CN102077283A - 光记录介质及光记录介质的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可提高伺服信号及再生信号的质量的光记录介质及光记录介质的制造方法。对于光记录介质(40)，当定义光记录介质(40)的表面(40z)与第一信息记录面(40a)之间的厚度为t1、第一信息记录面(40a)与第二信息记录面(40b)之间的厚度为t2、第二信息记录面(40b)与第三信息记录面(40c)之间的厚度为t3、第三信息记录面(40c)与第四信息记录面(40d)之间的厚度为t4时，满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

Description

光记录介质及光记录介质的制造方法

技术领域

本发明涉及一种通过照射光而记录或再生信息的光记录介质及该光记录介质的制造方法，尤其涉及具备三层或四层信息记录面的光记录介质的层间隔的结构。

背景技术

作为高密度及大容量的光信息记录介质，市场销售的有被称作DVD或BD(蓝光(Blu-ray)盘)的光盘。近年来，此类光盘作为记录图像、音乐及电脑数据的记录介质正在急速地普及。而且，为了进一步增加记录容量，还提出有专利文献1所示的具有多层记录层的光盘。

图13是表示以往的光记录介质及拾光器的结构的图。光记录介质401包括：最接近光记录介质401的表面401z的第一信息记录面401a、第二接近光记录介质401的表面401z的第二信息记录面401b、第三接近光记录介质401的表面401z的第三信息记录面401c、以及距离光记录介质401的表面401z最远的第四信息记录面401d。

从光源1射出的发散的光束70透过焦距f1为15mm的准直透镜53后，射入偏振分束器(polarized beam splitter)52。射入偏振分束器52的光束70透过偏振分束器52，并透过1/4波长板54而转换成圆偏振光。随后，光束70通过焦距f2为2mm的物镜56被转换成会聚光束，透过光记录介质401的透明基板后，被聚光在光记录介质401内部形成的第一信息记录面401a、第二信息记录面401b、第三信息记录面401c及第四信息记录面401d的其中之一记录面上。

物镜56被设计成使球面像差在第一信息记录面401a与第四信息记录面401d的中间深度位置为0。球面像差修正部93使准直透镜53的位置沿光轴方向移动。由此，在第一至第四信息记录面401a至401d聚光时产生的球面像差可被消除。

光圈55(aperture)限制物镜56的开口，使物镜56的数值孔径NA为0.85。被第四信息记录面401d反射的光束70透过物镜56及1/4波长板54而转换成与去路相差90度的直线偏振光之后，被偏振分束器52反射。由偏振分束器52反射的光束70透过焦距f3为30mm的聚光透镜59被转换成会聚光，经由柱面透镜(cylindrical lens)57射入光检测器320。光束70在透过柱面透镜57时被赋予像散(astigmatism)。

光检测器320具有未图示的四个受光部，各受光部输出与所接收到的光量相应的电流信号。根据这些电流信号，生成基于像散法(astigmatism method)的聚焦误差(以下称作FE)信号、基于推挽法(push-pull method)的追踪误差(以下称作TE)信号，以及记录在光记录介质401上的信息(以下称作RF)信号。FE信号及TE信号被放大到所希望的电平并且被进行相位补偿后，被提供给致动器91及92，以进行聚焦控制及追踪控制。

在此，假如在光记录介质401的表面401z与第一信息记录面401a之间的厚度t1、第一信息记录面401a与第二信息记录面401b之间的厚度t2、第二信息记录面401b与第三信息记录面401c之间的厚度t3、及第三信息记录面401c与第四信息记录面401d之间的厚度t4全部彼此相同的情况下，会产生如下所述的问题。

例如，当为了对第四信息记录面401d记录或再生信息而使光束70在第四信息记录面401d上聚光时，光束70的一部分被第三信息记录面401c反射。从第三信息记录面401c到第四信息记录面401d的距离与从第三信息记录面401c到第二信息记录面401b的距离相同。因此，被第三信息记录面401c反射的光束70的一部分在第二信息记录面401b的背侧成像，来自第二信息记录面401b的背侧的反射光再次被第三信息记录面401c反射。其结果，被第三信息记录面401c、第二信息记录面401b的背侧及第三信息记录面401c反射的反射光会与来自原本应读取的第四信息记录面401d的反射光相混。

此外，从第二信息记录面401b到第四信息记录面401d的距离与从第二信息记录面401b到光记录介质401的表面401z的距离也相同。因此，被第二信息记录面401b反射的光束70的一部分在光记录介质401的表面401z的背侧成像，来自表面401z的背侧的反射光再次被第二信息记录面401b反射。其结果，被第二信息记录面401b、表面401z的背侧及第二信息记录面401b反射的反射光会与来自原本应读取的第四信息记录面401d的反射光相混。

这样，存在下述问题，即：在其它层的背侧成像的反射光重叠混入来自原本应读取的第四信息记录面401d的反射光中，从而影响信息的记录或再生。这样的光其干涉性高，会在受光元件上形成干涉所造成的明暗分布。此外，由于该明暗分布根据光盘面内的中间层的微小的厚度偏差引起的其它层反射光的相位差变化而发生变动，因此导致伺服信号及再生信号的质量显著下降。下面，在本说明书中，将上述的问题称作背面焦点(back focus)问题。

为了防止此现象，在专利文献1中公开了一种方法，将各信息记录面之间的层间距离设定成从光记录介质401的表面401z起依次逐渐增大，使得当使光束70在原本应读取的第四信息记录面401d上聚光时，光束70的一部分不会同时在第二信息记录面401b的背侧及表面401z的背侧成像。在此，厚度t1至t4分别有±10μm的制造偏差。厚度t1至t4必须被设定成在分别有所偏差也为不同的距离。因此，将厚度t1至t4的距离差例如设定为20μm。此时，厚度t1至t4分别为40μm、60μm、80μm及100μm，从第一信息记录面401a到第四信息记录面401d的总层间厚度t(＝t2+t3+t4)为240μm。

而且，当从表面401z到第一信息记录面401a的覆盖层的厚度与从第四信息记录面401d到第一信息记录面401a的厚度相等时，被第四信息记录面401d反射的光在表面401z聚焦，并被表面401z反射。被表面401z反射的光再次被第四信息记录面401d反射后被导向光检测器320。这样在表面401z的背侧成像的光束不像在其它信息记录面的背侧成像的光束那样具有与坑(pit)或标记(mark)相关的信息。但是，当记录层实现了多层化时，被表面401z的背侧反射的光束的光量具有与被其它信息记录面的背侧反射的光束的光量同程度的大小。因此，与被其它信息记录面的背侧反射的光束相同，被表面401z的背侧反射的光束与被作为记录或再生对象的信息记录面反射的光束的干涉产生，有导致伺服信号及再生信号的质量显著下降的危险。

考虑到这样的问题，专利文献2中提出了光盘的信息记录层(信息记录面)的间隔。该专利文献2中公开了下述的结构。

光记录介质具有四层信息记录面，从接近光记录介质的表面的一侧起设为第一信息记录面至第四信息记录面。从表面到第一信息记录面的距离为47μm以下。从第一信息记录面到第四信息记录面的各信息记录面之间的中间层的厚度为11至15μm、16至21μm及22μm以上的组合。从表面到第四信息记录面的距离为100μm。从表面到第一信息记录面的距离为47μm以下，并且，从表面到第四信息记录面的距离为100μm。

但是，在专利文献2中作为最佳而示出的光盘结构中，从表面到第一信息记录面的距离(＝t1)为47μm以下。通过将厚度t1设定得尽可能厚，期望将光盘表面存在划痕或污垢时的信息再生信号恶化量抑制得较低。在四层光盘中，从表面到第四信息记录面的标准距离是100μm，期望一种能够将厚度t1设定得尽可能厚的结构。而且，对于具有三层信息记录面的三层光盘，也期望提出一种最佳结构。

专利文献1：日本专利公开公报特开2001-155380号

专利文献2：日本专利公开公报特开2008-117513号

发明内容

本发明是为了解决上述的问题，其目的在于提供一种能够提高伺服信号及再生信号的质量的光记录介质及光记录介质的制造方法。

本发明所提供的一种光记录介质是具有四层信息记录面的光记录介质，当定义所述光记录介质的表面与最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面之间的厚度为t1、所述第一信息记录面与第二接近所述光记录介质表面的第二信息记录面之间的厚度为t2、所述第二信息记录面与第三接近所述光记录介质表面的第三信息记录面之间的厚度为t3、所述第三信息记录面与距离所述光记录介质表面最远的第四信息记录面之间的厚度为t4时，满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

根据本发明，由于具有四层信息记录面的光记录介质满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm，因此，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

通过以下详细的说明和附图，使本发明的目的、特征和优点更加明确。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式1所涉及的光记录介质及拾光器的概略结构的图。

图2是表示本发明的实施方式1所涉及的光记录介质的层结构的图。

图3是表示使光束在第四信息记录面上聚光时来自第四信息记录面的反射光的图。

图4是表示使光束在第四信息记录面上聚光时来自第三信息记录面及第二信息记录面的反射光的图。

图5是表示使光束在第四信息记录面上聚光时来自第二信息记录面及表面的反射光的图。

图6是表示使光束在第四信息记录面上聚光时来自第三信息记录面、第一信息记录面及第二信息记录面的反射光的图。

图7是表示层间厚度的差与FS信号振幅之间的关系的图。

图8是表示各信息记录层的反射率大致相等的光记录介质的层间厚度与抖动之间的关系的图。

图9是表示本发明的实施方式2所涉及的光记录介质的层结构的图。

图10是表示使光束在第三信息记录面上聚光时来自第三信息记录面的反射光的图。

图11是表示使光束在第三信息记录面上聚光时来自第二信息记录面及第一信息记录面的反射光的图。

图12是表示使光束在第三信息记录面上聚光时来自第一信息记录面及表面的反射光的图。

图13是表示以往的光记录介质及拾光器的结构的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。另外，以下的实施方式是将本发明具体化的一例，其性质并非为限定本发明的技术范围。

(实施方式1)

以下，用图1及图2，对本发明的实施方式1所涉及的光记录介质进行说明。

图1是表示本发明的实施方式1所涉及的光记录介质及拾光器(optical pickup)的概略结构的图，图2是表示本发明的实施方式1所涉及的光记录介质的层结构的图。拾光器201将波长λ为405nm的激光照射至光记录介质40，对记录在光记录介质40上的信号进行再生。另外，图1所示的拾光器201的结构与图13所示的拾光器的结构大致相同，因此省略详细说明。

在光记录介质40中形成有四层信息记录面。如图2所示，光记录介质40从接近光记录介质40的表面40z的一侧起依次具有第一信息记录面40a、第二信息记录面40b、第三信息记录面40c及第四信息记录面40d。

光记录介质40还具有覆盖层42、第一中间层43、第二中间层44及第三中间层45。覆盖层42的厚度t1表示从表面40z到第一信息记录面40a之间的基材的厚度，第一中间层43的厚度t2表示从第一信息记录面40a到第二信息记录面40b之间的基材的厚度，第二中间层44的厚度t3表示从第二信息记录面40b到第三信息记录面40c之间的基材的厚度，第三中间层45的厚度t4表示从第三信息记录面40c到第四信息记录面40d之间的基材厚度。

而且，距离d1(≈t1)表示从表面40z到第一信息记录面40a之间的距离，距离d2(≈t1+t2)表示从表面40z到第二信息记录面40b之间的距离，距离d3(≈t1+t2+t3)表示从表面40z到第三信息记录面40c之间的距离，距离d4(≈t1+t2+t3+t4)表示从表面40z到第四信息记录面40d之间的距离。

在此，对信息记录面为四面时的课题进行说明。首先，对作为第一个课题的多面反射光引起的干涉，用图3至图7来进行说明。图3是表示使光束在第四信息记录面40d上聚光时来自第四信息记录面40d的反射光的图，图4是表示使光束在第四信息记录面40d上聚光时来自第三信息记录面40c及第二信息记录面40b的反射光的图，图5是表示使光束在第四信息记录面40d上聚光时来自第二信息记录面40b及表面40z的反射光的图，图6是表示使光束在第四信息记录面40d上聚光时来自第三信息记录面40c、第一信息记录面40a及第二信息记录面40b的反射光的图。

如图3所示，为了对信息进行再生或记录而在第四信息记录面40d上聚光的光束由于信息记录层(信息记录面)的半透射性而分支成以下的多束光束。

即，为了对信息进行再生或记录而在第四信息记录面40d上聚光的光束被分支成：如图3所示被第四信息记录面40d反射的光束70、如图4所示被第三信息记录面40c反射，并在第二信息记录面40b的背侧聚焦后被反射，再次被第三信息记录面40c反射的光束71(信息记录层的背面焦点光)、如图5所示被第二信息记录面40b反射，并在表面40z的背侧聚焦后被反射，再次被第二信息记录面40b反射的光束72(表面的背面焦点光)，以及如图6所示未在表面及信息记录面的背侧聚焦，但被第三信息记录面40c、第一信息记录面40a的背侧及第二信息记录面40b依次反射的光束73。

例如，当第四信息记录面40d与第三信息记录面40c之间的距离(厚度t4)、与第三信息记录面40c与第二信息记录面40b之间的距离(厚度t3)相同时，光束70和光束71以相等的光路长度和光束直径射入光检测器320。同样，当第四信息记录面40d与第二信息记录面40b之间的距离(厚度t4+厚度t3)、与第二信息记录面40b与表面40z之间的距离(厚度t2+厚度t1)相等时，光束70和光束72以相等的光路长度和光束直径射入光检测器320。而且，当第二信息记录面40b与第一信息记录面40a之间的距离(厚度t2)、与第四信息记录面40d与第三信息记录面40c之间的距离(厚度t4)相等时，光束70和光束73以相等的光路长度和光束直径射入光检测器320。

虽然相对于光束70，作为多面反射光的光束71至73的光量小，但由于各光束以相等的光路长度和相等的光束直径射入光检测器320，因此各光束的干涉造成的影响增大。而且，光检测器320的受光量会因为微小的信息记录层间的厚度变化而发生较大变动，从而难以检测稳定的信号。

图7是表示层间厚度的差与FS信号振幅之间的关系的图。另外，图7示出当设光束70与光束71、光束72或光束73的光量比为100∶1，且覆盖层42及第一中间层43的折射率均为1.57时相对于层间厚度的差的FS信号振幅。在图7中，横轴表示层间厚度的差，纵轴表示FS信号振幅。FS信号振幅是以光检测器320仅接收到光束70的反射光时的DC光量进行了标准化所得的值。而且，层间厚度的差表示中间层彼此的厚度的差以及覆盖层与中间层的厚度的差。如图7所示，可知，当层间厚度的差为1μm以下时，FS信号会急剧变动。

另外，与图5的光束72同样，在覆盖层42的厚度t1与第一中间层43至第三中间层45的厚度总和(t2+t3+t4)之差为1μm以下，也会发生FS信号的变动等问题。

作为第二个课题，如果邻接的信息记录面之间的层间距离过小，由于会受到来自邻接的信息记录面的串扰(crosstalk)的影响，因此需要指定值以上的层间距离。在此，对层间厚度进行研究，以确定最小的层间厚度。图8是表示各信息记录层的反射率大致相等的光盘的层间厚度与抖动(jitter)之间的关系的图。在图8中，横轴表示层间厚度，纵轴表示抖动值。随着层间厚度减小，抖动恶化。转折点(inflection point)大约为8μm，当层间厚度为8μm以下时会引起抖动急剧恶化。

而且，一般而言，在光盘的制造上，各信息记录层的反射率有时会相差1.5倍左右。例如，当相对于作为再生或记录对象的信息记录层的反射率，其它信息记录层的反射率为1.5倍时，由于干涉对信息记录层造成的影响在光的振幅比上为

倍，因此相对于层间厚度的抖动如图8的虚线所示。即，如果将层间厚度的最小值设定为从8μm增大了2μm的10μm以上，则其它信息记录层的杂散光在光检测器中的光量密度为反射率1.5×(8/10)²＝0.96，能够抵消其它信息记录层的反射效率的增加量。作为结论，层间厚度的最小值为10μm最佳。

用图2对本发明的实施方式1所涉及的光记录介质40的结构进行说明。在本实施方式1中，为了在考虑到制造上的厚度偏差的基础上来解决来自其它信息记录层或盘表面的反射光的不良影响，设定四层盘(光记录介质40)的结构以便能够确保以下条件。

条件(1)：覆盖层42的厚度t1大于50μm，以厚于以往的光盘的覆盖层(t1＞50μm)。

条件(2)：确保覆盖层42的厚度t1与第一中间层43至第三中间层45的厚度t2至t4的总和(t2+t3+t4)之差为1μm以上。距离d4的标准值最好与市场上的BD相同为100μm。如果与t1＞50μm这一条件(1)相组合，则光记录介质40满足t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

条件(3)：确保覆盖层42的厚度t1和第一中间层43的厚度t2的和(t1+t2)、与第二中间层44的厚度t3和第三中间层45的厚度t4的和(t3+t4)之差为1μm以上。可以明确的是，如果满足条件(1)及(2)，则该条件(3)将自动满足。

条件(4)：厚度t1、t2、t3、t4中的任意两个值彼此的差均为1μm以上。

条件(5)：层间厚度(中间层的厚度)的最小值如上所述必须为10μm以上。因此，厚度t2、t3、t4均为10μm以上。

条件(6)：厚度t3大于厚度t4，厚度t4大于厚度t2。第二信息记录面40b被夹在第一信息记录面40a与第三信息记录面40c之间。第三信息记录面40c被夹在第二信息记录面40b与第四信息记录面40d之间。由于第二信息记录面40b和第三信息记录面40c均会受到来自两侧邻接的两面的串扰信号的影响，因此必须设法减少串扰。对第二信息记录面40b及第三信息记录面40c的信息进行再生时来自其它信息记录面的串扰均可通过加厚第二中间层44(厚度t3)而减少。因此，较为理想的是使厚度t3最厚。而且，各信息记录面与表面40z之间的距离越短，则倾斜充裕(tilt margin)越宽。就此点而言，较为理想的是第一中间层43的厚度t2较薄，而第三中间层45的厚度t4较厚。基于以上的研究，厚度t2、t3、t4满足t3＞t4＞t2。

条件(7)：从表面40z到距离表面40z最远的第四信息记录面40d的距离d4大致为100μm。由此，能够具有下述优点，即，能够与当前市场销售的光盘中容量最大的BD(Blu-ray Disc)具备兼容性，并且也能够充分确保倾斜充裕等系统充裕。

以下，考虑在上述的条件(1)至(7)下能够使覆盖层厚度及中间层厚度在制造上所允许的误差或偏差最大的结构。

覆盖层42及第一中间层43至第三中间层45的制造偏差一律为±eμm。此时，满足上述条件(1)至(7)的各层间厚度t2至t4的中心值，若考虑到上限值及下限值则如下述的(1)至(3)式所示。

t2＝10+e(μm)……(1)

t4＝(t2+e)+1+e＝10+3e+1(μm)……(2)

t3＝(t4+e)+1+e＝10+5e+2(μm)……(3)

为了满足条件(2)，厚度t1的下限值必须比厚度t2至t4的上限值的和厚1μm，因此根据下述的(4)式，t1＝34+13e。

t1-e＝(t2+t3+t4+3e)+1(μm)＝(10+e)+(10+5e+2)+(10+3e+1)+3e+1＝34+12e    ……(4)

根据条件(7)，厚度t1至t4的和为100μm。因此，根据下述(5)式，偏差e为e＝33/22＝1.5(μm)。

t1+t2+t3+t4＝(10+e)+(10+5e+2)+(10+3e+1)+(34+13e)＝67+22e＝100(μm)  ……(5)

而且，厚度t1至t4及距离d1至d4的标准值分别为如下所示。

t1＝53.5(μm)

t2＝11.5(μm)

t3＝19.5(μm)

t4＝15.5(μm)

d1＝t1＝53.5(μm)

d2＝d1+t2＝65.0(μm)

d3＝d2+t3＝84.5(μm)

d4＝100(μm)

在此，当使覆盖层厚度t1及各层间厚度t2至t4在制造时的偏差上限一样时，如果各厚度处于该偏差内，则必然满足条件(1)至(7)。可以说，偏差e是充分条件。即使厚度t1的误差超过偏差e，只要其它中间层的厚度接近基准值而满足条件(1)至(7)，便能够确保信号质量。而且，在引入聚焦动作(focus pull-in operation)时，为了获得良好的聚焦错误信号质量，必须使从表面40z到各信息记录层的距离处于规定的误差内。

因而，具有四层信息记录面的光记录介质40较为理想的是，当定义从光记录介质40的表面40z到最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面40a的距离为d1、从光记录介质40的表面40z到第二接近光记录介质40的表面40z的第二信息记录面40b的距离为d2、从光记录介质40的表面40z到第三接近光记录介质40的表面40z的第三信息记录面40c的距离为d3、从光记录介质40的表面40z到距离光记录介质40的表面40z最远的第四信息记录面40d的距离为d4、光记录介质40的表面40z与第一信息记录面40a之间的厚度为t1(＝d1)、第一信息记录面40a与第二信息记录面40b之间的厚度为t2(＝d2-d1)、第二信息记录面40b与第三信息记录面40c之间的厚度为t3(＝d3-d2)、第三信息记录面40c与第四信息记录面40d之间的厚度为t4(＝d4-d3)、距离d1、d2、d3、d4的公差(tolerance)分别为E1、E2、E3、E4时，满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm、t1-(t2+t3+t4)≥1μm、53.5μm-E1≤d1≤53.5μm+E1、65.0μm-E2≤d2≤65.0μm+E2、84.5μm-E3≤d3≤84.5μm+E3及100.0μm-E4≤d4≤100.0μm+E4。

此时，通过防止在光记录介质40的表面40z的背侧成像，且减少各信息记录面40a至40d的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于能够将光记录介质40的表面40z与最接近光记录介质40的表面40z的第一信息记录面40a的间隔设定得较大，因此能够抑制光记录介质40的表面40z存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

如果考虑聚焦错误信号的恶化程度，公差E1必须为6μm。

并且，如果公差E1为5μm，则能够对最接近表面40z的第一信息记录面40a进行更稳定的聚焦引入。

进一步，公差E1仅由覆盖层42的厚度t1的误差所决定，而不受其它中间层的厚度的影响。因此，如果考虑能够高精度地制作光记录介质40，使公差E1为3μm，也能够对最接近表面40z的第一信息记录面40a进行更稳定的聚焦引入。

而且，如果考虑聚焦错误信号的恶化程度，公差E2也必须为6μm。

并且，如果公差E2为5μm，则能够对第二接近表面40z的第二信息记录面40b进行更稳定的聚焦引入。

如果使公差E1为最低限的3μm，使厚度t2的误差为预先研究的偏差e＝1.5μm，则公差E2可减小到4.5μm左右。此时，能够对第二接近表面40z的第二信息记录面40b进行更进一步稳定的聚焦引入。

如果考虑聚焦错误信号的恶化程度，公差E3及公差E4也必须为6μm。并且，如果公差E3及公差E4为5μm，则能够对第三接近表面40z的第三信息记录面40c及距离表面40z最远的第四信息记录面40d进行更稳定的聚焦引入。

因而，最理想的光记录介质40的结构为50.5μm≤d1≤56.5μm、60.5μm≤d2≤69.5μm、78.5μm≤d3≤90.5μm及94.0μm≤d4≤106.0μm。

此外，由于t3-t4≥1μm且t4-t2≥1μm，因此厚度t2、t4存在比厚度t3薄1μm以上的限制。但是，厚度t3的上限在本条件中未出现。厚度t3的上限可从t3＝d3-d2读取。由于距离d3为84.5μm-E3以上84.5μm+E3以下，距离d2为65.0μm-E2以上65.0μm+E2以下，因此厚度t3的最大值为E3+E2+19.5μm。

例如，当使公差E3与公差E2均为6μm时，厚度t3的最大值为31.5μm。但是，在从第二信息记录面40b向第三信息记录面40c的聚焦跳跃时，如果不预先使球面像差量适应跳跃目标的第三信息记录面40c，聚焦错误信号的振幅及灵敏度将会恶化，从而无法稳定地重新开始聚焦控制。因此，厚度t3的公差抑制在至多6μm较为理想。因而，厚度t3较为理想的是t3≤25.5μm。

并且，通过将厚度t3的公差抑制为5μm，能够更稳定地进行聚焦跳跃，因此厚度t3更为理想的是t3≤24.5μm。进一步，即使考虑光记录介质(光盘)的可制造范围，厚度t3的公差也能够被抑制在2.5μm左右，因此厚度t3更为理想的是t3≤22.0μm。

通过与第二中间层44的厚度t3同样，将第一中间层43的厚度t2及第三中间层45的厚度t4的公差抑制在5μm，能够更稳定地进行聚焦跳跃。因此，较为理想的是，厚度t2为下限的10.0μm以上16.5μm(11.5μm+5μm)以下，厚度t3为19.5μm±5μm、即14.5μm以上24.5μm以下，厚度t4为11μm(＝厚度t2的下限+1μm)以上20.5μm(15.5μm+5μm)以下。另外，因为t1＝d1，所以厚度t1较为理想的是50.5μm以上56.5μm以下。

上述的条件是为了稳定地再生良好的信息信号所需要的条件。覆盖层及各中间层的厚度t1至t4的各种组合中，满足上述条件的组合将成为光记录介质40所允许的结构。但是，与判断覆盖层及各中间层的厚度t1至t4的组合是否符合条件相比，通过将覆盖层及各中间层的厚度t1至t4的公差控制在较窄的范围内来进行制造，不用考虑组合而制造符合条件的光盘具有容易简单地设定制造上的目标值、条件设定容易的优点。另一方面，如上所述，通过明确性能上无问题的范围，即使是稍许偏离目标值而制造的光记录介质，也能够判别为良品，从而可提高产品成品率，因此获得能够将产品成本抑制得较低的效果。

接下来，作为其它观点，考虑制造上可实现的中间层厚度的公差、以及该公差作为避免上述背面焦点问题及避免层间串扰问题的充分条件的层结构是怎样的。我们通过实验对制造上可实现的中间层厚度的公差进行了研究，结果明确，如果中间层的厚度公差为+1.5μm，便能够实现量产。从避免层间串扰问题的观点出发，厚度t2的最小值为10μm。为了确保1.5μm的制造公差，厚度t2的标准值必须为11.5μm以上。最后，考虑到为了避免背面焦点问题必须考虑t1-(t2+t3+t4)≥1，将中间层的厚度的标准值设定为必要最小限。因而，厚度t2的标准值为11.5μm。进一步，如果在厚于标准值的一侧确保1.5μm的制造公差，则厚度t2的上限为13μm。

从避免背面焦点问题的观点出发，必须为t4-t2≥1μm，因此厚度t4的最小值为14μm。为了确保1.5μm的制造公差，厚度t4的标准值必须为15.5μm以上，因此将厚度t4的标准值设为15.5μm。进一步，如果在厚于标准值的一侧确保1.5μm的制造公差，则厚度t4的上限为17μm。

此外，从避免背面焦点问题的观点出发，必须为t3-t4≥1μm，因此厚度t3的最小值为18μm。为了确保1.5μm的制造公差，厚度t3的标准值必须为19.5μm以上，因此将厚度t3的标准值设为19.5μm。进一步，如果在厚于标准值的一侧确保1.5μm的制造公差，则厚度t3的上限为21μm。

此外，从避免背面焦点问题的观点出发，必须为t1-(t2+t3+t4)≥1。如果确保1.5μm的制造公差，则厚度t2、厚度t3及厚度t4的上限值分别为13μm、17μm及21μm(应为19μm及17μm，它们的和(t2+t3+t4)的上限值为51μm。因而，只要覆盖层42的厚度t1的下限值为52μm，则t1-(t2+t3+t4)≥1的条件便可满足。为了确保1.5μm的制造公差，厚度t1的标准值必须为53.5μm以上。

在此，考虑使距离d4的标准值为100μm。距离d4是厚度t1至t4的总和。即使将厚度t1的标准值设为53.5μm，如果加上至此为此所考虑的厚度t2至t3的标准值，也是达到100μm。因而，没有将各标准值设定得更大的余地。因此，厚度t1、厚度t2、厚度t3及厚度t4的标准值分别为53.5μm、11.5μm、15.5μm及19.5μm(应为19.5μm及15.5μm。根据如上所述的研究也可以明确，这些厚度的标准值是确保1.5μm的制造公差、且避免层间串扰问题和背面焦点问题，并使距离d4的标准值为100μm的唯一的解。

因而，较为理想的是，厚度t1的标准范围为52.0μm以上55.0μm以下，厚度t2的标准范围为10.0μm以上13.0μm以下，厚度t3的标准范围为18.0μm以上21.0μm以下，厚度t4的标准范围为14.0μm以上17.0μm以下。

换言之，较为理想的是，厚度t1的标准值为53.5μm，厚度t2的标准值为11.5μm，厚度t3的标准值为19.5μm，厚度t4的标准值为15.5μm，各厚度t1至t4的误差分别被抑制在±1.5μm以内。

在从上述的条件(1)至(7)导出的光记录介质应该满足的条件(以下，称作必须条件)中，存在多个与多个参数相关的条件式。因此，为了满足所有的条件，存在多个应同时考虑的条件，因而确定各层的厚度非常困难。而且，即使各层的条件满足必须条件时，有时也会根据条件而不允许制造上的误差，从而使实际制造非常困难。

例如，当将某个中间层的膜厚设定为指定值时，虽然其它中间层的膜厚条件满足各条件，但有时所允许的误差会变得非常小。因此，即使明确了必须条件，要决定各层的条件以使透光层及中间层全部满足必须条件也非常困难，并且，即使满足必须条件时，要设定各层的条件以便制造上的允许误差不会在某层变得极小也非常困难。

因此，本实施方式1中，不仅规定上述的必须条件，而且还规定了制造光记录介质时应考虑的条件来作为推荐条件。

由此，能够减少必须同时考虑的参数，以在制造光记录介质时容易设定各层的目标值。而且，能够解决只有某层的允许误差极小这一制造上的问题。并且，由于能够使各层的允许误差全部为1.5μm以上，因此可实现量产。

另外，具有四层信息记录面的光记录介质40的制造方法包括在基板上形成覆盖层(透光层)42、第一信息记录面40a、第一中间层43、第二信息记录面40b、第二中间层44、第三信息记录面40c、第三中间层45及第四信息记录面40d的工序。并且，形成第一至第四信息记录面40a至40d、第一至第三中间层43至45及覆盖层42，使覆盖层42的厚度t1及第一至第三中间层43至45的厚度t2至t4满足52.0μm≤t1≤55.0μm、10.0μm≤t2≤13.0μm、18.0μm≤t3≤21.0μm及14.0μm≤t4≤17.0μm。

而且，通过上述制造方法所制造的光记录介质40满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm。而且，通过上述制造方法所制造的光记录介质40还满足60.5μm≤d2≤69.5μm、78.5μm≤d3≤90.5μm、94.0μm≤d4≤106.0μm、50.5μm≤t1≤56.5μm、10.0μm≤t2≤16.5μm、14.5μm≤t3≤24.5μm及11.0μm≤t4≤20.5μm。

并且，形成第一至第四信息记录面40a至40d、第一至第三中间层43至45及覆盖层42，使厚度t1的标准值为53.5μm，厚度t2的标准值为11.5μm，厚度t3的标准值为19.5μm，厚度t4的标准值为15.5μm，覆盖层42的厚度t1及第一至第三中间层43至45的厚度t2至t4的公差分别为1.5μm以下。

(实施方式2)

在上述的实施方式1中，对具有四层信息记录面的光记录介质进行了说明，而在实施方式2中，对具有三层信息记录面的光记录介质进行说明。图9是表示本发明的实施方式2所涉及的光记录介质的层结构的图。

光记录介质30形成有三层信息记录面。如图9所示，光记录介质30从接近光记录介质30的表面30z的一侧起依次具有第一信息记录面30a、第二信息记录面30b及第三信息记录面30c。光记录介质30还具有覆盖层32、第一中间层33及第二中间层34。

覆盖层32的厚度t1表示从表面30z到第一信息记录面30a之间的基材的厚度，第一中间层33的厚度t2表示从第一信息记录面30a到第二信息记录面30b之间的基材的厚度，第二中间层34的厚度t3表示从第二信息记录面30b到第三信息记录面30c之间的基材的厚度。

而且，距离d1(≈t1)表示从表面30z到第一信息记录面30a之间的距离，距离d2(≈t1+t2)表示从表面30z到第二信息记录面30b之间的距离，距离d3(≈t1+t2+t3)表示从表面30z到第三信息记录面30c之间的距离。

在此，对信息记录面为三面时的课题进行说明。首先，对作为第一个课题的多面反射光引起的干涉，用图10至图12来进行说明。图10是表示使光束在第三信息记录面30c上聚光时来自第三信息记录面30c的反射光的图，图11是表示使光束在第三信息记录面30c上聚光时来自第二信息记录面30b及第一信息记录面30a的反射光的图，图12是表示使光束在第三信息记录面30c上聚光时来自第一信息记录面30a及表面30z的反射光的图。

如图10所示，为了对信息进行再生或记录而在第三信息记录面30c上聚光的光束由于信息记录层(信息记录面)的半透射性而被分支为以下的多束光束。

即，为了对信息进行再生或记录而在第三信息记录面30d上聚光的光束被分支成：如图10所示被第三信息记录面30c反射的光束75；如图11所示被第二信息记录面30b反射、并在第一信息记录面30a的背侧聚焦后被反射，再次被第二信息记录面30b反射的光束76(信息记录层的背面焦点光)；以及如图12所示被第一信息记录面30a反射并在表面30z的背侧聚焦后被反射，再次被第一信息记录面30a反射的光束77(表面的背面焦点光)。

例如，当第二信息记录面30b与第一信息记录面30a之间的距离(厚度t2)、与第三信息记录面30c与第二信息记录面30b之间的距离(厚度t3)相等时，光束75和光束76以相等的光路长度和光束直径射入光检测器320。同样，当第一信息记录面30a与表面30z之间的距离(厚度t1)、与第三信息记录面30c与第一信息记录面30a之间的距离(厚度t2+厚度t3)相等时，光束75和光束77分别以相等的光路长度和光束直径射入光检测器320。

虽然相对于光束75，作为多面反射光的光束76、77的光量小，但由于各光束以相等的光路长度和相等的光束直径射入光检测器320，因此各光束的干涉造成的影响增大。而且，光检测器320的受光量会因为微小的信息记录层间的厚度变化而发生较大变动，从而难以检测稳定的信号。

当层间厚度差为1μm以下时，FS信号会急剧变动，因此光记录介质30的层间厚度的差与四光盘同样必须为1μm以上。

作为第二个课题，如果邻接的信息记录面之间的层间距离过小，则会受到来自邻接的信息记录面的串扰的影响，因此与四层盘同样，层间距离必须为10μm以上。

用图9对本发明的实施方式2所涉及的光记录介质30的结构进行说明。本实施方式2中，为了在考虑到制造上的厚度偏差的基础上来解决来自其它信息记录层或光盘表面的反射光的不良影响，设定三层盘(光记录介质30)的结构以便能够确保以下条件。

条件(1)：覆盖层32的厚度t1大于50μm，以厚于以往的光盘的覆盖层(t1＞50μm)。

条件(2)：确保覆盖层32的厚度t1与第一中间层33及第二中间层34的厚度t2、t3的总和(t2+t3)之差为1μm以上。距离d2的标准值最好与市场上的BD相同为100μm。如果与t1＞50μm这一条件(1)相组合，则光记录介质30满足t1-(t2+t3)≥1μm。

条件(3)：厚度t1、t2、t3中的任意两个值彼此的差均为1μm以上。

条件(4)：层间厚度(中间层的厚度)的最小值如上所述必须为10μm以上。因此，厚度t2、t3均为10μm以上。

条件(5)：信息记录面与表面30z的距离越短，倾斜充裕越宽。就此点而言，较为理想的是第一中间层33的厚度t2较薄，第二中间层34的厚度t3较厚。基于以上的研究，厚度t2、t3满足t3＞t2。

条件(6)：从表面30z到距离表面30z最远的第三信息记录面30c的距离d3大致为100μm。由此，能够具有下述优点，即，能够与当前市场销售的光盘中容量最大的BD(Blu-ray Disc)具备兼容性，并且也能够充分确保倾斜充裕等系统充裕。

以下，考虑在上述的条件(1)至(6)下能够使覆盖层厚度及中间层厚度在制造上所允许的误差或偏差最大的结构。

覆盖层32、第一中间层33及第二中间层34的制造偏差一律为±eμm。此时，满足上述条件(1)至(6)的各层间厚度t2至t3的中心值，若考虑到上限值及下限值则如下述的(6)及(7)式所示。

t2＝10+e(μm)  ……(6)

t3＝(t2+e)+1+e＝10+3e+1(μm)  ……(7)

为了满足条件(2)，厚度t1的下限值必须比厚度t2、t3的上限值的和厚1μm，因此基于下述的(8)式，t1＝22+7e。

t1-e＝(t2+t3+2e)+1(μm)＝(10+e)+(10+3e+1)+2e+1＝22+6e

……(8)

根据条件(6)，厚度t1至t3的和为100μm。因此，基于下述的(9)式，偏差e为e＝57/11≈5.2(μm)。

t1+t2+t3＝(10+e)+(10+3e+1)+(22+7e)＝43+11e＝100(μm)

……(9)

而且，厚度t1至t3的标准值分别为如下所示。

t1＝58.3(μm)

t2＝15.2(μm)

t3＝26.5(μm)

由于市场上已普及的双层BD的两层信息记录层之间的中间层的厚度为25μm左右，因此，如果三层光盘的厚度t3也将与双层BD相同的厚度作为标准值，则容易应对再生机及记录机。而且，如果中间层的厚度的制造偏差即公差也是±3μm，便能够容易地制造盘。因此，厚度t3为25±3μm。如果为了在考虑到条件(3)及(5)的基础上抑制层间串扰获得良好的再生信号，而尽可能地加厚第一中间层33的厚度t2，则厚度t2为18±3μm。覆盖层32的厚度t1为100-(t2+t3)＝57(μm)。

因而，距离d1(＝t1)为57.0(μm)，距离d2(＝d1+t2)为75.0(μm)，距离d3为100(μm)。

因而，具有三层信息记录面的光记录介质30较为理想的是，当定义从光记录介质30的表面30z到最接近光记录介质30的表面30z的第一信息记录面30a的距离为d1、从光记录介质30的表面30z到第二接近光记录介质30的表面30z的第二信息记录面30b的距离为d2、从光记录介质30的表面30z到距离光记录介质30的表面30z最远的第三信息记录面30c的距离为d3、光记录介质30的表面30z与第一信息记录面30a之间的厚度为t1(＝d1)、第一信息记录面30a与第二信息记录面30b之间的厚度为t2(＝d2-d1)、第二信息记录面30b与第三信息记录面30c之间的厚度为t3(＝d3-d2)时，满足52.0μm≤t1≤62.0μm、15.0μm≤t2≤21.0μm、22.0μm≤t3≤28.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm及94.0μm≤d3≤106.0μm。

在此，较为理想的是，覆盖层32厚于第一及第二中间层33、34，公差也取得较大。因此，距离d1(覆盖层32的厚度t1)的公差为±5μm。而且，考虑到聚焦错误信号的恶化程度，距离d2、d3的公差必须为±6μm。考虑此情况来决定距离d2、d3的范围。

此外，如果距离d2、d3的公差为±5μm，则能够对记录对象或再生对象的信息记录面进行更稳定的聚焦引入。

另外，即使将第一及第二中间层33、34的厚度t2、t3的公差扩大到5μm，也能够稳定地进行聚焦跳跃，从而也能够扩大光记录介质的制造范围。因此，光记录介质30较为理想的是满足t3-t2≥1μm、t2≥10μm、t1-(t2+t3)≥1μm、52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm、20.0μm≤t3≤30.0μm、52.0μm≤d1≤62.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm及94.0μm≤d3≤106.0μm。此条件能够期望使光记录介质的制造成品率更大。

此时，通过防止在光记录介质30的表面30z的背侧成像，且减少各信息记录面30a至30c的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于能够将光记录介质30的表面30z与最接近光记录介质30的表面30z的第一信息记录面30a的间隔设定得较大，因此能够抑制光记录介质30的表面30z上存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

此外，如果距离d2、d3的公差为±5μm，则能够对最接近表面30z的第一信息记录面30a进行更稳定的聚焦引入。

而且，与判断覆盖层32及各中间层33、34的厚度t1至t3的组合是否符合条件相比，通过将覆盖层32及各中间层33、34的厚度t1至t3的公差控制在较窄的范围内来进行制造，不用考虑组合而制造符合条件的光盘具有容易简单地设定制造上的目标值、条件设定变得容易的优点。另一方面，如上所述，通过明确性能上无问题的范围，即使是稍许偏离目标值而制造的光记录介质，也能够判别为良品，从而可提高产品成品率，因此获得能够将产品成本抑制得较低的效果。

因此，较为理想的是，制造光记录介质30，使光记录介质30的制造公差为四层光记录介质的制造公差的两倍的±3μm，厚度t1的标准范围为54以上60μm以下，厚度t2的标准范围为15μm以上21μm以下，厚度t3的标准范围为22μm以上28μm以下。

如果制造光记录介质30使厚度t1至t3处于此种范围内，则必要的条件可大致满足。

但是，当所有的厚度t1至t3较厚时或者相反地当所有的厚度t1至t3较薄时，距离d3的误差将扩大到±9μm(＝±3μm×3)，距离d3会偏离94.0μm≤d3≤106.0μm这一条件。因此，如果考虑到此点，最为理想的是，厚度t1为55μm以上59μm以下，厚度t2为16μm以上20μm以下，厚度t3为23μm以上27μm以下。换言之，最为理想的是，制造光记录介质30，使厚度t1为57±2μm，厚度t2为18±2μm，厚度t3为25±2μm。

另外，具有三层信息记录面的光记录介质30的制造方法包括在基板上形成覆盖层(透光层)32、第一信息记录面30a、第一中间层33、第二信息记录面30b、第二中间层34及第三信息记录面30c的工序。并且，形成第一至第三信息记录面30a至30c、第一及第二中间层33、34及覆盖层32，使覆盖层32的厚度t1及第一及第二中间层33、34的厚度t2、t3满足55.0μm≤t1≤59.0μm、16.0μm≤t2≤20.0μm及23.0μm≤t3≤27.0μm。

而且，通过上述制造方法所制造的光记录介质30满足t2-t3≥1μm及t1-(t2+t3)≥1μm。而且，通过上述制造方法所制造的光记录介质30满足52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm及20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm、94.0μm≤d3≤106.0μm。

并且，形成第一至第三信息记录面30a至30c、第一及第二中间层33、34及覆盖层32，使厚度t1的标准值为57.0μm，厚度t2的标准值为18.0μm，厚度t3的标准值为25.0μm，覆盖层32的厚度t1及第一及第二中间层33、34的厚度t2、t3的公差分别为2.0μm以下。

(实施方式3)

在实施方式3中，对具有三层信息记录面的光记录介质的其它实施例进行说明。如果优先允许所有在能够稳定地进行聚焦跳跃的范围内的中间层的厚度，并允许厚度t2减小，则能够更简单、更廉价地制造光记录介质。根据实施方式2的研究，通过使厚度t3的标准值为25μm，厚度t3的公差为±5μm，厚度t3能够为20μm以上30μm以下。

而且，厚度t2的上限能够通过比厚度t3的最小厚度小1μm以上而为19μm。由于厚度t2小于厚度t3，因此厚度公差也可以减小。因而，通过使厚度t2的公差为±4μm，厚度t2为11μm以上19μm以下。厚度t2的标准值只要是厚度t2的允许范围的中间值的15μm即可。

根据t1＝100μm-t2-t3，厚度t1的标准值为60μm。通过使厚度t1的公差为±5μm，厚度t1为55μm以上65μm以下。

根据上述的各中间层的设定条件，具有三层信息记录面的光记录介质30较为理想的是，当定义从光记录介质30的表面30z到最接近光记录介质30的表面30z的第一信息记录面30a的距离为d1、从光记录介质30的表面30z到第二接近光记录介质30的表面30z的第二信息记录面30b的距离为d2、从光记录介质30的表面30z到距离光记录介质30的表面30z最远的第三信息记录面30c的距离为d3、光记录介质30的表面30z与第一信息记录面30a之间的厚度为t1(＝d1)、第一信息记录面30a与第二信息记录面30b之间的厚度为t2(＝d2-d1)、第二信息记录面30b与第三信息记录面30c之间的厚度为t3(＝d3-d2)时，满足55.0μm≤t1≤65.0μm、11.0μm≤t2≤19.0μm、20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm及94.0μm≤d3≤106.0μm。

此外，当考虑到聚焦引入时的球面像差设定的容易性时，如果距离d2、d3的公差为±5μm，则能够对最接近表面30z的第一信息记录面30a进行更稳定的聚焦引入。因此，较为理想的是，距离d2为70.0μm以上80.0μm以下，且距离d3为95.0μm以上105.0μm以下。

以上，由于通过利用这些组合而制造的具有四层或三层信息记录面的光记录介质，能够抑制对来自原本应读取的指定信息记录层的信号面的反射光的影响，因此能够提供一种可获得稳定的伺服信号及再生信号的大容量光记录介质。

在上述具体的实施方式中主要包括具有以下结构的发明。

本发明所提供的一种光记录介质是具有四层信息记录面的光记录介质，当定义所述光记录介质的表面与最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面之间的厚度为t1、所述第一信息记录面与第二接近所述光记录介质表面的第二信息记录面之间的厚度为t2、所述第二信息记录面与第三接近所述光记录介质表面的第三信息记录面之间的厚度为t3、所述第三信息记录面与距离所述光记录介质表面最远的第四信息记录面之间的厚度为t4时，满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

根据此结构，由于具有四层信息记录面的光记录介质满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm，因此，能够防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，从而能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，当定义从所述光记录介质的表面到所述第一信息记录面的距离为d1、从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3、从所述光记录介质的表面到所述第四信息记录面的距离为d4、所述距离d1、d2、d3、d4的公差分别为E1、E2、E3、E4时，满足53.5μm-E1≤d1≤53.5μm+E1、65.0μm-E2≤d2≤65.0μm+E2、84.5μm-E3≤d3≤84.5μm+E3、及100.0μm-E4≤d4≤100.0μm+E4，其中，所述公差E1、E2、E3、E4分别为6μm以下。

根据此结构，光记录介质满足53.5μm-E1≤d1≤53.5μm+E1、65.0μm-E2≤d2≤65.0μm+E2、84.5μm-E3≤d3≤84.5μm+E3及100.0μm-E4≤d4≤100.0μm+E4，公差E1、E2、E3、E4分别为6μm以下。

因此，通过使公差E1、E2、E3、E4分别为6μm以下，能够抑制聚焦错误信号的恶化，从而能够稳定地进行聚焦控制。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述公差E1为3μm。公差E1仅由厚度t1的误差所决定，而不受其它中间层的厚度的影响。因此，通过使公差E1为3μm，能够对最接近光记录介质表面的第一信息记录面更稳定地进行聚焦引入。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述公差E2为4.5μm。根据此结构，通过使公差E2为4.5μm，能够对第二接近光记录介质表面的第二信息记录面更稳定地进行聚焦引入。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述厚度t3为25.5μm以下。

在从第二信息记录面向第三信息记录面的聚焦跳跃时，如果不预先使球面像差量适应跳跃目的地的第三信息记录面，聚焦错误信号的振幅及灵敏度将会恶化，从而无法稳定地重新开始聚焦控制。因此，较为理想的是将厚度t3的公差抑制为6μm，通过使厚度t3为25.5μm以下，能够抑制聚焦错误信号的恶化，从而能够稳定地进行聚焦控制。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述厚度t3为24.5μm以下。根据此结构，通过使厚度t3为24.5μm以下，能够更稳定地进行聚焦跳跃。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述厚度t2为10.0μm以上16.5μm以下，所述厚度t3为14.5μm以上24.5μm以下，所述厚度t4为11.0μm以上20.5μm以下。

根据此结构，通过将各厚度t2、t3、t4的公差抑制为5μm，即，使厚度t2为10.0μm以上16.5μm以下，厚度t3为14.5μm以上24.5μm以下，厚度t4为11.0μm以上20.5μm以下，能够更稳定地进行聚焦跳跃。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述距离d1大于50μm。根据此结构，通过使距离d1大于50μm，能够使从光记录介质的表面到最接近光记录介质表面的信息记录面的厚度厚于以往的光记录介质的覆盖层的厚度。

本发明所提供的一种光记录介质的制造方法是制造具有四层信息记录面的光记录介质的制造方法，包括在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层、第三信息记录面、第三中间层及第四信息记录面的工序，当定义所述透光层的厚度为t1、所述第一中间层的厚度为t2、所述第二中间层的厚度为t3、所述第三中间层的厚度为t4时，形成所述第一至第四信息记录面、所述第一至第三中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一至第三中间层的厚度满足52.0μm≤t1≤55.0μm、10.0μm≤t2≤13.0μm、18.0μm≤t3≤21.0μm及14.0μm≤t4≤17.0μm。

根据此结构，在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层、第三信息记录面、第三中间层及第四信息记录面。并且，形成第一至第四信息记录面、第一至第三中间层及透光层，使透光层的厚度及第一至第三中间层的厚度满足52.0μm≤t1≤55.0μm、10.0μm≤t2≤13.0μm、18.0μm≤t3≤21.0μm及14.0μm≤t4≤17.0μm。

此时，能够防止在光记录介质的表面的背侧成像，并减少各信息记录面的反射光之间的干涉，且将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大。

而且，在上述光记录介质的制造方法中，较为理想的是，当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3、从所述光记录介质的表面到所述第四信息记录面的距离为d4时，所制造的光记录介质满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

根据此结构，由于制造光记录介质以满足t3-t4≥1μm、t4-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3+t4)≥1μm，因此，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

而且，在上述光记录介质的制造方法中，较为理想的是，所制造的光记录介质满足60.5μm≤d2≤69.5μm、78.5μm≤d3≤90.5μm、94.0μm≤d4≤106.0μm、50.5μm≤t1≤56.5μm、10.0μm≤t2≤16.5μm、14.5μm≤t3≤24.5μm及11.0μm≤t4≤20.5μm。

根据此结构，由于制造光记录介质以满足60.5μm≤d2≤69.5μm、78.5μm≤d3≤90.5μm、94.0μm≤d4≤106.0μm、50.5μm≤t1≤56.5μm、10.0μm≤t2≤16.5μm、14.5μm≤t3≤24.5μm及11.0μm≤t4≤20.5μm，因此，通过将厚度t2、t3、t4的公差抑制为5μm，能够更稳定地进行聚焦跳跃。

而且，在上述光记录介质的制造方法中，较为理想的是，所述厚度t1的标准值为53.5μm，所述厚度t2的标准值为11.5μm，所述厚度t3的标准值为19.5μm，形成所述第一至第四信息记录面、所述第一至第三中间层及所述透光层，使所述厚度t4的标准值为15.5μm，所述透光层的厚度及所述第一至第三中间层的厚度的公差分别为1.5μm以下。

根据此结构，厚度t1的标准值为53.5μm，厚度t2的标准值为11.5μm，厚度t3的标准值为19.5μm，厚度t4的标准值为15.5μm，形成第一至第四信息记录面、第一至第三中间层及透光层，使透光层的厚度及第一至第三中间层的厚度的公差分别为1.5μm以下。

此时，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

本发明所提供的另一种光记录介质是具有三层信息记录面的光记录介质，当定义所述光记录介质的表面与最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面之间的厚度为t1、所述第一信息记录面与第二接近所述光记录介质表面的第二信息记录面之间的厚度为t2、所述第二信息记录面与距离所述光记录介质表面最远的第三信息记录面之间的厚度为t3时，满足t3-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3)≥1μm。

根据此结构，由于具有三层信息记录面的光记录介质满足t3-t2≥1μm、t2≥10μm及t1-(t2+t3)≥1μm，因此，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3时，满足52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm、20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm及94.0μm≤d3≤106.0μm。

根据此结构，由于光记录介质满足52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm、20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm及94.0μm≤d3≤106.0μm，因此，通过将厚度t2、t3的公差抑制为5μm，能够更稳定地进行聚焦跳跃。

本发明所提供的另一种光记录介质的制造方法是制造具有三层信息记录面的光记录介质的制造方法，包括在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层及第三信息记录面的工序，当定义所述透光层的厚度为t1、所述第一中间层的厚度为t2、所述第二中间层的厚度为t3时，形成所述第一至第三信息记录面、所述第一及第二中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一及第二中间层的厚度满足55.0μm≤t1≤59.0μm、16.0μm≤t2≤20.0μm及23.0μm≤t3≤27.0μm。

根据此结构，在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层及第三信息记录面。而且，形成第一至第三信息记录面、第一及第二中间层及透光层，使透光层的厚度及第一及第二中间层的厚度满足55.0μm≤t1≤59.0μm、16.0μm≤t2≤20.0μm及23.0μm≤t3≤27.0μm。

此时，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所制造的光记录介质满足t2-t3≥1μm及t1-(t2+t3)≥1μm。

根据此结构，由于制造光记录介质满足t2-t3≥1μm及t1-(t2+t3)≥1μm，因此能够防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，并且能够将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3时，所制造的光记录介质满足52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm及20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm、94.0μm≤d3≤106.0μm。

根据此结构，由于制造光记录介质满足52.0μm≤t1≤62.0μm、13.0μm≤t2≤23.0μm及20.0μm≤t3≤30.0μm、69.0μm≤d2≤81.0μm、94.0μm≤d3≤106.0μm，因此通过将厚度t2、t3的公差抑制为5μm，能够更稳定地进行聚焦跳跃。

而且，在上述光记录介质中，较为理想的是，所述厚度t1的标准值为57.0μm，所述厚度t2的标准值为18.0μm，所述厚度t3的标准值为25.0μm，形成所述第一至第三信息记录面、所述第一及第二中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一及第二中间层的厚度的公差分别为2.0μm以下。

根据此结构，厚度t1的标准值为57.0μm，厚度t2的标准值为18.0μm，厚度t3的标准值为25.0μm，形成第一至第三信息记录面、第一及第二中间层及透光层，使透光层的厚度及第一及第二中间层的厚度的公差分别为2.0μm以下。

此时，通过防止在光记录介质的表面的背侧成像，且减少各信息记录面的反射光之间的干涉，能够提高伺服信号及再生信号的质量。而且，由于可将光记录介质的表面与最接近光记录介质表面的信息记录面的间隔设定得较大，因此能够抑制在光记录介质的表面存在划痕或污垢时的再生信号的恶化。

另外，发明的实施方式各项中的具体实施方式或实施例只是明确了本发明的技术内容，不应只被具体例限定而狭义地解释，在本发明的精神和权利要求书的范围内可进行各种变更而加以实施。

产业上的利用可能性

本发明所涉及的光记录介质及光记录介质的制造方法，在对任意信息记录面进行信息的记录或再生时将来自其它信息记录面的反射光的影响抑制在最小限度，从而能够降低对伺服信号及再生信号的影响。由此，能够提供一种可获得质量良好的再生信号且易确保与现有光盘的兼容性的大容量光记录介质。

Claims (18)

1.一种光记录介质，具有四层信息记录面，其特征在于：

当定义所述光记录介质的表面与最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面之间的厚度为t1、所述第一信息记录面与第二接近所述光记录介质表面的第二信息记录面之间的厚度为t2、所述第二信息记录面与第三接近所述光记录介质表面的第三信息记录面之间的厚度为t3、所述第三信息记录面与距离所述光记录介质表面最远的第四信息记录面之间的厚度为t4时，满足：

t3-t4≥1μm、

t4-t2≥1μm、

t2≥10μm及

t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

2.根据权利要求1所述的光记录介质，其特征在于：

当定义从所述光记录介质的表面到所述第一信息记录面的距离为d1、从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3、从所述光记录介质的表面到所述第四信息记录面的距离为d4，以及所述距离d1、d2、d3、d4的公差分别为E1、E2、E3、E4时，满足：

53.5μm-E1≤d1≤53.5μm+E1、

65.0μm-E2≤d2≤65.0μm+E2、

84.5μm-E3≤d3≤84.5μm+E3、及

100.0μm-E4≤d4≤100.0μm+E4，

其中，所述公差E1、E2、E3、E4分别为6μm以下。

3.根据权利要求2所述的光记录介质，其特征在于：所述公差E1为3μm。

4.根据权利要求2或3所述的光记录介质，其特征在于：所述公差E2为4.5μm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光记录介质，其特征在于：所述厚度t3为25.5μm以下。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的光记录介质，其特征在于：所述厚度t3为24.5μm以下。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光记录介质，其特征在于：

所述厚度t2为10.0μm以上16.5μm以下，

所述厚度t3为14.5μm以上24.5μm以下，

所述厚度t4为11.0μm以上20.5μm以下。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光记录介质，其特征在于：所述距离d1大于50μm。

9.一种光记录介质的制造方法，用于制造具有四层信息记录面的光记录介质，其特征在于包括在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层、第三信息记录面、第三中间层及第四信息记录面的工序，

当定义所述透光层的厚度为t1、所述第一中间层的厚度为t2、所述第二中间层的厚度为t3、所述第三中间层的厚度为t4时，

形成所述第一至第四信息记录面、所述第一至第三中间层及所述透光层，使得所述透光层的厚度及所述第一至第三中间层的厚度满足：

52.0μm≤t1≤55.0μm、

10.0μm≤t2≤13.0μm、

18.0μm≤t3≤21.0μm及

14.0μm≤t4≤17.0μm。

10.根据权利要求9所述的光记录介质的制造方法，其特征在于：

当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3、从所述光记录介质的表面到所述第四信息记录面的距离为d4时，所制造的光记录介质满足：

t3-t4≥1μm、

t4-t2≥1μm、

t2≥10μm及

t1-(t2+t3+t4)≥1μm。

11.根据权利要求10所述的光记录介质的制造方法，其特征在于，所制造的光记录介质满足：

60.5μm≤d2≤69.5μm、

78.5μm≤d3≤90.5μm、

94.0μm≤d4≤106.0μm、

50.5μm≤t1≤56.5μm、

10.0μm≤t2≤16.5μm、

14.5μm≤t3≤24.5μm及

11.0μm≤t4≤20.5μm。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的光记录介质的制造方法，其特征在于：

所述厚度t1的标准值为53.5μm，

所述厚度t2的标准值为11.5μm，

所述厚度t3的标准值为19.5μm，

所述厚度t4的标准值为15.5μm，

形成所述第一至第四信息记录面、所述第一至第三中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一至第三中间层的厚度的公差分别为1.5μm以下。

13.一种光记录介质，具有三层信息记录面，其特征在于：

当定义所述光记录介质的表面与最接近所述光记录介质表面的第一信息记录面之间的厚度为t1、所述第一信息记录面与第二接近所述光记录介质表面的第二信息记录面之间的厚度为t2、所述第二信息记录面与距离所述光记录介质表面最远的第三信息记录面之间的厚度为t3时，满足：

t3-t2≥1μm、

t2≥10μm及

t1-(t2+t3)≥1μm。

14.根据权利要求13所述的光记录介质，其特征在于：

当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3时，满足：

52.0μm≤t1≤62.0μm、

13.0μm≤t2≤23.0μm、

20.0μm≤t3≤30.0μm、

69.0μm≤d2≤81.0μm及

94.0μm≤d3≤106.0μm。

15.一种光记录介质的制造方法，用于制造具有三层信息记录面的光记录介质，其特征在于包括在基板上形成透光层、第一信息记录面、第一中间层、第二信息记录面、第二中间层及第三信息记录面的工序，

当定义所述透光层的厚度为t1、所述第一中间层的厚度为t2、所述第二中间层的厚度为t3时，

形成所述第一至第四信息记录面、所述第一至第三中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一及第二中间层的厚度满足：

55.0μm≤t1≤59.0μm、

16.0μm≤t2≤20.0μm及

23.0μm≤t3≤27.0μm。

16.根据权利要求15所述的光记录介质的制造方法，其特征在于，所制造的光记录介质满足：

t2-t3≥1μm及

t1-(t2+t3)≥1μm。

17.根据权利要求16所述的光记录介质的制造方法，其特征在于：

当定义从所述光记录介质的表面到所述第二信息记录面的距离为d2、从所述光记录介质的表面到所述第三信息记录面的距离为d3时，所制造的光记录介质满足：

52.0μm≤t1≤62.0μm、

13.0μm≤t2≤23.0μm及

20.0μm≤t3≤30.0μm、

69.0μm≤d2≤81.0μm、

94.0μm≤d3≤106.0μm。

18.根据权利要求15至17中任一项所述的光记录介质的制造方法，其特征在于：

所述厚度t1的标准值为57.0μm，

所述厚度t2的标准值为18.0μm，

所述厚度t3的标准值为25.0μm，

形成所述第一至第三信息记录面、所述第一及第二中间层及所述透光层，使所述透光层的厚度及所述第一及第二中间层的厚度的公差分别为2.0μm以下。

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