CN102109624A

CN102109624A - 一种光扩散膜及其制备方法

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Publication number: CN102109624A
Application number: CN2009102543980A
Authority: CN
Inventors: 雷新宪; 穆朋亮
Original assignee: BYD Co Ltd
Current assignee: BYD Co Ltd
Priority date: 2009-12-28
Filing date: 2009-12-28
Publication date: 2011-06-29
Anticipated expiration: 2029-12-28
Also published as: CN102109624B

Abstract

本发明提供了一种光扩散膜，该光扩散膜包括依次叠合的透明基片、第一扩散层和第二扩散层，第一扩散层由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，第二扩散层包覆在第一扩散层上；本发明还提供了一种光扩散膜的制备方法，该方法包括在透明基片的一个表面上依次形成第一扩散层和第二扩散层，第一扩散层由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，且通过自组装成膜的方法形成，第二扩散层包覆在第一扩散层上。本发明提供的所述光扩散膜能够表现出很好的光扩散性能，而且，采用本发明提供的所述制备光扩散膜的方法能够制得光扩散层厚度小于10微米，且具有能够显著改善其光扩散性能的光扩散膜。

Description

一种光扩散膜及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种光扩散膜，以及该光扩散膜的制备方法。

背景技术

通常液晶显示装置包括显示面板和背光模组两大部分，而扩散膜是应用在背光模组中的重要元件，所述光扩散膜的作用是将点光源或线光源扩散成均匀的面光源，使液晶面板达到亮度均匀的显示效果。

现今，液晶显示装置已被广泛应用于笔记本电脑、数码相机、液晶电视、移动电话、GPS等电子产品中，随着电子科技的日益进步，液晶显示装置逐步向轻薄化、低能耗、环保等方向发展，并逐渐取代了传统的阴极射线显示器。尤其是大屏幕液晶电视的蓬勃发展，使液晶显示器薄型化成为潮流，这就给背光模组提出了苛刻的要求，要求背光元件向薄型化发展，作为背光模组重要元件的传统光扩散膜面临着巨大挑战。

通常情况下，所述光扩散膜包括基片和光扩散层，因此，要减小所述光扩散膜的厚度，可以从减小基片的厚度和光扩散层的厚度这两个方面着手。然而，通过减小基片的厚度来减小光扩散膜的厚度往往是不可取的，因为基片的厚度有最小极限值，当所述基片的厚度小于该最小极限值时，所制得的光扩散膜容易发生卷曲，从而造成使用不便。因此，通过减小光扩散层的厚度来减小光扩散膜的厚度是使光扩散膜薄型化的研发重点。

CN1453596A中公开了一种光扩散膜，该光扩散膜具有：透明的基材层，在基材层表面重叠有光扩散层；而该光扩散层的黏结剂中含有光扩散剂；而该黏结剂是由含多元醇与微小无机填充物以及光稳定剂的聚合物组成物所构成，且具有50℃以上80℃以下的玻璃移转温度，该微小无机填充剂的平均粒子直径为5nm以上50nm以下。

虽然上述专利申请的光扩散膜中的光扩散层的厚度可以缩小至10-30微米，且所述光扩散膜具有很好的耐热性和耐擦伤性能，然而，所述光扩散膜的光扩散性能却没有得到很好的改善。

发明内容

本发明为了克服现有的光扩散膜的光扩散性能不好的缺陷，提供了一种具有很好的光扩散性能的光扩散膜。

本发明的另一个目的是提供一种光扩散膜的制备方法。

本发明提供了一种光扩散膜，该光扩散膜包括依次叠合的透明基片、第一扩散层和第二扩散层，所述第一扩散层由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，所述第二扩散层包覆在所述第一扩散层上。

本发明还提供了一种光扩散膜的制备方法，该方法包括在透明基片的一个表面上依次形成第一扩散层和第二扩散层，所述第一扩散层由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，且通过自组装成膜的方法形成，所述第二扩散层包覆在所述第一扩散层上。

在本发明提供的所述光扩散膜中，不仅所述第一扩散层中的球形扩散粒子能够起到很好的光扩散效果，而且所述第二扩散层包覆在与所述第二扩散层接触的球形扩散颗粒的上半球面上，形成由多个类似凹透镜结构的球冠体并排形成的薄膜，从而对经过所述球形扩散粒子扩散后的光线进一步扩散，使得所述点光源或线光源能够稳定得扩散成均匀的面光源，因此，具有很好的光扩散效果。

通过实验检测得知，本发明提供的所述光扩散膜的光透过率可以高达93％以上，雾度可以高达90％以上，因此，表现出很好的光扩散性能。而且，采用本发明提供的所述制备光扩散膜的方法能够制得光扩散层厚度小于10微米，且具有能够显著改善其光扩散性能的光扩散膜。

附图说明

图1表示根据本发明提供的光扩散膜的侧视图；

图2表示根据本发明的一种优选实施的光扩散膜的侧视图。

具体实施方式

如图1所示，本发明提供的光扩散膜包括依次叠合的透明基片1、第一扩散层2和第二扩散层3，所述第一扩散层2由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，所述第二扩散层3包覆在所述第一扩散层2上。

在所述光扩散膜中，所述球形扩散粒子可以为能够起光扩散作用的各种球形有机颗粒或球形无机颗粒，为了进一步提高所述光扩散膜的光扩散性能，所述球形扩散粒子优选为选自聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒和二氧化硅颗粒中的至少一种，进一步优选为二氧化硅颗粒、聚甲基丙烯酸酯颗粒和聚硅氧烷颗粒中的至少一种。所述球形扩散粒子的颗粒直径只要在0.1-5微米的范围内即可，然而，为了使所述光扩散膜获得更好的光扩散性能，所述球形扩散粒子的颗粒直径进一步优选为0.1-3微米。

在本发明中，所述第一扩散层可以为由单层、多层或者局部多层的球形扩散粒子形成的薄膜，优选情况下，所述第一扩散层为单层，从而不仅能够保证所述光扩散膜具有稳定的光扩散性能，而且能够显著降低所述光扩散膜的厚度。

在本发明中，所述第二扩散层3可以通过磁控溅射镀膜法而形成。在形成所述第二扩散层3的过程中，通过磁控溅射镀膜法在所述第一扩散层2的表面上形成一层镀膜。在优选情况下，在所述第一扩散层2中，球形扩散粒子的最大颗粒直径与球形扩散粒子的最小颗粒直径之差为0.01-0.5微米。在该优选情况下，所述第二扩散层3近似包覆在与所述第二扩散层接触的球形扩散粒子的上半球面上，从而能够形成由多个类似凹透镜结构的球冠体并排形成的薄膜。

在本发明中，形成所述第二扩散层3的材料没有特别的限定，只要能够在与所述第二扩散层接触的球形扩散粒子的球面上形成平整的膜层，并能够对通过所述球形扩散粒子的光起进一步的扩散作用即可，通常情况下，所述第二扩散层3可以由金属、金属氧化物和金属氟化物中的至少一种材料形成，具体的，所述金属可以为选自金、银、铜、铝、铬、铂、锡、钨、锗、铌、钒、锆、锌、镍、钆、钽、钛和铱中的至少一种；所述金属氧化物可以为选自氧化镁、氧化锡、三氧化钨、氧化钐、氧化钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜、二氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、三氧化二钪、三氧化二铟、二钛酸镨和二氧化铈中的至少一种；所述金属氟化物可以为选自氟化镁、氟化镱、氟化钇、氟化镝、氟化钕、氟化铒、氟化钾、氟化锶、氟化钐、氟化钠、氟化钡和氟化铈中的至少一种。在本发明中，所述第二扩散层3可以是连续的或不连续的，也即所述第一扩散层中的球形扩散粒子之间的间隙可以被所述第二扩散膜完全填充，也可以被所述第二扩散层不完全填充。

在所述光扩散膜中，所述透明基片1可以为本领域常规使用的各种塑料基片，例如，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚醚酯、聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。

在所述光扩散膜中，所述透明基片1、第一扩散层2和第二扩散层3的厚度均没有特别的限定，可以根据实际产品的需要进行调节。在实际生产过程中，考虑到所述光扩散膜的厚度，同时为了保证所述光扩散膜具有很好的光扩散性能，所述透明基片1的厚度可以为10-300微米，优选为10-100微米；所述第一扩散层2的厚度可以为0.1-10微米，优选为0.1-5微米；所述第二扩散层3的厚度可以为0.1-5微米，优选为0.1-3微米。进一步优选的情况下，所述第一扩散层2与第二扩散层3的总厚度为0.2-12微米。在本发明中，所述第一扩散层的厚度是指所述第一扩散层2的最高点到所述透明基片1与所述第一扩散层接触的表面的距离；所述第二扩散层的厚度是指所述第二扩散层的最高点到所述第一扩散层的最高点的距离。

在本发明的一种优选实施方式中，如图2所示，所述光扩散膜还可以包括保护层4，所述保护层4覆盖在所述第二扩散层3上，所述保护层4可以由透明的树脂材料形成，所述保护层4的厚度可以为0.1-100微米，优选为0.1-20微米，进一步优选为0.1-5微米。所述透明的树脂材料可以为选自醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂、胺基树脂、丙烯树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚酯中的至少一种。

本发明还提供了一种光扩散膜的制备方法，该方法包括在透明基片1的一个表面上依次形成第一扩散层2和第二扩散层3，所述第一扩散层2由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，且通过自组装成膜的方法形成，所述第二扩散层3包覆在所述第一扩散层2上。

根据本发明提供的所述方法，为了进一步减小最终制得的光扩散膜中光扩散层的厚度，进而达到减小所述光扩散膜的厚度的效果，所述自组装成膜的方法优选包括：

(a)将所述球形扩散粒子制成胶体，并使所述胶体扩散成膜；

(b)使所述透明基片1放置在装有水的容器的底部，并将所述胶体形成的膜转移到所述容器中；

(c)从所述容器的底部逐渐排出所述容器中的水，使所述膜附着在所述透明基片的表面上，然后进行干燥。

在(a)中，将所述球形扩散粒子制成胶体的方法可以包括将球形扩散粒子加到无水溶剂如无水乙醇中，然后进行超声分散，从而使所述球形扩散粒子均匀分散于所述无水溶剂中，并形成胶体。所述超声分散的时间可以为15-60分钟，所述胶体中所述球形扩散粒子的含量可以为5-15重量％。

在(a)中，使所述胶体扩散成膜的方法可以包括将所述球形扩散粒子形成的所述胶体滴在表面平整的薄片上，然后放置10-60秒，所述胶体即可在所述薄片上形成胶体膜。在本发明中，所述胶体膜形成的厚度使得其能够浮在水平面上，具体的，所述胶体膜的厚度可以为0.1-20微米。所述薄片在本发明中没有限定，可以为玻璃片，也可以为由塑料制成的薄片。在优选情况下，在所述薄片上进行成膜之前，对所述薄片进行清洗，所述清洗的方法没有特别的限定，可以采用本领域常规的方法进行实施，例如可以为超声清洗。

在采用上述方法使所述胶体扩散成膜的情况下，在(b)中，将所述胶体形成的膜转移到所述容器中的方法可以包括将表面上形成有胶体膜的所述薄片以一定的倾斜角浸入所述装有水的容器中，在水的表面张力和胶体粒子的疏水性的作用下，所述薄片上的胶体膜转移到所述容器中的水中，并在水面上充分展开。在本发明中，所述倾斜角可以为15-75°，然而，为了进一步保证所述胶体膜转移到所述容器中的水中之后能够均匀分布在所述水面上，所述倾斜角优选为40-60°。

在本发明提供的所述方法中，在将所述透明基片放置在装有水的容器的底部之前，优选对所述透明基片进行电晕处理，从而提高所述球形扩散粒子在所述透明基片表面上的粘附效果，并且能够提高所述球形扩散粒子在所述透明基片表面上成膜的成功机率。对所述透明基片进行电晕处理的方法已为本领域技术人员所熟知，在此不再详细描述。

在(c)中，为了进一步提高所述胶体膜附着在所述透明基片上的成功机率，并且保证附着在所述透明基片上的胶体膜分布均匀，从所述容器的底部排水的速度优选使所述容器中的水每分钟下降1-100毫米，进一步优选为5-20毫米。

采用上述方法在所述透明基片上形成的第一扩散层可以为由单层、多层或者局部多层的球形扩散粒子形成的薄膜，优选情况下，所述第一扩散层为单层，从而不仅能够保证所述光扩散膜具有稳定的光扩散性能，而且能够显著降低所述光扩散膜的厚度。在本发明提供的所述方法中，采用上述方法形成的所述第一扩散层的厚度可以为0.1-10微米，甚至也可以为0.1-5微米。在本发明中，所述球形扩散粒子可以为能够起光扩散作用的各种球形有机颗粒或球形无机颗粒，为了进一步提高最终制得的光扩散膜的光扩散性能，所述球形扩散粒子优选为选自聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒和二氧化硅颗粒中的至少一种，进一步优选为二氧化硅颗粒、聚甲基丙烯酸酯颗粒和聚硅氧烷颗粒中的至少一种。所述球形扩散粒子的颗粒直径只要在0.1-5微米的范围内即可，然而，为了使所述光扩散膜获得更好的光扩散性能，所述球形扩散粒子的颗粒直径进一步优选为0.1-3微米。另外，在形成的所述第一扩散层中，所述球形扩散粒子的最大颗粒直径与球形扩散粒子的最小颗粒直径之差优选为0.01-0.5微米。在该优选情况下，所述第二扩散层3近似包覆在与所述第二扩散层接触的球形扩散粒子的上半球面上，从而能够形成由多个类似凹透镜结构的球冠体并排形成的薄膜。

在本发明中，形成所述第二扩散层3的材料没有特别的限定，只要能够在与所述第二扩散层接触的球形扩散粒子的球面上形成平整的膜层，并能够对通过所述球形扩散粒子的光起进一步的扩散作用即可，通常情况下，所述第二扩散层3可以由金属、金属氧化物和金属氟化物中的至少一种材料形成，具体的，所述金属可以为选自金、银、铜、铝、铬、铂、锡、钨、锗、铌、钒、锆、锌、镍、钆、钽、钛和铱中的至少一种；所述金属氧化物可以为选自氧化镁、氧化锡、三氧化钨、氧化钐、氧化钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜、二氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、三氧化二钪、三氧化二铟、二钛酸镨和二氧化铈中的至少一种；所述金属氟化物可以为选自氟化镁、氟化镱、氟化钇、氟化镝、氟化钕、氟化铒、氟化钾、氟化锶、氟化钐、氟化钠、氟化钡和氟化铈中的至少一种。

根据本发明提供的所述方法，形成所述第二扩散层3的方法没有特别的限定，优选情况下，形成所述第二扩散层3的方法为磁控溅射镀膜法，采用该方法能够在与所述第一扩散层接触的球形扩散粒子的上半球面上形成均匀且厚度很薄的镀覆层(即第二扩散层)。如此形成的所述第二扩散层3可以是连续的或不连续的，也即所述第一扩散层中的球形扩散粒子之间的间隙可以被所述第二扩散膜完全填充，也可以被所述第二扩散层不完全填充。在本发明中，所述第二扩散层3的厚度可以为0.1-5微米，优选为0.1-3微米。具体的，所述磁控溅射镀膜法的实施方法和条件已为本领域技术人员所熟知，在此不再作详细描述。

所述透明基片1可以为本领域常规使用的各种塑料基片，例如，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚醚酯、聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。所述透明基片1的厚度可以为10-300微米，优选为10-100微米。

在本发明中，根据本发明提供的所述方法所形成的第一扩散层和第二扩散层的总厚度可以为0.2-15微米，甚至可以为小于10微米，例如可以为0.2-8微米。

在本发明的一种优选实施方式中，所述方法还可以包括在所述第二扩散层3上形成保护层4，所述保护层4由透明的树脂材料形成。所述透明的树脂材料可以为选自醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂、胺基树脂、丙烯树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚酯中的至少一种。

在所述透明的树脂材料选自胺基树脂、醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂和丙烯树脂中的至少一种的情况下，在所述第二扩散层3上形成所述保护层4的方法可以采用涂布法进行实施，具体的，所述涂布法可以包括将所述透明的树脂材料的树脂浆液涂布在所述第二扩散层3上。如此形成的所述保护层4的厚度可以为0.1-80微米，优选为0.1-20微米，进一步优选为0.1-5微米。

在所述透明的树脂材料选自聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚酯中的至少一种的情况下，在所述第二扩散层3上形成所述保护层4的方法可以采用贴膜法进行实施，具体的，所述贴膜法可以包括将由所述透明的树脂材料形成的薄膜直接贴附在所述第二扩散层3上，所述贴附的过程中所采用的粘合剂可以为聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、醋酸乙烯树脂、酚醛树脂、氰基丙烯酸酯和不饱和聚酯树脂中的至少一种。如此形成的所述保护层4的厚度可以为0.5-100微米，优选为0.5-20微米，进一步优选为0.5-5微米。

以下通过实施例对本发明作进一步详细的说明。

实施例1

本实施例用于说明本发明提供的所述光扩散膜及其制备方法。

(1)形成第一扩散层

a、将由聚对苯二甲酸乙二醇酯(购自日本东丽，型号T60)形成的厚度为30微米的透明基材进行电晕处理，然后裁切成80毫米×80毫米的透明基片；

b、用500毫升的烧杯(底部设置有水闸门)装满纯净水，然后将步骤a中裁切好的透明基片浸入烧杯的底部；

c、将玻璃薄片超声清洗，然后在100℃下干燥30min；

d、将平均颗粒直径为1微米的球形二氧化硅颗粒(最大颗粒直径与最小颗粒直径之差为1微米)加到无水乙醇中，然后在超声波清洗器中超声分散30分钟，从而制成胶体，其中二氧化硅的含量为10重量％；

e、将步骤d中制得的胶体滴在经过步骤c中处理后得到的玻璃薄片上，放置30秒后所述胶体在玻璃薄片上扩散成膜；

f、将步骤e中覆有胶体膜的玻璃薄片以45°角慢慢浸入所述烧杯中的水中，使所述玻璃薄片上的胶体膜转移到水中，并在水面上形成均匀的膜；

g、打开所述烧杯底部的闸门，使所述烧杯内的水面以每分钟下降10毫米的速度将水放出，使水面上的膜附着在所述透明基片表面；

h、将附着有膜的透明基片取出干燥，从而在所述透明基片的表面上形成厚度为2微米的由球形二氧化硅颗粒形成的膜层，即第一扩散层。

(2)形成第二扩散层

将(1)中制得的形成有第一扩散层的片材固定在磁控溅射镀膜机内，以氧化镁为靶材，在电源功率为0.2千瓦，压力为1.5×10^-4帕，温度为40℃的条件下，对所述第一扩散层进行镀膜600分钟，从而形成厚度为1微米的氧化镁镀层，即第二扩散层。

(3)形成保护层

将胺基树脂(购自厦门爱可马化工原料有限公司，型号BR167)的浆液涂布在所述第二扩散层上，然后在100℃下干燥30min，从而形成厚度为1.5微米的透明树脂层，即保护层。从而得到光扩散膜A1，其中光扩散层的厚度为3微米。

实施例2

(1)形成第一扩散层

a、将由聚苯乙烯(购自南通瑞奥电子科技有限公司，型号BOPS38)形成的厚度为100微米的透明基材进行电晕处理，然后裁切成80毫米×80毫米的透明基片；

c、将玻璃薄片超声清洗，然后在100℃下干燥30min；

d、将平均颗粒直径为3微米的球形聚甲基丙烯酸酯颗粒(最大颗粒直径与最小颗粒直径之差为1.5微米)加到无水乙醇中，然后在超声波清洗器中超声分散30分钟，从而制成胶体，其中聚甲基丙烯酸酯的含量为10重量％；

e、将步骤d中制得的胶体滴在经过步骤c中处理后得到的玻璃薄片上，放置40秒后所述胶体在玻璃薄片上扩散成膜；

h、将附着有膜的透明基片取出干燥，从而在所述透明基片的表面上形成厚度为3微米的由球形聚甲基丙烯酸酯颗粒形成的膜层，即第一扩散层。

(2)形成第二扩散层

将(1)中制得的形成有第一扩散层的片材固定在磁控溅射镀膜机内，以氟化镁为靶材，在电源功率为0.15千瓦，压力为2.0×10^-4帕，温度为40℃的条件下，对所述第一扩散层进行镀膜480分钟，从而形成厚度为0.5微米的氟化镁镀层，即第二扩散层。

(3)形成保护层

使用丙烯酸酯(购自天津国窿化工有限公司，型号S811)作为粘合剂，将由聚苯乙烯(购自南通瑞奥电子科技有限公司，型号BOPS38)形成的厚度为3微米的透明树脂薄膜贴附在在所述第二扩散层上，从而形成的透明树脂薄膜层即为保护层。从而得到光扩散膜A2，其中光扩散层的厚度为3.5微米。

实施例3

(1)形成第一扩散层

a、将由聚碳酸酯(购自苏州奥美光学材料有限公司，型号G11)形成的厚度为50微米的透明基材进行电晕处理，然后裁切成80毫米×80毫米的透明基片；

c、将玻璃薄片超声清洗，然后在100℃下干燥30min；

d、将平均颗粒直径为0.2微米的球形硅氧烷颗粒(最大颗粒直径与最小颗粒直径之差为0.05微米)加到无水乙醇中，然后在超声波清洗器中超声分散30分钟，从而制成胶体，其中硅氧烷的含量为10重量％；

h、将附着有膜的透明基片取出干燥，从而在所述透明基片的表面上形成厚度为0.4微米的由球形硅氧烷颗粒形成的膜层，即第一扩散层。

(2)形成第二扩散层

将(1)中制得的形成有第一扩散层的片材固定在磁控溅射镀膜机内，以铝为靶材，在电源功率为0.1千瓦，压力为2.0×10^-5帕，温度为40℃的条件下，对所述第一扩散层进行镀膜120分钟，从而形成厚度为0.1微米的铝镀层，即第二扩散层。

(3)形成保护层

将环氧树脂(购自巴陵石化公司，型号6110)的浆液涂布在所述第二扩散层上，然后在120℃下干燥15min，从而形成厚度为1微米的透明树脂层，即保护层。从而得到光扩散膜A3，其中光扩散层的厚度为0.5微米。

实施例4-16

根据实施例1的方法制备光扩散膜，所不同的是，分别以金、银、铜、锡、镍、氧化锡、氧化锌、氧化镍、氧化锆、二氧化钛、氟化钡、氟化钇、氟化镝为靶材，在所述第一扩散层上进行磁控溅射镀膜，其中各自采用的磁控溅射镀膜的条件如下表1所示，从而分别制得光扩散膜A4-A16。

表1

	靶材	电源功率(kW)	压力(Pa)	温度(℃)	镀膜时间(min)
						实施例4	金	0.1	2.0×10^-5	40	600
实施例5	银	0.12	2.0×10^-5	40	480
						实施例6	铜	0.1	2.0×10^-5	40	500
实施例7	锡	0.1	2.0×10^-5	40	420
						实施例8	镍	0.2	2.0×10^-5	40	480
实施例9	氧化锡	0.2	1.0×10^-4	40	480
						实施例10	氧化锌	0.15	1.0×10^-4	40	500
实施例11	氧化镍	0.25	1.0×10^-4	40	480
						实施例12	氧化锆	0.25	1.0×10^-4	40	480
实施例13	二氧化钛	0.15	1.0×10^-4	40	500
						实施例14	氟化钡	0.2	1.0×10^-4	40	480
实施例15	氟化钇	0.15	1.0×10^-4	40	540
						实施例16	氟化镝	0.2	1.0×10^-4	40	480

对比例1

以聚乙烯多元醇作为基础聚合物、硬化后玻璃化转变温度为50℃的粘结剂树脂添加物(东洋纺绩(株)的Pairon)100重量份，所述粘结剂树脂添加物的组成为聚乙烯多元醇40重量份，平均粒子直径20nm的胶态硅石(扶桑化学工业(株)的PL-1)50重量份，硬化剂(日本Polyurathan(株)的CoronateHX)5重量份以及光稳定剂(大冢化学(株)的PUVA-1033)5重量份。向所述粘结剂树脂添加物中加入50份的平均粒子直径为15微米的丙烯类树脂颗粒(积水化成品工业(株)的MBX-15)，从而制成涂抹液，将该涂抹液以滚筒涂膜法涂布在厚度为100微米的透明聚乙烯基片(东洋纺绩(株)的A-4300)上，涂抹的量为15g/m²，使其硬化从而形成厚度为15微米的光扩散层，从而得到光扩散膜D1。

对比例2

根据对比例1的方法制备光扩散膜，所不同的是，所述涂抹液在所述基片上的涂抹量为8g/m²，从而得到光扩散层厚度为8微米的光扩散膜D2。

透光性和光扩散性的检测

采用透光率雾度测定仪(由上海精密科学仪器有限公司生产)对实施例1-16和对比例1-2中制得的光扩散膜的透光性和光扩散性进行检测，其测得的结果如下表2所示。

表2

	光扩散膜	光扩散层的厚度(微米)	雾度(％)	光透过率(％)
					实施例1	A1	3	96	98
实施例2	A2	3.5	90	93
					实施例3	A3	0.5	92	94
实施例4	A4	3	95	97
					实施例5	A5	3	96	98
实施例6	A6	3	96	98
					实施例7	A7	3	95	97
实施例8	A8	3	95	97
					实施例9	A9	3	96	98
实施例10	A10	3	95	97
					实施例11	A11	3	95	97
实施例12	A12	3	96	98
					实施例13	A13	3	95	97
实施例14	A14	3	95	97
					实施例15	A15	3	96	98
实施例16	A16	3	96	98
					对比例1	D1	15	71	82
对比例2	D2	8	41	57

由表2可以看出，本发明提供的所述光扩散膜具有90％以上的雾度和93％以上的光透过率，因此，具有很好的透光性和光扩散性；另外，通过将实施例和对比例的数据进行对比可以看出，采用本发明提供的制备光扩散膜的方法可以制得光扩散层很薄如3.5微米以下的光扩散膜，且所述光扩散膜具有很好的透光性和光扩散性，而现有的光扩散膜中光扩散层通常在10微米以上，然而，将现有的光扩散膜的光扩散层制成10微米以下如8微米时，该光扩散膜的透光性和光扩散性都显著降低。

Claims

1.一种光扩散膜，其特征在于，该光扩散膜包括依次叠合的透明基片(1)、第一扩散层(2)和第二扩散层(3)，所述第一扩散层(2)由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子形成，所述第二扩散层(3)包覆在所述第一扩散层(2)上。

2.根据权利要求1所述的光扩散膜，其中，所述球形扩散粒子选自聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒和二氧化硅颗粒中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的光扩散膜，其中，所述第二扩散层(3)通过磁控溅射镀膜法形成。

4.根据权利要求1或3所述的光扩散膜，其中，所述第二扩散层由金属、金属氧化物、金属氟化物中的至少一种材料形成。

5.根据权利要求4所述的光扩散膜，其中，所述金属选自金、银、铜、铝、铬、铂、锡、钨、锗、铌、钒、锆、锌、镍、钆、钽、钛和铱中的至少一种；所述金属氧化物选自氧化镁、氧化锡、三氧化钨、氧化钐、氧化钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜、二氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、三氧化二钪、三氧化二铟、二钛酸镨和二氧化铈中的至少一种；所述金属氟化物选自氟化镁、氟化镱、氟化钇、氟化镝、氟化钕、氟化铒、氟化钾、氟化锶、氟化钐、氟化钠、氟化钡和氟化铈中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的光扩散膜，其中，所述透明基片(1)为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚醚酯、聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的光扩散膜，其中，所述透明基片(1)的厚度为10-300微米，所述第一扩散层(2)的厚度为0.1-10微米，所述第二扩散层(3)的厚度为0.1-5微米。

8.根据权利要求1所述的光扩散膜，其中，所述光扩散膜还包括保护层(4)，所述保护层(4)覆盖在所述第二扩散层(3)上，所述保护层(4)由透明的树脂材料形成，所述保护层(4)的厚度为0.1-100微米。

9.根据权利要求8所述的光扩散膜，其中，所述透明的树脂材料选自醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂、胺基树脂、丙烯树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚酯中的至少一种。

10.一种光扩散膜的制备方法，其特征在于，该方法包括在透明基片(1)的一个表面上依次形成第一扩散层(2)和第二扩散层(3)，所述第一扩散层(2)由平均颗粒直径为0.1-5微米的球形扩散粒子通过自组装成膜的方法形成，所述第二扩散层(3)包覆在所述第一扩散层(2)上。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述自组装成膜的方法包括：

(a)将所述球形扩散粒子制成胶体，并使所述胶体扩散成膜；

(b)使所述透明基片(1)放置在装有水的容器的底部，并将所述胶体形成的膜转移到所述容器中；

12.根据权利要求10所述的方法，其中，形成所述第二扩散层(3)的方法为磁控溅射镀膜法。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，所述方法还包括在所述第二扩散层(3)上形成保护层(4)，所述保护层(4)由透明的树脂材料形成。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述第二扩散层(3)上形成所述保护层(4)的方法包括将胺基树脂、醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂和丙烯树脂中的至少一种的树脂浆液涂布在所述第二扩散层(3)上。

15.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述第二扩散层(3)上形成所述保护层(4)的方法包括将聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚酯中的至少一种的薄膜贴附在所述第二扩散层(3)上。