CN101866078B - 密封装置 - Google Patents

Abstract

本发明可贴合上下基板而提升液晶显示面板、有机EL面板等单元(cell)构造体的生产效率，并且获得高质量的单元构造体。本发明包括：空室壳体，其在上面形成开口部而具有吸排气口，并且在内部可升降地设置有台面和下侧基板的支持杆及上侧基板的支持杆；片材构件，其覆盖所述空室壳体的开口部，具有柔软性及透光性；UV屏蔽支持框，其外形为大致与所述空室壳体一致的形状，具有吸排气口，并且在内部容纳UV穿透屏蔽并载置在所述片材构件上；可动密封盘，其覆盖所述UV屏蔽支持框上面的开口部；及光源部，其配设在所述可动密封盘的上方；在所述空室壳体上隔着片材构件而配置有UV屏蔽支持框及可动密封盘时，以所述片材构件作为界线的下部之空室壳体内成为可减压的第一处理室，而另一方面，在以前述片材构件作为界线的上部，由UV屏蔽支持框及可动密封盘所围住的内部成为可减压的第二处理室。

Description

密封装置

技术领域

本发明关于显示面板的密封装置，该显示面板诸如液晶显示面板或有机EL（Organic Electro-Luminescence：有机电致发光）显示面板等，在贴合的一对基板的内部形成发光层，通过电性地驱动该发光层以获得图像或照明光。

背景技术

作为显示面板，代表性的液晶显示面板的制造如图9所示的例子，在形成有透明电极的一对基板（例如玻璃基板）中的一个基板（下侧基板50），将紫外线固化型密封材料51涂布成闭合环状，在由该密封材料51所围住的区域内，散布透明球状的间隔件，并且滴下液晶材料52。

然后，在真空处理室53内，将该下基板50隔着弹性片材55而载置固定在定位桌54上，其中该定位桌54被支持为可与下基板50的面在平行方向上移动。另一方面，同样在真空处理室53内，将一对基板中的另一基板（上基板56）吸附固定于吸附盘57，其中该吸附盘57被支持为可与上基板56的面往垂直方向移动。

然后，将真空处理室53内进行真空排气，达到特定真空度后，使吸附盘57下降，在下基板50上的密封材料51及液晶材料52即将接触到上基板56前的位置停止，通过移动定位桌54来调整相对的上基板56与下基板50的对准标记的位置关系，进行两基板50、56的粗略对准处理。

接着，将真空处理室53内进一步进行真空排气，提高至特定真空度后，进一步使吸附盘57下降，将上基板56往下基板50侧加压，维持在由透明球状的间隔件保持着上基板56与下基板50间的单元（cell）间隙的状态。此时，在两基板50、56间，下侧基板50上的密封材料51受到挤压，同样受到挤压的液晶材料52流动扩散在由密封材料51及两基板50、56所围住的区域内，区域全体充满液晶材料。

接着，在真空处理室53内进行吸气，使真空处理室53内回复成大气压，在大气压中，通过移动定位桌54来调整相对的上基板56与下基板50的对准标记的位置关系，进行两基板50、56的精密对准处理。然后，最后对已施行对准处理的一对基板50、56照射紫外线，使密封材料51固化，液晶显示面板的制造步骤（贴合步骤）结束（参考例如专利文献1）。

另外，由于有机EL显示面板的发光体具有因通电及氧或湿气影响而逐渐劣化，从而亮度降低的性质，因此已提案一种去除接着剂中的气泡或水分的方法（例如专利文献2）。该专利文献2所揭示的技术对于由弹性体片材所隔开的第一空间及第二空间，具备可将该两空间进行排气的排气手段，通过该排气手段，将第一空间相对于第二空间控制在负压，隔着弹性片材，使在两空间所产生的差压作用于密封基板及组件基板中的一个，由此可压着两基板。

而且，在液晶显示面板或有机EL显示面板的制造步骤中，通过光压法照射UV（紫外线）以使光固化型接着剂固化的情况时，尤其若有机EL组件受到UV照射会显著劣化，因此一般是石英遮光玻璃形成遮光屏蔽图案，使得UV仅照射于光固化材料型接着材料（例如专利文献3）。

由于该专利文献3所揭示的技术是在形成有光电层的基板的背面侧，配置遮光玻璃，为了气密地覆盖前述光电层，在隔着光固化型接着材料压接前述基板与密封构件的状态下，从前述遮光玻璃侧照射UV而令前述光固化型接着材料固化，由此使得基板与密封构件接合，因此在遮光玻璃与基板的接触面施以拨水处理，防止遮光玻璃与基板黏住。

前述专利文献3所揭示的结构是使用极为昂贵的石英玻璃的方法，因此从耐久度等方面来看会构成问题，因此本申请案的申请人采用具有柔软性及透光性的片材构件，在该片材构件压接单元构造体的上侧基板，在片材构件的初始性能降低至容许值以下的情况时，可连续供给未使用部分。然后，形成能够以该片材构件作为界线进行减压的第一处理室及第二处理室，并可从单元构造体的两面进行压力控制（参考专利文献4）。

〔先有技术文献〕

〔专利文献〕

〔专利文献1〕日本特开2002-296601号公报

〔专利文献2〕日本特开2005-276754号公报

〔专利文献3〕日本特开2006-004707号公报

〔专利文献4〕日本特开2009-058783号公报

发明内容

发明欲解决的问题

然而，液晶显示面板及有机EL显示面板倾向大型化，伴随着面板大型化，制造装置也大型化。而且，即便面板大型化，但进行贴合的上下基板对于密封装置的搬出/搬入必须以专用的搬运装置进行，不得伴随有人为作业。如通过人为作业来进行上下基板的搬出/搬入的情况下，尘埃从作业员的衣服等飞散，或从身体蒸发汗水而无法维持适当湿度，未能获得相当于无尘室的环境，会显著降低生产良率。

而且，为了提升生产效率，期望形成在单元（cell）构造体上下的处理室尽可能为所需要的最低限度容量。也就是说，进行上下基板贴合的处理室内必须在每一步骤，每次务必成为高真空度，以使得基板间单元间隙内的真空度变高。然而，该处理室的容量大的情况下，由于其内部空气吸引量也变大，因此真空泵的动作时间也成比例而变长，这成为主要原因而让生产效率降低。

尤其在制造有机EL显示面板的情况下，由于要求极高的真空度，因此必须尽可能将处理室小型化，以求效率良好地形成真空状态。而且，即便不断使处理室变得小型，但同时仍必须具备可对该处理室内搬入上下基板及搬出已完成的显示面板，并可获得气密状态的开关门，以便可实现自动生产。

本发明为了解决上述问题而完成，可提供一种密封装置，其可提升液晶显示面板、有机EL显示面板等的生产效率。

解决问题的技术手段

因此，本发明通过以下所述各种手段来解决上述问题。亦即，技术方案1所记载的发明为一种密封装置，其包括：空室壳体，其在上面形成开口部而具有吸排气口，并且在内部可升降地设置有台面和下侧基板的支持杆及上侧基板的支持杆；片材构件，其覆盖所述空室壳体的开口部，具有柔软性及透光性；UV屏蔽支持框，其外形为大致与所述空室壳体一致的形状，具有吸排气口，并且在内部容纳UV穿透屏蔽并载置在所述片材构件上；可动密封盘，其覆盖所述UV屏蔽支持框上面的开口部；及光源部，其配设在所述可动密封盘的上方；在所述空室壳体上隔着片材构件而配置有UV屏蔽支持框及可动密封盘时，以所述片材构件作为界线的下部的空室壳体内成为可减压的第一处理室，而另一方面，在以所述片材构件作为界线的上部，由UV屏蔽支持框及可动密封盘所围住的内部成为可减压的第二处理室。

技术方案2所记载的发明如上述技术方案1的密封装置，其包括：第一支持杆，其在所述空室壳体内支持第一基板，并使其可升降；第二支持杆，其支持第二基板并使其可升降；及台面，其载置单元构造体并使其可升降。

技术方案3所记载的发明如上述技术方案2的密封装置，其配置成：所述第一支持杆在所述台面内升降。

技术方案4所记载之发明如上述技术方案2的密封装置，其中在空室壳体的底面下构成驱动机构，用以升降所述第一支持杆、第二支持杆及台面。

技术方案5所记载的发明如上述技术方案2的密封装置，其中在所述空室壳体的任意侧面，设置可保持第一处理室的气密状态的开关门。

技术方案6所记载的发明如上述技术方案2的密封装置，其中在所述台面的侧部设置对准相机，用以进行所述第一基板与第二基板的对准调整。

发明效果

若依据本发明，由于在空室壳体上，隔着片材构件配置UV屏蔽支持框及可动密封盘而构成，因此能够尽可能缩小以前述片材构件作为界线的下部的空室壳体内的第一处理室，由此可迅速进行该第一处理室的排气处理，因此可提升生产效率。

而且，在上述结构中，由于包括：第一支持杆，其于空室壳体内支持第一基板，并使其可升降；第二支持杆，其支持第二基板并使其可升降；及台面，其载置单元构造体并使其可升降；并进一步在空室壳体的任意侧面，设置可保持第一处理室的气密状态的开关门；因此可将第一、第二基板的搬入予以自动化，然后将已成形的单元构造体的搬出予以自动化，可进行无人为作业介于其中的连续自动生产。

附图说明

图1是说明本发明的密封装置的结构的剖面图。

图2是说明本发明的密封装置的结构的立体图。

图3是说明本发明的密封装置的结构的部分立体图。

图4是说明本发明的密封装置的要部的动作态样的图。

图5是说明本发明的密封装置的吸排气回路的结构的图。

图6是作为单元构造体的第一基板的说明图。

图7是作为单元构造体的第二基板的说明图。

图8-1是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-2是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-3是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-4是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-5是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-6是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图8-7是说明本发明的密封装置的动作态样的图。

图9是表示以往的密封装置例子的剖面图。

具体实施方式

以下根据图来详细说明本发明的实施方式。另外，在各图中，同一部分附上同一符号以使说明不重复。而且，由于以下所述实施方式是本发明的较佳的具体实例，因此虽被附加了技术上较佳的各种限定，但只要在以下说明中未特别记载限定本发明的旨趣，本发明的范围均不受那些实施方式限定。

在图1及图2中，符号1为空室壳体，其内部作为第一处理室CH1的中空体；上面形成有开口部1a，任意侧面形成有基板搬入窗1b。进一步在空室壳体1，配设有连接到后述吸排气回路的吸排气管P1。

在空室壳体1的内部中央设置有台面2，固定在该台面2的杆3从空室壳体1的底部延伸设置到外部，通过马达5给予齿轮箱4以驱动力，杆3进行上下运动，台面2会在空室壳体1的内部升降。另外，在空室壳体1的底面的前述杆3的支持部分，设置有气密封件S，以保持该部分之气密状态。

进一步在空室壳体1的底面下配置固定有流体压缸7，用以使支持杆6进行上下运动，该支持杆6从下面支持搬入到空室壳体1内部的第一基板（下基板）W1的对角线上的4处角落部。而且，同样在空室壳体1的底面下配置固定有流体压缸9，用以使前端包括保持器8a的支持杆8进行上下运动，该保持器8a从下面支持搬入到空室壳体1内部的第二基板（上基板）W2的四角落。另外，在空室壳体1的底面的前述支持杆6、8的支持部分，设置有气密封件S，以保持该部分的气密状态。

支持第一基板W1的支持杆6贯通台面2内而进行上下运动，这是考虑到将第一基板W1在尽可能宽广的范围内载置于台面2上，以使得成形时没有压力偏倚的部分。另外，在台面2的侧部设置对准相机10，以获得用以进行第一基板W1与第二基板W2的水平对准的图像信号。

接着，在前述空室壳体1的上面，以覆盖其全范围的方式配设有UV穿透特殊片材11，在构造上，该UV穿透特殊片材11从供给滚筒12送出，并由卷取滚筒13所卷取。该UV穿透特殊片材11使紫外线穿透且是具有柔软性的材料，以例如PET树脂所形成，由于密覆在空室壳体1的凸缘1c上面，因此该部分可保持气密性。

前述UV穿透特殊片材11上的载置于空室壳体1的凸缘1c上的UV屏蔽支持框架14，为形状与空室壳体1之外形大致一致的框体，在其内部，以凸缘14a支持而容纳UV屏蔽15。该UV屏蔽15形成有复数个通孔15a，用以将从配置于上方的后述灯屋19所射出的UV的所需量，导引至空室壳体1内。进一步在UV屏蔽支持框14，配设有连接到后述吸排气回路的吸排气管P2，在框体上面及下面配设有O形环16、17以保持气密性。

在前述UV屏蔽支持框14的上面，载置有用以覆闭其开口部14b的可动密封盘18。该可动密封盘18由图示省略的搬运机构，从前后方向或横侧方向搬入到UV屏蔽支持框14的定位，如图1所示载置于UV屏蔽支持框14上，并由图标省略的加压装置向下方施加压力。由此，以UV穿透特殊片材11、UV屏蔽支持框14的内面及可动密封盘18的背面所围住的空间成为第二处理室CH2。然后，由于通过来自前述加压装置的加压而成为O形环16、17被挤压的状态，因此该部分可充分保持气密性。

在前述可动密封盘18的上方配设有灯屋19，在该灯屋19的内部，朝向其开口19a依序容纳有放射紫外线的UV灯20、遮断来自该UV灯20的辐射热的热射线截止滤光片21及开关自如的档门22。

本发明的机构要素如以上构成，但为了达成装置自动化，需要在空室壳体1的基板搬入窗1b包括开关门。图3表示该结构的一个例子，如图所示，覆盖基板搬入窗1b整面的开关门23配置为，通过升降装置24的齿轮机构传递动力而进行上下运动。

另外，在基板搬入窗1b的凸缘部整圈，如图4所示配设有流体压管25，如图4（A）所示，使开关门24下降时，吸引流体压管25内的流体以避免与开关门23接触。如此，在开放基板搬入窗1b时，如图所示，可通过机器手臂RB1,RB2搬入第一基板W1、第二基板W2。然后，当第一基板W1、第二基板W2搬入结束时，如图4（B）所示，升高开关门23，在流体压管25注入加压流体而使其膨胀，以获得气密状态。

在此，根据图5来说明本发明装置的吸排气回路的结构。如图所示，连接到空室壳体1的吸排气管P1系隔着阀26a而相连于大气A，而另一方面隔着阀26b、26c而相连于真空泵28。另外，连接到UV屏蔽支持框14的吸排气管P2隔着阀27a而相连于大气A，而另一方面隔着阀27b、27c而相连于真空泵28。另外，从阀26c及阀27c通往真空泵28的配管在中途互相连结，以1条配管相连于真空泵28。而且，阀26c及阀27c为真空压力调整用阀，设置用以控制排气后达到真空压。

本发明的密封装置如以上而构成，在以下说明中将第一基板W1及第二基板W2搬入到空室壳体1内，且到单元构造体30完成的处理步骤，由于第一基板W1及第二基板W2必须准备已预先成形的物质，因此首先以液晶显示面板情况下的例子，来说明该预先成形的第一基板W1、第二基板W2的加工态样。

如图6所示，在第一基板W1的一面，至少在长宽保持特定间隔的复数个液晶显示区域31a的区域内，散布透明球状的间隔件31b，或者形成光间隔件32b，以便于贴合第一基板W1与第二基板W2时，确保两基板W1、W2间的液晶显示区域31a的设定间距。进一步在复数个液晶显示区域31a的外侧，设置复数处的两基板W1,W2的位置对齐用的对准标记31c。

另外，在第二基板W2的一面，如图7所示，长宽保持特定间隔而涂布复数个闭合环状的密封材料32a。该密封材料32a具有UV固化性及热固化性两方面的性质，并且在密封材料32a中事先混入圆柱状的硅光纤32b，以便于两基板W1、W2贴合时，可确保两基板W1、W2间的封件部分的设定间距。

而且，以围住涂布有复数个密封材料32a的区域全体的方式，涂布闭合环状的密封材料32c。在密封材料32c中同样事先混入圆柱状的硅光纤32b，以便于两基板W1、W2贴合时，可确保两基板W1、W2间的封件部分的设定间距。另外，混入密封材料32a及密封材料32c的硅光纤32b的材质、形状、大小均相同。

进一步在闭合环状密封材料32c的外侧，设置复数处对准标记32d及暂时固定用的UV固化树脂32e。而且，在由各闭合环状密封材料32a所围住的内侧区域，在复数个位置，通过分配器等液状定量喷出装置滴下特定量的液晶材料32f。

另外，在本发明的装置中，若以有机EL显示面板的形成作为对象的情况，可使用在第一基板W1或第二基板W2的任一形成有机EL层的物质，并将对应于其其它基板作为密封基板而成形。

如以上预先成形的复数片第一基板W1及第二基板W2存放于未图标的搬入装置，成形已准备妥当。该前提下的图1所示的各机构要素处于处理步骤开始的初始状态，第一基板W1的支持杆6、第二基板W2的支持杆8及台面2位于最靠下的位置。然后，当装置开始运转时，首先如图8（A）所示，流体压缸7进行动作，支持杆6如图所示升高。此时，阀27b开放，第二处理室CH2被抽取真空，UV穿透特殊片材11密覆于UV屏蔽15。

接着，从如图4（A）所示而开放的基板搬入窗1b，通过机器手臂RB1搬入第一基板W1，并如图8（B）所示载置于前述支持杆6的前端6a上。另外，也可通过机器手臂RB1先搬入第一基板W1，其后使流体压缸7动作以升高支持杆6。

当通过前述步骤已将第一基板W1载置于支持杆6的前端6a时，如图8（C）所示，支持杆6下降，第一基板W1配置在靠近台面2的位置。当第一基板W1成为图8（C）的配置状态时，流体压缸9进行动作，如图8（D）所示升高支持杆8。

若已达到该状态，通过机器手臂RB2搬入第二基板W2，该第二基板W2的四个角落如图8（E）所示，成为受到支持杆8的前端的保持器8a所支持而载置的状态。另外，在该情况下，也可通过机器手臂RB2先搬入第二基板W2，其后使流体压缸9动作以升高支持杆8。而且，在搬入第二基板W2时，对准相机10检测第一基板W1的对准标记31c及第二基板W2的对准标记32d，通过机器手臂RB2根据该图像信号所进行的微调，可进行两基板W1、W2的水平方向对准。

如以上完成第一基板W1及第二基板W2的搬入时，开关门23上升，如图4（B）所示，在流体压管25注入有加压流体而膨胀，该部分由此成为气密状态，第一处理室CH1成为密闭状态。然后，在该状态下，阀26b开放，如图8（F）所示开始第一处理室CH1的真空抽取，通过调整阀26c而成为约1Pa（帕斯卡）的高真空度。另外，此时，为了使UV穿透特殊片材11不被拉向第一处理室CH1侧，调整阀27c以使得第一处理室CH1相对于第二处理室CH2不致成为负压。

如此，让第一处理室CH1成为高真空度，尤其在制造有机EL显示面板的情况下有意义，随着排气可去除第一处理室CH1内的氧或湿气，然后可去除空气中的杂质，可提高良率。

通过前述步骤，在高真空度下，第一处理室CH1的排气结束时，如图8（G）所示，使流体压缸7动作，通过支持杆6升高到第一基板W1接触第二基板W2的密封材料32c的程度，进行暂时固定。在此同时，调整阀26c，提高第一处理室CH1的真空度到约50Pa，打开阀29a，从气体供给手段29导入氩或氮气等经充分干燥的惰性气体G。

图8（H）的步骤表示进一步升高台面2，同时提高第一处理室CH1的真空度到约100Pa的状态。另外，此时，流体压缸7、9进行动作，该支持杆6、8重新回复到初始位置。然后，在图8（I）的步骤，台面2升高到最高位，并且调整阀26c，提高第一处理室CH1的真空度到约50kPa。

图8（J）的步骤表示在将第一处理室CH1内的真空度维持在约50kPa的状态下，关闭阀27b，并且开放阀27a而将大气A导入的第二处理室CH2的状态。由此，当大气A充满第二处理室CH2时，由于大气压约为101kPa，因此第一处理室CH1内成为负压，第二处理室CH2的正压经由通孔15a而将UV穿透特殊片材11下压，密覆于第二基板W2整面而施加加压力。

图8（K）的步骤表示通过搬运机构，从UV支持框14的上面移动可动密封盘18而去除的状态，即使去除该可动密封盘18，由于UV穿透特殊片材11的上面依然为大气压，故维持第一处理室CH1内的负压状态。因此，在该状态下，通过UV穿透特殊片材11对于第二基板W2的加压力未产生变化。

如此，当大气压对第二基板W2施加时，第二基板W2往第一基板W1侧移动，两基板W1、W2间的间距缩短。若此为形成液晶显示面板的情况，则两基板W1、W2间的间距（单元间距）会通过硅光纤32b及间隔件31b决定而靠近至例如约5Pm的程度。然后，在两基板W1、W2及密封材料32a所围住的区域充满有液晶材料32f。

接着，在图8（L）的步骤中，档门22打开特定时间，已事先点灯的UV灯20隔着热射线截止滤光片21而由UV光的UV屏蔽15决定所需要的光量，该光量穿透UV穿透特殊片材11而照射到第二基板W2。由此，位于第一基板W1与第二基板W2间的密封材料32a、32c固化，具有特定单元间距的单元构造体30完成。

如此，当单元构造体30完成时，通过关闭阀26b且开放阀26a，将大气A导入至第一处理室CH2内。由此，如图8（M）所示，解除UV穿透特殊片材11与第二基板W2的密覆，该UV穿透特殊片材11重新回复到初始位置。然后，使台面2下降至初始位置，通过升降装置24移动开关门23，从空室壳体1的基板搬入窗1b，可通过机器手臂RB1或RB2取出由升高的支持杆8的保持器8a所支持的单元构造体30。

如以上详细说明，本发明的密封装置以UV穿透特殊片材11覆闭空室壳体1上面的开口部，载置容纳有UV屏蔽15的UV屏蔽支持框14，进一步载置覆闭该UV屏蔽支持框14的开口部的可动密封盘18。然后，通过在空室壳体1形成基板搬入窗1b，于其前面配设开关门，能够尽可能将空室壳体1小型化，因此可迅速进行用以形成真空状态的排气处理，可提升生产效率，可制成泛用性高的密封装置，对应液晶显示面板或有机EL显示面板等的生产。

【主要组件符号说明】

1         空室壳体

2         台面

3         杆

4         齿轮箱

5         马达

6         支持杆

7         流体压缸

8         支持杆

9         流体压缸

10        对准相机

11        UV穿透特殊片材

12        供给滚筒

13        卷取滚筒

14        UV屏蔽支持框

15        UV屏蔽

16        O形环

17        O形环

18        可动密封盘

19        灯屋

20        UV灯

21        热射线截止滤光片

22        档门

23        开关门

24           升降装置

25           流体压管

26a,26b,26c  阀

27a,27b,27c  阀

28           真空泵

30           单元构造体

W1           第一基板

W2           第二基板

CH1          第一处理室

CH2          第二处理室

Claims (6)

1.一种密封装置，其特征在于包括：

空室壳体，其在上面形成开口部而具有吸排气口，并且在内部可升降地设置有台面和下基板支持杆及上基板支持杆；

片材构件，其覆盖所述空室壳体的开口部，具有柔软性及透光性；

UV屏蔽支持框，其外形为大致与所述空室壳体一致的形状，具有吸排气口，并且在内部容纳UV穿透屏蔽并载置在所述片材构件上；

可动密封盘，其覆盖所述UV屏蔽支持框上面的开口部；及

光源部，其配设在所述可动密封盘的上方；

在所述空室壳体上隔着所述片材构件而配置有所述UV屏蔽支持框及所述可动密封盘时，以所述片材构件作为界线的下部的所述空室壳体内成为可减压的第一处理室，而另一方面，在以所述片材构件作为界线的上部，由所述UV屏蔽支持框及所述可动密封盘所围住的内部成为可减压的第二处理室。

2.根据权利要求1所述的密封装置，其中在所述空室壳体内，所述下基板支持杆支持第一基板并使其可升降，所述上基板支持杆支持第二基板并使其可升降，及所述台面载置单元构造体并使其可升降。

3.根据权利要求2所述的密封装置，其配置成：所述下基板支持杆在所述台面内升降。

4.根据权利要求2所述的密封装置，其中在所述空室壳体的底面下构成驱动机构，用以升降所述下基板支持杆、所述上基板支持杆及所述台面。

5.根据权利要求2所述的密封装置，其中在所述空室壳体的任意侧面，设置可保持所述第一处理室的气密状态的开关门。

6.根据权利要求2所述的密封装置，其中在所述台面的侧部设置对准相机，用以进行所述第一基板与所述第二基板的对准调整。