CN102162112A - 用于电镀金的无氰镀金液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于电镀金的无氰镀金液及制备方法。无氰镀金液由下列物质组成:柠檬酸金钾15~18g/L、腾扑克斯9500(Temperex9500)开缸剂100L。将开缸剂加热至65℃,边搅拌边加入柠檬酸金钾,搅拌至完全溶解得到镀液;镀液并降温至25℃,测定pH值,pH值大于5.2时,加入酸性调整剂调整,pH值小于4.8时,加入氨水调整,调整pH值至4.8~5.2即得无氰镀金液。本发明实现无氰电镀,工艺的可操作性及镀层质量达到有氰电镀的水平,且有利于环境保护,减轻对操作人员的伤害。
Description
技术领域
本发明属于电镀金工艺领域,具体涉及用于电镀金的无氰镀液。
背景技术
金镀层由于具有良好的导电性和耐蚀性在电子行业广泛应用,但是,目前镀金工艺仍是以含氰电镀为主,由于氰化物剧毒,对工人健康和环境保护方面存在威胁。原国家经贸委2002 年6 月2 日发布的第32 号令,将“含氰电镀”列入《淘汰落后生产能力、工艺和产品的目录》(第三批) 第23 项,限令2003 年底淘汰。2003 年12 月26 日,国家发改委公布产业结构调整指导目录(征求意见稿) ,“含氰电镀”位列“淘汰类”第182 项。 国家科学技术部将“绿色制造关键技术与装备”相关课题列为“十一五”国家科技支撑计划重大项目。国内外电镀工作者对无氰电镀开展了大量的研究工作,也开发了一些无氰镀金工艺,主要溶液有亚硫酸无氰镀金溶液、硫代硫酸镀金液和亚硫酸-硫代硫酸无氰镀金液等,其中亚硫酸盐镀金应用最为广泛。亚硫酸盐镀金具有溶液无毒、镀液分散能力和深镀能力好,电流效率高,镀液忍受其他金属杂质的能力高等优点。但与氰化镀金相比存在如下不足:①亚硫酸根在空气中很容易被氧化,镀液不稳定。②镀层物理性质差,结晶较为粗大,难以获得半导体封装要求的均匀致密的镀层。③镀层耐磨性差。④溶液配制时需要合成雷酸金,镀液成本高。鉴于无氰镀金仍然存在众多不足,国内外大多数电镀厂家仍采用氰化镀金工艺,电镀专业药剂供应商提供的也是氰化镀金产品,通常做法是以氰化亚金钾为主盐,配专用无氰开缸剂。
发明内容
为了解决现有无氰镀金工艺存在的上述不足,本发明利用有氰镀金的开缸剂与无氰金盐进行配型,提供一种新的用于电镀金的无氰镀金液。
实现上述目的的技术解决方案如下:
用于电镀金的无氰镀金液由下列物质组成:
柠檬酸金钾15~18g/L、开缸剂100L,
所述开缸剂为腾扑克斯9500(Temperex 9500);
将100L开缸剂加热至65℃,边搅拌边加入1500~1800g柠檬酸金钾,搅拌至完全溶解得到镀液;用烧杯取500ml镀液并降温至25℃,测定PH值,当pH值大于5.2时,加入酸性调整剂艾丝得9500(ACID 9500)调整,当pH值小于4.8时,加入氨水调整,调整pH值至4.8~5.2。
本发明利用有氰镀金的开缸剂与无氰金盐进行配型,形成一种新的无氰镀金配方,主要成份为腾扑克斯9500(Temperex 9500)和 金盐。其中腾扑克斯9500(Temperex 9500)为市场公开销售的氰化镀金的专用开缸剂;金盐为柠檬酸金钾,由三门峡恒生科技研发有限公司合成。本发明实现无氰电镀,工艺的可操作性及镀层质量达到有氰电镀的水平,且有利于环境保护,减轻对操作人员的伤害。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步地描述。
实施例:
以无氰镀金为例:铜零件镀镍金(Au 2μm)。
工艺流程:
除无氰镀金工序外,其余的工序及工艺条件与常规电镀相同,相关配方和参数如下:
化学除油工艺条件如下:
氢氧化钠 12g/L
无水碳酸钠 25/L
磷酸钠 60/L
表面活性剂 1ml/L
温度 90℃
时间 15min。
电解除油工艺条件如下:
氢氧化钠 12g/L
无水碳酸钠 12g/L
磷酸钠 15g/L
表面活性剂 1ml/L
温度 70℃
电压 9V
阴极电流密度(DK) 4A/dm2
时间 2min。
酸洗工艺条件如下:
盐酸 150ml/L
温度 室温
时间 8s。
电镀镍工艺条件如下:
硫酸镍(NiSO4.7H2O) 180g/L
硫酸钠(Na2SO4.10H2O) 60g/L
硫酸镁(MgSO4.7H2O) 40g/L
硼酸(H3BO3 ) 40g/L
氯化镍(NiCl2.6H2O) 50g/L
pH值 5.4
阴极电流密度(DK) 0.8A/dm2
温度 25℃
时间 20min。
电镀金工艺条件如下:
柠檬酸金钾 17g/L
开缸液:腾扑克斯9500(Temperex 9500) 100L
pH值 5.0
温度 60℃
阳极 铂钛网
Dk 0.5A/dm2
时间 15min
水洗1~水洗7均为自来水,干燥为热风吹干或烘干。
无氰镀金液的制备:
将100L开缸剂腾扑克斯9500(Temperex 9500)加热至65℃,边搅拌边加入1700g柠檬酸金钾,搅拌至完全溶解得到镀液;用烧杯取500ml镀液并降温至25℃,测定PH值, pH值高于5.2时,加入酸性调整剂艾丝得9500(ACID 9500)调整,pH值低于4.8时,加入氨水调整,调整pH值至5.0即得到无氰镀金液。
电镀金装置:与常规电镀相同,包括电镀槽、加热管、阴极杠、阳极杠、阳极板、直流电源,其中电镀槽用PP板或PVC板,加热采用聚四氟乙烯包裹电加热管,阴极和阳极杠用钛包铜管。
电镀金过程:将无氰镀金液加温至60℃,将清洗干净的工件作为阴极,用导电铜丝连接,挂到阴极杠上,工件浸没到溶液中。阳极板用铂钛网(或金板),用导电铜丝连接,挂到阳极杠上。给阴、阳极之间施加电压,调节电压使阴极电流密度在0.5 A/dm2(阴极电流密度=阴极总电流除以工件面积),根据镀层厚度确定电镀时间,电镀完毕用去离子水将工件清洗干净,热风吹干,工件上即可获得所需要的金镀层。
镀层质量测试
对镀层的结合力、可焊性、金丝键合性、耐蚀性进行了测试,结果如下:
1) 镀层结合力试验
按GJB1941中4.6.3.3条进行烘烤试验:工件镀金后在190±10℃保持1h,取出后借助4倍放大镜观察,镀层无起皮、脱落现象;
2) 镀层可焊性试验
本测试按照GJB 548B微电子器件测试方法和程序中方法(2003.1——可焊性),对氰化镀金和无氰镀金层进行可焊性测试。具体试验方方法为:采用两种直径的铜丝(φ0.5mm和φ1mm),分别进行无氰镀金和氰化镀金,然后进行浸锡实验。
其操作步骤和判定标准为:将锡槽的温度设定并控制在(245 ± 10) °C,待锡槽内焊锡全部熔化后将熔融焊料表面刮得清洁光亮,将待检测的镀金铜丝浸入槽内,浸没深度为13mm。在焊料中停留(5 ~7)s,然后以25 mm/s 的速度取出检查,根据镀金层浸入表面被焊料浸润的情况进行评定。
用做测试的无氰电镀工艺同上面的“实施例”
作为对比的氰化镀金工艺条件如下:
Au (以氰化亚金钾的形式加入) 8g/L
开缸剂(Temperex 9500) 100%
温度 60℃
pH值 4.8
阴极电流密度(Dk) 0.5 A/dm2
阳极 铂钛网;
结果表明,无氰镀金可焊性良好,两种直径的无氰镀金铜丝浸润试验均未出现不良缺陷,且与有氰镀金层可焊性相当。
3)镀层金丝键合试验
本测试按照GJB 548B微电子器件测试方法和程序中方法中2011.1——键合强度(破坏性键合拉力实验)的条款,对氰化镀金和无氰镀金层进行测试。具体试验方法:
采用自动键合设备在氰化和无氰镀金层上压焊25μ金丝,随后进行破坏性键合强度测试,测试设备为West Bond 70PTE拉力测试仪。当出现失效时,记录引起失效的力的大小和失效类别,并用测量显微镜观察金丝断裂模式。键合设备为6400型全自动压焊机,键合参数如下:
预热温度:110℃
键合压力:16g,20g(第一点,第二点)
超声功率:60W,55W
超声时间:30ms,30ms
测试样板为25mm×25mm的镀金板,具体步骤为:将测试样板划分为16个区域,16个区域编号为11、12、13、14、21、22、23、24、31、32、33、34、41、42、43、44,在16个区域进行自动金丝压焊,每个区域键合10根金丝,测量键合强度,观察断裂模式。
测试数据见表1 。
表1 镀金层键合强度
结果表明无氰镀金层的表面键合质量与氰化镀金层的相当,无氰镀金层的键合强度在8g以上,满足微电子器件金丝键合要求。
4)镀层耐蚀性试验
按GJB150.11《军用设备环境试验方法》进行中性盐雾试验,试验时间96小时。试验样板为 Cu镀镍5μm +金2μm,数量3件。经历96小时盐雾试验后,未出现腐蚀点,符合要求。
Claims (1)
1. 用于电镀金的无氰镀金液及制备方法,其特征在于所述用于电镀金的无氰镀金液由下列物质组成:
柠檬酸金钾15~18g/L、开缸剂100L,
所述开缸剂为腾扑克斯9500;
将100L开缸剂加热至65℃,边搅拌边加入1500~1800g柠檬酸金钾,搅拌至完全溶解得到镀液;用烧杯取500ml镀液并降温至25℃,测定PH值,当pH值大于5.2时,加入酸性调整剂艾丝得9500调整,当pH值小于4.8时,加入氨水调整,调整pH值至4.8~5.2。
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