 사용하므로 설명을 생략한다.
이어서, 메쉬 모양 평가부(42)는 화상 데이터(ImgTemp)에 근거하여 평가값(EVPTemp)을 산출한다(스텝 S264). 이 때, 스텝 S23(도 10 참조)의 경우와 동일한 방법을 사용하므로 설명을 생략한다.
이어서, 갱신 확률 산출부(112)는 시드점(SD)의 위치의 갱신 확률(Prob)을 산출한다(스텝 S265). 여기서, 「위치의 갱신」이란 스텝 S262에서 잠정적으로 교환하여 얻은 시드점(SD)(즉, 제 1 시드점(SDN) 및 후보점(SP))을 새로운 시드점(SD)으로서 결정하는 것을 말한다.
구체적으로는 메트로폴리스 기준을 따라서, 시드점(SD)을 갱신하는 확률 또는 갱신하지 않는 확률을 각각 산출한다. 갱신 확률(Prob)은 다음 (3)식으로 제공된다.
Figure 112013044897460-pct00003
여기서, T는 유사온도를 나타내고, 절대온도(T=0)로 근접함에 따라서 시드점(SD)의 갱신 규칙은 확률론적으로부터 결정론적으로 변화된다.
이어서, 위치 갱신 판정부(114)는 갱신 확률 산출부(112)에 의해 산출된 갱신 확률(Prob)에 따라서, 시드점(SD)의 위치를 갱신하는지 아닌지에 대해서 판단한다(스텝 266). 예를 들면, 난수 발생부(26)로부터 공급된 난수값을 사용하여 확률적으로 판단해도 좋다.
시드점(SD)을 갱신하는 경우에는 「갱신」의 취지를, 갱신하지 않는 경우에는 「비갱신」의 취지를 기억부(24) 규칙으로 각각 지시한다(스텝 S267, S268).
이와 같이 하여, 스텝 S26은 완료된다.
도 10으로 돌아가서, 「갱신」 또는 「비갱신」 중 어느 하나의 지시에 따라서, 시드점(SD)을 갱신하는지 갱신하지 않는지가 판정된다(스텝 S27). 시드점(SD)을 갱신하지 않는 경우에는 스텝 S28을 행하지 않고 다음 스텝 S29으로 진행된다.
한편, 시드점(SD)을 갱신하는 경우에, 기억부(24)는 현재 기억하고 있는 화상 데이터(Img)에 대하여 스텝 S263(도 16 참조)에서 구한 화상 데이터(ImgTemp)를 덮어쓰기 갱신한다(스텝 S28). 또한, 기억부(24)는 현재 기억하고 있는 평가값(EVP)에 대하여 스텝 S264(도 16 참조)에서 구한 평가값(EVPTemp)을 덮어쓰기 갱신한다(스텝 S28). 또한, 기억부(24)는 현재 기억하고 있는 제 2 시드점(SDS)의 위치 데이터(SDSd)에 대하여 스텝 S261(도 16 참조)에서 구한 후보점(SP)의 위치 데이터(SPd)를 덮어쓰기 갱신한다(스텝 S28). 그 후, 다음 스텝 S29으로 진행된다.
이어서, 카운터(108)는 현시점에서의 K의 값을 1만 가산한다(스텝 S29).
이어서, 카운터(108)는 현시점에서의 K의 값과 미리 정해진 Kmax의 값과의 대소관계를 비교한다(스텝 S30). K의 값이 작은 경우에는 스텝 S26로 되돌아가고, 이하 스텝 S26∼S30을 반복한다. 또한, 이 최적화 연산에 있어서의 결속성을 충분히 확보하기 위해서, 예를 들면 Kmax=10000으로 정할 수 있다.
그 이외의 경우에, 유사온도 관리부(110)는 유사온도(T)를 ΔT만 감산하여(스텝 S31) 다음 스텝S32으로 진행된다. 또한, 유사온도(T)의 변화량은 ΔT의 감산뿐만 아니라 정수 δ(0<δ<1)의 승산이여도 좋다. 이 경우에는 (3)식에 나타낸 갱신 확률(Prob)(하단)이 일정값만 감산된다.
이어서, 유사온도 관리부(110)는 현시점에서의 유사온도(T)가 0과 다름없는지의 여부를 판정한다(스텝 S32). T가 0과 다름없지 않는 경우에는 스텝 S25로 돌아가고 이하 스텝 S25∼S32을 반복한다.
한편, T가 0과 다름없는 경우에, 유사온도 관리부(110)는 출력용 화상 데이터 결정부(116)에 대하여 SA법에 의한 메쉬 모양의 평가가 종료한 취지를 통지한다. 그리고, 기억부(24)는 스텝 S28에서 최후로 갱신된 화상 데이터(Img)의 내용을 출력용 화상 데이터(ImgOut)에 덮어쓰기 갱신한다(스텝 S33).
이와 같이 하여, 스텝 S2를 종료한다. 또한, 이 출력용 화상 데이터(ImgOut)는 그 후, 노광 데이터 변환부(34) 측에 공급되어 노광부(18)의 제어 신호로 변환되는 화상 데이터이다. 또한, 작성된 출력용 화상 데이터(ImgOut)는 금속세선(54)의 출력 형성에 사용할 수 있다. 예를 들면, 노광을 사용하여 도전 시트(14)를 제조하는 경우, 출력용 화상 데이터(ImgOut)는 노광용 데이터로서 또는 포토마스크의 패턴의 제작에 사용된다. 또한, 스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄를 포함하는 인쇄에 의해 도전 시트(14)를 제조하는 경우, 출력용 화상 데이터(ImgOut)는 인쇄용 데이터로서 사용된다.
그리고, 작업자가 목시로 확인하기 위해서 얻어진 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 표시부(22)에 표시시키고, 메쉬 패턴(M)을 유사적으로 가시화해도 좋다. 이하, 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 실제로 가시화한 결과의 일례를 설명한다.
도 18은 최적화된 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 사용하여 도전 시트(14)의 모양을 나타내는 메쉬 패턴(M1)을 가시화한 개략 설명도이다.
도 19는 도 18에 나타낸 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 스펙트럼(Spc)에 대하여 인간의 표준시각응답 특성(도 8 참조)을 콘볼루션한 결과를 나타내는 그래프이다. 본 그래프의 횡축은 나이퀴스트 주파수(Unyq)를 기준(100%)으로 하는 경우의 공간 주파수의 시프트량(단위: %)이다. 본 그래프의 종축은 제로 공간 주파수에 있어서의 노이즈 강도(NP)(0,0)를 기준으로 하는 경우의 UX축 방향에 따른 노이즈 강도(NP)(Ux,0)이다.
본 도에 나타낸 바와 같이, 노이즈 강도(NP)(Ux,0)는 Ux=0.25·Unyq 주변을 피크로 하여 공간 주파수가 높아짐에 따라서 단조롭게 감소하는 특성을 갖고 있다. 공간 주파수의 범위가 0.25·Unyq≤Ux≤0.5·Unyq인 경우, NP(Ux,Uy)>NP(0,0)의 관계를 항상 만족시킨다. 또한, 노이즈 강도(NP)(Ux,Uy)에 있어서, Ux축으로 제한하지 않고, 공간 주파수 U=(Ux2+Uy2)1/2의 동경 방향으로 동일한 관계가 얻어진다.
도 6으로 돌아가서, 노광부(18)는 메쉬 패턴(M)의 노광 처리를 행하고(스텝 S3), 그 후 현상 처리를 행한다(스텝 S4).
작업자는 미노광의 제 1 시트(제 1 도전 시트(14a))를 소정의 위치에 세팅한다. 그리고, 노광 개시의 지시 조작에 따라서, 화상 컷아웃부(32)(도 1 참조)는 기억부(24)로부터 취득한 출력용 화상 데이터(ImgOut)로부터 2개의 화상 데이터를 각각 컷아웃한다. 여기서, 제 1 도전 시트(14a)를 형성하기 위한 제 1 화상 데이터(Img01)에 대해서 도 20a 및 도 21을 참조하면서 설명한다.
도 20a는 제 1 화상 데이터(Img01)를 가시화한 개략 설명도이다. 도 21은 도 20a에 나타낸 이차원 화상영역(210)의 부분 확대도이다. 설명의 편의상, 제 1 화상 데이터(Img01)를 우회전하여 45도만 회전시킨 상태가 표기되어 있다.
제 1 화상 데이터(Img01)가 나타내는 이차원 화상영역(210) 상에는 대략 동 사이즈의 제 1 기본격자(212)가 교대로 또는 주기적으로 배치된 체크 무늬상의 제 1 화상영역(R1)(해칭을 첨부한 영역)이 형성되어 있다. 제 1 기본격자(212)는 각각 대략 정사각형상(마름모형상)을 갖고 있다. 화살표 X 방향으로 인접하는 각 제 1 기본격자(212) 사이에는 서로 접속하는 제 1 접속부(214)가 형성되어 있다. 한편, 상기 제 1 기본격자(212)와, 화살표 Y 방향으로 인접하는 각 제 1 기본격자(212) 사이에는 소정의 폭의 간극(216)이 형성되어 있다. 즉, 각 제 1 기본격자(212)는 화살표 X 방향에 대해서만 서로 연결되어 있다. 이것에 의해, 제 1 화상 데이터(Img01)에 따른 제 1 도전 시트(14a)에 관하고, 복수의 제 1 도전부(50a)(도 2a 및 도 3 참조)를 구성하는 각 제 1 기본격자(212)는 화살표 X 방향에 대해서만 서로 전기적으로 접속된다. 이차원 화상영역(210) 중 제 1 화상영역(R1)을 제외한 잔여영역(여백영역)은 그 대응 위치에 제 1 도전부(50a)(동 참조)가 형성되지 않는 노광 데이터에 설정한다.
또한, 제 1 기본격자(212)의 일변의 길이는 실제 치수로 3∼10mm에 상당하는 화소수인 것이 바람직하다. 또한, 실제 치수로 4∼6mm에 상당하는 화소수인 것이 더욱 바람직하다.
도 1로 돌아가서, 화상 컷아웃부(32)는 제 1 화상 데이터(Img01)를 노광 데이터 변환부(34)로 공급한다. 노광 데이터 변환부(34)는 화상 컷아웃부(32)로부터 취득한 제 1 화상 데이터(Img01)를 노광부(18)의 출력 특성에 따른 노광 데이터로 변환한다. 그리고, 노광부(18)는 상기 제 1 시트를 향하여 광(16)을 조사함으로써 노광 처리를 행한다.
이어서, 작업자는 노광이 완료된 제 1 시트(제 1 도전 시트(14a))를 대신하여 미노광의 제 2 시트(제 2 도전 시트(14b))를 세팅한다. 그리고, 노광 개시의 지시 조작에 따라서, 화상 컷아웃부(32)(도 1 참조)는 기억부(24)로부터 취득한 출력용 화상 데이터(ImgOut)로부터 2개의 화상 데이터를 컷아웃한다. 여기서, 제 2 도전 시트(14b)를 형성하기 위한 제 2 화상 데이터(Img02)에 대해서, 도 20b를 참조하면서 설명한다.
도 20b는 제 2 화상 데이터(Img02)를 가시화한 개략 설명도이다. 설명의 편의상, 제 2 화상 데이터(Img02)를 우회전하여 45도만 회전시킨 상태가 표기되고 있다.
제 2 화상 데이터(Img02)가 나타낸 이차원 화상영역(220) 상에는 대략 동 사이즈의 제 2 기본 격자(222)가 교대로 배치된 체크 무늬상의 제 2 화상영역(R2)(해칭을 첨부한 영역)이 형성되어 있다. 대략 정사각형상(마름모형상)의 제 2 기본격자(222)는 제 1 기본격자(212)와 같은 형상을 각각 갖는다.
화살표 Y 방향으로 인접하는 각 제 2 기본격자(222) 사이에는 서로 접속하는 제 2 접속부(224)가 형성되어 있다. 한편, 화살표 X 방향으로 인접하는 각 제 2 기본격자(222) 사이에는 소정의 폭의 간극(226)이 형성되어 있다. 즉, 각 제 2 기본격자(222)는 화살표 Y 방향에 대해서만 서로 연결되어 있다. 이것에 의해, 제 2 화상 데이터(Img02)에 따른 제 2 도전 시트(14b)에 관하여, 복수의 제 2 도전부(50b)(도 2a 및 도 3 참조)를 구성하는 각 제 2 기본격자(222)는 화살표 Y 방향에 대해서만 서로 전기적으로 접속된다. 이차원 화상영역(220) 중 제 2 화상영역(R2)을 제외한 잔여영역(여백영역)은 그 대응 위치에 제 2 도전부(50b)(동 참조)가 형성되지 않는 노광 데이터에 설정한다.
도 20a 및 도 20b에 나타낸 바와 같이, 제 2 화상영역(R2)은 이차원 화상영역(200) 중 제 1 화상영역(R1)의 잔여영역을 적어도 포함하고 있다. 즉, 이차원 화상영역(210 및 220)을 파선으로 나타낸 직사각형 영역으로 겹쳤을 경우, 제 1 화상영역(R1) 및 제 2 화상영역(R2)은 엇갈린 배치 관계가 되도록, 다시 말하면 각 제 1 기본격자(212) 및 각 제 2 기본격자(222)는 서로 중복하지 않는 위치 관계 하에 있다.
이와 같이, 메쉬 패턴(M)의 모양을 합성함으로써, 예를 들면 터치패널 용도처럼 복수의 도전 시트(제 1 도전 시트(14a), 제 2 도전 시트(14b))를 적층하는 구성을 채택하는 경우에서도, 노이즈 간섭(무아레)의 발생을 방지할 수 있다.
또한, 제 1 접속부(214)(도 20a 참조) 및 제 2 접속부(224)(도 20b 참조) 중 일부영역이 중복되어 있지만, 그 면적(이차원 화상영역(210, 220)에 대한 면적비)을 미소하게 함으로써 시각적인 악영향을 없앨 수 있다.
도 1로 돌아가서, 노광 데이터 변환부(34)는 화상 컷아웃부(32)로부터 취득한 제 2 화상 데이터(Img02)를 노광부(18)의 출력 특성에 따른 노광 데이터로 변환한다. 그리고, 노광부(18)는 상기 제 2 시트를 향하여 광(16)을 조사함으로써 노광 처리를 행한다.
이어서, 제 1 도전 시트(14a)나 제 2 도전 시트(14b)를 제조하는 구체적인 방법에 대해서 설명한다.
예를 들면, 제 1 투명기체(56a) 상 및 제 2 투명기체(56b) 상에 감광성 할로겐화은염을 함유하는 유제층을 갖는 감광재료를 노광하고, 현상 처리를 실시함으로써 노광부 및 미노광부에 각각 금속은부 및 광투과성부를 형성하여 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 형성하도록 해도 좋다. 또한, 또한 금속 은부에 물리현상 및/또는 도금 처리를 실시함으로써 금속은부에 도전성 금속을 담지시키도록 해도 좋다.
또한, 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에 형성된 동박 상의 포토레지스트 막을 노광, 현상 처리하여 레지스트 패턴을 형성하고, 레지스트 패턴으로부터 노출되는 동박을 에칭함으로써 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 형성하도록 해도 좋다.
또한, 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에 금속 미립자를 포함하는 페이스트를 인쇄하고, 페이스트에 금속 도금을 행함으로써 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 형성하도록 해도 좋다.
제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에, 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 스크린 인쇄판 또는 그라비어 인쇄판에 의해 인쇄 형성하도록 해도 좋다.
제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에, 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 잉크젯에 의해 형성하도록 해도 좋다.
이어서, 본 실시형태에 따른 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)에 있어서, 특히 바람직한 형태인 할로겐화은 사진 감광재료를 사용하는 방법을 중심으로 말한다.
본 실시형태에 따른 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)의 제조 방법은 감광재료와 현상 처리의 형태에 의해서 다음 3가지의 형태가 포함된다.
(1) 물리현상 핵을 포함하지 않는 감광성 할로겐화은 흑백 감광재료를 화학현상 또는 열현상하여 금속은부를 상기 감광재료 상에 형성시키는 형태.
(2) 물리현상 핵을 할로겐화은 유제층 중에 포함하는 감광성 할로겐화은 흑백 감광재료를 용해 물리현상하여 금속은부를 상기 감광 재료 상에 형성시키는 형태.
(3) 물리현상 핵을 포함하지 않는 감광성 할로겐화은 흑백 감광재료와, 물리현상 핵을 포함하는 비감광성층을 갖는 수상 시트를 겹쳐서 확산 전사 현상하여 금속은부를 비감광성 수상 시트 상에 형성시키는 형태.
상기 (1)의 형태는 일체형 흑백 현상 타입이고, 감광재료 상에 광투과성 도전막 등의 투광성 도전성 막이 형성된다. 얻어지는 현상은은 화학 현상은 또는 열현상은이고, 고비표면의 필라멘트인 점에서 후속하는 도금 또는 물리현상 과정에서 활성이 높다.
상기 (2)의 형태는 노광부에서 물리현상 핵 근연의 할로겐화은 입자가 용해되어 현상 핵 상에 침적함으로써 감광재료 상에 광투과성 도전성 막 등의 투광성 도전성 막이 형성된다. 이것도 일체형 흑백 현상 타입이다. 현상 작용이 물리현상 핵 상에의 석출되므로 고활성이지만, 현상은은 비표면이 작은 직사각형이다.
상기 (3)의 형태는 미노광부에 있어서 할로겐화은 입자가 용해되어 확산하여 수상 시트 상의 현상 핵 상에 침적함으로써 수상 시트 상에 광투과성 도전성 막 등의 투광성 도전성 막이 형성된다. 소위, 세퍼레이트 타입이고, 수상 시트를 감광재료로 박리하여 사용하는 형태이다.
어느 형태이어도 네거티브형 현상 처리 및 반전 현상 처리 중 어느 현상을 선택할 수 있다(확산 전사 방식의 경우에는 감광재료로서 오토 포지티브형 감광재료를 사용함으로써 네거티브형 현상 처리가 가능해진다).
여기서 행하는 화학현상, 열현상, 용해 물리현상, 확산 전사현상은 당업계에서 통상 사용되고 있는 용어 그대로의 의미이고, 사진화학의 일반교과서, 예를 들면 키쿠치 신이치 저 「사진화학」(공립 출판사, 1955년 출판), C．E．K．Mees편 「The Theory of Photographic Processes, 4th ed.」(Mcmillan, 1977년 출판)에 해설되어 있다. 본 건은 액 처리에 따른 발명이지만, 기타 현상 방식으로서 열현상 방식을 적용하는 기술도 참고할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개 2004-184693호, 동 2004-334077호, 동 2005-010752호의 각 공보, 일본 특허 출원 2004-244080호, 동 2004-085655호의 각 명세서에 기재된 기술을 적용할 수 있다.
여기서, 본 실시형태에 따른 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)의 각 층의 구성에 대해서 이하에 상세하게 설명한다.
[제 1 투명기체(56a), 제 2 투명기체(56b)]
제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)로서는 플라스틱 필름, 플라스틱판, 유리판 등을 들 수 있다.
상기 플라스틱 필름 및 플라스틱판 원료로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르류; 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌, EVA 등의 폴리올레핀류; 비닐계 수지; 그 외, 폴리카보네이트(PC), 폴리아미드, 폴리이미드, 아크릴 수지, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등을 사용할 수 있다.
제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)로서는 PET(융점: 258℃), PEN(융점: 269℃), PE(융점: 135℃), PP(융점: 163℃), 폴리스티렌(융점: 230℃), 폴리염화비닐(융점: 180℃), 폴리염화비닐리덴(융점: 212℃)이나 TAC(융점: 290℃) 등의 융점이 약 290℃ 이하인 플라스틱 필름, 또는 플라스틱판이 바람직하고, 특히 광투과성이나 가공성 등의 관점에서 PET가 바람직하다. 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)와 같은 도전 시트는 투명성이 요구되기 때문에, 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)의 투명도는 높은 것이 바람직하다.
[은염유제층]
제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)의 도전층{제 1 기본격자(212), 제 1 접속부(214), 제 2 기본격자(222), 제 2 접속부(224) 등의 도전부(도 20a 및 도 20b 참조)}이 되는 은염유제층은 은염과 바인더 이외에, 용매나 염료 등의 첨가제를 함유한다.
본 실시형태에 사용되는 은염으로서는 할로겐화은 등의 무기은염 및 아세트산은 등의 유기은염을 들 수 있다. 본 실시형태에 있어서는 광센서로서 특성이 우수한 할로겐화은을 사용하는 것이 바람직하다.
은염유제층의 도포은량(은염의 도포량)은 은으로 환산하여 1∼30g/㎡이 바람직하고, 1∼25g/㎡이 보다 바람직하고, 5∼20g/㎡이 더욱 바람직하다. 이 도포은량을 상기 범위로 함으로써, 제 1 도전 시트(14a)와 제 2 도전 시트(14b)를 적층한 경우에 소망의 표면 저항을 얻을 수 있다.
본 실시형태에 사용되는 바인더로서는, 예를 들면 젤라틴, 폴리비닐알콜(PVA), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 전분 등의 다당류, 셀룰로오스 및 그 유도체, 폴리에틸렌옥시드, 폴리비닐아민, 키토산, 폴리리신, 폴리아크릴산, 폴리아르긴산, 폴리히알루론산, 카르복시셀룰로오스 등을 들 수 있다. 이들은 관능기의 이온성에 의해 중성, 음이온성, 양이온성의 성질을 갖는다.
본 실시형태의 은염유제층 중에 함유되는 바인더의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 분산성과 밀착성을 발휘할 수 있는 범위에서 적당히 결정할 수 있다. 은염유제층 중의 바인더의 함유량은 은/바인더 체적비로 1/4 이상이 바람직하고, 1/2 이상이 보다 바람직하다. 은/바인더 체적비는 100/1 이하가 바람직하고, 50/1 이하가 보다 바람직하다. 또한, 은/바인더 체적비는 1/1∼4/1인 것이 더욱 바람직하다. 1/1∼3/1인 것이 가장 바람직하다. 은염유제층 중의 은/바인더 체적비를 이 범위로 함으로써 도포은량을 조정한 경우에도 저항값의 불균일을 억제하고, 균일한 표면 저항을 갖는 도전 시트(14)를 얻을 수 있다. 또한, 은/바인더 체적비는 원료의 할로겐화 은량/바인더량(중량비)을 은량/바인더량(중량비)로 변환하고, 또한 은량/바인더량(중량비)을 은량/바인더량(체적비)으로 변환함으로써 구할 수 있다.
<용매>
은염유제층의 형성에 사용되는 용매는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 물, 유기 용매(예를 들면, 메탄올 등의 알콜류, 아세톤 등의 케톤류, 포름아미드 등의 아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 아세트산 에틸 등의 에스테르류, 에테르류 등), 이온성 액체 및 이들의 혼합 용매를 들 수 있다.
본 실시형태의 은염유제층에 사용되는 용매의 함유량은 은염유제층에 포함되는 은염, 바인더 등의 합계의 질량에 대하여 30∼90질량%의 범위이고, 50∼80질량%의 범위인 것이 바람직하다.
<기타 첨가제>
본 실시형태에 사용되는 각종 첨가제에 관해서는 특별히 제한은 없고, 공지의 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
[기타 층 구성]
은염유제층 상에 도시되지 않은 보호층을 설치해도 좋다. 본 실시형태에 있어서 「보호층」이란 젤라틴이나 고분자 폴리머로 한 바인더로 이루어지는 층을 의미하고, 스크레치 방지나 역학 특성을 개량하는 효과를 발현시키기 위해서 감광성을 갖는 은염유제층 상에 형성된다. 그 두께는 0.5㎛ 이하가 바람직하다. 보호층의 도포 방법 및 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 도포방법 및 형성방법을 적당히 선택할 수 있다. 또한, 은염유제층보다 아래에, 예를 들면 언더코팅층을 설치할 수도 있다.
이어서, 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)의 제작 방법의 각 공정에 대해서 설명한다.
[노광]
본 실시형태에서는 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 인쇄 방식에 의해 실시하는 경우를 포함하지만, 인쇄 방식 이외에는 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 노광과 현상 등에 의해 형성한다. 즉, 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에 설치된 은염 함유층을 갖는 감광재료 또는 포토리소그래피용 포토폴리머를 도포한 감광재료에 노광을 행한다. 노광은 전자파를 사용하여 행할 수 있다. 전자파로서는, 예를 들면 가시광선, 자외선 등의 광, X선 등의 방사선 등을 들 수 있다. 또한, 노광에는 파장 분포를 갖는 광원을 이용해도 좋고, 특정 파장의 광원을 사용해도 좋다.
[현상 처리]
본 실시형태에서는 유제층을 노광한 후 현상 처리가 더 행해진다. 현상 처리는 은염사진 필름이나 인화지, 인쇄제판용 필름, 포토마스크용 에멀션 마스크 등에 사용되는 통상의 현상 처리의 기술을 사용할 수 있다. 현상액에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, PQ 현상액, MQ 현상액, MAA 현상액 등을 사용할 수 있고, 시판품으로서는, 예를 들면 Fujifilm Corporation 제작의 CN-16, CR-56, CP45X, FD-3, PAPITOL, Kodak Company 제작의 C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72 등의 현상액, 또는 그 키트에 포함되는 현상액을 사용할 수 있다. 또한, 리스(lith) 현상액을 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서의 현상 처리는 미노광 부분의 은염을 제거하여 안정화시킬 목적으로 행해지는 정착 처리를 포함할 수 있다. 본 발명에 있어서의 정착 처리는 은염 사진 필름이나 인화지, 인쇄제판용 필름, 포토마스크용 에멀션 마스크 등에 사용되는 정착 처리의 기술을 사용할 수 있다.
상기 정착 공정에 있어서의 정착 온도는, 약 20℃∼약 50℃가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 25∼45℃이다. 또한, 정착 시간은 5초∼1분이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 7초∼50초이다. 정착액의 보충량은 감광재료의 처리량에 대하여 600ml/㎡ 이하가 바람직하고, 500ml/㎡ 이하가 더욱 바람직하고, 300ml/㎡ 이하가 특히 바람직하다.
현상, 정착 처리를 행한 감광재료는 수세 처리나 안정화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 상기 수세 처리 또는 안정화 처리에 있어서 수세 수량은 통상 감광재료 1㎡당, 20L 이하로 행하고 3L 이하의 보충량(0도 포함, 즉 저장 물 수세)으로 행할 수도 있다.
현상 처리 후의 노광부에 포함되는 금속은의 질량은 노광 전의 노광부에 포함되어 있던 은의 질량에 대하여 50질량% 이상의 함유율인 것이 바람직하고, 80질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 노광부에 포함되는 은의 질량이 노광 전의 노광부에 포함되어 있던 은의 질량에 대하여 50질량% 이상이면, 높은 도전성을 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.
본 실시형태에 있어서의 현상 처리 후의 계조는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 4.0을 초과하는 것이 바람직하다. 현상 처리 후의 계조가 4.0을 초과하면, 광투과성부의 투광성을 높게 유지한 채 도전성 금속부의 도전성을 향상시킬 수 있다. 계조를 4.0 이상으로 하는 수단으로서는, 예를 들면 상술의 로듐 이온, 이리듐 이온의 도프를 들 수 있다.
이상의 공정을 거쳐서 도전 시트를 얻을 수 있지만, 얻어진 도전 시트의 표면 저항은 0.1∼100옴/sq.의 범위에 있는 것이 바람직하고, 1∼10옴/sq.의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 또한, 현상 처리 후의 도전 시트에 대해서는 카렌다 처리를 행해도 좋고, 카렌다 처리에 의해 소망의 표면 저항으로 조정할 수 있다.
[물리현상 및 도금 처리]
본 실시형태에서는 상기 노광 및 현상 처리에 의해 형성된 금속은부의 도전성을 향상시킬 목적으로, 상기 금속은부에 도전성 금속 입자를 담지시키기 위한 물리현상 및/또는 도금 처리를 행해도 좋다. 본 발명에서는 물리현상 또는 도금 처리 중 어느 하나만으로 도전성 금속 입자를 금속은부에 담지시켜도 좋고, 물리현상과 도금 처리를 조합시켜 도전성 금속 입자를 금속은부에 담지시켜도 좋다. 또한, 금속은부에 물리현상 및/또는 도금 처리를 실시한 것을 포함시켜 「도전성 금속부」라고 한다.
본 실시형태에 있어서의 「물리현상」이란 금속이나 금속 화합물의 핵 상에, 은 이온 등의 금속 이온을 환원제로 환원하여 금속 입자를 석출시키는 것을 말한다. 이 물리현상은 인스턴트 B&W 필름, 인스턴트 슬라이드 필름이나 인쇄판 제조 등에 이용되고 있고, 본 발명에서는 그 기술을 사용할 수 있다. 또한, 물리현상은 노광 후의 현상 처리와 동시에 행해도, 현상 처리 후에 별도로 행해도 좋다.
본 실시형태에 있어서, 도금 처리는 무전해 도금(화학 환원 도금이나 치환 도금), 전해 도금 또는 무전해 도금과 전해 도금 모두를 사용할 수 있다. 본 실시형태에 있어서의 무전해 도금은 공지의 무전해 도금 기술을 사용할 수 있고, 예를 들면 프린트 배선판 등으로 사용되고 있는 무전해 도금 기술을 사용할 수 있고, 무전해 도금은 무전해 구리 도금인 것이 바람직하다.
[산화처리]
본 실시형태에서는 현상 처리 후의 금속은부, 및 물리현상 및/또는 도금 처리에 의해 형성된 도전성 금속부에는 산화 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 산화 처리를 행함으로써, 예를 들면 광투과성부에 금속이 약간 침착하고 있는 경우에 상기 금속을 제거하고, 광투과성부의 투과성을 거의 100%로 할 수 있다.
[도전성 금속부]
본 실시형태의 도전성 금속부의 선폭(제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)의 선폭)은, 하한은 1㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상 또는 5㎛ 이상이 바람직하고, 상한은 15㎛, 10㎛ 이하, 9㎛ 이하, 8㎛ 이하가 바람직하다. 선폭이 상기 하한값 미만인 경우에는 도전성이 불충분하게 되기 때문에, 터치패널에 사용했을 경우에 검출 감도가 불충분하게 된다. 한편, 상기 상한값을 초과하면 도전성 금속부에 기인하는 무아레가 현저해지거나, 터치패널에 사용했을 때에 시인성이 나빠진다. 또한, 상기 범위로 함으로써 도전성 금속부의 무아레가 개선되고, 시인성이 특히 좋아진다. 또한, 도전성 금속부는 접지 접속 등의 목적에 있어서, 선폭은 200㎛보다 넓은 부분을 갖고 있어도 좋다.
본 실시형태에 있어서의 도전성 금속부는 가시광 투과율의 점에서 개구율(투과율)은 85% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 95% 이상인 것이 가장 바람직하다. 개구율이란 제 1 기본격자(212), 제 1 접속부(214), 제 2 기본격자(222), 제 2 접속부(224) 등(도 20a 및 도 20b 참조)의 도전부를 제외한 투광성 부분이 전체에 차지하는 비율이고, 예를 들면 선폭 15㎛, 피치 300㎛의 정사각형의 격자상의 개구율은 90%이다.
[광투과성부]
본 실시형태에 있어서의 「광투과성부」란 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b) 중 도전성 금속부 이외에 투광성을 갖는 부분(개구부(52))을 의미한다. 광투과성부에 있어서의 투과율은 상술한 바와 같이, 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)의 광흡수 및 반사의 기여를 제외한 380∼780nm의 파장영역에 있어서의 투과율의 최소값으로 나타내어지는 투과율이 90% 이상, 바람직하게는 95% 이상, 보다 바람직하게는 97% 이상이고, 더욱 바람직하게는 98% 이상이고, 가장 바람직하게는 99% 이상이다.
노광 방법에 관해서는 유리 마스크를 통한 방법이나 레이저 묘화에 의한 패턴 노광 방식이 바람직하다.
[제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)]
본 실시형태에 따른 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)에 있어서의 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)의 두께는 5∼350㎛인 것이 바람직하고, 30∼150㎛인 것이 더욱 바람직하다. 5∼350㎛의 범위이면 소망의 가시광의 투과율이 얻어지고, 또한 취급도 용이하다.
제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에 설치되는 금속은부의 두께는 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b) 상에 도포되는 은염 함유층용 도료의 도포 두께에 따라서 적당히 결정할 수 있다. 금속은부의 두께는 0.001mm∼0.2mm로부터 선택가능하지만, 30㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.01∼9㎛인 것이 더욱 바람직하고, 0.05∼5㎛인 것이 가장 바람직하다. 또한, 금속은부는 패턴상인 것이 바람직하다. 금속은부는 1층이어도 좋고, 2층 이상의 중층 구성이어도 좋다. 금속은부가 패턴상이고, 또한 2층 이상의 중층 구성인 경우에 다른 파장에 감광할 수 있도록 다른 감색성을 부여할 수 있다. 이것에 의해, 노광 파장을 변경하여 노광하면 각 층에 있어서 다른 패턴을 형성할 수 있다.
도전성 금속부의 두께는 터치패널의 용도로서 엷을수록 표시패널의 시야각이 넓어지기 때문에 바람직하고, 시인성의 향상의 점에서 박막화가 요구된다. 이러한 관점에서, 도전성 금속부에 담지된 도전성 금속으로 이루어지는 층의 두께는 9㎛ 미만인 것이 바람직하고, 0.1㎛ 이상 5㎛ 미만인 것이 보다 바람직하고, 0.1㎛ 이상 3㎛ 미만인 것이 더욱 바람직하다.
본 실시형태에서는 상술한 은염 함유층의 도포 두께를 컨트롤함으로써 소망의 두께의 금속은부를 형성하고, 또한 물리현상 및/또는 도금 처리에 의해 도전성 금속입자로 이루어지는 층의 두께를 자유자재로 컨트롤하기 위해서 5㎛ 미만, 바람직하게는 3㎛ 미만의 두께를 갖는 제 1 도전 시트(14a) 및 제 2 도전 시트(14b)이어도 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 관한 제 1 도전 시트(14a)나 제 2 도전 시트(14b)의 제조 방법에서는 도금 등의 공정은 반드시 행할 필요는 없다. 본 실시형태에 관한 제 1 도전 시트(14a)나 제 2 도전 시트(14b)의 제조 방법에서는 은염유제층의 도포은량, 은/바인더 체적비를 조정함으로써 소망의 표면 저항을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 필요에 따라서 카렌다 처리 등을 행해도 좋다.
(현상 처리 후의 경막 처리)
은염유제층에 대하여 현상 처리를 행한 후에, 경막제에 침지하여 경막 처리를 행하는 것이 바람직하다. 경막제로서는, 예를 들면 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 2,3-디히드록시-1,4-디옥산 등의 디알데히드류 및 붕산 등의 일본 특허 공개 평2-141279호 공보에 기재된 것을 들 수 있다.
[적층 도전 시트]
적층 도전 시트에는 반사방지층이나 하드코트층 등의 기능층을 부여해도 좋다.
또한, 본 발명은 하기 표 1 및 표 2에 기재된 공개 공보 및 국제 공개 팸플릿의 기술과 적당히 조합시켜 사용할 수 있다. 「일본 특허 공개」, 「호 공보」, 「호 팸플릿」등의 표기는 생략한다.
Figure 112013044897460-pct00004
Figure 112013044897460-pct00005
(실시예)
이하에, 본 발명의 실시예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 이하의 실시예에 나타낸 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적당히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타낸 구체예에 의해 한정적으로 해석되지 않는다.
(할로겐화은 감광재료)
수매체 중의 Ag 150g에 대하여 젤라틴 10.0g을 포함하고, 구상당 지름평균 0.1㎛의 요오드브로모 염화은 입자(I=0.2몰%, Br=40몰%)를 함유하는 유제를 조제했다.
또한, 이 유제 중에는 K3Rh2Br9 및 K2IrCl6을 농도가 10-7(몰/몰 은)이 되도록 첨가하고, 브롬화은 입자에 Rh 이온과 Ir 이온을 도프했다. 이 유제에 Na2PdCl4를 첨가하고, 또한 염화금산과 티오황산 나트륨을 사용하여 금황 증감을 행한 후 젤라틴 경막제와 함께, 은의 도포량이 10g/㎡이 되도록 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)(여기서, 모두 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)) 상에 도포했다. 이 때에, Ag/젤라틴 체적비는 2/1로 했다.
폭 30cm의 PET 지지체에 25cm의 폭으로 20m의 길이로 도포를 행하고, 도포의 중앙부 24cm가 남도록 양단을 3cm씩 잘라내어 롤상의 할로겐화은 감광재료를 얻었다.
(노광 패턴의 작성)
본 실시형태에서 설명한 SA법(도 11 등 참조)을 사용하여, 불규칙으로 배치된 배선으로 이루어지는 메쉬 패턴(M)(도 2a 참조)을 나타내는 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 작성했다.
메쉬 패턴(M)의 설정 조건은 전체 투과율 93%, 기체 두께(제 1 및 제 2 투명 기체(56a, 56b)의 총 합계)를 40㎛, 금속세선(54)의 폭을 20㎛, 금속세선(54)의 두께를 10㎛로 했다. 패턴 사이즈를 종횡 모두 5mm, 화상 해상도를 3500dpi(dots per inch)로 했다. 시드점(SD)의 초기 위치는 메르센느 트위스터를 사용하여 랜덤으로 결정하고, 보로노이도를 사용하여 다각형상의 각 메쉬 영역을 획정했다. 평가값(EVP)은 화상 데이터(Img)의 색값 L*, 색값 a*, 색값 b*에 근거하여 산출했다. 그리고, 동일한 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 상하 방향 및 좌우 방향으로 모두 배치함으로써 주기적인 노광 패턴을 형성했다. 그 결과, 메쉬 패턴(M1)(도 18 참조)의 모양을 나타낸 출력용 화상 데이터(ImgOut)가 얻어진다.
그리고, 도 20a 및 도 20b에 나타낸 바와 같이, 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 컷아웃 처리를 행했다. 제 1 기본격자(212) 및 제 2 기본격자(222)의 일변의 길이를 5.4mm로 하고, 제 1 접속부(214) 및 제 2 접속부(224)의 폭을 0.4mm로 했다. 또한, 간극(216, 226)은 모두 0.4mm로 했다.
(노광)
노광의 패턴은 제 1 도전 시트(14a)에 대해서 도 20a에 나타낸 패턴으로, 제 2 도전 시트(14b)에 대해서는 도 20b에 나타낸 패턴으로, A4 사이즈(210mm×297mm)의 제 1 투명기체(56a) 및 제 2 투명기체(56b)로 행했다. 노광은 상기 패턴의 포토마스크를 통하여 고압수은 램프를 광원으로 한 평행 광을 사용하여 노광했다.
(현상 처리)
·현상액 1L 처방
하이드로퀴논 20g
아황산나트륨 50g
탄산칼륨 40g
에틸렌디아민·사아세트산 2g
브롬화칼륨 3g
폴리에틸렌글리콜 2000 1g
수산화칼륨 4g
pH 10.3으로 조정
·정착액 1L 처방
티오황산암모늄액(75%) 300ml
아황산암모늄·일수염 25g
1,3-디아미노프로판·사아세트산 8g
아세트산 5g
암모니아수(27%) 1g
pH 6.2으로 조정
상기 처리제를 사용하여 노광 완료 감재를 Fujiflim Corporation 제작의 자동 현상기 FG-710PTS를 사용하여 처리 조건: 현상 35℃ 30초, 정착 34℃ 23초, 수세 유수(5L/분)의 20초 처리로 행했다.
이하, 메쉬 패턴(M1)을 갖는 도전 시트(14)를 제 1 샘플이라 한다. 제 1 샘플 중, 20개소의 금속세선(54)을 무작위로 추출하고 그 선폭을 각각 측정했다. 그 결과, 금속세선(54)의 선폭의 평균값(평균 선폭)은 19.7㎛이었다. 즉, 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수는 25.4Cy/mm{=1/(2×19.7×10-3)}이었다.
[평가]
(표면 저항 측정)
표면 저항율의 균일성을 평가하기 위해서, 도전 시트(14)의 표면 저항율을 Dia Instruments Co., Ltd. 제작의 LORESTA GP(형식번호 MCP-T610) 직렬 4탐침 프로브(ASP)에서 임의의 10개소를 측정한 값의 평균값이다.
(노이즈감의 평가)
시판의 컬러 액정 디스플레이(화면 사이즈 4.7형, 640×400도트)를 사용했다. 제 1 샘플을 첨부한 터치패널을 상기 액정 디스플레이에 포함하고, 액정 패널의 이면으로부터 보조광으로서 LED 램프를 점등시켜 표시 화면을 관찰하여 노이즈감의 목시 평가를 행했다. 노이즈감의 시인성은 액정 패널의 정면측으로부터 관찰 거리 300mm로 행했다.
[결과]
10매의 제 1 샘플 중 어느 것에 대해서도 노이즈감은 현재화하지 않고, 표면 저항율도 투명 전극으로서 충분히 실용화할 수 있는 레벨이며 투광성도 양호했다. 또한, 실측값에 근거하여 콘볼루션 적분의 그래프를 작성한 바, 도 19와 같은 결과가 얻어지는 것도 확인했다.
이상과 같이, 출력용 화상 데이터(ImgOut)는 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 스펙트럼(Spc)과 인간의 표준시각응답 특성(VTF)의 콘볼루션 적분에 있어서, 출력용 화상 데이터(ImgOut)에 따른 나이퀴스트 주파수(Unyq)의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값 NP(Ux, Uy)이 적분값 NP(0,0)보다 큰 특성을 갖도록 했으므로, 저공간 주파수 대역측과 비교하여 고공간 주파수 대역측의 노이즈량은 상대적으로 커지고 있다. 인간의 시각은 저공간 주파수 대역에서의 응답특성은 높지만 중∼고공간 주파수 대역에 있어서 응답특성은 급격하게 저하하는 성질을 갖으므로, 인간에 있어서 시각적으로 느껴지는 노이즈감은 감소했다. 이것에 의해, 도전 시트(14)가 갖는 패턴에 기인하는 노이즈 입상감은 저감되므로, 관찰 대상물의 시인성은 대폭 향상한다. 또한, 재단 후에 있어서의 각 배선의 단면 형상도 대략 일정하여 안정한 통전 성능을 갖는다.
또한, 도전 시트(14)의 평면시에서의 스펙트럼(Spc)과 VTF의 콘볼루션 적분에 있어서, 도전부(50)의 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값 NP(Ux, Uy)가 적분값 NP(0,0)보다 큰 특성을 갖도록 구성해도, 같은 작용 효과가 얻어진다.
이어서, 상기한 본 실시형태의 변형예에 대해서, 도 22∼도 25를 참조하면서 설명한다. 또한, 도 1∼도 5의 구성은 본 실시형태와 동일하므로, 그 설명을 생략한다. 본 변형예에서는 블랙 매트릭스(64)의 모양도 고려하여 메쉬 패턴(M)을 최적화하는 점이 본 실시형태와 다르다.
도 22는 본 실시형태의 변형예에 있어서의 중첩 화상 데이터(Img')의 작성 조건의 설정 화면을 나타내는 도이다. 또한, 중첩 화상 데이터(Img')에서는 후술하는 ImgInit'(초기 데이터)이나 ImgTemp'(중간 데이터)가 포함된다.
설정 화면(160)은 위에서 순서대로 2개의 라디오 버튼(162a, 162b)과 6개의 텍스트박스(164, 166, 168, 170, 172, 174)와, 매트릭스상의 화상(176)과, [반복], [중지], [설정]으로 표시된 버튼(178, 180, 182)을 구비한다.
라디오 버튼(162a, 162b)의 우방부에는 「있음」, 「없음」으로 이루어진 문자열이 각각 표시되어 있다. 그리고, 라디오 버튼(162a)의 좌방에는 「매트릭스의 유무」로 이루어진 문자열이 표시되어 있다.
텍스트박스(164, 166, 168, 170, 172, 174)의 좌방부에는 「중첩 위치의 평균 샘플수」, 「농도」, 「치수 a」, 「b」, 「c」 및 「d」로 이루어진 문자열이 각각 표시되어 있다. 또한, 텍스트박스(164, 166, 168, 170, 172, 174)의 우방부에는 「회」, 「D」, 「㎛」, 「㎛」, 「㎛」 및 「㎛」로 이루어진 문자열이 각각 표시되어 있다. 여기서, 텍스트박스(164, 166, 168, 170, 172, 174) 중 어느 것이에도 입력부(20)(예를 들면, 키보드)의 소정의 조작에 의해 산용숫자의 입력이 자유자재이다.
매트릭스상의 화상(176)은 블랙 매트릭스(64)(도 2b 참조)의 형상을 모방한 화상이고, 4개의 개구부(184) 및 창틀(186)이 설치되어 있다.
이어서, 본 변형예에 있어서의 제조 장치(10)의 동작에 대해서 도 6, 도 23 및 도 24의 플로우 차트를 참조하면서 설명한다.
도 6의 플로우 차트에 있어서, 본 변형예에서의 동작은 본 실시형태와 기본적으로는 동일하다. 여기서, 각종 조건의 입력(스텝 S1)시에 메쉬 패턴(M)의 시인성에 따른 시인 정보뿐만 아니라, 블랙 매트릭스(64)에 따른 시인 정보를 더 입력한다.
작업자는 표시부(22)에 표시된 설정 화면(160)(도 22 참조)을 통하여 적절한 수치 등을 입력한다. 이것에 의해, 블랙 매트릭스(64)의 시인성에 따른 시인 정보를 입력할 수 있다. 여기서, 블랙 매트릭스(64)의 시인 정보란 블랙 매트릭스(64)의 형상이나 광학 농도에 기여하는 각종 정보이고, 패턴재의 시인 정보가 포함된다. 패턴재의 시인 정보로서, 예를 들면 상기 패턴재의 종류, 색값, 광투과율 또는 광반사율, 또는 상기 패턴 구조의 설치 위치, 단위 또는 단위 사이즈 중 적어도 1개가 포함된다.
작업자는 중첩하려는 블랙 매트릭스(64)에 관해서, 텍스트박스(164) 등을 사용하여 블랙 매트릭스(64)의 각종 조건을 각각 입력한다.
라디오 버튼(162a, 162b)의 입력은 메쉬 패턴(M)에 블랙 매트릭스(64)를 중첩한 모양을 나타내는 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 작성할 것인가 아닌가에 대응한다. 「있음」(라디오 버튼(162a))의 경우에는 블랙 매트릭스(64)를 중첩하고, 「없음」(라디오 버튼(162b))의 경우에는 블랙 매트릭스(64)를 중첩하지 않는다.
텍스트박스(164)의 입력값은 블랙 매트릭스(64)의 배치 위치를 랜덤으로 결정하고, 화상 데이터(Img)의 작성·평가를 행하는 시행횟수에 상당한다. 예를 들면, 이 값을 5회로 설정했을 경우, 메쉬 패턴(M)과 블랙 매트릭스(64)의 위치 관계를 랜덤으로 규정한 5개의 중첩 화상 데이터(Img')를 작성하고, 평가값(EVP)의 평균값을 각각 사용하여 메쉬의 모양의 평가를 행한다.
텍스트박스(166, 168, 170, 172)의 입력값은 블랙 매트릭스(64)의 광학 농도(단위: D), 단위 화소(66)의 종 사이즈(단위: ㎛), 단위화소(66)의 횡 사이즈(단위: ㎛), 차광재(68h)의 폭(단위: ㎛), 차광재(68v)의 폭(단위: ㎛)에 각각 대응한다.
또한, 블랙 매트릭스(64)의 광학 농도(텍스트박스(166))와, 단위 화소(66)의 종 사이즈(텍스트박스(168))와, 단위 화소(66)의 횡 사이즈(텍스트박스(170))와, 차광재(68h)의 폭(텍스트박스(172))과, 차광재(68v)의 폭(텍스트박스(174))에 근거하고, 블랙 매트릭스(64)를 중첩했을 경우에 메쉬 패턴(M)의 모양(형상·광학 농도)을 추정할 수 있다.
도 23은 본 실시형태의 변형예에 있어서의 출력용 화상 데이터(ImgOut)의 작성 방법을 설명하는 플로우 차트이다. 본 도는 도 10과 비교하여 중첩 화상 데이터(ImgInit')를 작성하는 스텝(스텝 S23A)을 구비하는 점이 다르다. 또한, 스텝 S21A, S22A, S24A∼S26A 및 S28A∼S34A는 도 10의 스텝 S21, S22, S23∼S25 및 S27∼S33에 각각 대응한다. 따라서, 이들의 각 스텝에서의 동작 설명을 생략한다.
스텝 S23A에 있어서, 화상 데이터 작성부(40)는 스텝 S22A에서 작성된 화상 데이터(ImgInit)와 화상 정보 추정부(38)로 추정된 화상 정보(스텝 S1의 설명을 참조)에 근거하여 중첩 화상 데이터(ImgInit')를 작성한다. 또한, 이 중첩 화상 데이터(ImgInit')는 메쉬 패턴(M)에 구조 패턴으로서 블랙 매트릭스(64)를 중첩한 모양을 나타내는 화상 데이터이다.
화상 데이터(ImgInit)의 화소값의 데이터 정의가 투과 농도인 경우에는 블랙 매트릭스(64)의 배치 위치에 대응하는 각 화소의 투과 농도(도 22의 텍스트박스(166)의 입력값)를 가산하여 중첩 화상 데이터(ImgInit')를 작성할 수 있다. 또한, 화상 데이터(ImgInit)의 화소값의 데이터 정의가 반사 농도인 경우에는 블랙 매트릭스(64)의 배치 위치에 대응하는 각 화소의 반사 농도(동 텍스트박스(166)의 입력값)로 치환하여 중첩 화상 데이터(ImgInit')를 작성할 수 있다.
스텝 S27A에 있어서, 시드점(SD)의 일부(제 2 시드점(SDS))를 후보점(SP)으로 치환한 상태에서 화상 데이터(ImgTemp)을 작성하고, 평가값(EVPTemp)을 산출한 후에 시드점(SD)의 「갱신」 또는 「비갱신」을 판단한다.
도 24의 본 변형예에 있어서의 플로우 차트는 도 16과 비교하여 중첩 화상 데이터(ImgTemp')를 작성하는 스텝(스텝 S274A)을 구비하는 점이 다르다. 또한, 스텝 S271A∼S273A 및 S275A∼S279A는 도 16의 스텝 S261∼S263 및 S264∼S268에 각각 대응한다.
스텝 S274A에 있어서, 화상 데이터 작성부(40)는 스텝 S273A에서 작성된 화상 데이터(ImgTemp)와, 화상 정보 추정부(38)로 추정된 화상 정보(스텝 S1의 설명을 참조)에 근거하여 중첩 화상 데이터(ImgTemp')를 작성한다. 이 때, 스텝 S23A(도 23 참조)의 경우와 동일한 방법을 사용하므로 설명은 생략한다.
도 25는 블랙 매트릭스(64)를 중첩하는 조건 하에서 최적화된 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 사용하여 도전 시트(14)의 모양을 나타내는 메쉬 패턴(M2)을 가시화한 개략 설명도이다.
도 20 및 도 25로부터 명백한 바와 같이, 메쉬 패턴(M2)의 모양(각 개구부(52))은 메쉬 패턴(M1)의 모양과 비교하여 대체로 가로로 긴 형상을 갖고 있다. 그 근거는 이하와 같이 추측된다.
예를 들면, 도 2b에 나타낸 블랙 매트릭스(64)의 단위 화소(66)의 형상을 정사각형이라 가정한다. 적색 필터(62r), 녹색 필터(62g), 청색 필터(62b)가 좌우 방향으로 설치됨으로써, 단위 화소(66)는 1/3의 영역에 구획되어 고공간 주파수 성분의 노이즈 입상도는 증가한다. 한편, 상하 방향으로는 차광재(68h)의 설치 주기에 상당하는 공간 주파수 성분만이 존재하고, 그 이외의 공간 주파수 성분이 없기 때문에 이 설치 주기의 시인성을 저감시키도록 메쉬 패턴(M2)의 모양이 결정된다. 즉, 좌우 방향으로 연장된 각 배선은 그 간격이 될 수 있는 한 좁아지도록, 또한 각 차광재(68h) 사이에 규칙적으로 배치되도록 결정된다.
이와 같이, 블랙 매트릭스(64)(구조 패턴)를 중첩시켜 화상 데이터(Img)(출력용 화상 데이터(ImgOut)를 포함)를 작성함으로써, 블랙 매트릭스(64)의 모양을 고려한 메쉬 형상의 최적화가 가능하다. 즉, 실제의 사용 형태에서의 관찰로 노이즈 입상감은 저감되고, 관찰 대상물의 시인성은 대폭 향상한다. 도전 시트(14)의 실제의 사용 형태가 기지인 경우, 특히 효과적이다.
또한, 도전 시트(14)의 실제의 사용 형태가 미지인 경우, 구조 패턴의 존재를 고려하지 않는 조건 하, 메쉬 패턴(M1)의 모양을 최적화함으로써 뒤에 중첩되는 구조 패턴의 종류와 관계없이 관찰 대상물의 시인성을 향상시키는 효과가 있다. 구조 패턴을 중첩하지 않는 경우에는 더욱이다.
그런데, 상기한 실시예와 동일한 방법을 사용하여 메쉬 패턴(M2)을 갖는 도전 시트(14)(이하, 제 2 샘플라고 함)를 제작했다. 또한, 상기 (노광 패턴의 작성)공정에 있어서, 블랙 매트릭스(64)의 설정 조건은 광학 농도를 4.5D, 단위 화소(66)의 종 사이즈, 횡 사이즈를 모두 200㎛, 차광재(68v)의 폭, 차광재(68h)의 폭을 모두 20㎛로 했다.
즉, 설정 화면(160)(도 22 참조) 상에 라디오 버튼(162a)을 선택하고, 「매트릭스의 유무」를 「있음」으로 설정한 후에 출력용 화상 데이터(ImgOut)를 작성했다. 그 결과, 메쉬 패턴(M2)(도 25 참조)의 모양을 나타내는 출력용 화상 데이터(ImgOut)가 얻어진다.
상기 (노이즈감의 평가)에 의하면, 제 2 샘플은 제 1 샘플보다 노이즈감이 더욱 눈에 띄지 않는 것을 확인했다. 또한, 액정 패널을 대신하여 투명판을 사용하고, 상기 LED 램프 넘어로 광을 관찰하여 동일한 목시 평가를 행한 바, 제 1 샘플은 제 2 샘플보다 노이즈감이 더욱 눈에 띄지 않는 것을 확인했다. 즉, 도전 시트(14)의 시인 형태(예를 들면, 적색 필터(62r) 등의 컬러필터나 블랙 매트릭스(64)의 유무)에 따라서 메쉬 패턴(M)의 모양이 최적화되어 있는 것이 명백하다.
또한, 이 발명은 상술한 실시형태로 한정되는 것이 아니고, 이 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서 자유롭게 변경할 수 있는 것은 물론이다.
예를 들면, 패턴재는 블랙 매트릭스로 한정되지 않고, 각종 용도에 따른 각종 구조 패턴의 형상에 대하여 본 발명을 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
또한, 제 1 도전부(50a) 및 제 2 도전부(50b)를 1개의 기체 상에 형성해도 좋다. 예를 들면 도 26에 나타낸 바와 같이, 제 1 투명기체(56a)의 일주면에 제 1 도전부(50a)를 형성하고, 제 1 투명기체(56a)의 타주면에 제 2 도전부(50b)를 형성하도록 해도 좋다. 이 경우, 제 2 투명기체(56b)는 존재하지 않고, 제 2 도전부(50b) 상에 제 1 투명기체(56a)가 적층되어 제 1 투명기체(56a) 상에 제 1 도전부(50a)가 적층된 형태가 된다. 또한, 제 1 도전 시트(14a)와 제 2 도전 시트(14b)는 그 사이에 다른 층이 존재해도 좋고, 제 1 도전부(50a)와 제 2 도전부(50b)가 절연 상태이면 그들은 대향하여 배치되어도 좋다.
또한, 도전 시트(14)는 터치패널용 전극뿐만 아니라, 무기 EL 소자, 유기 EL 소자 또는 태양전지의 전극이나 투명발열체나 전자파 실드재에도 적용해도 좋다. 예를 들면, 이 도전 시트(14)를 차량의 디프로스터(성에 제거 장치)에 적용하는 경우에는 도전 시트(14)의 대향하는 단부에 도시되지 않은 제 1 전극 및 제 2 전극을 형성하고, 제 1 전극으로부터 제 2 전극로 전류를 흘려보낸다. 이것에 의해, 투명 발열체가 발열하고, 투명발열체에 접하는 또는 투명발열체를 포함하는 가열 대상물(예를 들면, 건물 창문 유리, 차량용 창문 유리, 차량용 등 기구의 전면 커버 등)이 가열된다. 그 결과, 가열 대상물에 부착되어 있었던 눈 등은 제거되게 된다.

Claims (16)

  1. 기체(56a, 56b) 상에 메쉬상의 선재(50)가 형성된 도전 시트(14)로서,
    평면시에서의 파워 스펙트럼(Spc)과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서, 상기 선재(50)의 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 가지며,
    메쉬 패턴(M, M1)의 모양을 나타내는 화상 데이터(ImgOut)를 작성하는 작성 스텝과,
    작성된 상기 화상 데이터(ImgOut)에 근거하여 기체(56a, 56b) 상에 선재(50)를 출력 형성하여 상기 메쉬 패턴(M, M1)을 갖는 도전 시트(14)를 제조하는 출력 스텝을 구비하는 제조방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  2. 기체(56a, 56b) 상에 메쉬상의 선재(50)가 형성된 도전 시트(14)로서,
    상기 도전 시트(14) 상에 상기 메쉬상과는 다른 모양을 갖는 구조 패턴(64)을 중첩한 상태 하, 평면시에서의 파워 스펙트럼(Spc)과 인간의 표준시각응답 특성의 콘볼루션 적분에 있어서, 상기 선재(50)의 평균 선폭에 상당하는 공간 주파수의 1/4배 주파수 이상이고, 또한 1/2배 주파수 이하인 공간 주파수 대역에서의 각 적분값이 제로 공간 주파수에서의 적분값보다 큰 특성을 가지며,
    메쉬 패턴(M, M2)과 상기 메쉬 패턴(M, M2)의 모양과는 다른 모양을 갖는 구조 패턴(64)을 중첩시켜 얻어지는 중첩 화상 데이터(ImgTemp')의 평가 결과에 근거하여 상기 메쉬 패턴(M, M2)의 모양을 나타내는 화상 데이터(ImgOut)를 작성하는 작성 스텝과,
    작성된 상기 화상 데이터(ImgOut)에 근거하여 기체(56a, 56b) 상에 선재(50)를 출력 형성하여 상기 메쉬 패턴(M, M2)을 갖는 도전 시트(14)를 제조하는 출력 스텝을 구비하는 제조방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 구조 패턴(64)은 블랙 매트릭스인 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제조 방법은,
    상기 메쉬 패턴(M, M1, M2)의 모양이 형성되는 소정의 이차원 화상영역(200)으로부터 주기적으로 배열된 기하 패턴인 제 1 화상영역(R1)과, 상기 소정의 이차원 화상영역(200) 중 상기 제 1 화상영역(R1)의 잔여영역을 적어도 포함하는 제 2 화상영역(R2)을 각각 컷아웃하는 컷아웃 스텝을 더 구비하고,
    상기 작성 스텝에서는 컷아웃된 상기 제 1 화상영역(R1)에 따른 제 1 화상 데이터(Img01)와 컷아웃된 상기 제 2 화상영역(R2)에 따른 제 2 화상 데이터(Img02)를 작성하고,
    상기 출력 스텝에서는 작성된 상기 제 1 화상 데이터(Img01) 및 상기 제 2 화상 데이터(Img02)에 근거하여 상기 선재(50)를 출력 형성함으로써, 상기 기체(56a, 56b) 상에 있어서 상기 메쉬 패턴(M, M1, M2)의 모양을 합성하는 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 화상 데이터(ImgOut)는 복수의 컬러 채널을 갖고 있고,
    상기 적분값은 상기 컬러 채널마다의 가중 총 합계인 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제조 방법은,
    소정의 이차원 화상영역(200) 중에서 복수의 위치(SD)를 선택하는 선택 스텝을 구비하고,
    상기 작성 스텝에서는 선택된 상기 복수의 위치(SD)에 근거하여 상기 화상 데이터(ImgOut)를 작성하는 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 인간의 표준시각응답 특성은 관찰 거리 300mm에서의 둘리-쇼 함수에 기초하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 도전 시트(14).
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
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