CN101945711A

CN101945711A - 蒸气输送系统

Info

Publication number: CN101945711A
Application number: CN2009801052710A
Authority: CN
Inventors: 马尔科姆·伍德科克
Original assignee: P2i Ltd
Current assignee: P2i Ltd
Priority date: 2008-02-14
Filing date: 2009-02-16
Publication date: 2011-01-12
Also published as: GB0802687D0; GB2469599A; GB2469599B; TW201006953A; EP2252409A2; GB201012887D0; US20110027457A1; WO2009101425A3; WO2009101425A2

Abstract

一种用于将物质(12)输送至处理(室14)的输送系统(10)，其包括用于容纳由液体物质的源(18)供给的物质的物质容器(16)。加热装置(44)被设置用于加热液体物质。加热装置由导体(46)连接至加热控制单元(48)，该加热控制单元(48)是由控制装置(30)可操作的，以控制液体物质从容器(16)的蒸发。流动引导装置(22、24)引导所蒸发的物质流向处理室。

Description

蒸气输送系统

发明领域

本发明涉及用于将物质输送至处理室的输送系统和方法，以及用于等离子体处理制品表面的包括这种输送系统的设备。

发明背景

已知输送系统用于将来自高沸点液体的蒸气输送和计量到真空室内，以便在真空室内进行化学或物理处理。这种已知的系统并不是非常适合于液体是化学反应性单体的情形。

在已知的起泡器系统中，载气通过液体起泡，吸收并将蒸气传输到真空室内。在已知的蒸发器系统中，产生了足够高的蒸气压(1托数量级)以将蒸气经由质量流控制器输送到真空室内。在蒸气输送系统中，加热液体并将其抽吸穿过细孔，通常借助于载气。

起泡器和蒸气输送系统存在要求载气流的不足，且因此限制了可利用的蒸气/载体组成的范围。蒸发器系统具有液体必须被加热至足够高的温度以便产生足够高的压力使质量流控制器起作用的缺陷。这具有相伴的不稳定的风险，包括在液体是单体的情形中发生聚合的风险。而且，蒸气输送系统也易于被液体内的颗粒污染物或在液体是单体的情形中，由于倾向于聚合而阻塞细孔。

现有技术

国际专利申请WO-A1-2005/089961(因防御而处于秘密状态)描述了一种用于使用低功率脉冲激光来涂布聚合物层的现有方法的一个示例，该专利申请描述了一种用于将聚合物材料沉积到衬底上的方法和设备，其中单体材料被引入到等离子体室内并以0.004到500W/m³的功率点燃。

UK专利申请GB-A-2343453(NEC公司)描述了一种用于形成聚合物膜的设备的另一个示例。该设备包括蒸发控制器。然而，没提到蒸发速率如何增大或减小。

为了克服与现有系统有关的问题，提出了本发明。

发明概述

根据本发明，提供了一种用于将物质输送至处理室的输送系统，该系统包括：用于容纳由液体物质的源供给的物质的物质容器；用于加热所述液体物质的加热装置，所述加热装置是可操作的，以控制所述液体物质从所述容器的蒸发；以及用于将所蒸发的物质的流引导到处理室的流动引导装置(flow guide means)，其中，所述加热装置包括浸没式加热器。

本发明还提供了一种将物质输送至处理室的方法，所述方法包括：将来自物质源的物质供给至容器；通过均匀地加热所述容器内的液体物质来使所述液体物质从所述容器蒸发；将所蒸发的物质的流引导至处理室。

本发明还提供了用于制品表面的等离子体处理设备，该设备包括：制品可被置于其中的处理室；用于将物质输送至处理室的输送系统，以便在所述室内形成等离子体；用于在处理室内产生电场的装置，以便当所述物质被供给至处理室时形成等离子体，使得所述制品的表面可以被处理；以及用于选择性地控制处理室内的压力的压力控制装置；其中，所述输送系统包括：用于容纳由液体物质的源供给的物质的物质容器；用于加热所述液体物质的加热装置，所述加热装置是可操作的，以控制所述液体物质从所述容器的蒸发；以及用于将所蒸发的物质的流引导到处理室的流动引导装置。

本发明的其他优选的和/或任选的特征被界定在所附的权利要求中。

现在将仅通过举例并参考附图来描述本发明，其中：

附图简述

图1是用于将物质输送至处理室的输送系统的示意性表示；

图2是显示了图1所示的容器内的液体物质的质量变化的图；

图3显示了两个不同尺寸的容器内的液体物质的质量变化率的两个图；

图4显示了图1所示的输送系统的容器内的第一浸没式加热装置；

图5显示了图1所示的输送系统的容器内的第二浸没式加热装置；

图6是用于将物质输送至处理室的第二输送系统的示意性图示；以及

图7是显示了图6的输送系统的操作状态的表。

所阐释的实施方案的详述

参考图1，输送系统10显示为用于将物质12输送至处理室14。该系统包括用于容纳由液体物质的源18供给的物质的物质容器16。容器16可以是烧瓶或烧杯，或用于容纳待蒸发的液体的其他容器，且优选是敞口的以有利于液体供给到容器中和液体从容器蒸发。

在容器16内设置了用于蒸发液体物质的装置。该蒸发装置包括浸没式加热装置，正如参考图4和5更详细描述的。另外，蒸发装置可以包括如图1所示的加热元件20。

实现所要求的蒸发所需的热是许多不同因素的函数。这些因素包括液体之上的周围区域内的压力，以及该区域内的物质和其他成分的浓度；液体的温度；液体内的分子间力；以及液体的表面积。这些其他因素中的一些，诸如压力，还可以用于控制蒸发，但蒸发速率的变化对供给热的变化比对压力的变化敏感。

液体内的分子间力对每一种物质来说是恒定的，且表面积对特定尺寸和形状的选定容器来说是恒定的。给定的处理步骤所要求的压力通常也是恒定的，但会经历一些波动。因此，为了获得所要求的至处理室中的物质的流量而提供给液体物质的热量可以通过计算或通过试验确定。对多种物质和将在处理室中进行的多个处理步骤来说，可以确定物质对蒸发装置的启动的这种预定的特征响应(predetermined characteristic response)，且可以控制蒸发装置以获得所要求的蒸发速率。更具体而言，为了获得所要求的蒸发速率，可以预先确定由蒸发装置供给至容器的热量。

系统10包括流动引导装置22、24，以便将所蒸发的物质引导流向处理室14。图1中的流动引导装置包括蒸发室22和导管24，物质可以从容器16被蒸发到蒸发室22中，导管24选择性地在蒸发室与处理室之间流体连接，使得物质可以选择性地从所述蒸发室被输送至所述处理室。导管24包括阀25，其用于控制所述室与所述处理室之间的选择性的流体连接。蒸发室22和导管24可以包括额外的加热装置26，以便减少已经从容器16蒸发的物质接触蒸发室和导管的内表面时发生的冷凝。

监测装置28测量物质12随时间从容器16蒸发的速率，使得可以监测被输送至处理室14的所蒸发的物质的流量。监测装置28可以包括用于测量所述容器内的液体物质的重量(质量)随时间的变化，如图1所示。重量的变化是已经从容器16蒸发并被输送至处理室的物质的重量或质量的量度。合适的称重装置包括称重传感器(load cell)、天平或应变计。

可选择地或另外，监测装置28可以包括用于感测容器内的物质的高度的高度传感器(level sensor)，诸如超声传感器、光学传感器或电容传感器。

参考图1，液体物质在输送循环过程中的重量变化标示了输送至处理室的所蒸发的物质的流量。因此，通过测量这种重量变化，可以确定正确的流量是否已经进入处理室中。如果确定了正确的流量已经进入处理室，那么还可以确定已经成功地实施了处理。如果确定了不正确的流量已经进入处理室，那么可以确定未成功地实施处理，或者至少未达到所要求的标准。

通过比较用于输送的重量的期望变化与实时监测到的重量变化，可以做出成功或未成功处理的决定。如果监测装置28具有显示重量的显示器，那么可以简单地通过手动比较所监测到的重量变化与查找表来做出这样的决定。

可选择地且如图1所示，可以将使用在一个或多个处理步骤中的一种或多种物质的蒸发的预定的特征速率(predetermined characteristic rate)存储在控制装置30的存储器32中，且监测装置28适于供给与蒸发的监测速率有关的信号。在此可选择方案中，控制装置30可以包括比较器装置34，其用于比较从监测装置接收到的蒸发的监测速率与存储器中存储的蒸发的预定的特征速率。比较器装置根据其对监测速率和预定的速率的比较来发射信号。

在图1所示的布置中，控制装置30响应由所述比较器装置发射的信号，且可以用于控制所述蒸发装置的启动，使得调整物质的实际流速以与所述预定的特征速率一致。如果排空室内的压力不同于特征速率被确定时的压力，那么所监测到的重量变化可以不与预定的速率一致。由于真空泵装置的操作，或由于系统内的其他变量，压力可以改变。这种压力变化可以在输送系统10中得到补偿。

如图1所示，控制装置30被可操作地连接至阀25，因此其可以控制所述排空室22与所述处理室14之间的流体连接，使得可以控制物质从排空室到所述处理室的输送。通过控制蒸发速率，实现了所蒸发的物质到处理室的输送速率，且阀25被控制来将输送转变为“关闭”或“开始”。

通过操作阀42，使供给导管40将液体物质选择性地供给至容器16。控制装置30可以被可操作地连接至阀42，如图1所示，使得控制装置30可以控制液体物质至容器的供给。

参考图4，浸没式加热装置44显示为浸没在容器16内的液体物质中以便加热液体物质。浸没式加热装置通过导体46连接至加热控制单元48，加热控制单元48是可通过控制装置30操作的，以控制来自容器16中的液体物质的蒸发。

浸没式加热装置44提供了用于加热液体物质的改进的布置，使得可以更准确地控制蒸发，且当需要处理期望量的所蒸发的物质时，可以更有效地将其“按需”供给至处理室。

此外，另一种加热装置可以包括非浸没式加热布置，其中诸如元件20的加热元件加热容器的外部。容器是热传导的，并通过传导将热传递至与容器接触的液体物质。随后通过对流或经由搅拌，如使用搅拌器，将热分配遍布液体物质。然而，将会理解，根据液体与容器表面的接近度的不同，以不同的速率加热液体物质。一些最接近容器表面的液体物质以及液体表面可以实现相对快地蒸发。然而，其他远离容器表面的液体物质以及液体表面可以实现相对慢地蒸发。因此，当处理所需要的所蒸发的物质时，难以实现所蒸发的物质的恒定的且均匀的流速。另外，因为当在需要时很难用这种非浸没式布置来控制蒸发，所以可能需要将物质维持在温暖的条件下，使得当要求时，可以使物质快速蒸发。当物质被加温时，一些物质的蒸发是不可避免的而导致浪费。

浸没式加热装置44增大了(如，与现有技术的非浸没式布置相比)热传递至液体物质的表面积。通过提供适于被分散在液体物质中的加热构造(heating formation)而增大了该表面积。

将该构造设置成使液体物质通常可以被均匀加热；即，液体可以被迅速加热且所蒸发的物质可以被按需供给。当通常均匀地加热液体时，容器的一个区域内的液体接纳通常等于容器的另一个区域内的热的热量。

另外，期望该构造并不过分限制加热的液体的流，以便允许加热的液体上升至用于蒸发的液体的表面。在图4中，加热构造是纤维状的。合适的纤维状的构造可以包括金属棉(metallic wool)、烧结基体或具有大表面积的其他导体。容器和棉可以由诸如钢的相同的金属制造。

可选择地，如图5所示，浸没式加热装置50包括通常均匀地按照格栅布置且被浸没在液体物质12中的加热构造。格栅可以呈有利于液体物质的基本上均匀加热的任何合适的形式。如图所示，该构造包括金属笼或金属栅格，具有从结点沿正交方向延伸的等间距的元件(除了图5所示的元件外，另外的元件在进入页面的方向延伸)。可选择地，加热构造可以被布置成蜂窝。

加热构造的搅动可能受到合适的搅拌器、位移装置或其他驱动装置(未显示)的影响。这种搅动还增强了传热以及对液体的任何层的破坏，这可以起到形成加热构造周围的绝缘层的作用。

现在将描述操作图1的系统的方法。

通过孔(未显示)使排空室通至大气压。通过关闭导管24内的阀25使排空室22和容器16与处理室14隔离。打开阀42，且从源18沿着导管40供给液体物质，同时使系统处于大气压力。所供给的液体物质的量由将在处理室内进行的处理步骤决定，且就此而言，不连续的液体量可以供给不连续的处理步骤，或足够的液体可以供给超过一个的处理步骤。当已经供给容器16所需量的物质时，关闭阀42并打开阀25。连接至处理室的真空泵送装置将排空室22和导管24内的气体排空以获得要求的处理压力。一旦已经将排空室22排空，则可以关闭导管24内的阀25。

当所蒸发的物质需要用于处理时，浸没式加热装置44(或50)加热容器内的液体物质。浸没式加热装置可以实现快速加热，且因此可以按需供给物质。另外或可选择地，容器16可以被加热元件20加热以促进蒸发。控制供给至液体的热能的量以调整并维持物质从容器的蒸发。当要求处理时，打开阀25，并使所蒸发的物质流过导管24并进入处理室14，这是因为真空泵送装置产生的压差。

在物质的输送过程中，排空室22和导管24被加热器26加热，以减轻它们内表面上的冷凝。

根据物质从容器16蒸发的测量速率，监测装置28将信号传输至比较器装置34。比较器装置比较从监测装置28接收的蒸发的测量速率与存储器32中存储的蒸发的预定的特征速率。比较器装置34发射与所监测到的蒸发速率与预定的速率的差有关的信号。控制装置30控制供给至液体12的热，以便控制蒸发速率，使得如果要求与预定的蒸发速率一致的话，那么调整实际的蒸发速率。

控制装置30显示在图1中，但在没有这种控制装置的输送系统中，可以监测容器16内的物质的质量，且如果质量的变化没有按照预定的话，那么可以确定不正确量的物质已经进入处理室14，且因此处理步骤没有充分完成。

通过测量容器16内的液体质量随时间的变化来监测液体物质的蒸发。图2显示了质量随时间变化的典型图。在所显示的实施例中，物质的输送被确定为随时间是线性的，且图的梯度是流入处理室中的物质的量度。

图3显示了就直径为35mm和22mm的两个选定容器来说，物质随时间的损失率。如35mm容器的图所显示的，损失率是线性的，且所监测到的输送速率是按照处理步骤所要求的。

该系统适于将使用在等离子体处理中的单体输送至处理室。这种单体可能是在处理室内进行制品表面的等离子体沉积所要求的，且可以是用于在制品上获得薄的疏水性聚合物层的单体。

在参考图1所描述的系统中，载气并不要求将物质输送至处理室，且因此蒸气组合物并不受到限制。不要求质量流控制器。在容器16内与液体物质接触的蒸气的压力仅仅比整个处理室的压力高一点点，因而使所要求的液体的温度升高最少。而且，导管24的孔尺寸可以在数厘米的区域内，降低了通道阻塞的倾向。

正如图4和5所描述的，蒸发装置44、50可以选择性地被引入到物质供给系统中，如图6所示。

参考图6，输送系统10A显示为将物质输送至处理室14A。系统10A包括第一容器16A，其可以被填充液体物质12A；第二容器18A，其用于接纳来自第一容器16A的液体物质；第一流动控制装置20A，其用于控制被允许从第一容器流到第二容器的液体物质的体积；蒸发装置30A，其用于蒸发第二容器中的液体物质；以及第二流动控制装置38A，其用于控制所蒸发的物质26A从第二容器到处理室14A的流动。

第一容器16A可以通过系统操作员手动填充，且可以呈漏斗或带入口的密闭容器的形式。第二容器18A可以是烧瓶或烧杯，或用于容纳待蒸发的液体的其他容器，且优选是敞口的以有利于液体供给至容器和液体从容器蒸发。

蒸发装置30A被设置用于当液体物质处于容器18A内时蒸发它们。容器内的液体物质可以按照图6所示地被加热以促进蒸发，且除了浸没式加热元件44、50之外，这种加热装置还可以包括加热板，或如果容器是传导的，则通过在容器内感应热。

实现所要求的蒸发需要的热是许多不同因素的函数。这些因素包括液体之上的周围区域内的压力，以及该区域内的物质和其他成分的浓度；液体的温度；液体内的分子间力；以及液体的表面积。液体内的分子间力对每一种物质来说是恒定的，且表面积对特定尺寸和形状的选定容器来说是恒定的。给定的处理步骤所要求的压力通常也是恒定的，尽管会经历一些波动。因此，为了获得所要求的至处理室中的物质的流量而提供给液体物质的热量可以通过计算或通过试验确定。对多种物质和将在处理室中进行的多个处理步骤来说，可以确定物质对蒸发装置的启动的这种预定的特征响应，且可以控制蒸发装置以获得所要求的蒸发速率。

第一流动控制装置20A具有内部空间28A，其被依尺寸设计以便当由第一容器16A填充时，容纳预定体积的液体物质。第一流动控制装置可以控制液体物质到内部空间28A中的流动和液体物质从内部空间到所述第二容器18A的流动。

更具体而言，第一流动控制装置20A包括导管32A和处于导管的上游部分处的第一阀34A以及处于导管的下游部分处的第二阀36A。内部空间由导管和第一阀以及第二阀界定。内部空间28A除了占据导管内部的空间之外，还占据了每一个阀内部的自由空间，且当确定内部空间28A的体积时，要考虑到这样的自由空间。

第一阀34A可以被打开以允许液体物质流入内部空间28A中。第二阀36A可以被打开以允许液体物质从内部空间28A流向第二容器18A。第一阀34A可以被打开且第二阀36A可以被关闭，以允许液体物质填充内部空间28A。当内部空间被填充时，第一阀34A可以被关闭，且第二阀36A可以被打开，以允许包含在内部空间28A中的预定体积的液体物质流入第二容器18A中。

通过选择具有不同内部体积的多个导管中的任一个，可以按照要求容易地改变液体物质的预定体积。将在处理室14A中进行的不同的处理步骤要求通过室的不同的流速和所蒸发物质的不同浓度。导管32A的内部体积可以根据将在室14A中进行的所要求的处理步骤来选择。

如图6所示的第二流动控制装置38A包括蒸发室40A和导管42A，物质可以从容器18A被蒸发入蒸发室40A中，导管42A从蒸发室40A延伸向处理室14A。导管42A包括用于控制所蒸发的物质26A从第二容器18A到处理室14A的流动的阀44A。蒸发室40A和导管42A可以包括额外的加热装置(未显示)，以便减少已经从容器18A蒸发的物质接触蒸发室和导管的内表面时发生的冷凝。

输送系统可以形成用于等离子体处理制品表面的设备的一部分。这种设备通常包括处理室，制品可以被置于处理室中；正如本文中描述的输送系统，其用于将物质输送至处理室以便形成室内的等离子体；用于在处理室内产生电场的装置，以便当所述物质被供给至处理室时形成等离子体，使得所述制品的表面可以被处理；以及用于选择性地控制处理室内的压力的压力控制装置。

现在将参考图6和7描述操作输送系统10A的方法。在图7中，提供了对阀34A、阀36A和阀44A的说明。表中提到“打开”是阀被打开到阀是足够敞开的以允许要求流量的物质流过的程度。提到“C”是阀被关闭以限制或防止物质流过。

第一容器16A通常填充一定量的液体物质，以便将物质输送到处理室而足以进行多次处理步骤。

阀34A被关闭，且阀36A和44A被打开。处理设备的压力控制装置在阀34A的下游将处理室和输送系统排空至数mTorr的区域内的典型压力。这样排空的输送系统将清除堵塞。

接着，阀36A被关闭，且阀44A可以被打开或关闭。然后，阀34A被打开，而阀36A保持关闭。阀44A可以被打开或关闭，因为这在此处理步骤中并不重要。液体物质被允许依靠重力(或引起流动的其他方式)从第一容器16A流过阀34A并进入导管32A中。被关闭的阀36A限制物质朝第二容器18A的进一步的流动，使得第一流动控制装置20A的内部空间28A可以被填充。

当内部空间28A被填充时，阀34A被关闭，由此在内部空间28A内密封预定体积的液体物质。阀36A被打开，以允许预定体积的液体流入第二容器18A中。阀44A可以在此阶段过程中被打开或关闭。有利地是，阀44A被关闭以使输送系统与处理室隔离，使得当阀44A被打开时，物质可以按照需要被输送至处理室。如果阀44A在填充第二容器18的过程中被打开，则一些液体物质可以在需要被处理之前蒸发并进入处理室14A中。

当第二容器18A已经接纳了预定体积的液体时，启动蒸发装置30A以蒸发第二容器18A内的液体物质。阀44A被关闭，且阀36A也可以被关闭以防止所蒸发的物质前行到第一流动控制装置20A中。

当所蒸发的物质26A被要求用于等离子体处理时，阀44A被打开，且蒸气因等离子体处理装置的压力控制装置产生的压力梯度而被抽吸入处理室14A中。

如上所述，供给至第二容器18A的液体物质的体积被预先确定为将在处理室内进行的特定的工艺步骤所要求的。当已经进行处理时，阀36A被打开，且压力控制装置排空系统10A，正如在上面的第一方法步骤中所描述的。

按照本文中描述的这种方法可以合适地通过可结合阀34A、36A和44A以及蒸发装置30A操作的控制装置来控制。这种控制装置可以包括处理单元和存储器，处理单元用于控制阀和排空装置的操作，而存储器存储，如图7中显示的表。

除了上面描述的和图6中显示的那些特征外，系统10A可以合适地包括监测装置(未显示)，其用于测量物质随时间从第二容器18A蒸发的速率，使得可以监测被输送至处理室14A的所蒸发的物质的流量。监测装置可以包括用于测量所述容器内的液体物质的重量(或质量)随时间的变化。重量的变化是已经从容器18A蒸发并被输送至处理室的物质的重量或质量的量度。合适的称重装置包括称重传感器、天平或应变计。

可选择地或另外，监测装置可以包括用于感测容器内的物质的高度的高度传感器，诸如超声传感器、光学传感器或电容传感器。

液体物质在输送循环过程中的重量变化标示了输送至处理室的所蒸发的物质的流量。因此，通过测量这种重量变化，可以确定正确的流量的所蒸发的物质是否已经进入处理室中。如果确定了正确的流量已经进入处理室，那么还可以确定已经成功地实施了处理。如果确定了不正确的流量已经进入处理室，那么可以确定未成功地实施处理，或者未达到所要求的标准。

通过比较用于输送的预期的重量变化和实时监测到的重量变化，可以做出成功或未成功地处理的决定。如果监测装置具有显示重量的显示器，那么可以简单地通过人工比较所监测到的重量变化与查找表中的重量变化来做出这样的决定。

已经通过两个实施方案(在图4和5中)描述了本发明，有一些改动和选择方案，但在已经阅读和理解了本描述后，进一步的实施方案和改动对本领域的技术人员来说是明显的。

所有这样的实施方案和改动预期落入由所附权利要求界定的本发明的范围内。

Claims

1.一种输送系统，其用于将物质输送至处理室，所述系统包括：

物质容器，其用于容纳由液体物质的源供给的物质；

加热装置，其用于加热所述液体物质，所述加热装置是可操作的，以控制所述液体物质从所述容器的蒸发；以及

流动引导装置，其用于将所蒸发的物质的流引导到处理室，其中

所述加热装置包括具有加热构造的浸没式加热装置，所述加热构造适于在使用时分散在所述液体物质中。

2.如权利要求1所述的输送系统，其中，所述物质是用于使用在等离子体处理中的单体。

3.如权利要求1或2所述的输送系统，其中，所述浸没式加热装置包括加热构造，所述加热构造适于被分散在所述液体物质中。

4.如权利要求3所述的输送系统，其中，所述加热构造被设置成在使用中使所述液体物质大体上被均匀地加热。

5.如权利要求4所述的输送系统，其中，所述加热构造被设置成允许所加热的液体物质在所述容器内大体上自由地流动。

6.如权利要求3到5中任一项所述的输送系统，其中，所述加热构造是纤维状的。

7.如权利要求6所述的输送系统，其中，所述加热构造包括金属棉。

8.如权利要求3到5中任一项所述的输送系统，其中，所述加热构造以格栅的形式大体上均匀地布置，以便浸没在所述液体物质中。

9.如权利要求6所述的输送系统，其中，所述加热构造包括笼或栅格。

10.如任一前述权利要求所述的输送系统，包括监测装置，所述监测装置用于测量物质从所述容器随时间蒸发的速率，使得能够监测被输送至所述处理室的所蒸发的物质的流动。

11.如权利要求10所述的输送系统，其中，所述监测装置包括称重装置，所述称重装置用于测量所述容器内的液体物质的重量随时间的变化。

12.如任一前述权利要求所述的输送系统，包括控制装置，所述控制装置是根据所述物质的预定的特征响应来构建的，以通过浸没式加热装置蒸发，使得能够根据将要在所述处理室内进行的要求的等离子体处理来控制所述物质的输送速率。

13.如权利要求12所述的输送系统，包括比较器装置，所述比较器装置用于比较物质从所述容器蒸发的监测速率与蒸发的预定的特征速率，并发射与所述监测速率和所述预定的特征速率之间的差有关的信号。

14.如权利要求13所述的输送系统，其中，所述控制装置响应由所述比较器装置发射的所述信号，且能够控制所述蒸发装置的启动，使得所述监测速率被调整以与所述预定的特征速率一致。

15.如权利要求14所述的输送系统，其中，蒸发通过外部加热器和/或浸没式加热器的启动来控制。

16.如任一前述权利要求所述的输送系统，包括：

供给容器，其用于填充液体物质；

第一流动控制装置，其用于控制被允许从所述第一容器流向所述第二容器的液体物质的体积；以及

第二流动控制装置，其用于控制所蒸发的物质从所述第二容器到处理室的流动。

17.一种将物质输送至处理室的方法，所述方法包括：

将来自物质源的液体物质供给至容器；

通过均匀地加热所述容器内的液体物质来使所述液体物质从所述容器蒸发；以及

将所蒸发的物质的流引导至处理室。

18.如权利要求17所述的方法，其中，所述物质是用于使用在等离子体处理中的单体。

19.如权利要求17或18所述的方法，其中，所述液体活性物质的均匀加热包括将加热构造浸没在所述液体活性物质中。

20.如权利要求17到19中任一项所述的方法，其中，所述加热构造是纤维状的。

21.如权利要求19所述的方法，其中，所述加热构造以格栅的形式大体上均匀地布置，以便浸没在所述液体活性物质中。

22.如权利要求17到21中任一项所述的方法，包括：监测物质从所述容器随时间蒸发的速率，使得计量流量的所蒸发的物质能够被输送至所述处理室。

23.如权利要求22所述的方法，其中，根据所述物质对供给的热的预定的特征响应来将热供给至所述液体物质，使得能够根据将要在所述处理室内进行的要求的等离子体处理来控制所述物质的输送速率。

24.如权利要求22或23所述的方法，其中，物质从所述容器蒸发的监测速率与蒸发的预定的特征速率比较，使得能够确定所述监测速率与所述预定的特征速率之间的差。

25.如权利要求24所述的方法，其中，根据所述监测速率与所述预定的特征速率之间的所述差来控制并调整所述物质的蒸发，使得所述监测速率与所述预定的特征速率一致。

26.用于制品表面的等离子体处理设备，所述设备包括：

处理室，制品能够被置于所述处理室内；

输送系统，其用于将物质输送至所述处理室，以便在所述室内形成等离子体；

产生电场的装置，其用于在所述处理室内产生电场，以便当所述物质被供给至所述处理室时形成等离子体，使得所述制品的表面能够被处理；以及

压力控制装置，其用于选择性地控制所述处理室内的压力；其中

所述输送系统包括：

物质容器，其用于容纳由液体物质的源供给的物质；

流动引导装置，其用于将所蒸发的物质的流引导到所述处理室。

27.如权利要求26所述的设备，其中，所述加热装置是浸没式加热装置。

28.如权利要求26或27所述的设备，其中，所述输送系统是如权利要求3到16中任一项所述的输送系统。