CN102072912A - 浓度测量方法和荧光x射线分析装置 - Google Patents
浓度测量方法和荧光x射线分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102072912A CN102072912A CN2010105359775A CN201010535977A CN102072912A CN 102072912 A CN102072912 A CN 102072912A CN 2010105359775 A CN2010105359775 A CN 2010105359775A CN 201010535977 A CN201010535977 A CN 201010535977A CN 102072912 A CN102072912 A CN 102072912A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fluorescent
- ray
- sample
- ray intensity
- object component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本发明提供一种浓度测量方法和荧光X射线分析装置。在本发明中,对含有硫等对象成分的液体燃料等试样进行荧光X射线分析。从通过荧光X射线分析获得的光谱求出的对象成分的荧光X射线强度,减去与散射X射线及系统峰有关的背景噪声。对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行与试样的组成对应的修正。预先确定表示对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后的值与对象成分浓度的关系的标准曲线。根据标准曲线计算试样中的对象成分浓度。
Description
技术领域
本发明涉及荧光X射线分析。更详细地说,本发明涉及利用荧光X射线分析,测量在甲醇或乙醇等酒精燃料等试样中含有的硫等测量对象物的浓度的浓度测量方法和荧光X射线分析装置。
背景技术
荧光X射线分析是向试样照射一次X射线,检测从试样产生的荧光X射线,根据荧光X射线的光谱对试样含有的元素进行定性分析或定量分析的分析方法。进行荧光X射线分析的荧光X射线分析装置包括:X射线管,产生一次X射线;X射线检测器,使用半导体检测元件或比例计数管等;分析器,对X射线检测器检测到的X射线的波长分布或能量分布进行分析。在进行荧光X射线分析时,把X射线管产生的一次X射线向试样照射,利用X射线检测器检测从被照射了一次X射线的试样产生的荧光X射线,利用分析器分析检测到的荧光X射线的光谱。
上述的荧光X射线分析可以用于测量在液体燃料中含有的杂质的浓度。例如以减少柴油燃料等液体燃料中含有的作为有害成分的硫为目的,利用荧光X射线分析测量液体燃料中的硫浓度。在把含硫的液体燃料作为试样进行荧光X射线分析的情况下,得到包含硫的荧光X射线信号及作为被试样散射的一次X射线的散射X射线信号的X射线光谱。在设根据光谱求出的硫的荧光X射线强度为S,散射X射线强度为B的情况下,用S除以B得到的值(S/B)为与试样中的硫浓度大体成比例的函数。使用硫浓度已知的标准试样来预先确定(S/B)与浓度关系的标准曲线。通过把用荧光X射线分析得到的硫浓度未知的试样的(S/B)值与标准曲线进行比较,可以求出硫浓度。
可是,近年来限制汽油等液体燃料中含有的有害成分的标准更加严格,需要测量低浓度的硫浓度。在这种情况下,需要根据更弱的荧光X射线求出硫浓度。在用荧光X射线分析得到的光谱中含有被称为系统峰的峰。系统峰是由被荧光X射线分析装置内的空气散射的X射线、由荧光X射线分析装置内的部件反射的X射线、或因X射线碰到荧光X射线分析装置内的部件产生的荧光X射线等引起的峰,系统峰与荧光X射线分析装置有关。在测量低浓度的硫浓度的情况下,硫的荧光X射线的信号小。因此,与硫的荧光X射线的信号重叠的系统峰的影响变大,(S/B)的值与浓度不成比例。所以,在日本专利公开公报特开2001-91481号中记载了一种技术,该技术预先求出考虑了系统峰影响的标准曲线,通过使用求出的标准曲线来测量硫浓度,在存在系统峰的状态下也可以测量低浓度的硫浓度。
近年来,除了柴油燃料或汽油等以往的液体燃料以外,开始利用醇类或生物汽油等组成与以往的液体燃料有很大不同的新品种的液体燃料。在试样的组成改变了的情况下,由于X射线的质量吸收系数改变,所以荧光X射线的强度和散射X射线的强度改变。例如,即使试样中的硫浓度一定,在试样的组成改变了的情况下,硫的荧光X射线强度和散射X射线强度发生变化。由于以往的液体燃料的质量吸收系数不发生大的变动,所以可以与试样无关地用标准曲线来表达硫的荧光X射线强度与硫浓度的关系。可是,由于新品种的液体燃料的质量吸收系数与以往的相比有很大不同,硫的荧光X射线强度与硫浓度的关系不适用于以往的标准曲线。因此,对于新品种的液体燃料用以往的方法不能正确测量硫浓度。为了测量新品种液体燃料的硫浓度,需要对各个组成的液体燃料逐一求出标准曲线。存在的问题是逐一求出标准曲线在实际上是困难的。
发明内容
鉴于上述情况,本发明的目的是提供一种浓度测量方法和荧光X射线分析装置,该浓度测量方法和荧光X射线分析装置通过把因试样的组成不同造成的X射线的质量吸收系数的不同考虑进去,对荧光X射线强度进行修正,预先求出标准曲线,根据修正后的荧光X射线强度和标准曲线计算浓度,即使在试样的组成不同的情况下,也可以利用荧光X射线分析测量试样中的测量对象物的浓度。
本发明提供一种浓度测量方法,其特征在于,使用荧光X射线分析装置,向试样照射一次X射线,获得从所述试样产生的二次X射线的光谱,根据所述光谱求出所述试样中含有的对象成分的荧光X射线强度,根据求出的所述荧光X射线强度测量所述试样中的所述对象成分的浓度,所述浓度测量方法包括下述步骤:从根据获得的所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去与所述二次X射线中含有的散射X射线及所述荧光X射线分析装置固有的信号有关的背景噪声的步骤;对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行与所述试样的组成对应的修正的步骤;以及根据表示所述对象成分的浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线,计算所述试样中所述对象成分的浓度的步骤
在上述本发明的浓度测量方法中,其特征在于,还包括下述步骤:获得从所述对象成分浓度为零且组成相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;以及使用根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度及散射X射线强度,确定用于从所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的减法计算公式的步骤。
在上述本发明的浓度测量方法中,其特征在于,还包括下述步骤:通过把根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的S和B,代入用于从根据所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的减法计算公式I=S-α×B-β中,根据使I=0的多个公式计算常数α和β,来确定所述减法计算公式的步骤,其中,I表示减去所述背景噪声后的荧光X射线强度;S表示根据所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度;α和β表示常数;B表示根据所述光谱求出的所述散射X射线强度;以及通过把根据获得的所述光谱求出的S和B代入由计算出的α和β的值确定的所述减法计算公式中,从所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤。
在上述本发明的浓度测量方法中,其特征在于,还包括下述步骤:获得从所述对象成分浓度不为零且为已知值的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;从根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;以及根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度与减去所述背景噪声后的荧光X射线强度的关系,确定用于进行所述修正的修正公式的步骤。
在上述本发明的浓度测量方法中,其特征在于,还包括下述步骤:通过根据把Ik、B0和Bk代入第k个标准试样的所述对象成分的浓度Ck与Ik×(B0/Bk)γ成比例的关系式中得到的多个公式,计算常数γ,来确定修正公式I×(B0/B)γ的步骤,其中,Ik表示从根据第k个标准试样的光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值;B0表示根据作为荧光X射线强度基准的特别指定的基准试样的光谱求出的散射X射线强度;Bk表示根据第k个标准试样的光谱求出的散射X射线强度;γ表示常数;以及通过把I和B代入由计算出的γ值确定的所述修正公式,进行所述修正。
在上述本发明的浓度测量方法中,其特征在于,还包括下述步骤:获得从所述对象成分浓度已知且相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;从根据获得的多个所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正的步骤;以及根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度以及对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正后得到的值,求出表示试样中的所述对象成分浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线的步骤。
本发明还提供一种荧光X射线分析装置,其特征在于,包括:照射部,对试样照射一次X射线;获得部,获得从所述试样产生的二次X射线的光谱;以及运算部,根据所述光谱求出所述试样中含有的对象成分的荧光X射线强度,所述荧光X射线分析装置根据所述运算部求出的所述荧光X射线强度计算所述试样中所述对象成分的浓度,所述荧光X射线分析装置还包括:减法计算公式存储部,存储减法计算公式,该减法计算公式用于从根据所述获得部获得的所述光谱由所述运算部求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去与二次X射线中含有的散射X射线及所述荧光X射线分析装置自身固有信号有关的背景噪声;修正公式存储部,存储修正公式,该修正公式用于对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行与所述试样的组成对应的修正;标准曲线存储部,存储标准曲线,该标准曲线表示所述对象成分的浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系;减法计算部,使用所述减法计算公式,从根据所述获得部获得的所述光谱由所述运算部求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去所述背景噪声;修正部,对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度,使用所述修正公式进行所述修正;以及浓度计算部,根据所述标准曲线,计算所述试样中的所述对象成分的浓度。
在本发明中,对含有硫等对象成分的液体燃料等试样进行荧光X射线分析。从根据通过荧光X射线分析获得的光谱求出的对象成分的荧光X射线强度,减去与散射X射线及荧光X射线分析装置固有的系统峰有关的背景噪声。对于减去背景噪声后的荧光X射线强度进行与试样的组成对应的修正。根据表示进行修正后得到的值与对象成分浓度的关系的标准曲线,计算试样中的对象成分的浓度。
此外,在本发明中,对对象成分浓度为零且组成相互不同的多个标准试样进行荧光X射线分析。使用根据光谱求出的对象成分的荧光X射线强度及散射X射线强度,确定用于从荧光X射线强度减去背景噪声的减法计算公式。在测量浓度时使用减法计算公式从荧光X射线强度减去背景噪声。通过从对象成分的荧光X射线强度减去背景噪声,对于即使对象成分浓度低的试样,也可以测量试样中含有的对象成分的浓度。
此外,在本发明中,对对象成分浓度不为零且为已知值的多个标准试样进行荧光X射线分析。根据对象成分浓度与减去背景噪声后的荧光X射线强度的关系,确定用于对荧光X射线强度进行与试样的组成对应的修正的修正公式。在测量浓度时对减去背景噪声后的荧光X射线强度使用修正公式进行修正。由于对从对象成分的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值进行与试样的组成对应的修正,因此可以与试样的组成无关地得到与对象成分的浓度对应的值。
此外,在本发明中,对对象成分浓度为已知值的多个标准试样进行荧光X射线分析。预先制作表示对象成分浓度与对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后得到的值的关系的标准曲线。在测量浓度时,使用标准曲线计算对象成分浓度。
在本发明中,从根据荧光X射线分析获得的光谱求出的对象成分的荧光X射线强度减去背景噪声。再对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行与试样的组成对应的修正。由此,可以与试样的组成无关地得到与对象成分的浓度对应的值。因此,无需按照试样的组成不同制作不同的标准曲线,无论试样的组成如何,都可以利用荧光X射线分析高精度地测量试样中的对象成分的浓度。特别是对于含有乙醇或生物汽油等新品种液体燃料的液体燃料,利用本发明可以高精度地测量有害成分的浓度,可以把本发明用于降低液体燃料中的有害成分。如上所述,本发明具有优良的效果。
从以下的详细说明和附图,可以更充分地了解所述的内容以及进一步的目的和功能。
附图说明
图1是表示本发明的荧光X射线分析装置的结构的示意图。
图2是表示二次X射线光谱的例子的示意图。
图3是表示进行荧光X射线分析时的状况的示意图。
图4A和图4B是表示针对把化石燃料和乙醇混合后的试样评价质量吸收系数、a及b的结果的图表。
图5是表示计算的a及b的关系的特性图。
图6是表示荧光X射线分析装置执行的校正处理步骤的流程图。
图7是表示荧光X射线分析装置执行的标准曲线制作处理步骤的流程图。
图8是表示荧光X射线分析装置执行的浓度测量处理步骤的流程图。
具体实施方式
下面参照表示本发明实施方式的附图对本发明进行具体说明。
图1是表示本发明的荧光X射线分析装置结构的示意图。荧光X射线分析装置具有箱形的框体1,由能屏蔽X射线的材料制成。在框体1的上部构成平面。在框体1上部形成有开口部。在该开口部上放置收容作为分析对象的试样的试样室3。此外荧光X射线分析装置设置有盖2,盖2至少覆盖包括开口部的框体1上面的一部分。用盖2覆盖试样室3。试样室3是用于收容粉末或液体燃料等流体试样的盒。
在框体1内部形成有空洞形的测量室。框体1包括:X射线管4,向测量室内发射一次X射线;以及X射线检测器5。X射线管4通过使加速电子冲击靶来产生一次X射线。在本实施方式中,使X射线管4的靶材料采用钛,使X射线管4的激发电压为8keV。此时,一次X射线的峰的能量为4.5keV。此外,X射线管4的靶的材料和激发电压也可以与上述不同。X射线管4配置在向框体1的开口部照射一次X射线的位置。由于试样室3配置在框体1的开口部的位置,所以在进行荧光X射线分析时,从X射线管4产生的一次X射线照射到试样室3内的试样上。被照射了一次X射线的试样室3内的试样产生二次X射线,二次X射线被发射到测量室内。在二次X射线中包括因试样的成分而产生的荧光X射线及作为被试样散射的一次X射线的散射X射线。X射线检测器5配置在可以检测从试样室3内的试样产生的二次X射线的位置。图1中用虚线箭头表示X射线管4照射的一次X射线和X射线检测器5检测的二次X射线通过的路径。X射线检测器5作为检测元件采用比例计数管,输出与入射到比例计数管的二次X射线的能量成比例的电信号。此外,X射线检测器5也可以是作为检测元件使用半导体检测元件等比例计数管以外的检测元件的方式。
分析输出的电信号的分析部61与X射线检测器5连接。分析部61接收X射线检测器5输出的电信号,测量与二次X射线的能量对应的各电信号的强度,并计数其数量。然后,分析部61进行获得二次X射线的能量与计数的数量的关系的处理,即进行获得二次X射线光谱的处理。处理部62与分析部61连接,处理部62使用分析部61获得的光谱,执行本发明的浓度测量方法的处理。处理部62由执行运算的运算部、存储伴随运算产生的临时的数据的RAM以及存储用于执行本发明的浓度测量方法处理的程序的ROM等构成。此外,处理部62也执行对X射线管4、X射线检测器5及分析部61的动作进行控制的处理。非易失性存储部63、通过使用者的操作输入各种指示的操作部64及显示用于操作的必要的信息的显示部65与处理部62连接。
下面对本发明的浓度测量方法的原理进行说明。在本实施方式中,作为试样使用柴油燃料或乙醇等液体燃料,对以硫为对象成分的例子进行说明。图2是表示二次X射线光谱的例子的示意图。在光谱中包括:散射X射线的信号;以及荧光X射线的信号,试样中的硫因一次X射线激发而产生该荧光X射线的信号。散射X射线的信号的峰的能量为4.5keV,硫的荧光X射线的信号的峰的能量为2.3keV。通过精炼,从作为试样的液体燃料中把硫等杂质去除了。因此,试样中的硫浓度低,硫的荧光X射线的信号比散射X射线的信号小。通过测量硫的荧光X射线的信号的峰的大小、或对硫的荧光X射线的信号进行积分,可以求出硫的荧光X射线强度。
可是,在光谱中包含的荧光X射线的信号中,重叠有散射X射线的信号的峰的基础部分以及系统峰,根据光谱求出的荧光X射线强度包括与散射X射线和系统峰有关的背景噪声。系统峰是由于由X射线检测器5检测到来自试样的散射X射线及荧光X射线以外的X射线而包含在光谱中的峰,所述来自试样的散射X射线及荧光X射线以外的X射线包括被荧光X射线分析装置内的空气散射的X射线、由荧光X射线分析装置内的部件反射的X射线、或从荧光X射线分析装置内的部件产生的荧光X射线,等等。系统峰与荧光X射线分析装置的结构有关,是各个荧光X射线分析装置固有的量。如果设通过测量散射X射线的信号的峰的大小或对散射X射线的信号进行积分可以求出的散射X射线强度为B,则使用常数α,可以用α×B来表示对象成分的荧光X射线强度中含有的与散射X射线有关的背景噪声。此外,用常数β来表示荧光X射线强度中含有的与系统峰有关的背景噪声。因此,设根据光谱求出的硫的荧光X射线强度为S,从硫的荧光X射线强度减去背景噪声后的值为I,I用下述的公式(1)表示。
I=S-α×B-β…(1)
通过使用公式(1)可以从硫的荧光X射线强度减去背景噪声。根据在对象成分(在本实施方式中为硫)的浓度为零的条件下,对组成相互不同的多个标准试样进行荧光X射线分析的结果,可以计算出公式(1)中包含的常数α和β。对硫含量都为零的第一标准试样和第二标准试样进行荧光X射线分析,分别获得二次X射线的光谱。例如第一标准试样是柴油燃料,第二标准试样是乙醇。设根据第一标准试样的荧光X射线分析求出的硫的荧光X射线强度为S1,散射X射线强度为B1。设根据第二标准试样的荧光X射线分析求出的硫的荧光X射线强度为S2,散射X射线强度为B2。通过把S1、B1、S2及B2代入公式(1),得到下述的两个公式。
0=S1-α×B1-β
0=S2-α×B2-β
由于硫浓度为零,所以从硫的荧光X射线强度减去背景噪声后的值I为零。根据上述公式得到以下的公式(2)和公式(3)。可以用公式(2)和公式(3)计算α和β。确定了α和β的公式(1)是本发明的减法计算公式。此外,也可以使用三个以上的标准试样通过最小二乘法计算α和β。
在试样的组成改变了的情况下,由于密度和X射线的质量吸收系数改变,所以荧光X射线强度和散射X射线强度也改变。例如,即使试样中的硫浓度一定,在试样的组成改变了的情况下,硫的荧光X射线强度和散射X射线强度也改变。因此,为了在组成不同的试样之间比较荧光X射线强度,对于使用公式(1)从荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值,还必须进行与试样组成对应的修正。
图3是表示进行荧光X射线分析时的状况的示意图。设能量为E、向试样照射的一次X射线的强度为I0(E)、一次X射线向试样照射的入射角度为Ψ、二次X射线从试样向X射线检测器5发射的出射角度为θ、试样的密度为ρ、试样的X射线的质量吸收系数为μ(E)。质量吸收系数μ(E)是因试样的组成而不同、且因X射线的能量不同而改变的量。可以用以下的公式(4)来表示能用X射线检测器5检测的硫的荧光X射线强度I。其中,I为不含背景噪声的值。
…(4)
公式(4)中的A1是硫的激发效率,是个常数。公式(4)中的吸收端是硫的吸收端,硫不吸收所述吸收端以下能量的X射线。如前所述,8keV是在X射线管4中的激发电压,4.5keV是一次X射线的峰的能量,μ(4.5keV)是针对能量4.5keV的X射线的试样的质量吸收系数。在X射线管4的结构与本实施方式不同的情况下,这些值为与X射线管4的结构对应的不同的值。此外,公式(4)中的2.3keV是硫的荧光X射线的峰的能量,μ(2.3keV)是针对能量2.3keV的X射线的试样的质量吸收系数。在对象成分与硫不同的情况下,这些值由于对象成分的不同而不同。此外,可以用以下的公式(5)表示能用X射线检测器5检测的散射X射线强度B。
公式(5)中的A2是能量4.5keV的X射线的散射效率,为一个常数。由于一次X射线和散射X射线的能量相等,所以成为公式(5)这样的公式。根据公式(4)和公式(5)可以明确,减去背景噪声后的荧光X射线强度I与1/(密度×质量吸收系数)成比例。因此,设单一的基准试样的密度为ρ0、质量吸收系数为μ0,则对从密度为ρ、质量吸收系数为μ的试样中包含的硫的荧光X射线强度减去背景噪声后的值I,可以用以下的公式(6)进行与试样的组成对应的修正。用公式(6)进行的修正是把从试样得到的荧光X射线强度换算成组成与基准试样相同组成的情况下得到的荧光X射线强度。
在公知文献1(“COMPILATION OF X-RAY CROSS SECTIONS”,Lawrence Radiation Laboratory,UCRL-50174Sec.II Rev.1)中,记载有对各种元素测量的X射线的能量与质量吸收系数的关系的结果。根据公知文献1,对于碳和氧,在X射线的能量为2.3keV~4.5keV的范围内,在把以keV为单位的X射线的能量作为横轴,把质量吸收系数作为纵轴的双对数图中,X射线的能量与质量吸收系数为直线关系。此外,氢的质量吸收系数比碳和氧小4个数量级以上,与碳和氧的质量吸收系数相比可以忽略。在本实施方式中作为试样使用的柴油燃料或乙醇等液体燃料以碳、氧和氢为主要成分。由于碳和氧的质量吸收系数和X射线的能量在双对数图中为直线关系,且氢的质量吸收系数可以忽略,所以试样的质量吸收系数和X射线的能量在双对数图中为直线关系。因此,把a和b作为未知的常数,对于吸收系数为μ的试样而言,ln(μ)=a×ln(E)+b成立。此时的斜率a和截距b因试样不同而不同。
在此,对把柴油燃料等化石燃料与乙醇混合后的试样评价质量吸收系数与a及b的关系。作为把化石燃料和乙醇混合的试样,使用全部为化石燃料的试样、15%为乙醇的试样、50%为乙醇的试样、85%为乙醇的试样及100%为乙醇的试样。首先,对各试样求出质量吸收系数。图4A和4B图是表示对把化石燃料与乙醇混合的试样评价质量吸收系数与a及b的结果的图表。图4A表示针对各试样求出的对能量2.3keV的X射线的质量吸收系数μ(2.3keV)、以及对能量4.5keV的X射线的质量吸收系数μ(4.5keV)的结果。乙醇的比例越大,质量吸收系数的值也越大。然后,通过把针对各试样求出的μ(2.3keV)和μ(4.5keV)分别代入ln(μ)=a×ln(E)+b的公式中,针对各试样计算a和b。图4B表示根据图4A所示的质量吸收系数的值针对各试样计算出的a和b的结果。图5是表示计算出的a和b的关系的特性图。在图5中,把针对各试样得到的a和b在横轴为a、纵轴为b的坐标空间中作图表示,如图5所示,a和b的关系可以近似为直线。因此,设g和h为未知的常数,对于质量吸收系数为μ的试样,以下三个公式成立。
ln(μ(2.3keV))=a×ln(2.3)+b
ln(μ(4.5keV))=a×ln(4.5)+b
b=g×a+h
根据以上的三个公式消去b,得到下述的两个公式。
ln(μ(2.3keV))=a×(ln(2.3)+g)+h
ln(μ(4.5keV))=a×(ln(4.5)+g)+h
根据以上的两个公式得到下述的公式(7),根据公式(7)可以求出下述的公式(8)。
其中,
由于公式(8)中的γ和δ分别与X射线的能量和试样的组成无关,所以可以看作常数。如前所述,公式(6)表示对从密度为ρ、质量吸收系数为μ的试样中含有的硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值I进行与试样的组成对应的修正。对于公式(6)中的μ(2.3keV)和μ0(2.3keV),可以根据公式(8)求出下述的公式(9)。
根据公式(9)还可以得到下述的公式(10)。
通过使用公式(10),可以用下述的公式(11)表示公式(6)中I的系数(ρμ(2.3keV)/ρ0μ0(2.3keV))。
由于试样之间的密度差异小,所以可以把公式(11)中的(ρ/ρ0)近似为1。此外,根据公式(5),由于散射X射线强度B与1/(ρ×μ(4.5keV))成比例,所以如果设从基准试样得到的散射X射线强度为B0,则公式(11)中包含的(ρμ(4.5keV)/ρ0μ0(4.5keV))变为(B0/B)。因此,表示与试样的组成对应的修正的内容的公式(6)可以用下述的公式(12)表示。
通过使用公式(12),对于从荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值,可以进行与试样的组成对应的修正。公式(12)中包含的常数γ可以根据对象成分(在本实施方式为硫)的浓度不为零且为已知值的多个标准试样的荧光X射线分析结果来计算。在多个标准试样中,硫浓度必须相互不同。多个标准试样的组成可以相互不同,也可以相同。此外,在多个标准试样中可以包括基准试样,也可以不包括基准试样。设多个标准试样的数量为m、第k个标准试样中的硫浓度为Ck、从硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值为Ik、散射X射线强度为Bk。假设试样中的硫浓度与减去背景噪声后的硫的荧光X射线强度成比例,根据公式(12),设D为常数,下述的公式(13)成立。
通过对公式(13)的两边取对数,公式(13)可以变成下述的公式(14)。
在公式(14)中,设y=ln(Ck)-ln(Ik)、x=ln(B0/Bk)、d=ln(D),则公式(14)成为一次式y=γx+d的形式。对于m个标准试样分别计算出公式(14),通过对计算出的m个公式(14)执行最小二乘法,可以计算出常数γ。确定了γ的公式(12)是本发明的修正公式。通过使用公式(12),对于从荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值,可以进行与试样的组成对应的修正。
由于利用本发明的修正可以去除因试样的组成造成的影响,所以根据对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后的值,可以求出对任何组成的试样都可以适用的标准曲线。标准曲线可以根据对象成分(在本实施方式中为硫)的浓度为已知值的多个标准试样的荧光X射线分析结果制作。用于制作标准曲线的标准试样可以与用于计算修正参数γ使用的标准试样相同,也可以不同。多个标准试样的组成可以相互不同,也可以相同。此外,多个标准试样中可以含有基准试样,也可以不含有基准试样。设多个标准试样的数量为n,对从第k个标准试样中含有的硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值进行修正后的值为Xk。如果用一次式表示硫浓度C与对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后的值X的关系,则设p和q为常数,标准曲线用下述的公式(15)表示,此外对于第k个标准试样,下述的公式(16)成立。
C=p×X+q …(15)
Ck=p×Xk+q …(16)
对m个标准试样分别计算出公式(16),通过对计算得到的m个公式(16)执行最小二乘法,可以计算出常数p和q。确定了p和q的值的公式(15)是标准曲线。在对任意试样进行荧光X射线分析的情况下,根据荧光X射线分析的结果计算对减去背景噪声后的硫的荧光X射线强度进行修正后的值X,通过把X值代入公式(15)的标准曲线,可以计算出试样中的硫浓度C。此外,标准曲线不限定于一次式,也可以假设为二次式等其它的关系式,来制作标准曲线。
下面对本发明的荧光X射线分析装置进行的浓度测量方法的处理进行说明。荧光X射线分析装置可以执行决定常数α、β和γ的校正处理、制作标准曲线的标准曲线制作处理以及测量任意试样中的对象成分(在本实施方式中为硫)的浓度的浓度测量处理。
图6是表示荧光X射线分析装置执行的校正处理的顺序的流程图。在使用者对操作部64进行操作,输入开始校正处理的指示的情况下,荧光X射线分析装置开始校正处理。首先,荧光X射线分析装置接收用于计算α、β和γ使用的多个标准试样中含有的硫的浓度值(S11)。在步骤S11中,处理部62使用于输入浓度值的输入画面在显示部65上显示,使用者从操作部64输入浓度值。由此,荧光X射线分析装置接收各标准试样的硫浓度值。在校正处理中使用的标准试样至少需要两个以上的浓度值为零的标准试样,两个以上的浓度值不为零的标准试样。然后,通过使用者把分别密封了多个标准试样的多个试样室3放入盖2内,荧光X射线分析装置接收多个标准试样(S12)。在荧光X射线分析装置的盖2的内侧设置有可以放置多个试样室3的回转台。通过使用者把密封有已输入浓度值的试样的试样室3放置在回转台上,进行步骤S12。
然后,荧光X射线分析装置使回转台动作,把试样室3配置在来自X射线管4的一次X射线可以照射到的位置上,使来自X射线管4的一次X射线照射试样室3内的试样。然后,荧光X射线分析装置用X射线检测器5检测二次X射线,用分析部61分析X射线检测器5的输出并得到光谱。如上所述,荧光X射线分析装置对标准试样进行荧光X射线分析(S13)。在步骤S13中,荧光X射线分析装置对多个标准试样分别进行获得光谱的处理。处理部62根据从各标准试样获得的光谱内浓度值为零的两个标准试样的光谱,获得硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B。处理部62通过把获得的硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B代入公式(2)和公式(3),计算出α和β(S14)。此外,如前所述,也可以根据浓度值为零的三个以上标准试样的光谱,用最小二乘法计算出α和β。
然后,处理部62根据各标准试样的光谱求出硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B。处理部62通过把求出的硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B、以及在步骤S14中计算出的α和β代入公式(1),从硫的荧光X射线强度减去背景噪声(S15)。然后,处理部62根据各标准试样的减去背景噪声后的硫的荧光X射线强度计算出常数γ(S16)。在步骤S16中,处理部62把多个标准试样内的一个作为基准试样,对于各标准试样,把浓度值、减去背景噪声后的荧光X射线强度、散射X射线强度及基准试样的散射X射线强度代入公式(14)。处理部62通过对代入了上述值的多个公式(14)执行最小二乘法,计算出γ值。
然后,处理部62使计算出的α、β和γ值在显示部65上显示,等待接收确认了上述值的使用者通过对操作部64的操作发出的接收确定指示(S17)。荧光X射线分析装置在接收到重新测量的指示等,没有接收到确定指示的情况下(在步骤S17中为“否”),处理返回到步骤S13,对各标准试样重新进行荧光X射线分析。在处理部62接收到确定指示的情况下(在步骤S17中为“是”),把计算出的α、β、γ以及在计算中使用的基准试样的散射X射线强度B0存储到存储部63中(S18)。处理部62在步骤S18后,使校正处理结束。此外,荧光X射线分析装置也可以采用不具有回转台,按照不同的标准试样逐一执行接收浓度值、接收标准试样和进行荧光X射线分析的一系列作业的方式。通过把α和β存储到存储部63中,存储减法计算公式,通过把γ和B0存储到存储部63中,存储修正公式。
图7是表示荧光X射线分析装置执行的标准曲线制作处理的步骤的流程图。荧光X射线分析装置在使用者对操作部64进行操作,输入了开始标准曲线制作处理的指示的情况下,开始标准曲线制作处理。首先,荧光X射线分析装置接收用于制作标准曲线使用的多个标准试样中含有的硫的浓度值(S21)。在标准曲线制作处理中使用的标准试样需要有两个以上浓度值相互不同的标准试样。此外,荧光X射线分析装置在步骤S21中也可以根据使用者的指示选择一次式或二次式等标准曲线的函数形式。然后,荧光X射线分析装置接收浓度值被接收了的多个标准试样(S22)。
然后,荧光X射线分析装置对多个标准试样分别进行荧光X射线分析(S23)。处理部62根据从各标准试样获得的光谱求出硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B。处理部62通过把求出的S和B、以及存储在存储部63中的α和β代入公式(1),从硫的荧光X射线强度减去背景噪声(S24)。然后,处理部62针对从对各标准试样计算出的硫荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值I,进行与各标准试样的组成对应的修正(S25)。在步骤S25中,处理部62通过把I和B、以及存储在存储部63中的γ和B0代入公式(12)进行修正。然后,处理部62根据对从各标准试样中含有的硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值进行修正后的值,制作标准曲线(S26)。在步骤S26中,处理部62对于各标准试样,把浓度值及对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后的值代入公式(16)。处理部62对代入上述值的多个公式(16)进行最小二乘法,求出p和q的值。由此,处理部62制作出标准曲线。此外,如前所述,也可以制作一次式以外的标准曲线。
然后,处理部62使用于确认制作的标准曲线的画面显示,等待接收确认了标准曲线的使用者通过对操作部64操作发出的确定指示(S27)。在步骤S27中,处理部62利用把求出的p和q的值在显示部65上显示、或在显示部65上显示表示标准曲线的线形的图等方法,显示用于使用者确认标准曲线的画面。在荧光X射线分析装置接收到重新测量的指示等,没有接收到确定指示的情况下(在步骤S27中为“否”),使处理返回到步骤S23,对各标准试样重新进行荧光X射线分析。在处理部62接收到确定指示的情况下(在步骤S27中为“是”),通过把求出的p和q存储到存储部63中,把标准曲线存储到存储部63中(S28)。处理部62在步骤S28后使标准曲线制作处理结束。此外在步骤S28中,处理部62也可以利用存储数值表等方法,把标准曲线自身存储到存储部63中,所述数值表表示标准曲线上的浓度值与对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行修正后的值的关系。
在用荧光X射线分析装置对任意的试样进行分析之前,必须至少执行一次校正处理和标准曲线制作处理。为了保持浓度测量的精度,优选的是每一个月定期执行校正处理和标准曲线制作处理。此外,在荧光X射线分析装置的设置场所移动了的情况下等荧光X射线分析装置的使用环境发生变化的情况下,优选的是执行校正处理和标准曲线制作处理。
图8是表示荧光X射线分析装置执行的浓度测量处理的步骤的流程图。在使用者对操作部64进行操作,输入了开始浓度测量的指示的情况下,荧光X射线分析装置开始浓度测量处理。通过使用者把密封了含有对象成分(在本实施方式中为硫)的试样的试样室3放入盖2内,荧光X射线分析装置接收试样(S31)。然后荧光X射线分析装置使来自X射线管4的一次X射线照射试样室3内的试样,用X射线检测器5检测二次X射线。荧光X射线分析装置用分析部61对X射线检测器5的输出进行分析,得到光谱。由此,荧光X射线分析装置对试样进行荧光X射线分析(S32)。处理部62从获得的光谱求出硫的荧光X射线强度S和散射X射线强度B。处理部62通过把求出的S和B、以及存储在存储部63中的α和β代入公式(1),从硫的荧光X射线强度减去背景噪声(S33)。
然后,处理部62把从硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值I和B、以及存储在存储部63中的γ和B0代入公式(12)。由此,处理部62对减去背景噪声后的硫的荧光X射线强度进行与各标准试样的组成对应的修正(S34)。然后,处理部62在存储在存储部63中的标准曲线上,求出与对从试样中含有的硫的荧光X射线强度减去背景噪声后得到的值进行修正后得到的值对应的浓度值。由此,处理部62根据标准曲线计算硫浓度(S35)。然后处理部62通过在显示部65上显示计算出的浓度的值,输出测量出的浓度(S36)。在步骤S36之后,处理部62使浓度测量处理结束。此外,荧光X射线分析装置也可以使用图中没有表示的个人计算机(PC)或打印机等,输出测量出的浓度。
如以上详细叙述的那样,在本发明中,对含硫的液体燃料等试样进行荧光X射线分析,根据通过荧光X射线分析获得的光谱求出的硫的荧光X射线强度,从该求出的硫的荧光X射线强度减去与散射X射线和系统峰有关的背景噪声。此外,在本发明中,对减去背景噪声后的荧光X射线强度进行与试样的组成对应的修正,根据表示修正后的值与硫浓度的关系的标准曲线,计算试样中的硫浓度。通过从硫的荧光X射线强度减去背景噪声,即使对于硫浓度低的试样,也可以测量试样中含有的硫浓度。此外,通过对减去背景噪声后的荧光X射线强度,进行与试样的组成对应的修正,可以与试样的组成无关地得到与硫浓度对应的修正值。因此,无需按试样的组成不同制作不同的标准曲线,无论试样的组成如何,都可以利用荧光X射线分析对试样中的硫浓度进行高精度的测量。特别是对于含有乙醇或生物汽油等新品种的液体燃料的各种液体燃料,利用本发明可以高精度地测量作为有害成分的硫的浓度,可以把本发明用于降低液体燃料中含有的硫的浓度。
在本实施方式中,作为对象成分以硫为例进行了说明,但对象成分不限定为硫。只要是可以测量荧光X射线的成分,都可以使用本发明测量浓度。此外,在本实施方式中,试样采用柴油燃料等液体燃料,但不限于此。在本发明中,只要是以碳和/或氧为主要成分的组成,对什么样组成的试样都可以进行对对象成分的浓度测量。此外,只要是X射线的能量与质量吸收系数的关系在双对数图中为直线关系的组成的试样,对于组成以碳和/或氧为主要成分的试样以外的试样也可以对对象成分测量浓度。
此外,在本实施方式中,表示了直到计算浓度的全部处理都由荧光X射线分析装置执行的方式,但本发明的方式不限于此。本发明的浓度测量方法也可以采用到进行荧光X射线分析的处理为止由荧光X射线分析装置进行,以下的处理由在荧光X射线分析装置外部的PC等计算装置执行的方式。由计算装置执行的处理是根据通过荧光X射线分析获得的光谱求出减法计算公式和修正公式的处理、计算对象成分的浓度的处理。
Claims (9)
1.一种浓度测量方法,其特征在于,使用荧光X射线分析装置,向试样照射一次X射线,获得从所述试样产生的二次X射线的光谱,根据所述光谱求出所述试样中含有的对象成分的荧光X射线强度,根据求出的所述荧光X射线强度测量所述试样中的所述对象成分的浓度,所述浓度测量方法包括下述步骤:
从根据获得的所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去与所述二次X射线中含有的散射X射线及所述荧光X射线分析装置固有的信号有关的背景噪声的步骤;
对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行与所述试样的组成对应的修正的步骤;以及
根据表示所述对象成分的浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线,计算所述试样中所述对象成分的浓度的步骤。
2.根据权利要求1所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
获得从所述对象成分浓度为零且组成相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;以及
使用根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度及散射X射线强度,确定用于从所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的减法计算公式的步骤。
3.根据权利要求2所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
通过把根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的S和B,代入用于从根据所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的减法计算公式I=S-α×B-β中,根据使I=0的多个公式计算常数α和β,来确定所述减法计算公式的步骤,其中,I表示减去所述背景噪声后的荧光X射线强度;S表示根据所述光谱求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度;α和β表示常数;B表示根据所述光谱求出的所述散射X射线强度;以及
通过把根据获得的所述光谱求出的S和B代入由计算出的α和β的值确定的所述减法计算公式中,从所述对象成分的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
获得从所述对象成分浓度不为零且为已知值的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;
从根据从所述多个标准试样获得的所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;以及
根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度与减去所述背景噪声后的荧光X射线强度的关系,确定用于进行所述修正的修正公式的步骤。
5.根据权利要求4要求的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
通过根据把Ik、B0和Bk代入第k个标准试样的所述对象成分的浓度Ck与Ik×(B0/Bk)γ成比例的关系式中得到的多个公式,计算常数γ,来确定修正公式I×(B0/B)γ的步骤,其中,Ik表示从根据第k个标准试样的光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值;B0表示根据作为荧光X射线强度基准的特别指定的基准试样的光谱求出的散射X射线强度;Bk表示根据第k个标准试样的光谱求出的散射X射线强度;γ表示常数;以及
通过把I和B代入由计算出的γ值确定的所述修正公式,进行所述修正。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
获得从所述对象成分浓度已知且相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;
从根据获得的多个所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;
对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正的步骤;以及
根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度以及对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正后得到的值,求出表示试样中的所述对象成分浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线的步骤。
7.根据权利要求4所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
获得从所述对象成分浓度已知且相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;
从根据获得的多个所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;
对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正的步骤;以及
根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度以及对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正后得到的值,求出表示试样中的所述对象成分浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线的步骤。
8.根据权利要求5所述的浓度测量方法,其特征在于,还包括下述步骤:
获得从所述对象成分浓度已知且相互不同的多个标准试样产生的二次X射线的光谱的步骤;
从根据获得的多个所述光谱求出的所述对象成分的荧光X射线强度减去所述背景噪声的步骤;
对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正的步骤;以及
根据所述多个标准试样的所述对象成分的浓度以及对从所述多个标准试样的所述荧光X射线强度减去所述背景噪声后得到的值进行所述修正后得到的值,求出表示试样中的所述对象成分浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系的标准曲线的步骤。
9.一种荧光X射线分析装置,其特征在于,包括:
照射部,对试样照射一次X射线;
获得部,获得从所述试样产生的二次X射线的光谱;以及
运算部,根据所述光谱求出所述试样中含有的对象成分的荧光X射线强度,
所述荧光X射线分析装置根据所述运算部求出的所述荧光X射线强度计算所述试样中所述对象成分的浓度,
所述荧光X射线分析装置还包括:
减法计算公式存储部,存储减法计算公式,该减法计算公式用于从根据所述获得部获得的所述光谱由所述运算部求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去与二次X射线中含有的散射X射线及所述荧光X射线分析装置自身固有信号有关的背景噪声;
修正公式存储部,存储修正公式,该修正公式用于对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行与所述试样的组成对应的修正;
标准曲线存储部,存储标准曲线,该标准曲线表示所述对象成分的浓度与对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度进行所述修正后得到的值的关系;
减法计算部,使用所述减法计算公式,从根据所述获得部获得的所述光谱由所述运算部求出的所述对象成分的所述荧光X射线强度,减去所述背景噪声;
修正部,对减去所述背景噪声后的荧光X射线强度,使用所述修正公式进行所述修正;以及
浓度计算部,根据所述标准曲线,计算所述试样中的所述对象成分的浓度。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009254204A JP2011099749A (ja) | 2009-11-05 | 2009-11-05 | 濃度計測方法及び蛍光x線分析装置 |
JP2009-254204 | 2009-11-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102072912A true CN102072912A (zh) | 2011-05-25 |
CN102072912B CN102072912B (zh) | 2014-08-20 |
Family
ID=43925439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010535977.5A Expired - Fee Related CN102072912B (zh) | 2009-11-05 | 2010-11-03 | 浓度测量方法和荧光x射线分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8582717B2 (zh) |
JP (1) | JP2011099749A (zh) |
CN (1) | CN102072912B (zh) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102346156A (zh) * | 2011-06-24 | 2012-02-08 | 江苏龙源催化剂有限公司 | 测定选择性催化还原脱硝催化剂活性组分含量的方法 |
CN103969274A (zh) * | 2013-01-28 | 2014-08-06 | 东亚Dkk株式会社 | 能量色散型荧光x射线分析装置 |
CN103969275A (zh) * | 2013-01-28 | 2014-08-06 | 东亚Dkk株式会社 | 能量色散型荧光x射线分析装置 |
CN104990946A (zh) * | 2015-07-03 | 2015-10-21 | 中国计量科学研究院 | K荧光x射线辐射装置 |
CN105092624A (zh) * | 2014-05-20 | 2015-11-25 | 株式会社堀场制作所 | 分析装置和校正方法 |
CN105259196A (zh) * | 2014-07-08 | 2016-01-20 | 日本株式会社日立高新技术科学 | X射线分析用试样板以及荧光x射线分析装置 |
CN105637352A (zh) * | 2013-10-15 | 2016-06-01 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析方法及荧光x射线分析装置 |
CN111537484A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-08-14 | 山东澳联新材料有限公司 | 基于荧光mof-植物杂交体的水体污染物的检测方法 |
CN116507943A (zh) * | 2020-11-30 | 2023-07-28 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9258495B2 (en) * | 2012-06-21 | 2016-02-09 | Providence Photonics, Llc | Multi-spectral infrared imaging system for flare combustion efficiency monitoring |
RU2524559C1 (ru) * | 2013-05-16 | 2014-07-27 | Алексей Никифорович Никифоров | Рентгеноспектральный анализ негомогенных материалов |
JP6325338B2 (ja) * | 2014-05-20 | 2018-05-16 | 株式会社堀場製作所 | 分析装置及び校正方法 |
US10018748B2 (en) | 2015-01-16 | 2018-07-10 | Saudi Arabian Oil Company | Inline density and fluorescence spectrometry meter |
WO2017176623A1 (en) * | 2016-04-07 | 2017-10-12 | Rigaku Americas Corporation | System and method for determining the composition of a plurality of pills using x-ray florescence |
CN110312928B (zh) * | 2017-03-15 | 2021-03-26 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析方法以及荧光x射线分析装置 |
US11047814B2 (en) * | 2017-08-07 | 2021-06-29 | C. Uyemura & Co., Ltd. | X-ray fluorescence analysis measurement method and X-ray fluorescence analysis measurement device |
AU2019268796A1 (en) * | 2018-05-18 | 2020-12-17 | Enersoft Inc. | Systems, devices, and methods for analysis of geological samples |
JP6944730B2 (ja) * | 2020-02-12 | 2021-10-06 | 株式会社リガク | 定量分析方法、定量分析プログラム及び蛍光x線分析装置 |
JP7302504B2 (ja) * | 2020-02-27 | 2023-07-04 | 株式会社島津製作所 | 蛍光x線分析装置 |
CN113092510A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-09 | 成都中光电科技有限公司 | 一种高铝玻璃原材料硝酸钾的x荧光测定方法 |
WO2023210136A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 株式会社島津製作所 | 蛍光x線分析装置 |
EP4276452B1 (en) * | 2022-05-13 | 2024-07-03 | Bruker AXS GmbH | System and method for determining mass fractions in a test sample with wave-length dispersive x-ray fluorescence spectrometers |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11248653A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Nec Corp | 全反射螢光x線分析方法及び装置 |
CN101151524A (zh) * | 2005-04-06 | 2008-03-26 | 理学电机工业株式会社 | 荧光x射线分析装置和其所采用的程序 |
JP4237891B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2009-03-11 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光x線分析装置のバックグラウンド補正方法及びその方法を用いる蛍光x線分析装置 |
JP2009074954A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3375369A (en) * | 1965-07-13 | 1968-03-26 | Atomic Energy Commission Usa | Matrix corrected x-ray fluorometric analysis method |
US4577338A (en) * | 1982-11-01 | 1986-03-18 | Xertex Corporation | X-Ray fluorescence spectrometer and method of calibrating the same |
US8223917B2 (en) * | 2005-09-01 | 2012-07-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of quantitative analysis of hexavalent chromium in chromate coating and method for controlling hazardous element in encapsulating resin of resin encapsulation semiconductor device |
-
2009
- 2009-11-05 JP JP2009254204A patent/JP2011099749A/ja not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-11-03 CN CN201010535977.5A patent/CN102072912B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-05 US US12/940,223 patent/US8582717B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11248653A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Nec Corp | 全反射螢光x線分析方法及び装置 |
JP4237891B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2009-03-11 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光x線分析装置のバックグラウンド補正方法及びその方法を用いる蛍光x線分析装置 |
CN101151524A (zh) * | 2005-04-06 | 2008-03-26 | 理学电机工业株式会社 | 荧光x射线分析装置和其所采用的程序 |
JP2009074954A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102346156A (zh) * | 2011-06-24 | 2012-02-08 | 江苏龙源催化剂有限公司 | 测定选择性催化还原脱硝催化剂活性组分含量的方法 |
CN103969274A (zh) * | 2013-01-28 | 2014-08-06 | 东亚Dkk株式会社 | 能量色散型荧光x射线分析装置 |
CN103969275A (zh) * | 2013-01-28 | 2014-08-06 | 东亚Dkk株式会社 | 能量色散型荧光x射线分析装置 |
CN103969275B (zh) * | 2013-01-28 | 2018-02-16 | 东亚Dkk株式会社 | 能量色散型荧光x射线分析装置 |
CN105637352A (zh) * | 2013-10-15 | 2016-06-01 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析方法及荧光x射线分析装置 |
CN105637352B (zh) * | 2013-10-15 | 2018-09-04 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析方法及荧光x射线分析装置 |
CN105092624A (zh) * | 2014-05-20 | 2015-11-25 | 株式会社堀场制作所 | 分析装置和校正方法 |
CN105259196A (zh) * | 2014-07-08 | 2016-01-20 | 日本株式会社日立高新技术科学 | X射线分析用试样板以及荧光x射线分析装置 |
CN104990946A (zh) * | 2015-07-03 | 2015-10-21 | 中国计量科学研究院 | K荧光x射线辐射装置 |
CN111537484A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-08-14 | 山东澳联新材料有限公司 | 基于荧光mof-植物杂交体的水体污染物的检测方法 |
CN116507943A (zh) * | 2020-11-30 | 2023-07-28 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
CN116507943B (zh) * | 2020-11-30 | 2023-12-01 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110103547A1 (en) | 2011-05-05 |
JP2011099749A (ja) | 2011-05-19 |
US8582717B2 (en) | 2013-11-12 |
CN102072912B (zh) | 2014-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102072912B (zh) | 浓度测量方法和荧光x射线分析装置 | |
CN101311708B (zh) | X射线荧光设备和用于进行x射线荧光测量的方法 | |
EP3064931B1 (en) | Quantitative x-ray analysis | |
CN110312928A (zh) | 荧光x射线分析方法、荧光x射线分析程序以及荧光x射线分析装置 | |
CN107209132B (zh) | 荧光x射线分析装置 | |
WO2006112084A1 (ja) | 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム | |
Lemberge et al. | Quantitative analysis of 16–17th century archaeological glass vessels using PLS regression of EPXMA and µ‐XRF data | |
Alvarez et al. | Quality management and method validation in EDXRF analysis | |
US20230060446A1 (en) | Quantitative analysis method, quantitative analysis program, and x-ray fluorescence spectrometer | |
Sampson et al. | PC/FRAM: a code for the nondestructive measurement of the isotopic composition of actinides for safeguards applications | |
US4015124A (en) | Determining the concentration of sulphur in coal | |
Nguyen et al. | Basic characterization of highly enriched uranium by gamma spectrometry | |
Siddique et al. | Evaluation of laboratory performance using proficiency test exercise results | |
Bolortuya et al. | Study of the correlation between the coal calorific value and coal ash content using X-ray fluorescence analysis | |
Quétel et al. | Examination of the performance exhibited by a single detector double focusing magnetic sector ICP-MS instrument for uranium isotope abundance ratio measurements over almost three orders of magnitude and down to pg g− 1 concentration levels | |
Berlizov et al. | Feedback from operational experience of on-site deployment of bias defect analysis with COMPUCEA | |
CN115575435A (zh) | 一种气态流出物中放射性碘的分析方法 | |
CN114740520A (zh) | 一种放射性惰性气体活度测量装置及方法 | |
Balla et al. | Uncertainty budget and validation of NAA using Reference Materials | |
Zeisler | Investigations by INAA for the development of Natural Matrix Standard Reference Materials®(SRMs) suitable for small sample analysis | |
CN115616010B (zh) | 基于跨皮带中子活化分析的物料成分检测方法及检测装置 | |
WO2023100611A1 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
Devi et al. | Determination of Sr to Ca ratio in solid carbonate, fluoride, and nitrate samples using the fundamental parameters of EDXRF: experimental and empirical evaluation of non-destructive assays in light matrices | |
Tian et al. | Metrological role of neutron activation analysis. II. Parametric INAA–an ideal back-up for INAA as a primary ratio method of measurement | |
Smith et al. | Viability of UF6 cylinder verification using the hybrid enrichment verification array |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140820 Termination date: 20191103 |