CN101828259A - 基板保持件保持装置和基板保持件收纳室 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板保持件保持装置，该基板保持件保持装置紧凑并且具有简单的结构。根据本发明的基板保持件保持装置设置有：第一和第二保持机构(5，7)，其被收纳在室中，并且分别被构造成能够沿着列保持多个基板保持件；列方向驱动装置，其使第一保持机构相对于第二保持机构沿列方向相对移动；移位机构(30)，其使基板保持件在第一和第二保持机构之间移位；以及连动机构，其通过移位机构和上述列方向驱动装置之间的连动来改变基板保持件在第一或第二保持机构中的在列方向上的位置。

Description

基板保持件保持装置和基板保持件收纳室

背景技术

作为在串联(in-line)型基板处理装置中产生的基板保持件上沉积膜的对策，在专利文献1中公开了使用基板保持件收纳室的基板保持件的交换系统。

专利文献1所公开的基板保持件收纳室设置有：放射状配置的具有输送辊的多个输送轨道(carring rail)；以及输送轨道转动机构，其以放射中心为轴线转动地驱动输送轨道，并且基板保持件能够被装载到各输送轨道上。上述系统是如下的系统：通过将这些输送轨道转动地输送到被设置于收纳室的输送入口/出口(一个开口)，而将收纳室中的基板保持件送出(回收)到串联型基板处理装置。

专利文献1：日本特开2005-120412号公报

发明内容

然而，上述系统存在如下问题。

(1)基板保持件收纳室的尺寸的小型化

如上所述，在传统技术中，采用转动系统来收纳基板保持件，因此需要输送轨道的放射状配置。输送轨道的配置半径由内置轨道的数量和轨道间隔来确定，并且当内置轨道的数量变大时，输送轨道需要被配置成与放射中心间隔开，从而导致配置半径的扩大。另外，作为放射状配置的特征，中心附近的输送轨道间隔根据放射角度向外周扩大，使得在外周产生无用的空间。

这些问题使得难以减小基板保持件收纳室的尺寸。

(2)结构简化

在传统技术中，存在如下问题：对于放射状配置的所有输送轨道，都需要串联型基板处理装置的输送辊，使用大量的输送部件并且这些输送部件的价格高。同时，需要对所有输送轨道进行输送调整，因此需要长时间的调整工作。

(3)加热效率的改善

在传统技术中，收纳基板保持件的放射状配置使得基板保持件的配置范围变大，从而使得难以配置用于加热所有基板保持件的加热器。因此，需要将用于加热基板保持件的加热器固定到顶面(ceiling)的两个部位，并且需要由转动机构使基板保持件转动以确保加热时的温度分布。对于传统系统，存在各基板保持件的输入热量小以及需要长时间加热以进行包括升温在内的脱气(degas)的问题。

根据本发明的一个实施方式，基板保持件保持装置的特征在于设置有：台机构，其能保持多个基板保持件并且能在排列方向上移动；上/下机构，其用于使基板保持件与台机构分离；以及连动(link-up)机构，其通过台机构和上/下机构之间的连动而使基板保持件在台机构上的位置移动。

根据本发明，可以并列地配置输送轨道来代替放射状地配置输送轨道，从而能够带来简化装置构造和节省装置空间的效果。根据本发明，可以减小室的尺寸并且也可以改善加热效率。

附图说明

图1是示出根据本实施方式的串联型基板处理装置的示意性构造的俯视图；

图2是基板保持件保持装置A的立体图；

图3是基板保持件保持装置A的立体图；

图4A是示出基板保持件8和输送机构20的图；

图4B是示出基板保持件8和移位机构(shifting mechanism)30的图；

图5是基板保持件保持装置A的立体图；

图6是基板保持件保持装置A的立体图；

图7A是示出基板保持件收纳室18中的加热机构(在本实施方式中是加热器4)的配置的俯视图；

图7B是加热机构的侧视图；

图8是将基板保持件从基板保持件收纳室18送出到相邻室的过程示意图；

图9是将基板保持件从基板保持件收纳室18送出到相邻室的另一过程示意图；

图10是将基板保持件从相邻室送出到基板保持件收纳室18的过程示意图；

图11是根据本发明的另一实施方式的基板保持件的送出过程示意图。

附图标记说明

输送机构20

驱动源21

转动方向转换机构22

输送磁体23

移位机构30

输送辊31

输送台(carrying base)32

驱动轴33

驱动装置34

加热器4

可动台5

台主体51

槽51a

驱动机构52

螺母52a

引导部52b

控制器6

分离机构7

单元7A和7B

保持部71A

水平部711a

分区构件712a

驱动单元72A

基板保持件8

基板81

磁体82

保持爪83

突出部84

具体实施方式

[基板处理装置构造的说明]

图1是示出根据本实施方式的串联型基板处理装置的示意性构造的俯视图。这种串联型基板处理装置例如被用作用于制造磁盘的装置。在本实施方式的基板处理装置中，多个真空室13被配置成以环状(图1中的长方形环)形式彼此连接的状态。各真空室13是真空容器，其中，用专用或非专用的排气系统排出各真空室13中的气体。闸门阀(gate valve)14被配置在各真空室13的边界，真空室13以保持气密状态的方式被彼此连接。基板被基板保持件8保持并输送通过基板处理装置。在多个被连接的真空室13中设置移动路径(transport path)，并且设置磁体型输送机构(将在下文中说明)，用于使基板保持件8沿着该移动路径移动。在基板处理装置的多个真空室13之中，配置于长方形的一边的两个真空室13是基板供给室15和基板排出室16，其中，基板供给室15将基板装载到基板保持件8，基板排出室16从基板保持件8回收基板。另外，在长方形的角部连接有方向改变室17，方向改变室17设置有用于将基板保持件8的输送方向改变90度的方向改变机构。此外，基板保持件收纳室18经由闸门阀14被连接到一个方向改变室17。

基板保持件收纳室18具有：基板保持件保持装置A，其保持多个基板保持件8；输送机构20，其在与基板保持件8相邻的方向改变室17和基板保持件保持装置A之间输送基板保持件8；移位机构30(参考图4)，其使基板保持件8在基板保持件保持装置A和输送机构20之间移位；以及加热机构(参考图7)，其加热基板保持件8。注意，在本实施方式中，多个基板保持件8(例如，两列)被并列地设置于基板保持件保持装置A，因此，能够在基板保持件保持装置A中收纳更多的基板保持件8。在基板保持件收纳室18中，收纳新的或被重复利用/被清洁过的基板保持件8并且还收纳沉积有薄膜的基板保持件8，从基板处理装置回收沉积有薄膜的基板保持件8，以交换新的或被重复利用/被清洁过的基板保持件8，由此使得无需停止磁盘生产也能够更换基板保持件8。

图2是示出基板保持件保持装置A的立体图。

基板保持件保持装置A设置有：可动台(与第一保持机构和列方向驱动装置相对应)5，其保持并列配置的基板保持件8；分离机构(与第二保持机构相对应)7，其由单元7A和7B构成，用于从可动台5一次分离被保持于可动台5的所有基板保持件8；以及控制器(与连动机构相对应)6，其控制上述操作。具体地，可动台5具有：台主体51，其能够保持多个基板保持件8；以及驱动机构52，其驱动台主体51。在台主体51上等间隔地设置多个槽51a，其中，基板保持件8的底部被装配到槽51a中，且台主体51能够将多个基板保持件8保持在多个基板保持件8竖立并且沿基板保持件的宽度方向配置的状态。驱动机构52使台主体51沿水平方向、即前/后方向往复运动。在本实施方式中，驱动机构52的致动器由滚珠丝杠(ball screw)构成。台主体51包括与联接部52a联接的螺母，并且该螺母被螺纹连接到沿可动台51的前/后方向延伸的螺杆轴(screw shaft)。在控制器6的控制下，由马达的转动使螺杆轴转动。由螺杆轴的转动使螺母前后移动，由此使与螺母联接的可动台51前后移动。注意，驱动机构52的致动器不限于滚珠丝杠，也可以使用诸如气缸(air cylinder)或液压缸(hydraulic cylinder)等缸体(cylinder)、与后述的输送机构20类似的通过磁耦合直接作用的磁体致动器等。

另外，在本实施方式中，分离机构7由配置于可动台5的两侧的支持单元(rest unit)7A和7B构成。单元7A具有：保持部71A，其能够保持基板保持件8的底部；以及驱动单元72A，其沿上/下方向驱动保持部71A。保持部71A具有：水平部711a，其沿基板保持件8的列方向延伸；以及多个分区构件712a，其沿上/下方向从水平部711a延伸并且以预定间隔沿着基板保持件8的列方向配置。一个基板保持件8被保持在由分区构件712a分出的一个分区中。因此，该分区的配置间隔(alignment spacing)与可动台5的槽51a之间的间隔相同，并且保持部71A被构造成能够同时保持被保持于可动台5的所有的多个基板保持件8。另外，在本实施方式中，形成于分离机构7的保持部71A的分区的数量被设定成不少于从可动台5的槽的数量中减去由输送机构20一次输送的基板保持件的数量(例如，通过从可动台5的槽的数量减去1)而得到的数量。

使分离机构7的保持部71A沿上/下方向移动的驱动单元72A被构造成设置有诸如液压缸等直接作用致动器。注意，未示出的直接作用致动器被配置于基板保持件收纳室18外，并且仅驱动轴被配置于室内。另一单元7B也具有与单元7A相同的构造。

对于一次向上抬起可动台5上的所有基板保持件然后使这些基板保持件与可动台分离的分离机构7，当基板保持件8被保持于可动台5时，如图2所示，分离机构7位于可动台5的下方的退避位置，而当基板保持件被从可动台5分离时，如图3所示，分离机构7被向上驱动，并且单元7A和7B从两侧抬起基板保持件8以使基板保持件8与可动台5分离。另外，当将分离机构7从上方位置下降到退避位置时，基板保持件8被移位到可动台5。

在本实施方式中，控制器6被构造成具有一般的计算机，并基于程序向可动台5、分离机构7、移位机构30以及将在下文中说明的输送机构20输出指令，由此在这些构件之间的协同作用下来实现操作。注意，控制器6被配置于基板保持件收纳室18中的多个基板保持件保持装置A共用，并且分别控制这些装置。

图4A和图4B示出了基板保持件8、输送机构20以及移位机构30。图4A是从正面方向观察时的基板保持件8和输送机构20的图，图4B是从基板的侧面观察时的基板保持件8、输送机构20以及移位机构30的图。

在本实施方式中，基板保持件8保持一个或多个(在图4A中是两个)基板81(用虚线示出装载的状态)，以在真空室13中对基板的两面进行处理。如图4A所示，基板保持件8用多个保持爪83支撑基板的侧面，由此，可以对基板的所有表面执行成膜处理等。另外，沿着与基板表面平行的方向延伸的磁体82被设置于基板保持件8的底部，并且通过使基板保持件与输送机构20磁耦合而沿着磁体82延伸的方向(横向)输送基板保持件。

输送机构20是在由移位机构30(图4B)从可动台5取出可动台5的最前列的基板保持件之后进一步输送被取出的基板保持件的机构。输送机构20具有：输送磁体23；驱动源21，其产生马达等的转动驱动力；以及转动方向转换机构22，其将驱动源21的转动转换成绕输送磁体23的轴线的转动。输送磁体23是沿基板保持件的移动方向延伸的构件，在输送磁体23中，N极磁体和S极磁体被螺旋状地配置，通过使该输送磁体绕轴线转动，能够沿横向输送基板保持件8，该基板保持件8通过图4B所示的移位机构30在输送磁体23上沿着该轴线的方向移位，并且该基板保持件8与输送磁体磁耦合。在本实施方式中，以靠近并列地配置于基板保持件收纳室18中的基板保持件保持装置A并且被多个基板保持件保持装置A共用的方式设置输送机构20，输送机构20输送从可动台5取出的基板保持件。控制器6通过对驱动源21输出驱动信号而控制输送方向、输送定时、输送速度等。注意，在本实施方式中，虽然未示出，但是驱动源21被设置在基板保持件收纳室18外，并且驱动轴以被伸缩管(bellows)(未示出)包围的状态被插入到室中。注意，在本发明的应用中，输送机构不限于采用磁耦合的机构。

另外，图4B所示的移位机构30被设置在输送磁体23的前方，并且通过设置输送辊31、输送台32、驱动轴33以及诸如缸体等用于上/下驱动的驱动装置34来构造移位机构30。如图4B所示，输送辊31的底面与基板保持件8的突出部84以彼此配合的方式接合，由此输送辊面对可动台侧，并且沿着基板保持件8的输送方向设置多个输送辊31。输送辊31可转动以沿着基板保持件8的输送方向引导基板保持件8。驱动装置34基于来自控制器6的指令而上下驱动输送辊31，并且通过将输送辊31接合到基板保持件8或不将输送辊31接合到基板保持件8来实现基板保持件8相对于可动台5的移位操作。

具体地，通过使输送辊31从图5所示的待机位置上升到图6所示的位置，基板保持件8的突出部84被接合到输送辊31，然后沿向上方向从可动台5取出基板保持件8。随后，如图4B所示，通过使输送辊31下降到基板保持件8的磁体82与输送磁体23磁耦合的输送位置，基板保持件8被从可动台5移位到输送位置。然后，由图4A所示的输送机构沿横向输送位于输送位置的基板保持件。也可以通过反向操作将基板保持件从输送位置移位到可动台5。

图7A和图7B示出了基板保持件收纳室18中的加热机构(在本实施方式中是加热器4)的配置。注意，图7A是俯视图，图7B是侧视图。

加热器4能够加热基板保持件8以进行脱气等，并且加热器4被配置在基板保持件8的上方。这些配置位置是如下位置：当由分离机构7将基板保持件配置在上方时，加热器4不与基板保持件8接触。作为加热器4，例如，也可以使用通过加热气体来加热基板保持件8的护套式加热器(sheath heater)等，也可以使用利用辐射热来加热基板保持件8的灯加热器(lamp heater)等。当加热时，如果基板保持件8被设定到由上述分离机构7使基板保持件8上升以靠近加热器4的状态，则能够实现更高的加热效果。

注意，也可以通过导入热气来代替使用加热器4或作为与加热器4一起使用的组合来加热基板保持件8。对于加热时室内的压力状态，可以在加压状态、大气状态或真空状态下加热基板保持件8。

[基板保持件的输送操作]

接着，将说明如上所述构造的基板保持件保持装置A、输送机构20以及移位机构30的操作。图8示出了将基板保持件8从基板保持件收纳室18送出的过程。通过程序化的控制器6的控制来实现上述一系列操作、即可动台5、分离机构7、输送机构20和移位机构30的操作。注意，为了使得附图便于理解，图8仅示出了分离机构7的必须要说明的部分。

注意，在图8至图11所示的实施方式中，可动台5沿前/后方向(图中的水平方向)移动，分离机构7沿上/下方向移动，移位机构30沿上/下方向和前/后方向移动，输送磁体23位于固定位置(虽然其转动)。因此，能够以输送磁体23为基准来观察这些机构的相对运动的位置关系。

图8所示的前半部分(a)至(f)示出了将一个基板保持件8从可动台5移位到输送位置h0和w0然后将基板保持件8送出的操作。

(a)示出了基板保持件8被收纳在可动台5中的状态。在该状态下操作可动台5，并且使可动台5向输送磁体23侧前进((b))。在本实施方式中，此时的移动节距(transporting pitch)被设定成与可动台5上的基板保持件8的配置间隔p相同。因此，可动台5和输送磁体23之间的位置关系被设定成使得当可动台5仅移动该节距时最前列的基板保持件8正好位于输送磁体23的上方。

接着，使移位机构30向上移动，使输送辊31上升，从可动台5向上取出基板保持件8((c))，并且使可动台5从该状态向后移动((d))。然后，使移位机构向下移动，使输送辊31下降，由此将基板保持件8移位到输送位置h0和w0((e))。随后，输送磁体23被转动地驱动，基板保持件8被沿横向输送并且被从收纳室18中送出((f))。结果，能够在可动台5的最前列的槽、即在输送磁体23的侧端的配置空间中产生一个自由空间。

图8所示的后半部分(g)至(k)示出了将基板保持件8移动到上述可动台5的自由空间的操作。

使移位机构30从移位位置向上移动返回至待机位置((g))，并且使可动台5向输送磁体23侧仅前进上述配置间隔p((h))。随后，分离机构7被操作，并且使保持在可动台5上的所有基板保持件8上升，然后使基板保持件8与可动台5分离((i))。在上述分离状态下，在使可动台5向后仅移动配置间隔p之后((j))，分离机构7下降并且基板保持件8被移动到可动台5。结果，基板保持件8填补了上述自由空间，并且基板保持件8以向输送磁体23侧移动以减小空间的状态被配置于可动台5((k))。

之后，通过重复(a)至(k)，可以将配置于可动台5的所有基板保持件8依次送出收纳室。

如上所述，根据本发明的输送系统，不用放射状地收纳基板保持件8而是可以并列地收纳基板保持件8。另外，用一个可动台5代替多个输送轨道，由此能够在基板保持件之间的间隔小的状态下在可动台上收纳基板保持件，从而能够减小室的尺寸。同时，通过减少输送部件也能够实现成本的减少，并且能够大大地减少用于调整输送辊的位置的工作时间。

此外，减小了基板保持件8的配置面积，由此可以配置覆盖所有的保持件的脱气用的加热器4。同时，各保持件的输入热量增加，因此，能够减少升温时间等。此外，利用基板保持件8和可动台5之间的分离机构，通过使基板保持件8与加热器4彼此靠近也可以减少升温时间。

[变型例]

注意，在本实施方式中，可动台5的移动节距始终被设定成基板保持件8的配置间隔p，但是，也可以在使基板保持件8在可动台5和输送位置之间移位时以及在利用分离机构7改变基板保持件8在可动台5中的配置时改变移动节距。也就是，当改变基板保持件8在可动台5中的配置时，需要以配置间隔p为单位来设定移动节距，而当基板保持件8被移位到输送位置时，需要将可动台5移动到输送磁体23的位置。

另外，本发明不限于上述顺序。例如，图9示出了改变基板保持件8在可动台5中的配置时的另一操作示例。在图9所示的示例中，在从与图8所示的(g)对应的状态(g’)驱动可动台5之前，由分离机构7分离基板保持件8(h’)，在上述状态下，沿与输送位置相反的方向驱动可动台5(i’)，并且基板保持件8被移位到可动台5(j’)。图9所示的(k’)的状态与图8中的(k)的状态相对应。在这种情况下，与图8中的操作示例相比较，虽然需要用于沿与输送位置相反的方向驱动可动台5的附加空间，但是，能够避免可动台5与输送磁体23干涉。

另外，作为图9所示的示例，由于可以通过分离机构7的使用定时和可动台5的移动定时来改变可动台5的驱动方向，因此，可以通过改变上述定时而在输送可动台5中的基板保持件8时以及在送出基板保持件8时统一驱动方向。

图10示出了应用了上述定时改变的送入时的操作示例。图10(a)是根据输送机构20的输送位置将基板保持件8输送到可动台5的最前列的槽中的状态。与送出不同，当送入时，在驱动可动台5之前操作分离机构7以分离基板保持件8((b))，由此向输送磁体23侧(向前)驱动可动台5，因此能够将输送到最前列的基板保持件移位到第二列((c)、(d)、(e))。将基板保持件从输送机构20输送到可动台的最前列，并且由分离机构7使基板保持件8顺次向后移动。这样，基板保持件能够被输送到可动台5的所有槽中。结果，可动台5移动的空间能够被抑制到最小。当然，在进行类似的定时调整的情况下，当送入和送出时，可以沿与输送磁体23侧相反的方向驱动可动台5，或者在不进行定时调整的情况下，根据送入或送出，可以沿相反的方向驱动可动台5。

另外，虽然已经说明了基板保持件8被竖立放置的情况，但是，本发明也可以应用于例如基板保持件8被沿上/下方向层叠的情况(在这种情况下，列方向与上/下方向相对应)。此外，虽然在上述实施方式中基板保持件8沿基板的厚度方向层叠，但也可以沿基板的侧面方向(平面方向)层叠。

此外，在上述实施方式中，可动台5被向前和向后移动一个配置间隔p，但是不限于此，而是可以移位例如2个配置间隔以上。例如，当输送机构20一次输送两个基板保持件时，能够一次产生两个自由空间，使得可动台5可以被向前和向后移动基板保持件8被输送的配置间隔p(在该示例中，被移动两个配置间隔p)，从而能够马上节省空间。当然，一个配置空间p可以被重复两次以减少自由空间。

此外，在上述实施方式中，由各自保持机构分别进行从保持机构的分离功能和沿列方向的驱动，但是可以由一个保持机构来进行上述两个功能。例如，本发明可以被构造成使得可动台5也沿上/下方向被驱动，分离机构7的保持部71A被固定在可动台5的下方，可动台5下降，由此使基板保持件8向分离机构7移动，在可动台5向前或向后移动之后，通过升高保持部71A使基板保持件8再次向可动台5移动。在这种情况下，例如，诸如缸体等上/下驱动装置也被设置在上述可动台5的驱动机构52的下方，然后使可动台5与驱动机构52一起移动。

另外，上述实施方式被构造成使得沿列方向驱动一个保持机构(仅可动台5)，但是本实施方式可以被构造成使得驱动机构也被设置于第二保持机构，由此第一和第二保持机构均沿列方向交替地向前和向后移动。此外，上述基板保持件收纳室被用于在真空状态下存储基板保持件8并且用于脱气，但是本发明不限于此，而是也可以用作为了保持基板保持件8直到基板被脱气或被导入到相邻室的目的而在基板被装载在其上的状态下收纳基板保持件8的装置。

此外，上述实施方式被构造成使得通过移动可动台5来改变可动台5中的基板保持件8的在列方向上的位置，但是如图11(a)所示，本发明可以被构造使得通过移动可动台5来改变分离机构7上的基板保持件8的在列方向上的配置。如图11所示，通过仅改变操作顺序就可以实现该操作。图11示出了在当基板保持件8被送出时基板保持件8向输送磁体23侧移动以减小空间的情况下的顺序的示例。注意，在这种情况下，优选的是可动台5上的基板保持件的最大可保持数量(槽51a的数量)被设定成比分离机构7上的基板保持件8的最大可保持数量少(被设定成通过从分离机构7上的基板保持件8的最大可保持数量减去由输送机构20每次输送的基板保持件8的数量而得到的数量)。此外，因为能够减小沿列方向被驱动的可动台的在列方向上的长度，因此，能够实现进一步的空间节省。

Claims (12)

1.一种基板保持件保持装置，其特征在于，所述基板保持件保持装置包括：

台机构，所述台机构能够保持多个基板保持件并且能在排列方向上移动；

上/下机构，所述上/下机构能使所述基板保持件与所述台机构分离；以及

连动机构，所述连动机构通过所述台机构和所述上/下机构之间的连动而使所述基板保持件在所述台机构上的位置移动。

2.根据权利要求1所述的基板保持件保持装置，其特征在于，所述台机构能够并排地保持多个基板保持件，并且所述台机构被构造成能在所述基板保持件的排列方向上以预定节距移动。

3.根据权利要求1所述的基板保持件保持装置，其特征在于，

所述上/下机构具有能够保持所述基板保持件的保持构件，

所述上/下机构通过相对于所述台机构升高所述保持构件或通过相对于所述保持构件降低所述台机构而使所述基板保持件与所述台机构分离。

4.根据权利要3所述的基板保持件保持装置，其特征在于，所述保持构件被构造成能够以维持所述基板保持件在所述台机构上的排列的方式来保持所述基板保持件。

5.根据权利要求1所述的基板保持件保持装置，其特征在于，所述连动机构通过交替地进行上/下机构的操作以及台机构沿所述基板保持件的排列方向移动的操作而使所述基板保持件在所述台机构上的位置移动。

6.一种基板保持件收纳室，其特征在于，在所述基板保持件收纳室中配置权利要求1所述的基板保持件保持装置。

7.根据权利要求6所述的基板保持件收纳室，其特征在于，并列地配置多个所述基板保持件保持装置。

8.根据权利要求6所述的基板保持件收纳室，其特征在于，所述基板保持件收纳室包括：

所述基板保持件保持装置；

输送机构，所述输送机构将基板保持件送出所述基板保持件收纳室外；以及

移位机构，所述移位机构将在所述台机构的端部保持的基板保持件取出以将所述基板保持件移位到所述输送机构。

9.根据权利要求8所述的基板保持件收纳室，其特征在于，

所述基板保持件保持装置被构造成使得所述台机构沿着所述基板保持件的正面方向排列和保持多个基板保持件，以及

所述输送机构被构造成能够在不改变所述基板保持件的方向的情况下输送所述基板保持件。

10.根据权利要求6所述的基板保持件收纳室，其特征在于，为被保持于所述基板保持件保持装置的基板保持件设置加热机构。

11.根据权利要求10所述的基板保持件收纳室，其特征在于，所述加热机构设置有安装于所述基板保持件收纳室的上部的加热器，以及

所述上/下机构能够升高所述基板保持件，以使所述基板保持件靠近所述加热器。

12.一种串联型基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置包括：权利要求6所述的基板保持件收纳室；基板供给室，其将基板装载于基板保持件；以及处理室，其对被装载于所述基板保持件的所述基板进行表面处理。

Images