CN102169284A

CN102169284A - 一种铬版的检查方法

Info

Publication number: CN102169284A
Application number: CN 201010115678
Authority: CN
Inventors: 赵冬生
Original assignee: QINGYI PRECISION MASKMAKING (SHENZHEN) CO Ltd
Current assignee: QINGYI PRECISION MASKMAKING (SHENZHEN) CO Ltd
Priority date: 2010-02-26
Filing date: 2010-02-26
Publication date: 2011-08-31

Abstract

本发明适用于光掩模版制作前对铬版的检测，提供了一种铬版的检查方法，本检查方法通过目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置，所述玻璃基板朝向检查者，接着确认所述缺陷的具体位置，最后于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响，不需采用专用检测设备对整个玻璃基板进行面扫描，检查成本低且有效。

Description

一种铬版的检查方法

技术领域

本发明属于光掩模版制作前的检测，尤其涉及一种铬版的检查方法。

背景技术

光掩模版(Photo Mask)也称光罩或MASK。是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影、蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作客户需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作光掩膜版所使用的原材料——铬版，其是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上铬-氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版。经过曝光、显影、蚀刻、脱膜等工序，最终在玻璃基板上将铬膜层制作成客户需要的图形。

玻璃基板(Substrate)是用相应尺寸的玻璃基板研磨而成，制作过程中玻璃表面不可避免地会产生一些划伤、顶伤等玻璃缺陷。由于玻璃缺陷对光线的折射和反射作用，导致光线不能正常透过。尤其是与铬层接触的玻璃面上的玻璃缺陷，在光掩膜版使用时(曝光时)，由于光线的聚焦作用，其会与铬层图形一样产生遮光的效果，从而在制作的产品上产生对应缺陷。

防止铬层接触面玻璃缺陷对产品的影响，目前有如下二种方法：

1、加强玻璃基板研磨后的检查力度。有缺陷的玻璃基板直接进行报费，或重新研磨。此方法的优点是从源头进行控制，杜绝了后续问题的产生。缺点是1)如用肉眼检查，由于玻璃是透明的，检验难度大，且漏检情况较多。2)如用设备检验，专业检测设备过于昂贵，会增加此段的生产成本。

2、在镀铬涂胶后，对铬膜从光刻胶面进行检查。由于关注的是铬层接触面的玻璃缺陷，故在镀铬后，通过检查铬膜的异常情况，以发现是否有相应的玻璃缺陷。此方法的优点是如有较大的玻璃缺陷，可以在曝光前发现，减少生产的浪费。但相应缺点是1)镀铬涂胶后，由于金属铬层不透明，只有较大的玻璃缺陷(30um以上)才能通过铬层反映出来，较小玻璃缺陷很难找到和判定。2)由于光刻胶易感光的性质，肉眼检查时，不能辅助以亮度过强的光线进行检查，很难发现相应缺陷。3)即使用专业的光学检查设备，由于铬层的阻挡，也很难发现其下边较小的玻璃缺陷。同时专业检测设备过于昂贵，会增加此段的生产成本。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种成本低且有效的铬版的检查方法。

本发明实施例是这样实现的，一种铬版的检查方法，包括以下步骤：

目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置，所述玻璃基板朝向检查者；

确认所述缺陷的具体位置；

于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响。

本发明实施例提供的铬版的检查方法通过目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置，所述玻璃基板朝向检查者，然后确认所述缺陷的具体位置，于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响。本方法不需采用专用检测设备对整个玻璃基板进行面扫描，检查成本低且有效。

附图说明

图1是本发明实施例提供的铬版的检查方法的流程图；

图2是本发明实施例提供的铬版的各类缺陷分布示意图；

图3是本发明实施例提供的铬版的第三类缺陷于客户图形分布示意图；

图4是本发明实施例提供的铬版的第一缺陷点的放大图；

图5是本发明实施例提供的铬版的第三缺陷点的放大图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例提供的铬版的检查方法通过目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置，所述玻璃基板朝向检查者，接着确认所述缺陷的具体位置，最后于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响，本方法不需采用专用检测设备对整个玻璃基板进行面扫描，检查成本低且有效。

一种铬版的检查方法，包括以下步骤：

确认所述缺陷的具体位置；

图1示出了本发明实施例提供的铬版的检查方法的实现流程，详述如下：

步骤101，目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置，所述玻璃基板朝向检查者，具体为：玻璃基板朝向检查者，由检查者目视查找所述铬版中的玻璃基板位于铬层面附近的缺陷，标识出铬层面附近的缺陷的大概位置。

玻璃基板朝向检查者，将铬版倾斜置于铬版放置架。安装高亮度射灯使其光线倾斜入射至玻璃基板。由于铬层具有致密结构和均匀性，其表面会形成一个均匀、清晰的镜面，铬层同时阻止高亮度光线透过，保护光刻胶。因为散射，位于玻璃基板的异物或缺陷会形成与其尺寸相当的亮点，同时该亮点由于镜面作用，会产生与之对称的像点。

如图2所示，将铬版中的玻璃基板的缺陷分成三类，第一类缺陷为位于玻璃基板表面的异物或缺陷A，其通过铬层镜面的反射作用，在射灯照射下会产生A和A`两个亮点。第二类缺陷为为位于玻璃基板内的杂质或气泡等缺陷B，其通过铬层镜面的反射作用，在射灯照射下也会产生B和B`两个亮点。第三类缺陷为位于铬层面附近的缺陷C，在射灯照射下虽然会产生C和C`两个亮点，但C和C`两个亮点间的距离很小，肉眼难以分辨，可以看成是一个亮点。第三类缺陷为所要查找的铬层面附近的缺陷，在玻璃基板表面对第三类缺陷做标识。

以上检查方式通过目视检出缺陷并由缺陷物像间的距离确认缺陷的大概位置，此方法具有以下几点好处：1、采用高亮度射灯，于玻璃基板表面进行目视检查，既防止光刻胶曝光，又提高缺陷检出率；2、仅需铬版放置架和高亮度射灯，不需采用昂贵的检查设备对整个玻璃基板进行面扫描；3、查找方法简单、明确，相关影响因素较少。

步骤102，确认所述缺陷的具体位置，具体为：使用机械平台以及安装于机械平台的显微镜进行确认，由机械平台驱动显微镜至铬层面附近的缺陷，将显微镜的焦平面调整至铬层面，以铬版的边缘为坐标轴，用坐标表示铬层面附近的缺陷的具体位置。

玻璃基板朝上将铬版置于安装有显微镜的机械平台，由机械平台驱动显微镜快速至第三类缺陷的大概位置，将显微镜的焦平面调整至铬层面，同时以铬版的边缘为坐标轴，设定坐标系，将第三类缺陷的具体位置用坐标表示出来。本实施例中显微镜优选为光学长焦显微镜，玻璃基板较厚(约为10mm)，采用长焦镜头可以防止镜头碰触玻璃基板。显微镜具有一用于确认其镜头的具体位置的定位装置(如光栅尺)，由此确认第三类缺陷的具体位置。

本领域的普通技术人员可以理解，实现上述实施例方法中的全部或部分步骤可以通过程序来指令相关的硬件完成，该程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，如ROM/RAM、磁盘、光盘等。

此外，本步骤在确认缺陷具体位置的同时确认缺陷的尺寸，以便在下一步骤中确认是否对客户图形产生影响。

步骤103，于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响，具体为：将所述缺陷的具体位置和尺寸表示在客户图形中，放大位于客户图形内的缺陷，确认该缺陷对客户图形的影响程度。

将第三类缺陷在铬版的具体位置及尺寸表示在客户图形中，确认第三类缺陷是否对客户图形产生影响及其影响程度。以下举例说明第三类缺陷对客户图形的影响，如图3所示，可以发现，第二缺陷点2位于客户图形之外，不影响后期制作光掩模版。第一缺陷点1和第三缺陷点3均位于客户图形内，但两者情况有所不同：将第一缺陷点1放大后，如图4所示，可知此玻璃缺陷在客户图形制作后，位于铬层下面，为不透光区域。曝光时第一缺陷点1不影响光线从玻璃基板通过，第一缺陷点1为可以接受的缺陷点；将第三缺陷点3点放大后，如图5所示，可知此玻璃缺陷在客户图形制作后，一部分被铬层覆盖，另一部分将位于玻璃基板表面，曝光时第三缺陷点3会对光线造成阻挡，影响曝光效果，将对客户产品产生影响。此时，需根据缺陷的大小，分析第三缺陷点3对客户图形的影响程度。如果第三缺陷点3较大时，则该铬版与客户图形不匹配，需更换铬版，直至挑选到与客户图形匹配的铬版。

当然，此步骤中还可将第三缺陷点3在铬版的具体位置及其尺寸以检测图形的形式表示出来，将检测图形与客户图形套合，套合后的图形如图3所示，接下来确认缺陷影响的方法同上。

通过以上三个步骤，以较低的检查成本、有效地在光掩膜制作前，分析缺陷对客户图形产生的影响，使铬版与客户图形相匹配，减少光掩膜版制作的报废，提高铬版的利用率，降低生产成本，提高效益。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种铬版的检查方法，其特征在于，所述检查方法包括以下步骤：

确认所述缺陷的具体位置；

2.如权利要求1所述的铬版的检查方法，其特征在于，所述目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷，确定所述缺陷的大概位置的步骤具体为：

目视查找所述铬版中的玻璃基板位于铬层面附近的缺陷，标识出铬层面附近的缺陷的大概位置。

3.如权利要求2所述的铬版的检查方法，其特征在于，所述目视查找所述铬版中的玻璃基板的缺陷的步骤具体为：

使用铬版放置架及高亮度射灯对缺陷进行查找，将铬版倾斜置于铬版放置架，高亮度射灯的光线倾斜入射至玻璃基板。

4.如权利要求2所述的铬版的检查方法，其特征在于，所述确认所述缺陷的具体位置的步骤具体为：

以铬版边缘为坐标轴，用坐标表示铬层面附近的缺陷的具体位置。

5.如权利要求4所述的铬版的检查方法，其特征在于，在执行所述确认所述缺陷的具体位置的步骤时，同时确认所述缺陷的尺寸。

6.如权利要求4所述的铬版的检查方法，其特征在于，所述确认所述缺陷的具体位置的步骤具体为：

使用机械平台以及安装于机械平台的显微镜进行确认，由机械平台驱动显微镜至铬层面附近的缺陷，将显微镜的焦平面调整至铬层面，以铬版的边缘为坐标轴，用坐标表示铬层面附近的缺陷的具体位置。

7.如权利要求1所述的铬版的检查方法，其特征在于，所述于客户图形中表示所述缺陷，确认所述缺陷对客户图形的影响的步骤具体为：

将所述缺陷的具体位置和尺寸表示在客户图形中，放大位于客户图形内的缺陷，确认该缺陷对客户图形的影响程度。

8.如权利要求5所述的铬版的检查方法，其特征在于，用检测图形表示位于铬层面附近的缺陷在铬版的具体位置及其尺寸，将检测图形与客户图形套合，放大位于客户图形内的缺陷，确认该缺陷对客户图形的影响程度。