CN101942661A - 用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法，包括可使加热的气体化学剂和液体化学剂产生雾状化学剂的雾化器，若干个化学湿处理腔体单元，若干个去离子水喷淋湿处理腔体单元，以及异丙醇(IPA)取干处理腔体单元，以及将待处理材料依次送入各处理单元腔体内的传输机构，该系统还包括喷雾刀，该喷雾刀具有多个雾状化学剂射口，喷射口中间设有毛细管，所述雾状化学剂通过毛细管周边的喷射口空间呈扇形喷射至待处理材料的表面。使单面连续化学湿处理变得简单可行，有效解决了传统固定化学工艺槽重复使用化学液的交叉沾污问题；同时增强了平板基片，待处理材料薄膜衬底的化学工艺处理均匀性，灵活性及产量。

Description

用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法

技术领域

本发明涉及一种用化学方法处理太阳能电池/平板显示器基片或薄膜衬底的系统及方法，尤其是大规模的对基片或薄膜衬底用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法。

背景技术

化学湿处理是太阳能电池及新型显示屏等基片生产中必不可少并且极其重要的工艺步骤与技术。它不仅用于祛除因先前的加工程序而造成的基片表面损伤及金属与非金属污染物，而且还能为下一步工艺过程形成一个最优的基片工艺表面状态(如太阳能电池基片的长绒及磷酸玻璃(PSG)清洗工艺，其直接决定着光伏转换效率及其使用寿命)。同样，这一湿处理过程占据了整个太阳能电池/平板显示器基片，及其薄膜衬底生产工艺过程的25％-30％以上。因此，不适当的湿处理过程会给基片表面，薄膜衬底造成损害，电路效率及使用寿命等故障，过量化学液和去离子水的消耗，从而给生产质量，产量及能源消耗造成了较大的负面影响。在太阳能电池/平板显示器基片生产过程中，湿处理工艺直接关系到其光伏/光电的转换效率及使用寿命。

当前在太阳能电池基片生产过程中最关键的化学湿处理技术仍然是基片去机械加工中的损伤，表面长绒及磷酸玻璃的祛除。由于碱性化学液的“容易控温”及“平缓反应”的特点，氢氧化钠(NaOH)和氢氧化钾(KOH)制绒刻蚀已被广泛使用，但也存在着工艺时间长，相应工业生产较慢的缺点。

正如半导体集成电路产业起始阶段，科学家，工程师不断研究，探索新的工艺方法及相应设备，当前其他一些在被改进和可供选择的化学处理工艺菜单正在被提出和运用。例如，人们在生产工艺化学液中加入缓冲剂，如异丙醇(IPA)来控制长绒的速度及均匀性。加臭氧于去离子水中(O₃+H₂O)或稀氢氟酸(HF+H₂O)使硅太阳能基片表面变成疏水性，以达到水迹少，颗粒少的目的等。

在当前太阳能电池/平板显示器基片，及其薄膜衬底大规模生产工艺过程中，目前多槽湿处理法仍占据主流，如一组太阳能电池硅片被放置在一系列含有不同液体化学剂和去离子水的槽体中进行腐蚀、清洗、冲淋。它主要的不足是使用了过于复杂的自动化控制系统(多组基片上下料及传输机械手)及为保证基片工艺一致性的化学PH值不间断监测，添加和过滤控制系统。消耗了更多的化学液、去离子水。在量产情况下发生的大量急剧吸热或是放热的化学反应(基于太阳能行业的低成本商业模型，通常为大于400片以上的每批次及大于2000片每小时的湿处理生产要求)，从而影响了产品质量及工艺的一致性，一定程度上造成了产品的缺陷；通常400片以上的每批次的最后取干采用热风循环，或离心甩干会带来大量水迹及颗粒污染问题。固定多槽化学工艺湿处理中，由于化学液的重复使用，又会带来严重的产品交叉沾污。

目前，其他新的湿处理设备和工艺技术也同样被用于清洗太阳能电池基片的大规生产过程中，例如，德国RENA公司的定向定位滚轮加压轮的连续跑片工艺及设备，由于较高黏度化学配方液的张力，加上定向定位上下滚轮的导向及定位，能实现太阳能基片在连续跑片形式下的单面刻蚀(下表面)，及清洗的功能。但它没有解决固定化学工艺槽化学液重复使用所带来的产品交叉沾污问题，无法保持化学液PH值与每批基片湿处理工艺效果一致的问题，并且其定向定位上下滚轮的导向及基片定位的调试不当产生附加微压以及基片被刻蚀面与传输滚轮处于同一面的特点带来了新的问题-太阳能电池片表面多条状滚轮压痕，在一定程度上会影响太阳能电池片光伏转换效率及使用寿命.随着太阳能电池基片越来越薄的趋势，上下滚轮的导向及基片定位的结构，极易在基片内部引起强应力，增加碎片率。再例如一些国外公司在薄膜衬底单面镀膜工艺生产中，将绷紧的薄膜衬底卷绕轴浸没在化学工艺槽中，产生薄膜衬底材料起皱/拉断/化学液渗透到背面等严重问题，

当太阳能电池/平板显示器基片(FPD)以及薄膜衬底正向着更大更薄尺寸化方向发展时，这个行业的公司，科学家和工程师也越来越关心此项处理设备和技术的功能性能价值比(COO)。换句话说，他们越来越关心每个基片(太阳能电池或平板显示器基片)，或单位尺寸薄膜的制造质量及其成本。在上述基片湿处理领域，无论在任何一个功能性价比分析中，去离子水和液体化学剂都占了最大的消耗比重。英特尔公司的CORDON和ROBERT在他们的功能性价比(COO)分析报告中揭示出在直径为200毫米的硅片湿处理过程中去离子水成本最高(32％)，液体化学剂第三(16％)，基本设备成本占第二(23％)。减少去离子水和化学剂的消耗不仅有利于功能性价比(COO)，更重要的是有利于环境。当太阳能电池基片和平板显示器基片大规模使用及生产中，质量，成本，及使用寿命将成为新的三大重要功能性价比(COO)分析元素。

人们一直在寻找新的方法和技术力求在保证减少交叉沾污，增加产量的同时来减少功能性价比，即单位时间质量型产量/(设备+总生产成本)，当太阳能电池/平板显示器(FPD)基片以及薄膜衬底正向着更大更薄尺寸化方向发展的情况下，对颗粒污染及水迹的要求也越来越高。类同于半导体集成电路行业，使用更少化学剂的刻蚀，清洗处理(气态或气体)也已被提议来代替特定的湿处理方法(如等离子刻蚀，制绒等)。但这样的过程仅能祛除特定类型的污染物或物质，但却从其干处理过程中留下一些另类物质颗粒和金属污染物。这些方法由于使用的紫外线更加活跃，加速了等离子的活跃性所引起的基片表面损伤。并且干燥处理法不具备湿处理法在清洗过程中能祛除特定物质颗粒的功效，因为它不能使用特定的已配制好的化学湿处理合成剂，原因是这些合成剂不能在它们的蒸汽或气体中存在(例如NaOH+IPA+H₂O)。因此，化学湿处理技术仍然会在今后的几十年中在太阳能电池基片和平板显示器基片湿处理行业中处于主导地位。

因此，太阳能电池/平板显示器(FPD)基片以及薄膜衬底市场上对能够生产出一种湿处理技术先进，简单可靠，并且成本费用大大节省的一种新型的湿处理方法和系统，尤其是基片以及薄膜衬底化学单面湿处理方法和系统，有着强烈的需求

发明内容

本发明的目的在于提供一种用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法，使得太阳能电池/平板显示器基片或薄膜衬底单面化学液快速湿处理变得简单可行，有效解决了传统固定化学工艺槽重复使用化学液的交叉沾污问题；浸没在化学工艺槽中的薄膜衬底卷绕轴产生的衬底材料起皱/拉断/化学液渗透到背面问题，同时增强了太阳能电池/平板显示器基片或薄膜衬底单面化学工艺处理的均匀性，灵活性及产量。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，包括可使加热的气体化学剂和液体化学剂产生雾状化学剂的雾化器，若干个化学湿处理腔体单元，若干个去离子水喷淋湿处理腔体单元，以及异丙醇(IPA)取干处理腔体单元，以及将待处理材料依次送入各处理单元腔体内的传输机构，该系统还包括喷雾刀，该喷雾刀具有多个雾状化学剂射口，喷射口中间设有毛细管，所述雾状化学剂通过毛细管周边的喷射口空间呈扇形喷射至待处理材料的表面。

所述毛细管的截面直径尺寸小于1mm。

所述雾化器与喷雾刀之间还带有使雾状化学剂保温的加热等温装置。

所述待处理材料是太阳能电池或平板显示器基片。所述传输机构包括多组同步旋转传动且在垂直于传输方向相差1-3mm的错位滚轮。

所述待处理材料太阳能电池或显示器薄膜衬底。所述传输机构包括两个用于上料和下料的张紧轮，分别位于处理腔室的上料端和下料端，所述薄膜衬底卷绕在张紧轮上，所述张紧轮带有可自动检测及调节张力的传感器。

一种如权利要求1所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理系统的湿处理方法，包括如下步骤：

(1)传输机构将待处理材料依次送入各相应化学湿处理单元腔体内；

(2)对待处理材料进行等温处理；

(3)由加热的化学气体及液体化学剂在雾化器内产生的雾状化学剂，通过喷雾刀从元件的上方呈扇形左右/前后动态喷射到待处理材料的上表面及周边；该喷雾刀具有多个雾状化学剂喷射口，喷射口中间设有毛细管；

(4)用纯水或去离子水喷淋清洗基片；

(5)将异丙基酒精(IPA)通过所述喷雾刀从待处理材料的上方动态均匀地扫射到处理材料工艺面，；

(6)热氮气通过所述喷雾刀吹射到待处理材料上、下表面，干燥待处理材料。

由加热的化学气体和液体化学剂在雾化器内产生雾状化学剂包括：

加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是氢氧化钠(NaOH)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是氢氧化钾(KOH)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是去离子水(H2O)；

和/或，加热的化学气体是氮气体(N₂)，液体化学剂是加热后低黏度的镀膜剂；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是硝酸/氢氟酸为主的混合酸(HNO₃+HF)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是硫酸为主的混合酸(H₂SO₄)。

所述液体化学剂的压力范围是每平方英寸1-10英磅；气体化学剂的压力范围是每平方英寸10-20英磅。

所述纯水或去离子水喷淋清洗基片的步骤中加入兆声能量。

本发明使得太阳能电池/平板显示器基片以及薄膜衬底单面化学液快速湿处理变得简单可行，如单晶硅/多晶硅太阳能电池片单面”酸性化学液快速制绒”生产工艺，极大提高了高质量产品的生产量.该项发明突破了传统化学液槽清洗用酸量大及去离子水冲洗用量大的瓶颈；有效解决了传统化学液槽清洗在量产情况下化学液反应急剧过热或过冷，严重影响产品产量及工艺一致性的缺陷；有效解决了传统固定化学工艺槽重复使用化学液的交叉沾污问题；以及浸没在化学工艺槽中的薄膜衬底卷绕轴产生的衬底材料起皱/拉断/化学液渗透到背面等关键问题，也从根本上解决了传统空气或氮气吹/烘干产生的水迹及增加的颗粒等缺陷；同时增强了基片，薄膜衬底单面化学工艺湿处理的均匀性，灵活性及产量。这个发明系统及方法不仅能节约化学液和去离子水，还能给这个行业带来巨大的工艺及产品的灵活性生产。

附图说明

图1是用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理系统的工艺示意图。

图2是用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理系统的结构简图。

图3是本发明的喷雾刀(foggy knife)的结构示意图。

图4是用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理系统处理方法的流程图。

具体实施方式

本发明的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法，可用于太阳能电池或平板显示器基片或薄膜衬底，或其他半导体集成电路中需要进行化学湿处理的元件。下面就以基片和薄膜衬底为例，详细说明本发明的化学湿处理系统的结构特征和优点，以及相应的化学湿处理方法。

用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统及方法包括用于输送待处理材料的传输机构，可使加热的气体化学剂和液体化学剂产生雾状化学剂的雾化器，若干个化学湿处理腔体单元，若干个去离子水喷淋(可加超/兆声能量)湿处理工艺腔体单元，异丙醇(IPA)取干腔体单元组成。各种不同的被加热和加压的雾状化学剂按照控制程序及工艺菜单，通过设计独特的相应动态喷雾刀(foggy knife)进入相应工艺处理腔体内。这些微型雾状化学剂因受到热量和压力作用便能将相应化学液薄膜均匀喷涂在基片或薄膜衬底表层及周边上，动态地在每片基片或薄膜衬底表面及周边上形成一个有效的化学工艺处理薄膜。化学工艺处理薄膜的反应时间由其浓度，温度及待处理材料的传输速度来控制。

如图1和图2所示，水平处理腔体1，其上方布置有若干喷雾刀4，基片3a或薄膜衬底3b由自动传输机构(也可以使用人工传输和半自动传输依次送入水平处理腔体1中。所述腔体中所有与化学液或气体接触的材料以及传输机构，是由拒腐于相应处理工艺的化学液或气体的材料物质制成。

图2a中示意了太阳能电池或平板显示器基片3a的传输结构，包括多组错位滚轮2，同步传动伞齿轮18以及伺服电机17，错位滚轮2在垂直于传输方向相差1-3mm，基片3a置于错位滚轮2上面，伺服电机17驱动同步伞齿轮18转动，带动多组错位滚轮2同步旋转，将基片3a依次连续的进入相应的工艺处理腔体1内。

图2b中示意了用于传送薄膜衬底3b的传输结构，也具有多组错位滚轮2，但在处理腔体1上料侧和下料侧分别具有一个卷绕轴及张紧轮5，两个张紧轮5各连接一个伺服电机17，薄膜衬底3b置于上料和下料区的卷绕轴上，由张紧轮5驱动，薄膜衬底3b在错位滚轮2上向前移动，被连续送入相应的工艺处理腔体内，经化学湿处理后再输出腔体1。错位滚轮2的作用在于保证薄膜衬底3b不会发生折皱，该张紧轮5带有张力传感器，用于自动检测及调节薄膜衬底的张力，使薄膜衬底3b不会被拉断或折皱。

化学剂通过阀门15由自动供酸系统或手动加入化学液罐13，一组液位传感器12是用来调控处理过程中该化学液的液位，一组测温的传感器10和加热器14安装于化学液罐13上，用于温度测量和控制。特定气体(如氮气，N₂)通过气体减压阀7和气体控制阀6经管路输送到处理腔体内部的各组喷雾刀4中的雾化单元4中，与由化学气体流量调节阀9和化学液控制阀8控制的化学液混合比率雾化喷射而出。本发明的单面连续化学湿处理系统还包括加热等温装置，使已加热的雾状化学剂保持在一定的温度，以确保工艺的要求与一致性。所述加湿等温装置例如可以是将雾状化学剂流动管路设于一个带有恒温气体或液体的密闭的管道内，使雾状化学剂流动的整个路径均处于由工艺决定的等温环境，因此该雾状化学剂也可以保持其特定的温度。雾状化学剂流动管路位于处理腔体底部的排液阀16可以连接到相应的处理程序上(如废酸碱液处理系统，工业废水处理系统，或化学液回收再利用系统)。这种雾状化学液湿处理过程并不是固定不变的，而是可以根据实际的工艺组合，并配合其它化学液体及化学气体进行灵活的组合。

本发明还包括一个喷雾刀(foggy knife)的设计，其使雾化液成扁平扇形状喷涂在基片表面及周边上。如图3所示，喷雾刀包括PTFE/PFA风刀主体41，喷雾毛细管42，化学液进口43，化学液接头44，气体化学剂进口45，气体化学剂气体接头46，压缩气体通道47，雾状化学液喷射口48。喷雾刀由多组喷雾单元组成，各喷雾单元通过中间毛细管41供应化学液，而毛细管位于整个雾状化学液喷射口48的中间。当工艺进行时，化学液经化学液进口43进入毛细管41内，喷射的气体化学剂经气体化学剂进口45进入压缩气体通道47，气体流动所产生的虹吸效应，使化学液流出毛细管，并由气体动力吹成雾状细小颗粒。这些小颗粒直接喷射到基片表面。毛细管的截面直径尺寸为小于1mm，越细，气体压力越大，雾状越细。

将要单面连续化学湿处理的待处理基片或薄膜衬底被自动传输结构依次送入相应的工艺处理腔体内，喷雾刀(foggy knife)将均匀雾状化学工艺处理薄膜单面单向地动态喷涂在基片表面及周边上，附图中所示为其中一个化学湿处理腔体单元，各工艺处理腔体单元功能是彼此独立的，但类同于附图中的单元。

在处理过程中，至少有一组雾化单元构成的雾刀要被应用到传输基片或薄膜衬底的化学湿处理。至少有一个液体化学配方剂的输入端口要被连接上述雾化单元，和至少一个化学气体输入端口被连接到上述雾化单元。液体化学剂的压力范围是每平方英寸1-10英磅。气体化学剂的压力范围是每平方英寸10-20英磅。

由于雾状化学液是由气体喷射混合产生的，不同于将气体吹入液体在溶解。与传统化学液槽湿处理相比，本发明也突破了特定化学气体在去离子水中有限浓度的瓶颈。根据化学家Henri的公式，气体在液体中的溶解度由液体压力及温度决定，如臭氧气体(O₃)在传统化学液槽里的最大溶解度小于20ppm，而本发明的雾化臭氧气体(O₃)最大溶解度可达到100ppm以上。

图4是关于本发明的雾状化学剂连续处理基片或薄膜衬底方法的流程图。雾状化学剂通过喷雾刀从基片或薄膜衬底的上方动态均匀地喷射到所需工艺面上，整个工艺流程根据设备需要完成的具体工艺时间及步骤而确定工艺工位。工艺开始前，一定浓度的化学液在化学储液罐中需达到设定温度，随着工艺步骤进行，基片或薄膜衬底传输到相应化学处理腔体时，该化学液罐中的化学液将会被喷雾化器雾化成细小颗粒(1-50um)，均匀动态地喷射到基片或薄膜衬底的工艺面，以完成该腔体的工艺，所述雾化器与喷雾刀之间还带有使雾状化学剂保温的加热等温装置，对雾状化学剂的传输管路进行加温、保温，以确保工艺的要求与一致性。然后通过雾状纯水(DI)冲洗清洁基片或薄膜衬底表面，冲洗掉表面或薄膜衬底的残酸，及化学反应产物。雾状化学工艺处理薄膜的厚度由基片调节雾状化学剂综合压力(化学液及雾化氮气压力)，及传输速度决定。如此依次经过若干类似工艺腔体完成整个湿处理工艺。

具体包括如下步骤：

1)通过传输机构将所述基片或薄膜衬底依次送入各相应化学湿处理单元腔体内；

2)预清洗基片或薄膜衬底表面；祛除有机物及颗粒；

3)动态加热的氮气刀使基片或薄膜衬底温度等温；

4)雾刀将各种不同的雾状化学剂动态，前后/左右地喷涂在基片或薄膜衬底上表面及周边；形成有效的工艺处理薄膜

5)用去离子水或具有兆声能量的去离子水清洗基片或薄膜衬底；

6)用热雾状异丙基酒精溶液，从基片或薄膜衬底上动态取干去离子水及祛除颗粒。

7)卸下基片或薄膜衬底。

设备启动后，设备自检，包括错位滚轮组成的传输系统，上/下料薄膜衬底原材料卷绕轴张力自动检测及调节，以及所有化学液罐的液位及化学液温度，当待确定所有设备及工艺条件都被满足时，依次放上待湿处理基片或开启薄膜衬底原材料卷绕轴伺服电机，然后在各处理腔体内部按预先设定好的化学工艺步骤连续进行各项湿处理工艺生产。在处理过程中，至少有一组雾化单元构成的雾刀要被应用到传输基片或薄膜衬底的化学湿处理。至少有一个液体化学配方剂的输入端口要被连接上述雾化单元，和至少一个化学气体输入端口被连接到上述雾化单元。液体化学剂的压力范围是每平方英寸1-10英磅。气体化学剂的压力范围是每平方英寸10-20英磅。

雾化化学剂的原理同先前专利，具体包括但不限于：

使用加热的臭氧气体(O₃)雾化氢氧化钠(NaOH)来祛除基片或薄膜衬底机械损伤及表面长绒；

使用加热的臭氧气体(O₃)雾化氢氧化钾(KOH)来祛除基片或薄膜衬底机械损伤及表面长绒；

使用加热的臭氧气体(O₃)雾化去离子水(H2O)来祛除基片或薄膜衬底的常见颗粒和剥离光胶；

使用加热的氮气(N₂)或干燥洁净的空气雾化特定的镀膜剂，如：加热后低黏度的正/负光胶剂，来镀膜；

使用加热的臭氧气体(O₃)雾化硝酸/氢氟酸为主的混合酸(HNO₃+HF)来祛除太阳能电池基片或薄膜衬底机械损伤及表面长绒；

使用加热的臭氧气体(O₃)雾化硫酸为主的混合酸(H₂SO₄)来祛除太阳能电池基片或薄膜衬底机械损伤及表面长绒。

在每次雾状化学剂处理后，可以用具有超/兆声能量的去离子水的快速喷淋清洗和加热的氮气进行相应的工艺等温，氮气排氧(防止材料氧化)等工艺步骤。湿处理时间比起现在正在使用的槽式或跑片式湿处理技术来说短得多，它仅需要清洗基片或薄膜衬底上残余的很少的化学处理剂。

上述基片或薄膜衬底在经过所有规定湿处理程序后，接下来一步就是在异丙醇(IPA)取干腔体单元取干，它是由加热的惰性气体氮气来雾化异丙醇(IPA)制成的。被加热的雾状异丙基酒精的表面张力比冷却时相比要小得多，比起去离子水的表面张力更小，同时它在使用时要比过热的异丙基酒精蒸汽要安全得多。被加压的雾状异丙基酒精会在基片表面形成一个单向动态化学工艺处理薄膜，并以它表面低张力的特性及加热氮气的喷雾刀作用，从基片或薄膜衬底上动态排去材料表面上全部水和残余颗粒。使所有基片或薄膜衬底都达到“干进干出”的工艺效果。

前面提供了对较佳实施例的描述，以使本领域内的任何技术人员可使用或利用本发明。对该较佳实施例，本领域内的技术人员在不脱离本发明原理的基础上，可以作出各种修改或者变换。应当理解，说明书中所举的实施例仅是一种较佳实施例，对该实施例做出的修改或者变换都不脱离本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，包括可使加热的气体化学剂和液体化学剂产生雾状化学剂的雾化器，若干个化学湿处理腔体单元，若干个去离子水喷淋湿处理腔体单元，以及异丙醇(IPA)取干处理腔体单元，以及将待处理材料依次送入各处理单元腔体内的传输机构，其特征在于，该系统还包括喷雾刀，该喷雾刀具有多个雾状化学剂射口，喷射口中间设有毛细管，所述雾状化学剂通过毛细管周边的喷射口空间呈扇形喷射至待处理材料的表面。

2.根据权利要求1所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，其特征在于，所述毛细管的截面直径尺寸小于1mm。

3.根据权利要求2所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，其特征在于，所述雾化器与喷雾刀之间还带有使雾状化学剂保温的加热等温装置。

4.根据权利要求1或2或3所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，其特征在于，所述待处理材料是太阳能电池或平板显示器基片。

5.根据权利要求5所述的化学湿处理系统，其特征在于，所述传输机构包括多组在垂直于传输方向相差1-3mm的错位滚轮，以及伺服电机和同步传动伞齿轮，同步伞齿轮带动多组错位滚轮同步旋转。

6.根据权利要求1或2或3所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，其特征在于，所述待处理材料是太阳能电池或平板显示器薄膜衬底。

7.根据权利要求6所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的系统，其特征在于，所述传输机构包括多组且在垂直于传输方向相差1-3mm的错位滚轮，和分别位于处理腔室的上料端和下料端的卷绕轴和张紧轮，所述薄膜衬底置于卷绕轴上，由所述张紧轮驱动带动错位滚轮同步旋转传动，所述张紧轮还带有可自动检测及调节张力的传感器。

8.一种如权利要求1所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理系统的湿处理方法，包括如下步骤：

(1)传输机构将待处理材料依次送入各相应化学湿处理单元腔体内；

(2)对待处理材料进行等温处理；

(3)由加热的化学气体及液体化学剂在雾化器内产生的雾状化学剂，通过喷雾刀从元件的上方呈扇形左右/前后动态喷射到待处理材料的上表面及周边；该喷雾刀具有多个雾状化学剂喷射口，喷射口中间设有毛细管；

(4)用纯水或去离子水喷淋清洗基片；

(5)将异丙基酒精(IPA)通过所述喷雾刀从待处理材料的上方动态均匀地扫射到待处理材料工艺面，；

(6)热氮气通过所述喷雾刀吹射到待处理材料上、下表面，干燥待处理材料。

9.根据权利要求8所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的方法，其特征在于，所述毛细管的截面直径尺寸小于1mm。

10.根据权利要求9所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的方法，其特征在于，由加热的化学气体和液体化学剂在雾化器内产生雾状化学剂包括：

加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是氢氧化钠(NaOH)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是氢氧化钾(KOH)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是去离子水(H2O)；

和/或，加热的化学气体是氮气体(N₂)，液体化学剂是加热后低黏度的镀膜剂；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是硝酸/氢氟酸为主的混合酸(HNO₃+HF)；

和/或，加热的化学气体是臭氧气体(O₃)，液体化学剂是硫酸为主的混合酸(H₂SO₄)。

11.根据权利要求10所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的方法，其特征在于，所述液体化学剂的压力范围是每平方英寸1-10英磅；气体化学剂的压力范围是每平方英寸10-20英磅。

12.根据权利要求8-11任一项所述的用雾状化学剂进行单面连续化学湿处理的方法，其特征在于，所述纯水或去离子水喷淋清洗待处理材料的步骤中加入兆声能量。

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