CN101948315A - 一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法 - Google Patents

一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法 Download PDF

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刘平
周敬恩
马明亮
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Abstract

本发明涉及一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,属于氮化物陶瓷领域。即在平均颗粒尺寸为8~20μm,氮化铝晶粒尺寸约30nm的氮化铝粉末中,添加少量的烧结助剂混合后装入石墨模具中,然后于热压烧结炉中控制烧结温度为1500~1600℃进行烧结,最终得氮化铝陶瓷。所得的氮化铝陶瓷结构致密,其热导率介于120~150W·m-1·K-1之间,三点弯曲强度为400~500MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率为1~3%。本发明提供的低温烧结方法烧结炉的尺寸较小,结构简单,可实现连续烧结,非常适于工业化生产。

Description

一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法
技术领域
本发明涉及一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,属于氮化物陶瓷领域。
背景技术
氮化铝具有高热导率、高电绝缘性及与硅相近的热膨胀系数,因而在通讯和电子器件领域受到重视,已成为目前最有希望的新一代陶瓷基片材料,也是一种具有广阔开发前景的高温结构陶瓷材料。
近年来氮化铝的研究已经取得了较大的进展,但是其应用却呈献相对停滞状态,氮化铝陶瓷性能优异,但其商品化程度较低,原因在于氮化铝陶瓷产品价格高昂,其中氮化铝烧结温度高也是造成其价格高、难以商品化的关键。
因为氮化铝属于共价键晶体,无添加剂时难于烧结致密。一般的制造工艺大多采用加入一定量的CaO或者Y2O3等碱土金属或者稀土金属氧化物做烧结助剂,在1800℃以上的高温烧成氮化铝陶瓷,所得的氮化铝陶瓷组织扫描图见附图1。如果能把氮化铝烧结温度降至1600℃附近将大大降低其烧结成本。研究者主要还是采用添加较多的烧结添加剂,在较低温度下形成液相,通过液相烧结机制完成氮化铝陶瓷的致密化。但是过多的添加剂,往往会形成包裹氮化铝晶粒的第二相,使得氮化铝陶瓷的性能下降。
发明内容
本发明目的在于提供一种高性能氮化铝陶瓷及其低温烧结方法,使得产品具有良好的性能价格比。
具体地说,本发明采用平均颗粒尺寸为8~20μm,氮化铝晶粒尺寸约为30nm的氮化铝粉末进行低温烧结,烧结温度为1500~1600℃。
一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,包括如下步骤:
将氮化铝粉末加入烧结助剂,混合后装入石墨模具中,然后将其放于真空热压烧结炉中烧结,控制烧结温度为1500~1600℃,压力为2Mpa,真空度为10-2帕,时间为1h,烧结后切断电源并随炉冷却到室温,最终得氮化铝陶瓷。
所述的氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为8~20μm,氮化铝晶粒尺寸约为30nm;
所用的烧结助剂为工业级CaO,YF3和Y2O3任意一种或者一种以上混合物,烧结助剂的用量按其占氮化铝粉末重量的1~3%。
本发明低温烧结方法制备的氮化铝陶瓷具有较好的性能,热导率介于120~150W·m-1·K-1之间,三点弯曲强度为400~500MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率为1~3%。
本发明的有益效果
本发明的优点在于采用平均颗粒尺寸为8~20μm,氮化铝晶粒尺寸约为30nm的氮化铝粉末,在低于1600℃的烧结温度下烧结即可制得高致密度(烧结体的气孔率降低至1.1%)的氮化铝陶瓷,从而降低生产成本。而且在这样的烧结温度下,下游厂商就可以使用MoSi2作为烧结炉的加热元件,烧结炉的尺寸会变小,且结构也会变简单,这对批量生产来说就可能实现连续烧结,非常适于工业化生产。本发明提供的低温烧结方法所得的高性能氮化铝陶瓷,其热导率介于120~150W·m-1·K-1之间,三点弯曲强度为400~500MPa,显微硬度为Hv1200Mpa,。
附图说明
图1、普通氮化铝粉末1800℃烧结后显微组织图
图2、实施例1所得氮化铝陶瓷,即在温度1600℃下烧结的显微组织图。
具体实施方式
下面通过实施例并结合附图,进一步说明本发明的工艺和特点,但并不限制本发明。
实施例1
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为8μm,颗粒分布为对数-正态分布,所选用的添加物为工业级CaO,添加物的总量为1%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为 1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
烧结后的氮化铝陶瓷显微组织见附图2。从图2中可看出,烧结后的组织很细小,烧结后的晶粒尺寸为1微米左右,远小于普通氮化铝粉烧结后的晶粒尺寸。而且组织致密,气孔少,气孔边缘圆滑,且晶粒与原始粉末比发生长大,能看到第二相出现的特征,但第二相不明显,且第二相不同于玻璃相,说明烧结为液相烧结,也有部分是反应烧结。而普通氮化铝1800℃烧结后的所得的氮化铝陶瓷组织图附图1,第二相形貌明显不同:普通氮化铝烧结,组织粗大,第二相在颗粒包围在氮化铝周围,薄层玻璃相特征明显,属于典型的液相烧结。
所得的氮化铝陶瓷样品经测定其性能,热导率介于150W·m-1·K-1,三点弯曲强度为400MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率小于1%。
实施例2
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级CaO,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为 2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于145W·m-1·K-1,三点弯曲强度为450MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率小于1%。
实施例3
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级CaO,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1500℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为 1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于125W·m-1·K-1,三点弯曲强度为350MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率3%。
实施例4
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级Y2O3,添加物的总量为1%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于125W·m-1·K-1,三点弯曲强度为300MPa,显微硬度为Hv1150MPa,气孔率3%。
实施例5
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级Y2O3,添加物的总量为2%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于125W·m-1·K-1,三点弯曲强度为380MPa,显微硬度为Hv1150MPa,气孔率1%。
实施例6
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级Y2O3,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1500℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为 1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于140W·m-1·K-1,三点弯曲强度为400MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率2%。
实施例7
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为20μm,所选用的添加物为工业级YF3,添加物的总量为1%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为 2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于120W·m-1·K-1,三点弯曲强度为300MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率1%。
实施例8
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为10μm,所选用的添加物为工业级YF3,添加物的总量为2%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为 2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于120W·m-1·K-1,三点弯曲强度为300MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率2%。
实施例9
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为10μm,所选用的添加物为工业级YF3,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1500℃,压力为 2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于120W·m-1·K-1,三点弯曲强度为300MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率2%。
实施例10
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为10μm,所选用的添加物为工业级CaO+YF3,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1500℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于120W·m-1·K-1,三点弯曲强度为300MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率2%。
实施例11
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为10μm,所选用的添加物为工业级CaO+Y2O3,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1500℃,压力为2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为 1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于120W·m-1·K-1,三点弯曲强度为350MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率2%。
实施例12
原料氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为10μm,所选用的添加物为工业级YF3+Y2O3,添加物的总量为3%;
烧结工艺为:将烧结助剂加入氮化铝粉末,混合后装入石墨模具中,然后将其放于热压炉中,烧结温度为1600℃,压力为 2MPa,加压烧结采用到温加压法,在保温时间内保持压力,烧结时间为1h,然后随炉降温。烧结在真空中进行,真空度为10-2帕。
制备的氮化铝陶瓷的性能,热导率介于130W·m-1·K-1,三点弯曲强度为400MPa,显微硬度为Hv1200MPa,气孔率1%。
以上所述内容仅为本发明构思下的基本说明,而依据本发明的技术方案所做的任何等效变换,均应属于本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,其特征在于步骤如下:
将氮化铝粉末加入烧结助剂,混合后装入石墨模具中,然后将其放于真空热压烧结炉中烧结,控制烧结温度为1500~1600℃,烧结后切断电源并随炉冷却到室温,最终得氮化铝陶瓷;
所述的氮化铝粉末的平均颗粒尺寸为8~20μm,氮化铝晶粒尺寸约为30nm。
2.如权利要求1所述的一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,其特征在于所述的烧结助剂为CaO,YF3和Y2O3任意一种或者一种以上的混合物,烧结助剂的用量按其占氮化铝粉末重量的1~3%。
3.如权利要求1或2所述的一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法,其特征在于所述的真空热压烧结炉中烧结时,控制压力为2Mpa,真空度为10-2帕,烧结时间为1h。
4.如权利要求1或2所述的一种高性能氮化铝陶瓷的低温烧结方法所得的氮化铝陶瓷,其特征在于其热导率介于120~150W·m-1·K-1之间,三点弯曲强度为400~500MPa,显微硬度为Hv1200Mpa,气孔率为1~3%。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102249689A (zh) * 2011-05-25 2011-11-23 山东理工大学 氮化铝粉体的制备方法
CN103387393A (zh) * 2013-07-25 2013-11-13 中国计量学院 一种氮化铝陶瓷及其制备方法
CN104973865A (zh) * 2015-05-26 2015-10-14 北京科技大学 一种高导热氮化铝陶瓷的制备方法
CN105948759A (zh) * 2016-06-08 2016-09-21 山东鹏程陶瓷新材料科技有限公司 真空热压烧结法制备的氮化铝陶瓷基片及其制备方法
CN106631046A (zh) * 2016-11-30 2017-05-10 莱鼎电子材料科技有限公司 一种用于生产氮化铝陶瓷基片的复合助烧剂
CN107935601A (zh) * 2017-12-23 2018-04-20 洛阳名力科技开发有限公司 一种氮化铝陶瓷
CN108706980A (zh) * 2018-06-27 2018-10-26 深圳市商德先进陶瓷股份有限公司 氮化铝陶瓷及其制备方法、静电卡盘和应用
CN108863393A (zh) * 2018-07-03 2018-11-23 北京科技大学 一种高导热和高强度氮化铝陶瓷的制备方法
CN110357594A (zh) * 2019-08-08 2019-10-22 苏州山人纳米科技有限公司 陶瓷表面三维结构的快速制备方法
CN112811909A (zh) * 2021-01-06 2021-05-18 北京科技大学 一种热压烧结制备高强度高热导率氮化铝的方法
CN113354418A (zh) * 2021-07-21 2021-09-07 广东工业大学 一种真空热压烧结法制备的高性能氮化铝陶瓷基板及制备方法
CN115397771A (zh) * 2020-03-30 2022-11-25 松下知识产权经营株式会社 氮化铝结构体及其制造方法
CN115397771B (zh) * 2020-03-30 2024-05-14 松下知识产权经营株式会社 氮化铝结构体及其制造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1199036A (zh) * 1998-04-24 1998-11-18 中国科学院上海硅酸盐研究所 透明氮化铝陶瓷的制备方法
CN1749213A (zh) * 2005-07-29 2006-03-22 四川艺精长运超硬材料有限公司 一种ain陶瓷材料的制备方法
CN1938221A (zh) * 2004-03-29 2007-03-28 电气化学工业株式会社 氮化铝粉末及氮化铝烧结体
CN101085676A (zh) * 2007-06-04 2007-12-12 陕西科技大学 一种低温低压制备AlN粉体的方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1199036A (zh) * 1998-04-24 1998-11-18 中国科学院上海硅酸盐研究所 透明氮化铝陶瓷的制备方法
CN1938221A (zh) * 2004-03-29 2007-03-28 电气化学工业株式会社 氮化铝粉末及氮化铝烧结体
CN1749213A (zh) * 2005-07-29 2006-03-22 四川艺精长运超硬材料有限公司 一种ain陶瓷材料的制备方法
CN101085676A (zh) * 2007-06-04 2007-12-12 陕西科技大学 一种低温低压制备AlN粉体的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《陶瓷》 20100825 崔珊,王芬 氮化铝陶瓷低温真空热压烧结研究 第7-10页 1-4 , 第8期 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102249689A (zh) * 2011-05-25 2011-11-23 山东理工大学 氮化铝粉体的制备方法
CN102249689B (zh) * 2011-05-25 2013-10-09 山东理工大学 氮化铝粉体的制备方法
CN103387393A (zh) * 2013-07-25 2013-11-13 中国计量学院 一种氮化铝陶瓷及其制备方法
CN103387393B (zh) * 2013-07-25 2014-11-05 中国计量学院 一种氮化铝陶瓷及其制备方法
CN104973865A (zh) * 2015-05-26 2015-10-14 北京科技大学 一种高导热氮化铝陶瓷的制备方法
CN104973865B (zh) * 2015-05-26 2017-05-17 北京科技大学 一种高导热氮化铝陶瓷的制备方法
CN105948759A (zh) * 2016-06-08 2016-09-21 山东鹏程陶瓷新材料科技有限公司 真空热压烧结法制备的氮化铝陶瓷基片及其制备方法
CN106631046A (zh) * 2016-11-30 2017-05-10 莱鼎电子材料科技有限公司 一种用于生产氮化铝陶瓷基片的复合助烧剂
CN107935601A (zh) * 2017-12-23 2018-04-20 洛阳名力科技开发有限公司 一种氮化铝陶瓷
CN108706980A (zh) * 2018-06-27 2018-10-26 深圳市商德先进陶瓷股份有限公司 氮化铝陶瓷及其制备方法、静电卡盘和应用
CN108863393A (zh) * 2018-07-03 2018-11-23 北京科技大学 一种高导热和高强度氮化铝陶瓷的制备方法
CN110357594A (zh) * 2019-08-08 2019-10-22 苏州山人纳米科技有限公司 陶瓷表面三维结构的快速制备方法
CN115397771A (zh) * 2020-03-30 2022-11-25 松下知识产权经营株式会社 氮化铝结构体及其制造方法
CN115397771B (zh) * 2020-03-30 2024-05-14 松下知识产权经营株式会社 氮化铝结构体及其制造方法
CN112811909A (zh) * 2021-01-06 2021-05-18 北京科技大学 一种热压烧结制备高强度高热导率氮化铝的方法
CN113354418A (zh) * 2021-07-21 2021-09-07 广东工业大学 一种真空热压烧结法制备的高性能氮化铝陶瓷基板及制备方法

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