CN101758007A - 抵消反作用力的设备和具有该设备的涂胶机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于抵消反作用力的设备。通过将反作用力传递到沿与移动体的移动方向相同的方向移动的质量体并且将反作用力转换为用于移动质量体的能量，该设备抵消由于传输系统的移动体的移动所产生的反作用力。因此，可以简化使用这种设备的传送系统的结构，并且甚至是在传送系统沿与移动体的移动方向不同的方向移动时，也能够抵消移动体的移动所产生的反作用力。

Description

抵消反作用力的设备和具有该设备的涂胶机

技术领域

本发明涉及用于抵消由于传送系统中的移动体(carrier)的移动而产生的反作用力的设备。

背景技术

诸如机器人或起重机之类的传送系统已经应用于包括液晶显示器在内的各种平板显示器(FPD)的制造过程，所述机器人用于传送诸如基板、液体喷雾嘴或者喷嘴传送组件的目标物。

这种传送系统包括移动体支承件、保持在移动体支承件上的支承件、以及安装在支承体上以便沿一个方向移动的移动体，并且该传送系统出于预定的目的来传送移动体。

在运行期间，传送系统因移动体的移动所产生的反作用力而振动。由于反作用力而引起的振动导致工作精度降低。

为了减少这种振动，已经考虑将用于抵消反作用力的设备应用于传送系统。例如，在名称为“反作用力传送系统”的韩国专利公开文本No.10-2005-0003426中公开了与反作用力抵消设备相关的技术。

包括所述已公开的发明在内的常规反作用力抵消设备与传送系统分开设置。这样，在具有移动体的传送系统沿与移动体的移动方向不同的方向移动的情况下，例如当移动体的移动方向是x轴方向而传送系统的移动方向是y轴方向时，无法将反作用力抵消设备应用于传送系统。

另外，由于反作用力抵消设备与传送系统分开设置，使得反作用力抵消设备的构造和安装非常复杂。

发明内容

因此，鉴于现有技术中出现的上述问题研发了本发明。本发明的一个目的在于提供一种用于抵消反作用力的设备。通过将反作用力传递到沿与移动体移动方向相同的方向移动的质量体并转化为用于移动质量体的驱动能量，该设备抵消由于传送系统的移动体的移动所产生的反作用力，由此简化了传送系统的构造，并且甚至是在传送系统沿与移动体的移动方向不同的方向移动时，也能够抵消因移动体的移动所产生的反作用力。

本发明的另一个目的在于提供一种具有所述反作用力抵消设备的涂胶机(paste dispenser)。

为了实现上述目的，根据本发明，提供一种用于抵消反作用力的设备。该设备包括：传送系统，具有移动体支承件、以可滑动的方式支承于所述移动体支承件上的支承体和在所述支承体上移动的移动体；质量体，联接于所述支承体，通过所述移动体的移动所产生的反作用力，沿与所述移动体的移动方向相同的方向移动；复位体，用于在移动所述质量体时，使所述质量体回复到其初始位置；以及以可滑动的方式安装在移动体支承件上的传递单元，将支承体和质量体联接，并且将由移动体的移动产生并传递到支承体的反作用力传递到质量体。

这里，所述传递单元可以具有围绕所述移动体支承件的闭合回路的结构，并且可以在所述传递单元和移动体支承件之间安装抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述移动体支承件的外表面之间的摩擦。

根据本发明的另一方面，提供了一种涂胶机。所述涂胶机包括：头支承件；可移动地安装在所述头支承件上的至少一个头单元；头移动单元，具有以可滑动的方式联接到所述头支承件的固定部分和安装在所述头单元上的移动部分，以在所述头支承件的纵向上移动所述头单元；和反作用力抵消设备，具有质量体、复位体和传递单元，其中所述质量体与固定部分联接，并通过所述移动部分的移动产生的反作用力，在与所述移动部分的移动方向相同的方向上移动；当质量体被移动时，所述复位体使质量体复位到其初始位置；所述传递单元以可滑动的方式安装在所述头支承件上，将所述固定部分和质量体联接，并将由所述移动部分的移动产生并传递到所述固定部分的反作用力传递到所述质量体。

这里，所述传递单元可以具有围绕所述头支承件的闭合回路的结构，并且可以在所述传递单元和头支承件之间安装抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述头支承件的外表面之间的摩擦。

根据本发明的另一方面，提供了一种涂胶机。所述涂胶机包括：支承框架，支承头支承件，所述头支承件上安装有至少一个头单元；支承移动体，具有以可滑动的方式联接到所述支承框架的固定部分和安装在所述头支承件上的移动部分，以在所述支承框架的纵向上移动所述头支承件；和反作用力抵消设备，具有质量体、复位体和传递单元，其中所述质量体与固定部分联接，并通过所述头支承件和移动部分的移动产生的反作用力，在与所述移动部分的移动方向相同的方向上移动；当质量体被移动时，所述复位体使质量体复位到其初始位置；所述传递单元以可滑动的方式安装在所述支承框架上，将所述固定部分和质量体联接，并将由所述移动部分的移动产生并传递到所述固定部分的反作用力传递到所述质量体。

这里，所述传递单元可以具有围绕所述支承框架的闭合回路结构，并且可以在所述传递单元和头支承件之间安装抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述支承框架的外表面之间的摩擦。

附图说明

从下面结合附图进行的详细描述中，将更清楚地理解本发明的上述及其它目的、特征和优点，在附图中：

图1是示出根据本发明的示例性实施例的用于抵消反作用力的设备的示意图；

图2是示出根据本发明的另一个实施例的涂胶机的立体图；

图3是示出图2的涂胶机的头单元的立体图；

图4是示出涂胶机的头支承件的剖视图，在涂胶机上安装有根据本发明的示例性实施例的抵消反作用力的设备；以及

图5是示出涂胶机的支承框架的剖视图，在涂胶机上安装有根据本发明的抵消反作用力抵消的设备。

具体实施方式

现在对本发明的示例性实施例进行详细描述，本发明的例子如附图所示。只要可能，在说明书和附图中使用相同的附图标记代表相同的或相似的部件。

图1是示出根据本发明的示例性实施例的用于抵消反作用力的设备的示意图。

如图1所示，根据本发明的示例性实施例的反作用力抵消设备80包括安装于传送系统90上的反作用力抵消单元81，该传送系统90具有出于特定目的而移动的移动体93，该反作用力抵消单元81抵消因移动体93的移动而产生的反作用力。这里，传送系统90包括支承体92和移动体支承件91，移动体93以可移动的方式支承在支承体92上，支承体92以可滑动的方式支承在移动体支承件91上。

反作用力抵消单元81包括质量体812和复位体813。质量体812联接于支承体92，并通过移动体93的移动所产生的反作用力，沿与移动体93的移动方向相同的方向移动。复位体813联接于质量体812的一边或者两边，并且当移动质量体812时，使质量体812回复到其初始位置。

通过这样的构造，将移动体93的移动产生的反作用力传递到支承体92，从而移动支承体92。移动支承体92的力传递到质量体812。传递到质量体812的力转化为用于移动质量体812的能量，并由此被抵消掉。

反作用力抵消单元81包括传递单元814，用于将移动体93的移动产生并且传递到支承体92的力传递到质量体812，质量体812在与移动体93的移动方向相同的方向上移动。传递单元814以可滑动的方式安装在移动体支承件91上，将支承体92与质量体812连接，并且将由于移动体93的移动产生并且传递到支承体92的力传递到质量体812。

传递单元814可以形成为包围移动体支承件91的外周的闭合回路结构，例如传送带、传送链或者绳索。

如图1所示，支承体92与传递单元814的上侧联接，质量体812与传递单元814的下侧联接。因此，支承体92和质量体812通过传递单元814连在一起。然而，本发明并不限于图1所示的方向。例如，基于移动体支承件91，支承体92可以联接到传递单元814的一侧，而质量体812可以联接到传递单元814的另一侧。

当移动体93的移动所产生并且传递到支承体92的力移动支承体92时，传递单元814在移动体支承件91的外围方向上滑动。传递单元814的滑动促使质量体812在与支承体93的移动方向相同方向上移动。因此，支承体93的移动产生的力被转变成用于移动支承体92、传递单元814和质量体812的能量，因而该力被消除。

这样，当在移动体支承件91的外围上滑动时，传递单元814将由移动体93的移动产生并且传递到支承体92的力进行传递。与基于其它用于联接支承体92和质量体812的联接结构的力传递相比，基于传递单元814的滑动的力传递可以使在处理力的传递过程中产生的振动、冲击和噪声最小。

这里，优选地，在传递单元814和移动体支承件91之间安装抗摩装置97，以能够使在传递单元814在移动体支承件91的外围上滑动的过程中在传递单元814的内表面和移动体支承件91的外表面之间产生的摩擦最小。例如，抗摩装置97可以采用各种结构，诸如球轴承、滚柱轴承、滚子、其中含有润滑油的壳体，可以防止在传递单元814与移动体支承件91之间传递振动和产生摩擦。

质量体812的质量远大于支承体92和移动体93，因此当由于移动体93的移动产生的反作用力经支承体92和传递单元814传递到质量体812从而移动质量体812时，即使质量体812的微量移动也可以充分地抵消由于移动体93的移动产生的反作用力。

当由于移动体93的移动产生的反作用力移动质量体812时，复位体813使质量体812复位到它的初始位置。为此，复位体813可以采用能够联接于质量体812并向质量体812提供预定复位力的各种结构，诸如弹性螺旋弹簧、板簧、液压或气压阻尼器。

通过这样的构造，当移动体93在支承体92上移动时，便产生与移动体93的移动方向反向的反作用力。该反作用力中的一部分被传递至支承体92，转化为用于移动支承体92的驱动能量，并因此被消除。所述反作用力中的另一部分通过支承体92传递到传递单元814，转化为用于使传递单元814在移动体支承件91的外围上滑动的驱动能量，并因此被消除。此外，所述反作用力的其它部分通过支承体92传递到质量体812，转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。在这种情形下，由于质量体812的质量比支承体92或移动体93的质量大得多，质量体812的移动量是很小的。

同时，在质量体812被传递的力移动之后，复位体813的复位力使质量体812回到初始安装位置。此时，当复位体813的复位力经质量体812传递到具有闭合结构的传递单元814时，传递单元814在移动体支承件91上滑动，因而联接到传递单元814的支承体92也可以回到初始位置。

这样，根据本发明的示例性实施例的反作用力抵消设备具有一个优点，即不要求使用将支承体92复位到初始位置的单独结构，因为利用具有闭合结构的传递单元814的滑动，质量体812和支承体92可以回到初始位置。

根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备80将由于移动体93的移动产生的反作用力经传递单元814的滑动传递到质量体812，并且在与移动体93的移动方向相同的方向上移动质量体812。因此，反作用力抵消设备80能够抵消反作用力，简化传送系统的构造。进而，移动体93的移动所产生的反作用力被转化为用于移动支承体92的驱动能量，并被转化为用于滑动传递单元814的驱动能量，以及被转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。另外，当传递单元814、质量体812以及复位体813全部都联接于移动体支承件91时，即使配备有反作用力抵消单元81的传送系统90沿与移动体93的移动方向不同的方向移动，也能够抵消移动体93的移动所产生的反作用力。

而且，由于根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备80具有以可滑动的方式安装在移动体支承件上的传递单元814，并经传递单元814的滑动将移动体93的反作用力传递到质量体812，因而与将支承体92和质量体812联接的复杂联接结构相比，可以使在将移动体93的反作用力传递到质量体812质量体812的过程中产生的冲击或者振动最小。

具有上述构造和操作效果的反作用力抵消设备80可应用于各种传送系统，例如起重机、机器人以及平板显示器(FPD)制造设备。在下文中，作为本发明一个示例，将对将根据本发明的反作用力抵消设备80应用于涂胶机的情况进行说明。

图2是示出根据本发明的另一个实施例的具有反作用力抵消设备80的涂胶机的立体图。图3是示出图2的涂胶机的头单元的立体图。

如图2所示，根据本发明另一个示例性实施例的涂胶机包括：基座框架10；固定到基座框架10并且配置为在其上放置有基板20的托台11；沿y轴方向安装于托台11两侧的一对支承框架40；支承安装在所述一对支承框架40上并沿x轴方向延伸的头支承件50；安装在头支承件50上的至少一个头单元60；将头单元60联接于头支承件50并且沿x轴方向水平移动头单元60的头移动单元70；以及对头单元60和头移动单元70的操作进行控制的控制单元(未示出)。

可在基座框架10上设置托台驱动单元(未示出)，以在基座框架10上前后(沿y轴方向)移动托台10。可在头支承件50上设置支承件移动单元30，以便沿支承框架40移动头支承件50。如果基板20具有较大的面积，则可安装多个头支承件50，以提高形成密封胶图案(paste pattern)时的生产率。

如图3所示，头单元60包括：填充有密封胶的注射器61；与注射器61相连通并排出密封胶的喷嘴62；定位在喷嘴62的附近并测量喷嘴62与基板20之间的间隔的激光位移传感器63；沿y轴方向移动激光位移传感器63的y轴驱动单元64；以及沿z轴方向移动喷嘴62和激光位移传感器63的z轴驱动单元65。这里，激光位移传感器63包括发射激光束的激光束发射部分631，以及与激光束发射部分631隔开预定距离并接收从基板20反射的激光束的激光束接收部分632。激光位移传感器63用于根据从激光束发射部分631发出并从基板20反射的激光束的聚焦位置输出电信号到控制单元，并测量基板20与喷嘴62之间的间隙。

另外，头单元60可设置有截面积传感器66，以测量涂覆在基板20上的密封胶图案P的截面积。该截面积传感器66通过连续用激光束照射基板20并扫描密封胶图案P来测量出密封胶图案P的截面积。截面积传感器66所测量出的密封胶图案P的截面积数据被用来确定密封胶图案P是否存在缺陷。

在下文中，将对将根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备80应用于涂胶机的头支承件50的实施例进行描述。

图4是示出根据本发明另一个示例性实施例的涂胶机的头支承件50的剖视图，其中将反作用力抵消设备80应用于头支承件50。

如图4所示，头支承件50通过头移动单元70联接于头单元60。头移动单元70包括沿头支承件50的纵向方向延伸的固定部分71和安装于头单元60的移动部分72。因此，通过固定部分71和移动部分72之间的电磁相互作用，头单元60可沿x轴方向移动，即沿头支承件50的纵向方向移动。

反作用力抵消设备80包括反作用力抵消单元81，反作用力抵消单元81将头单元60和移动部分72的移动所产生且施加在固定部分71上的反作用力传递到沿与移动部分72的移动方向相同的方向移动的质量体812，并将所述反作用力转化为用于移动质量体812的驱动能量，从而消除所述反作用力。反作用力抵消单元81包括质量体812和复位体813。质量体812联接于固定部分71，并通过头单元60和移动部分72的移动所产生的反作用力沿与移动部分72的移动方向相同的方向移动。当移动质量体812时，复位体813使质量体812回复到其初始位置。

反作用力抵消单元81包括传递单元814，传递单元以可滑动的方式安装在头支承件50上以将传递到固定部分71的力传递到沿与移动部分72的移动方向相同的方向移动的质量体812，传递单元将固定部分71与质量体812联接，并且将由移动部分72的移动产生且传递到固定部分71的力传递到质量体812。

这里，在使头支承件50对中时，固定部分71联接到传递单元814的一侧，质量体812联接到传递单元814的另一侧。传递单元814为环绕头支承件50的外围的闭合回路结构，例如传送带、传送链或者绳索。

质量体812的质量比头单元60、固定部分71和移动部分72的质量大得多，因此，当头单元60和移动部分72的移动所产生的反作用力通过固定部分71和传递单元814传递到质量体812，从而移动质量体812时，即使质量体812的微小移动就能够充分抵消移动部分72的移动所产生的反作用力。

优选地，在传递单元814和头支承件50之间设置抗摩装置97，以防止在传递单元814的内表面和移动体支承件91(头支承件50)的外表面之间产生摩擦。例如，抗摩装置97可以采用各种结构，诸如球轴承、滚柱轴承、滚子、其中含有润滑油的壳体，防止在传递单元814和头支承件50之间传递振动和产生摩擦。

在本发明的示例性该实施例中，质量体812设置在头支承件50内的结构只是建议的一种方式。作为替换，可以将质量体812设置在头支承件50的外面。

当头单元60和固定部分71(移动部分72)的移动所产生的反作用力移动质量体812时，复位体813用来使质量体812回复到其初始位置。为此，复位体813可采用能够联接于质量体812并向质量体812提供预定复位力的各种构造，例如弹性螺旋弹簧、板簧、液压或气压阻尼器。

在这样的构造中，当移动部分72和头单元60在固定部分71上移动时，产生与移动部分72的移动方向反向的反作用力。该反作用力的一部分传递至固定部分71，转化为用于移动固定部分71的驱动能量，并因此被消除。所述反作用力的另一部分通过固定部分71传递到传递单元814，转化为用于使传递单元814滑动的能量，并因此被消除。所述反作用力的其它部分通过传递单元814传递到质量体812，转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。在这种情形下，由于质量体812的质量比固定部分71、移动部分72和头单元60的质量大得多，因此质量体812的移动较小。此时，在传递至质量体812的力移动质量体812后，质量体812通过复位体813复位到其初始位置，同时固定部分71也复位到其初始位置。

如上所述，根据本发明示例性实施例的涂胶机设有反作用力抵消设备80，通过以可滑动的方式安装在头支承件50上的传递单元814将头单元60和在其上可移动地安装有头单元60的头支承件50上的移动部分72的移动产生的反作用力传递到质量体812，并且沿与移动部分72的移动方向相同的方向移动质量体812，该反作用力抵消设备80抵消反作用力。因此，涂胶机能够简化构造。而且，甚至是在头支承件50沿y轴方向移动时，也能够抵消头单元60和移动部分72的移动所产生的反作用力。进一步地，头单元60和移动部分72的移动所产生的反作用力转化为用于移动固定部分71的驱动能量，转化为用于使传递单元814滑动的驱动能量，以及转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。

而且，根据本发明的另一示例性实施例的涂胶机可以通过传递单元814的滑动，将头单元60和移动部分72的移动产生的反作用力传递到质量体812，因而可以减少在传递和抵消反作用力的过程中产生的冲击和振动。

下文中，将介绍将根据本发明的示例性实施例的反作用力抵消设备80应用到涂胶机的支承框架40。

图5是示出根据本发明另一示例性实施例的涂胶机的支承框架40的剖视图，其中将反作用力抵消设备80应用于支承框架40。

如图5所示，头支承件50经由支承件移动单元30联接于支承框架40。支承件移动单元30包括沿支承框架40的纵向方向延伸的固定部分31和安装于头支承件50的移动部分32。因此，通过固定部分31和移动部分32之间的电磁相互作用，头支承件50可沿y轴方向移动，也就是说沿支承框架40的纵向方向移动。

反作用力抵消设备80包括反作用力抵消单元81，反作用力抵消单元81改变头支承件50和移动部分32的移动所产生且施加在固定部分31上的反作用力的方向，并将所述反作用力传递到沿与移动部分32的移动方向相同的方向移动的质量体812，并将所述反作用力转化为用于移动质量体812的驱动能量，从而消除所述力。反作用力抵消单元81包括质量体812和复位体813，质量体812联接于固定部分31，并通过头支承件50和移动部分32的移动所产生的反作用力沿与移动部分32的移动方向相同的方向移动；当移动质量体812时，复位体813使质量体812回复到其初始位置。

反作用力抵消单元81包括传递单元814，传递单元814以可滑动的方式安装在支承框架40上以将传递到固定部分31的力传递到沿与移动部分32的移动方向相同的方向移动的质量体812，传递单元814将固定部分31和移动部分32联接，并且将移动部分32的移动产生且传递到固定部分31的力传递到质量体812。

这里，当使支承框架40对中时，固定部分31联接到传递单元814的一侧，质量体812联接到传递单元814的另一侧。传递单元814为环绕支承框架40的外围的闭合回路结构，例如传送带、传送链或者绳索。

质量体812的质量比头支承件50、固定部分31和移动部分32的质量大得多，因此，当头支承件50和移动部分32的移动所产生的反作用力通过固定部分31和传递单元814传递到质量体812，从而移动质量体812时，即使质量体812的微小移动也能够充分抵消移动部分32的移动所产生的反作用力。

优选地，在传递单元814和支承框架40之间设置抗摩装置97，以防止在传递单元814的内表面和支承框架40的外表面之间产生摩擦。例如，抗摩装置97可以采用各种结构，诸如球轴承、滚柱轴承、滚子、其中含有润滑油的壳体，防止在传递单元814和支承框架40之间传递振动和产生摩擦。

在本发明的示例性该实施例中，质量体812设置在支承框架40内的结构只是建议的一种方式。作为替换，可以将质量体812设置在支承框架40的外面。

当头支承件50和固定部分31(移动部分32)的移动所产生的反作用力移动质量体812时，复位体813用来使质量体812回复到其初始位置。为此，复位体813可采用能够联接于质量体812并向质量体812提供预定复位力的各种构造，例如的弹性螺旋弹簧、板簧、液压或气压阻尼器。

在这样的构造中，当移动部分32和头支承件50在固定部分31上移动时，产生与移动部分32的移动方向反向的反作用力。该反作用力的一部分传递至固定部分31，转化为用于移动固定部分31的驱动能量，并因此被消除。所述反作用力的另一部分通过固定部分31传递到传递单元814，转化为用于使传递单元814滑动的能量，并因此被消除。所述反作用力的其它部分通过传递单元814传递到质量体812，转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。在这种情形下，由于质量体812的质量比固定部分31、移动部分32和头支承件50的质量大得多，因此质量体812的移动较小。此时，在传递至质量体812的力移动质量体812后，质量体812通过复位体813复位到其初始位置，同时固定部分31也复位到其初始位置。

如上所述，根据本发明另一个示例性实施例的涂胶机设有反作用力抵消设备80，通过以可滑动的方式安装在支承框架40上的传递单元814将头支承件50和在其上可移动地安装有头支承件50的支承框架40上的移动部分32的移动产生的反作用力传递到质量体812，并且沿与移动部分32的移动方向相同的方向移动质量体812，该反作用力抵消设备80抵消反作用力。因此，涂胶机能够简化构造。进一步地，头支承件50和移动部分32的移动所产生的反作用力转化为用于移动固定部分31的驱动能量，转化为用于使传递单元814滑动的驱动能量，以及转化为用于移动质量体812的驱动能量，并因此被消除。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。

而且，根据本发明的另一示例性实施例的涂胶机可以通过传递单元814的滑动，将头支承件50和移动部分32的移动产生的反作用力传递到质量体812，因而可以减少在传递和抵消反作用力的过程中产生的冲击和振动。

本发明示例性实施例中公开的技术原理可以单独地实现或者组合实现。

进一步，除了上述实施例中述及的结构之外，根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备80可以应用于移动涂胶机的各个组件的多个单元，诸如移动托台11的托台驱动器。

根据本发明的说明书，很明显，通过将反作用力传递到沿与移动体的移动方向相同的方向的质量体并且将反作用力转变成移动质量体的能量，根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备抵消移动体的移动产生的反作用力，并可以具有简单的结构。

进一步，通过将反作用力转换为移动支承体的能量、用于滑动传递单元的能量和用于移动质量体的能量，可以抵消移动体产生的反作用力。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。而且，当传递单元、质量体、和复位体都联接于移动体支承件时，即使传送系统沿不同于移动体移动的方向移动时，也可以抵消由移动体移动产生的反作用力。

同时，由于根据本发明示例性实施例的反作用力抵消设备具有以可滑动的方式安装在移动体支承件上的传递单元，并且通过传递单元的滑动将移动体的反作用力传递到质量体，因而可以使在将移动体的反作用力传递到质量体的过程中产生的冲击或者振动最小。

而且，当将反作用力抵消设备应用于涂胶机的头支承件时，通过将反作用力传递到沿与移动部分的移动方向相同的方向移动的质量体并且将反作用力转换为用于移动质量体的能量，抵消由于头单元和移动部分的移动产生的反作用力，使得涂胶机的结构简单，并且即使头支承件沿与头单元的移动方向垂直的方向移动，抵消头单元的移动产生的反作用力。而且，通过将反作用力转换为滑动传递单元的能量和移动质量体的能量，抵消由头单元和移动部分的移动产生的反作用力。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。

此外，当将反作用力抵消设备应用于涂胶机的支承框架时，通过将反作用力传递到沿与移动部分的移动方向相同的方向移动的质量体并且将反作用力转换为用于移动质量体的能量，抵消由于头支承件和移动部分的移动产生的反作用力，使得涂胶机的结构简单。而且，通过将反作用力转换为滑动传递单元的能量和移动质量体的能量，抵消由头支承件和移动部分的移动产生的反作用力。通过多次反作用力抵消操作，显著提高了反作用力抵消性能。

尽管出于示例的目的介绍了本发明的示例性实施例，但本领域普通技术人员能够认识到，在不背离如所附权利要求书所公开的本发明的范围和精神的情况下，各种修改、添加和替换是可能的。

Claims (9)

1.一种用于抵消反作用力的设备，包括：

传送系统，具有移动体支承件、以可滑动的方式支承于所述移动体支承件上的支承体和在所述支承体上移动的移动体；

质量体，联接于所述支承体，通过所述移动体的移动所产生的反作用力，沿与所述移动体的移动方向相同的方向移动；

复位体，用于在移动所述质量体时，使所述质量体回复到其初始位置；和

以可滑动的方式安装在移动体支承件上的传递单元，将支承体和质量体联接，并且将由移动体的移动产生并传递到支承体的反作用力传递到质量体。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述传递单元具有围绕所述移动体支承件的闭合回路的结构。

3.如权利要求1或2所述的设备，进一步包括位于所述传递单元和移动体支承件之间的抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述移动体支承件的外表面之间的摩擦。

4.一种涂胶机，包括：

头支承件；

可移动地安装在所述头支承件上的至少一个头单元；

头移动单元，具有以可滑动的方式联接到所述头支承件的固定部分和安装在所述头单元上的移动部分，以在所述头支承件的纵向上移动所述头单元；和

反作用力抵消设备，具有质量体、复位体和传递单元，其中所述质量体与固定部分联接，并通过所述移动部分的移动产生的反作用力，在与所述移动部分的移动方向相同的方向上移动；当质量体被移动时，所述复位体使质量体复位到其初始位置；所述传递单元以可滑动的方式安装在所述头支承件上，将所述固定部分和质量体联接，并将由所述移动部分的移动产生并传递到所述固定部分的反作用力传递到所述质量体。

5.如权利要求4所述的涂胶机，其中，所述传递单元具有围绕所述头支承件的闭合回路结构。

6.如权利要求4或5所述的涂胶机，进一步包括位于所述传递单元和头支承件之间的抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述头支承件的外表面之间的摩擦。

7.一种涂胶机，包括：

支承框架，支承头支承件，所述头支承件上安装有至少一个头单元；

支承移动体，具有以可滑动的方式联接到所述支承框架的固定部分和安装在所述头支承件上的移动部分，以在所述支承框架的纵向上移动所述头支承件；和

反作用力抵消设备，具有质量体、复位体和传递单元，其中所述质量体与固定部分联接，并通过所述头支承件和移动部分的移动产生的反作用力，在与所述移动部分的移动方向相同的方向上移动；当质量体被移动时，所述复位体使质量体复位到其初始位置；所述传递单元以可滑动的方式安装在所述支承框架上，将所述固定部分和质量体联接，并将由所述移动部分的移动产生并传递到所述固定部分的反作用力传递到所述质量体。

8.如权利要求7所述的涂胶机，其中，所述传递单元具有围绕所述支承框架的闭合回路结构。

9.如权利要求7或8所述的涂胶机，进一步包括位于所述传递单元和头支承件之间的抗摩装置，用于防止在所述传递单元的内表面和所述支承框架的外表面之间的摩擦。

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